JPH04370521A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【発明の利用分野】本発明は重層構成で電磁変換特性と
走行耐久性に優れた特性を有する磁気記録媒体に関する
ものである。
走行耐久性に優れた特性を有する磁気記録媒体に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】磁気記録媒体の電磁変換特性および走行
耐久性を向上させるために重層構成にすることはよく知
られた技術である。重層構成にすることにより磁性層の
抗磁力や残留磁束密度、あるいは強磁性粉末の粒子サイ
ズ(結晶子サイズ、比表面積で表される)を上下層で変
えることが可能となり、広い周波数帯域での出力向上に
よる電磁変換特性の向上と走行耐久性(エッジ折れ、粉
落ちで表わされる)両立ができる。
耐久性を向上させるために重層構成にすることはよく知
られた技術である。重層構成にすることにより磁性層の
抗磁力や残留磁束密度、あるいは強磁性粉末の粒子サイ
ズ(結晶子サイズ、比表面積で表される)を上下層で変
えることが可能となり、広い周波数帯域での出力向上に
よる電磁変換特性の向上と走行耐久性(エッジ折れ、粉
落ちで表わされる)両立ができる。
【0003】このような例は特開昭52−51908号
公報、同54−21304号公報、同54−48504
号公報、同58−56228号公報、同58−5622
9号公報、同53−54002号公報、特開平2−10
8232号公報、特開平2−260123号公報に示さ
れている。
公報、同54−21304号公報、同54−48504
号公報、同58−56228号公報、同58−5622
9号公報、同53−54002号公報、特開平2−10
8232号公報、特開平2−260123号公報に示さ
れている。
【0004】短波長における高出力化のために上層にバ
リウムフェライト等の板状強磁性粉末の使用もしくは短
針状強磁性粉末又はCoを固溶させた三軸異方性の強磁
性粉末を垂直配向することで従来の重層構成での電磁変
換特性を劣化させることなく短波長における高出力化が
できる。
リウムフェライト等の板状強磁性粉末の使用もしくは短
針状強磁性粉末又はCoを固溶させた三軸異方性の強磁
性粉末を垂直配向することで従来の重層構成での電磁変
換特性を劣化させることなく短波長における高出力化が
できる。
【0005】このような例は特開昭57−195329
号、特開昭57−200936号、特開昭58−139
336号に示されている。しかしながら、上層の垂直配
向成分を向上させるためにバリウムフェライトを使用し
た場合、分散性が酸化鉄強磁性粉末に較べ著しく劣るた
め垂直配向成分増加による短波長側の出力向上は可能な
ものの表面性が劣りS/Nが劣化してしまう。更にバイ
ンダーとの親和性が著しく劣るため耐久性の劣化も免れ
ない。また短針状強磁性粉末は形状異方性が小さいため
Coの被着が困難で高い抗磁力を得られない。またCo
を固溶させた強磁性粉末は容易に高い抗磁力が得られる
が、Coを固溶させた強磁性粉末は、温度により強磁性
粉末内のCoの位置が変化するため温度変化とともに抗
磁力が変化し安定した電磁変換特性が得られない。また
上層に針状強磁性粉末を使用して垂直配向した磁気記録
媒体は水平配向したそれより水平方向のヤング率が低下
し粉落ち等の実害が生じ易く走行耐久性が劣ることがわ
かった。
号、特開昭57−200936号、特開昭58−139
336号に示されている。しかしながら、上層の垂直配
向成分を向上させるためにバリウムフェライトを使用し
た場合、分散性が酸化鉄強磁性粉末に較べ著しく劣るた
め垂直配向成分増加による短波長側の出力向上は可能な
ものの表面性が劣りS/Nが劣化してしまう。更にバイ
ンダーとの親和性が著しく劣るため耐久性の劣化も免れ
ない。また短針状強磁性粉末は形状異方性が小さいため
Coの被着が困難で高い抗磁力を得られない。またCo
を固溶させた強磁性粉末は容易に高い抗磁力が得られる
が、Coを固溶させた強磁性粉末は、温度により強磁性
粉末内のCoの位置が変化するため温度変化とともに抗
磁力が変化し安定した電磁変換特性が得られない。また
上層に針状強磁性粉末を使用して垂直配向した磁気記録
媒体は水平配向したそれより水平方向のヤング率が低下
し粉落ち等の実害が生じ易く走行耐久性が劣ることがわ
かった。
【0006】具体的には、特開昭58−139335号
公報には、非磁性支持体上に酸化鉄系強磁性粉末を磁性
層の水平方向に角型で0.7以上となるように配向させ
た第1の磁性層を形成し、さらにその上に酸化鉄強磁性
粉末の粒子内部にコバルトを固溶させた三軸異方性の強
磁性粉末を磁性層の垂直方向に角型で0.4以上とした
第2の磁性層を重層形成したことを特徴とする磁気記録
媒体が開示されている。しかしながら三軸異方性のコバ
ルトの固溶タイプの強磁性粉末は垂直方向への配向はし
やすいが、抗磁力(Hc)が劣化しやすく、良好な結果
は得られなかった。三軸異方性とはサイコロのような形
状をしたもののことである。
公報には、非磁性支持体上に酸化鉄系強磁性粉末を磁性
層の水平方向に角型で0.7以上となるように配向させ
た第1の磁性層を形成し、さらにその上に酸化鉄強磁性
粉末の粒子内部にコバルトを固溶させた三軸異方性の強
磁性粉末を磁性層の垂直方向に角型で0.4以上とした
第2の磁性層を重層形成したことを特徴とする磁気記録
媒体が開示されている。しかしながら三軸異方性のコバ
ルトの固溶タイプの強磁性粉末は垂直方向への配向はし
やすいが、抗磁力(Hc)が劣化しやすく、良好な結果
は得られなかった。三軸異方性とはサイコロのような形
状をしたもののことである。
【0007】そこで本発明者らは、通常のCo含有酸化
鉄粉末を用いて非磁性支持体面に垂直方向に配向させる
ことにより、Hc劣化がなく、強度的にも優れ、かつ垂
直記録のできる磁気記録媒体が得られることを見出した
本発明に至った。
鉄粉末を用いて非磁性支持体面に垂直方向に配向させる
ことにより、Hc劣化がなく、強度的にも優れ、かつ垂
直記録のできる磁気記録媒体が得られることを見出した
本発明に至った。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、短波長における高出力化と走行耐久性に優れた磁気
記録媒体を提供することである。
は、短波長における高出力化と走行耐久性に優れた磁気
記録媒体を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、重層構成
磁気記録媒体の電磁変換特性と走行耐久性の両立につい
て鋭意研究した結果、従来の技術では得られない優れた
電磁変換特性と走行耐久性を有する磁気記録媒体を見い
だし本発明にいたったものである。即ち本発明は、非磁
性支持体の表面に強磁性粉末と結合剤を含む下層磁性層
とその上に設けた上層磁性層よりなる複数の磁性層を有
する磁気記録媒体において、上層磁性層は前記強磁性粉
末としてBET比表面積が60m2 /g以上のCo含
有酸化鉄を含有し、非磁性支持体面に垂直方向の角型比
が0.4以上であり、ヤング率は200kg/mm2
以上であり、下層磁性層は前記強磁性粉末としてBET
比表面積が20〜50m2 /gの範囲のCo含有酸化
鉄を含有し、水平方向の角型比が0.7以上、水平方向
のヤング率が300kg/mm2 以上であることを特
徴とする磁気記録媒体である。
磁気記録媒体の電磁変換特性と走行耐久性の両立につい
て鋭意研究した結果、従来の技術では得られない優れた
電磁変換特性と走行耐久性を有する磁気記録媒体を見い
だし本発明にいたったものである。即ち本発明は、非磁
性支持体の表面に強磁性粉末と結合剤を含む下層磁性層
とその上に設けた上層磁性層よりなる複数の磁性層を有
する磁気記録媒体において、上層磁性層は前記強磁性粉
末としてBET比表面積が60m2 /g以上のCo含
有酸化鉄を含有し、非磁性支持体面に垂直方向の角型比
が0.4以上であり、ヤング率は200kg/mm2
以上であり、下層磁性層は前記強磁性粉末としてBET
比表面積が20〜50m2 /gの範囲のCo含有酸化
鉄を含有し、水平方向の角型比が0.7以上、水平方向
のヤング率が300kg/mm2 以上であることを特
徴とする磁気記録媒体である。
【0010】本発明は、重層構成の磁気記録媒体におい
て、上層磁性層(以下、単に上層とも記す)と下層磁性
層(以下、単に下層とも記す)の強磁性粉末の種類とB
ET比表面積、即ち、サイズを規定すると共に下層磁性
層の水平方向の角型比(以下、SQ1と記す)と水平方
向のヤング率を所定の値以上に制御し、かつ上層磁性層
の垂直方向の角型比(以下、SQ2と記す)を所定の値
に規定して、水平方向のヤング率を確保することにより
、磁気記録媒体の機械的強度を強化して走行耐久性を改
善して粉落ち等を抑制し、かつ上層の表面性を向上して
高周波数領域における出力とS/Nを改善すると共に下
層が担う低周波数領域における電磁変換特性を良好に確
保することができる。
て、上層磁性層(以下、単に上層とも記す)と下層磁性
層(以下、単に下層とも記す)の強磁性粉末の種類とB
ET比表面積、即ち、サイズを規定すると共に下層磁性
層の水平方向の角型比(以下、SQ1と記す)と水平方
向のヤング率を所定の値以上に制御し、かつ上層磁性層
の垂直方向の角型比(以下、SQ2と記す)を所定の値
に規定して、水平方向のヤング率を確保することにより
、磁気記録媒体の機械的強度を強化して走行耐久性を改
善して粉落ち等を抑制し、かつ上層の表面性を向上して
高周波数領域における出力とS/Nを改善すると共に下
層が担う低周波数領域における電磁変換特性を良好に確
保することができる。
【0011】本発明において角型比は、残留磁束密度(
Br)/最大磁束密度(Bm)の比であり、VSM測定
機の外部磁場に対してサンプルを水平にセットした場合
の角型比を水平方向の角型比とし、垂直方向にサンプル
をセットした場合の角型比を垂直方向の角型比とする。 又、このようにサンプルをセットして、それぞれの角型
比を測定する。
Br)/最大磁束密度(Bm)の比であり、VSM測定
機の外部磁場に対してサンプルを水平にセットした場合
の角型比を水平方向の角型比とし、垂直方向にサンプル
をセットした場合の角型比を垂直方向の角型比とする。 又、このようにサンプルをセットして、それぞれの角型
比を測定する。
【0012】又、本発明において、水平方向のヤング率
は、テープを長手方向に引っ張って強度測定を行い、0
.5%伸びた時の強度である。本発明において、上層磁
性層の強磁性粉末は、Co含有酸化鉄であって、BET
比表面積が60m2 /g以上、好ましくは60〜10
0m2 /gの範囲である。強磁性粉末の形状は、針状
が好ましく、結晶子サイズは、25nm以下、好ましく
は、25〜18nm、長軸長は、140nm以下、好ま
しくは140〜100nmであり、針状比は、3以上、
好ましくは5〜10である。SQ2は0.4以上、好ま
しくは0.4〜0.65の範囲である。
は、テープを長手方向に引っ張って強度測定を行い、0
.5%伸びた時の強度である。本発明において、上層磁
性層の強磁性粉末は、Co含有酸化鉄であって、BET
比表面積が60m2 /g以上、好ましくは60〜10
0m2 /gの範囲である。強磁性粉末の形状は、針状
が好ましく、結晶子サイズは、25nm以下、好ましく
は、25〜18nm、長軸長は、140nm以下、好ま
しくは140〜100nmであり、針状比は、3以上、
好ましくは5〜10である。SQ2は0.4以上、好ま
しくは0.4〜0.65の範囲である。
【0013】上層磁性層の強磁性粉末は、Co含有酸化
鉄であって、BET比表面積が60m2 /gより小さ
いと短波長におけるノイズレベルが高い。またBET比
表面積が100m2 /gより大きいと分散性が低下し
表面性劣化によるS/Nが低下する。さらにSQ2が0
.4より小さいと短波長での出力が充分得られず、0.
65より大きいと水平方向のヤング率が著しく低下し粉
落ちによるドロップアウトが増加する。
鉄であって、BET比表面積が60m2 /gより小さ
いと短波長におけるノイズレベルが高い。またBET比
表面積が100m2 /gより大きいと分散性が低下し
表面性劣化によるS/Nが低下する。さらにSQ2が0
.4より小さいと短波長での出力が充分得られず、0.
65より大きいと水平方向のヤング率が著しく低下し粉
落ちによるドロップアウトが増加する。
【0014】下層磁性層の強磁性粉末は、Co含有酸化
鉄であって、BET比表面積が20〜50m2 /gで
ある。強磁性粉末の形状は、針状が好ましく、結晶子サ
イズは、40nm以下、好ましくは、25〜40nm、
長軸長は、250nm以下、好ましくは150〜250
nmであり、針状比は、3以上、好ましくは5〜10で
ある。水平方向の角型比、即ちSQ1で0.7以上、水
平方向のヤング率300kg/mm2 以上である。
鉄であって、BET比表面積が20〜50m2 /gで
ある。強磁性粉末の形状は、針状が好ましく、結晶子サ
イズは、40nm以下、好ましくは、25〜40nm、
長軸長は、250nm以下、好ましくは150〜250
nmであり、針状比は、3以上、好ましくは5〜10で
ある。水平方向の角型比、即ちSQ1で0.7以上、水
平方向のヤング率300kg/mm2 以上である。
【0015】下層に含有される磁性粉のBET比表面積
が20m2 /gより小さいと長波長におけるノイズレ
ベルが高く、50m2 /gより大きいと充分な分散度
が得られず目的に充分なSQ1が得られず、低域出力が
充分得られない。また比表面積が20〜50m2 /g
の範囲でもSQ1が0.7より小さいと長波長における
残留磁束密度が低下し低域の出力が得られない。また、
水平方向のヤング率が300kg/mm2 より小さい
と上層の垂直配向によるヤング率低下に伴う全層のヤン
グ率の低下を下層のヤング率で補正出来なくなりその結
果、粉落ち等のドロップアウトが増加し耐久性が劣化す
る。
が20m2 /gより小さいと長波長におけるノイズレ
ベルが高く、50m2 /gより大きいと充分な分散度
が得られず目的に充分なSQ1が得られず、低域出力が
充分得られない。また比表面積が20〜50m2 /g
の範囲でもSQ1が0.7より小さいと長波長における
残留磁束密度が低下し低域の出力が得られない。また、
水平方向のヤング率が300kg/mm2 より小さい
と上層の垂直配向によるヤング率低下に伴う全層のヤン
グ率の低下を下層のヤング率で補正出来なくなりその結
果、粉落ち等のドロップアウトが増加し耐久性が劣化す
る。
【0016】本発明において、上記SQ1及びSQ2を
調整する手段は特に制限されないが、通常、上層磁性層
および下層磁性層の各塗布液の粘度等のレオロジー特性
および各磁性層への磁場配向時の磁場の向き、塗布後の
各磁性層の乾燥と磁場配向のタイミング(例えば、配向
前に予め適度の乾燥工程を設けること等)により調整さ
れる。例えば、本発明の磁気記録媒体は下層を塗布、水
平配向、乾燥したのち上層をその上に設け垂直配向した
のち乾燥する逐次重層方式で製造する方法、下層の流動
性を上層のそれより悪くし同時重層塗布後、水平配向し
、さらに垂直配向を施して上層のみ垂直配向する方法等
が例示される。
調整する手段は特に制限されないが、通常、上層磁性層
および下層磁性層の各塗布液の粘度等のレオロジー特性
および各磁性層への磁場配向時の磁場の向き、塗布後の
各磁性層の乾燥と磁場配向のタイミング(例えば、配向
前に予め適度の乾燥工程を設けること等)により調整さ
れる。例えば、本発明の磁気記録媒体は下層を塗布、水
平配向、乾燥したのち上層をその上に設け垂直配向した
のち乾燥する逐次重層方式で製造する方法、下層の流動
性を上層のそれより悪くし同時重層塗布後、水平配向し
、さらに垂直配向を施して上層のみ垂直配向する方法等
が例示される。
【0017】該配向には、1000G(ガウス)以上の
ソレノイドと2000G以上のコバルト磁石を併用する
ことが好ましい。また、乾燥後、表面平滑化加工を施し
、所望の形状に裁断して、磁気記録媒体を製造する。 この表面平滑化加工は、カレンダリング処理によって行
われる。
ソレノイドと2000G以上のコバルト磁石を併用する
ことが好ましい。また、乾燥後、表面平滑化加工を施し
、所望の形状に裁断して、磁気記録媒体を製造する。 この表面平滑化加工は、カレンダリング処理によって行
われる。
【0018】カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロールを使用する。また、金属ロール同
志で処理することもできる。処理温度は、好ましくは7
0℃以上、さらに好ましくは80℃以上である。線圧力
は好ましくは200kg/cm、さらに好ましくは30
0kg/cm以上である。
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロールを使用する。また、金属ロール同
志で処理することもできる。処理温度は、好ましくは7
0℃以上、さらに好ましくは80℃以上である。線圧力
は好ましくは200kg/cm、さらに好ましくは30
0kg/cm以上である。
【0019】本発明において、SQ1またはSQ2を測
定する方法は、振動試料型磁束計(東英工業製)が使用
できる。該上層用および下層用磁性塗料を製造する工程
は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工
程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々
の工程はそれぞれ2段階以上にわかれていてもかまわな
い。
定する方法は、振動試料型磁束計(東英工業製)が使用
できる。該上層用および下層用磁性塗料を製造する工程
は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工
程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々
の工程はそれぞれ2段階以上にわかれていてもかまわな
い。
【0020】本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を2つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。
ーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を2つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。
【0021】本発明は、従来の公知の製造技術を一部の
工程として用いることができることはもちろんであるが
、混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練力
をもつものを使用することにより磁気記録媒体の高いB
rを得ることができる。
工程として用いることができることはもちろんであるが
、混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練力
をもつものを使用することにより磁気記録媒体の高いB
rを得ることができる。
【0022】連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合
は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部(ただし
全結合剤の30%以上が好ましい)および強磁性粉末1
00部に対し15〜500部の範囲で混練処理される。 これらの混練処理の詳細については特開平1−1063
38号、特開平1−79274号に記載されている。
は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部(ただし
全結合剤の30%以上が好ましい)および強磁性粉末1
00部に対し15〜500部の範囲で混練処理される。 これらの混練処理の詳細については特開平1−1063
38号、特開平1−79274号に記載されている。
【0023】本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびそ
の反対面のSUS420Jに対する摩擦係数は好ましく
は0.5以下、さらに0.3以下、表面固有抵抗は好ま
しくは10−5〜10−12 オーム/sq、破断強度
は好ましくは1〜30kg/cm2 、残留のびは好ま
しくは0.5%以下、100℃以下のあらゆる温度での
熱収縮率は好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.
5%以下、もっとも好ましくは0.1%以下である。
の反対面のSUS420Jに対する摩擦係数は好ましく
は0.5以下、さらに0.3以下、表面固有抵抗は好ま
しくは10−5〜10−12 オーム/sq、破断強度
は好ましくは1〜30kg/cm2 、残留のびは好ま
しくは0.5%以下、100℃以下のあらゆる温度での
熱収縮率は好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.
5%以下、もっとも好ましくは0.1%以下である。
【0024】磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは
100mg/m2以下、さらに好ましくは10mg/m
2 以下であり、上層に含まれる残留溶媒が下層に含ま
れる残留溶媒より少ないほうが好ましい。
100mg/m2以下、さらに好ましくは10mg/m
2 以下であり、上層に含まれる残留溶媒が下層に含ま
れる残留溶媒より少ないほうが好ましい。
【0025】磁性層が有する空隙率は下層、上層とも好
ましくは30容量%以下、さらに好ましくは10容量%
以下である。下層の空隙率が上層の空隙率より大きいほ
うが好ましいが、下層の空隙率が5%以上であれば小さ
くてもかまわない。磁性層のSFDは0.6以下である
ことが好ましい。
ましくは30容量%以下、さらに好ましくは10容量%
以下である。下層の空隙率が上層の空隙率より大きいほ
うが好ましいが、下層の空隙率が5%以上であれば小さ
くてもかまわない。磁性層のSFDは0.6以下である
ことが好ましい。
【0026】本発明において上層磁性層および下層磁性
層は通常各々単層で構成されるが、各々単層構成でも複
層構成でも上記組成、規定条件を満足すればかまわない
。上層の強磁性粉末含有率は70%以上が好ましい。 強磁性粉末含有率が70%未満では、充填度が低下して
電磁変換特性が劣化する。ここでいう強磁性粉末含有率
とは(強磁性粉末)/(強磁性粉末+結合剤+添加剤等
の磁性層に含有されるもの)の重量%を表している。
層は通常各々単層で構成されるが、各々単層構成でも複
層構成でも上記組成、規定条件を満足すればかまわない
。上層の強磁性粉末含有率は70%以上が好ましい。 強磁性粉末含有率が70%未満では、充填度が低下して
電磁変換特性が劣化する。ここでいう強磁性粉末含有率
とは(強磁性粉末)/(強磁性粉末+結合剤+添加剤等
の磁性層に含有されるもの)の重量%を表している。
【0027】本発明に使用される強磁性粉末のσS は
50emu/g以上、好ましくは70emu/g以上で
ある。また、含水率は0.01〜2%とするのが好まし
い。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化
するのが好ましい。
50emu/g以上、好ましくは70emu/g以上で
ある。また、含水率は0.01〜2%とするのが好まし
い。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化
するのが好ましい。
【0028】本発明の強磁性粉末としてコバルト変成酸
化鉄を用いる場合は、2価の鉄の3価の鉄に対する比は
好ましくは0〜33.3%であり、さらに好ましくは5
〜10%である。また鉄原子に対するコバルト原子の量
は0〜15%、好ましくは3〜8%である。
化鉄を用いる場合は、2価の鉄の3価の鉄に対する比は
好ましくは0〜33.3%であり、さらに好ましくは5
〜10%である。また鉄原子に対するコバルト原子の量
は0〜15%、好ましくは3〜8%である。
【0029】強磁性粉末のpHは用いる結合剤との組合
せにより最適化することが好ましい。その範囲は4〜1
2である。強磁性粉末はAl、Si、Pまたはこれらの
酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は
強磁性粉末に対し0.1〜10%である。
せにより最適化することが好ましい。その範囲は4〜1
2である。強磁性粉末はAl、Si、Pまたはこれらの
酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は
強磁性粉末に対し0.1〜10%である。
【0030】下層、上層の強磁性粉末とも可溶性のNa
、Ca、Fe、Ni、Sr等の無機イオンを含む場合が
あるが500ppm以下であれば特に影響を与えない。 本発明に使用するCo含有酸化鉄としてはCo変性γ−
FeOx(x=1.33〜1.5)など公知の強磁性粉
末が使用できる。これらの強磁性粉末には所定の原子以
外にAl、Si、S、Sc、Ti、V、Cr、Cu、Y
、Mo、Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、Te、Ba、
Ta、W、Re、Au、Hg、Pb、Bi、La、Ce
、Pr、Nd、P、Co、Mn、Zn、Ni、Sr、B
などの原子を含んでもかまわない。これらの強磁性粉末
にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防
止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわな
い。また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少な
いほうが好ましくその値は20容量%以下、さらに好ま
しくは5容量%以下である。本発明に用いられる強磁性
粉末は公知の方法に従って製造することができる。
、Ca、Fe、Ni、Sr等の無機イオンを含む場合が
あるが500ppm以下であれば特に影響を与えない。 本発明に使用するCo含有酸化鉄としてはCo変性γ−
FeOx(x=1.33〜1.5)など公知の強磁性粉
末が使用できる。これらの強磁性粉末には所定の原子以
外にAl、Si、S、Sc、Ti、V、Cr、Cu、Y
、Mo、Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、Te、Ba、
Ta、W、Re、Au、Hg、Pb、Bi、La、Ce
、Pr、Nd、P、Co、Mn、Zn、Ni、Sr、B
などの原子を含んでもかまわない。これらの強磁性粉末
にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防
止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわな
い。また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少な
いほうが好ましくその値は20容量%以下、さらに好ま
しくは5容量%以下である。本発明に用いられる強磁性
粉末は公知の方法に従って製造することができる。
【0031】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス
転移温度が−100〜150℃、数平均分子量が100
0〜200000、好ましくは10000〜10000
0、重合度が約50〜1000程度のものである。この
ような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸
、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチ
レン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエ
ーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体
、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱
硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフエノール樹脂、
エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホル
ムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリア
ミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリ
マーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシア
ネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの
混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書
店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載さ
れている。また、公知の電子線硬化型樹脂を使用するこ
とも可能である。これらの例とその製造方法については
特開昭62−256219号に詳細に記載されている。 以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好まし
いものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化
ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、中から選ば
れる少なくとも1種とポリウレタン樹脂の組合せ、また
はこれらにポリイソシアネートを組合せたものがあげら
れる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレ
タン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエ
ステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、
ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプ
ロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。 ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散
性と耐久性を得るためには必要に応じ、COOM、SO
3 M、OSO3 M、P=O(OM)2 、O−P=
O(OM)2 、(以上につきMは水素原子、またはア
ルカリ金属塩基)、OH、NR2 、N+ R3 、R
は炭化水素基)、エポキシ基、SH、CN、などから選
ばれる少なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加
反応で導入したものを用いることが好ましい。このよう
な極性基の量は10−1〜10−8モル/gであり、好
ましくは10−2〜10−6モル/gである。本発明に
用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオ
ンカーバイト社製:VAGH、VYHH、VMCH、V
AGF、VAGD、VROH、VYES、VYNC、V
MCC、XYHL、XYSG、PKHH、PKHJ、P
KHC、PKFE、日信化学工業社製:MPR−TA、
MPR−TA5、MPR−TAL、MPR−TSN、M
PR−TMF、MPR−TS、MPR−TM、電気化学
社製:1000W、DX80、DX81、DX82、D
X83、日本ゼオン社製:MR110、MR100、4
00X110A、日本ポリウレタン社製:ニッポランN
2301、N2302、N2304、大日本インキ社製
:パンデックスT−5105、T−R3080、T−5
201、バーノックD−400、D−210−80、ク
リスボン6109、7209、東洋紡社製:バイロンU
R8200、UR8300、RV530、RV280、
大日精化社製:ダイフエラミン4020、5020、5
100、5300、9020、9022、7020、三
菱化成社製:MX5004、三洋化成社製:サンプレン
SP−150、旭化成社製:サランF310、F210
などがあげられる。本発明に用いられる結合剤は上層、
下層とも各層の強磁性粉末に対し、5〜50重量%の範
囲、好ましくは10〜30%の範囲で用いられる。塩化
ビニル系樹脂を用いる場合は、5〜30重量%、ポリウ
レタン樹脂合を用いる場合は2〜20重量%、ポリイソ
シアネートは2〜20重量%の範囲でこれらを組合せて
用いるのが好ましい。本発明において、ポリウレタンを
用いる場合はガラス転移温度が−50〜100℃、破断
伸びが100〜2000%、破断応力は0.05〜10
Kg/cm2、降伏点は0.05〜10Kg/cm2
が好ましい。本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、4−4′−ジフエニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−1,
5−ジイソシアネート、o−トルイジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、トリフエニルメタントリ
イソシアネート等のイソシアネート類、また、これらの
イソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、
イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシア
ネート等を使用することができる。これらのイソシアネ
ート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレ
タン社製:コロネートL、コロネートHL、コロネート
2030、コロネート2031、ミリオネートMR、ミ
リオネートMTL、武田薬品社製:タケネートD−10
2、タケネートD−110N、タケネートD−200、
タケネートD−202、住友バイエル社製:デスモジュ
ールL、デスモジュールIL、デスモジュールN、デス
モジュールHL等があり、これらを単独または硬化反応
性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで下層
、上層ともに用いることができる。
知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス
転移温度が−100〜150℃、数平均分子量が100
0〜200000、好ましくは10000〜10000
0、重合度が約50〜1000程度のものである。この
ような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸
、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチ
レン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエ
ーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体
、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱
硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフエノール樹脂、
エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホル
ムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリア
ミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリ
マーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシア
ネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの
混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書
店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載さ
れている。また、公知の電子線硬化型樹脂を使用するこ
とも可能である。これらの例とその製造方法については
特開昭62−256219号に詳細に記載されている。 以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好まし
いものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化
ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、中から選ば
れる少なくとも1種とポリウレタン樹脂の組合せ、また
はこれらにポリイソシアネートを組合せたものがあげら
れる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレ
タン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエ
ステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、
ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプ
ロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。 ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散
性と耐久性を得るためには必要に応じ、COOM、SO
3 M、OSO3 M、P=O(OM)2 、O−P=
O(OM)2 、(以上につきMは水素原子、またはア
ルカリ金属塩基)、OH、NR2 、N+ R3 、R
は炭化水素基)、エポキシ基、SH、CN、などから選
ばれる少なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加
反応で導入したものを用いることが好ましい。このよう
な極性基の量は10−1〜10−8モル/gであり、好
ましくは10−2〜10−6モル/gである。本発明に
用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオ
ンカーバイト社製:VAGH、VYHH、VMCH、V
AGF、VAGD、VROH、VYES、VYNC、V
MCC、XYHL、XYSG、PKHH、PKHJ、P
KHC、PKFE、日信化学工業社製:MPR−TA、
MPR−TA5、MPR−TAL、MPR−TSN、M
PR−TMF、MPR−TS、MPR−TM、電気化学
社製:1000W、DX80、DX81、DX82、D
X83、日本ゼオン社製:MR110、MR100、4
00X110A、日本ポリウレタン社製:ニッポランN
2301、N2302、N2304、大日本インキ社製
:パンデックスT−5105、T−R3080、T−5
201、バーノックD−400、D−210−80、ク
リスボン6109、7209、東洋紡社製:バイロンU
R8200、UR8300、RV530、RV280、
大日精化社製:ダイフエラミン4020、5020、5
100、5300、9020、9022、7020、三
菱化成社製:MX5004、三洋化成社製:サンプレン
SP−150、旭化成社製:サランF310、F210
などがあげられる。本発明に用いられる結合剤は上層、
下層とも各層の強磁性粉末に対し、5〜50重量%の範
囲、好ましくは10〜30%の範囲で用いられる。塩化
ビニル系樹脂を用いる場合は、5〜30重量%、ポリウ
レタン樹脂合を用いる場合は2〜20重量%、ポリイソ
シアネートは2〜20重量%の範囲でこれらを組合せて
用いるのが好ましい。本発明において、ポリウレタンを
用いる場合はガラス転移温度が−50〜100℃、破断
伸びが100〜2000%、破断応力は0.05〜10
Kg/cm2、降伏点は0.05〜10Kg/cm2
が好ましい。本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、4−4′−ジフエニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−1,
5−ジイソシアネート、o−トルイジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、トリフエニルメタントリ
イソシアネート等のイソシアネート類、また、これらの
イソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、
イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシア
ネート等を使用することができる。これらのイソシアネ
ート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレ
タン社製:コロネートL、コロネートHL、コロネート
2030、コロネート2031、ミリオネートMR、ミ
リオネートMTL、武田薬品社製:タケネートD−10
2、タケネートD−110N、タケネートD−200、
タケネートD−202、住友バイエル社製:デスモジュ
ールL、デスモジュールIL、デスモジュールN、デス
モジュールHL等があり、これらを単独または硬化反応
性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで下層
、上層ともに用いることができる。
【0032】本発明の磁性層に使用されるカーボンブラ
ックはゴム用フアーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができる
。比表面積は5〜500m2 /g、DBP吸油量は1
0〜400ml/100g、粒子径は5mμ〜300m
μ、pHは2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ
密度は0.1〜1g/ccが好ましい。本発明に用いら
れるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット
社製:BLACKPEARLS 2000、1300
、1000、900、800、700、VULCAN
XC−72、旭カーボン社製:♯80、♯60、♯5
5、♯50、♯35、三菱化成工業社製:♯2400B
、♯2300、♯900、♯1000、♯30、♯40
、♯10B、コンロンビアカーボン社製:CONDUC
TEX SC、RAVEN 150、50,40,
15などがあげられる。カーボンブラックを分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
表面の一部をグラフアイト化したものを使用してもかま
わない。 また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあら
かじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボ
ンブラックは単独、または組合せで使用することができ
る。カーボンブラックを使用する場合は磁性体に対する
量の0.1〜30%でもちいることが好ましい。カーボ
ンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性
付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカ
ーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用され
るこれらのカーボンブラックは下層、上層でその種類、
量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、pH
などの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分け
ることはもちろん可能である。本発明の磁性層で使用で
きるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧
」(カーボンブラック協会編)を参考にすることができ
る。
ックはゴム用フアーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができる
。比表面積は5〜500m2 /g、DBP吸油量は1
0〜400ml/100g、粒子径は5mμ〜300m
μ、pHは2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ
密度は0.1〜1g/ccが好ましい。本発明に用いら
れるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット
社製:BLACKPEARLS 2000、1300
、1000、900、800、700、VULCAN
XC−72、旭カーボン社製:♯80、♯60、♯5
5、♯50、♯35、三菱化成工業社製:♯2400B
、♯2300、♯900、♯1000、♯30、♯40
、♯10B、コンロンビアカーボン社製:CONDUC
TEX SC、RAVEN 150、50,40,
15などがあげられる。カーボンブラックを分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
表面の一部をグラフアイト化したものを使用してもかま
わない。 また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあら
かじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボ
ンブラックは単独、または組合せで使用することができ
る。カーボンブラックを使用する場合は磁性体に対する
量の0.1〜30%でもちいることが好ましい。カーボ
ンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性
付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカ
ーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用され
るこれらのカーボンブラックは下層、上層でその種類、
量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、pH
などの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分け
ることはもちろん可能である。本発明の磁性層で使用で
きるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧
」(カーボンブラック協会編)を参考にすることができ
る。
【0033】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
90%以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素
、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム
、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバ
イト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主と
してモース6以上の公知の材料が単独または組合せで使
用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体(研磨
剤を他の研磨剤で表面処理したもの)を使用してもよい
。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が
含まれる場合もあるが主成分が90%以上であれば効果
にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは0.01
〜2μが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる
研磨剤を組合せたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広く
して同様の効果をもたせることもできる。タップ密度は
0.3〜2g/cc、含水率は0.1〜5%、pHは2
〜11、比表面積は1〜30m2 /g、が好ましい。 本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコ
ロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するも
のが研磨性が高く好ましい。本発明に用いられる研磨剤
の具体的な例としては、住友化学社製:AKP−20,
AKP−30,AKP−50,HIT−50、日本化学
工業社製:G5,G7,S−1、戸田工業社製:100
ED,140ED、などがあげられる。これらの研磨剤
はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添
加してもかまわない。
90%以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素
、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム
、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバ
イト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主と
してモース6以上の公知の材料が単独または組合せで使
用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体(研磨
剤を他の研磨剤で表面処理したもの)を使用してもよい
。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が
含まれる場合もあるが主成分が90%以上であれば効果
にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは0.01
〜2μが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる
研磨剤を組合せたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広く
して同様の効果をもたせることもできる。タップ密度は
0.3〜2g/cc、含水率は0.1〜5%、pHは2
〜11、比表面積は1〜30m2 /g、が好ましい。 本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコ
ロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するも
のが研磨性が高く好ましい。本発明に用いられる研磨剤
の具体的な例としては、住友化学社製:AKP−20,
AKP−30,AKP−50,HIT−50、日本化学
工業社製:G5,G7,S−1、戸田工業社製:100
ED,140ED、などがあげられる。これらの研磨剤
はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添
加してもかまわない。
【0034】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラフアイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコー
ンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコ
ーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、
フッ素含有エステル、ポリオレフイン、ポリグリコール
、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ア
ルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフ
エニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよ
びそのアルカリ金属塩、炭素数10〜24の一塩基性脂
肪酸(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかま
わない)、および、これらの金属塩(Li,Na,K,
Cuなど)または、炭素数12〜22の一価、二価、三
価、四価、五価、六価アルコール(不飽和結合を含んで
も、また分岐していてもかまわない)、炭素数12〜2
2のアルコキシアルコール、炭素数10〜24の一塩基
性脂肪酸(不飽和結合を含んでも、また分岐していても
かまわない)と炭素数2〜12の一価、二価、三価、四
価、五価、六価アルコールのいずれか一つ(不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない)とからな
るモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはト
リ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノア
ルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数8〜22の脂
肪酸アミド、炭素数8〜22の脂肪族アミン、などが使
用できる。これらの具体例としてはラウリン酸、ミリス
チン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステ
アリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸
、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸
アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オク
チル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビ
タンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステア
レート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オレ
イルアルコール、ラウリルアルコール、があげられる。 また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシ
ドール系、アルキルフエノールエチレンオキサイド付加
体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルア
ミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、
複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカ
チオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸
、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含
むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる
。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」
(産業図書株式会社発行)に詳細に記載されている。こ
れらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも100%純粋で
はなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分
解物、酸化物、等の不純分が含まれてもかまわない。こ
れらの不純分は30%以下が好ましく、さらに好ましく
は10%以下である。本発明で使用されるこれらの潤滑
剤、界面活性剤は各層でその種類、量を必要に応じ使い
分けることができる。また本発明で用いられる添加剤の
すべてまたはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添
加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体と混
合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラフアイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコー
ンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコ
ーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、
フッ素含有エステル、ポリオレフイン、ポリグリコール
、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ア
ルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフ
エニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよ
びそのアルカリ金属塩、炭素数10〜24の一塩基性脂
肪酸(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかま
わない)、および、これらの金属塩(Li,Na,K,
Cuなど)または、炭素数12〜22の一価、二価、三
価、四価、五価、六価アルコール(不飽和結合を含んで
も、また分岐していてもかまわない)、炭素数12〜2
2のアルコキシアルコール、炭素数10〜24の一塩基
性脂肪酸(不飽和結合を含んでも、また分岐していても
かまわない)と炭素数2〜12の一価、二価、三価、四
価、五価、六価アルコールのいずれか一つ(不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない)とからな
るモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはト
リ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノア
ルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数8〜22の脂
肪酸アミド、炭素数8〜22の脂肪族アミン、などが使
用できる。これらの具体例としてはラウリン酸、ミリス
チン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステ
アリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸
、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸
アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オク
チル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビ
タンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステア
レート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オレ
イルアルコール、ラウリルアルコール、があげられる。 また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシ
ドール系、アルキルフエノールエチレンオキサイド付加
体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルア
ミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、
複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカ
チオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸
、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含
むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる
。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」
(産業図書株式会社発行)に詳細に記載されている。こ
れらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも100%純粋で
はなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分
解物、酸化物、等の不純分が含まれてもかまわない。こ
れらの不純分は30%以下が好ましく、さらに好ましく
は10%以下である。本発明で使用されるこれらの潤滑
剤、界面活性剤は各層でその種類、量を必要に応じ使い
分けることができる。また本発明で用いられる添加剤の
すべてまたはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添
加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体と混
合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。
【0035】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール
、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチル
アルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘ
キサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブ
チル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル
、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチル
エーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン
、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族
炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド
、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン
、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、N,N−
ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる
。
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール
、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチル
アルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘ
キサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブ
チル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル
、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチル
エーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン
、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族
炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド
、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン
、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、N,N−
ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる
。
【0036】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
支持体が1〜100μm、好ましくは6〜20μm、下
層磁性層が0.5μm〜10μm、好ましくは1.5〜
5μm、上層磁性層の0.05μm〜2μm、好ましく
は0.2〜1.0μmである。磁性層の厚みは非磁性支
持体の厚みの1/100〜2倍の範囲で用いられる。ま
た、非磁性支持体と下層の間に密着性向上のための下塗
り層、または帯電防止のためのカーボンブラックを含む
層等の中間層を設けてもかまわない。これらの厚みは0
.01〜2μ、好ましくは0.05〜0.5μである。 また、非磁性支持体性の磁性層側と反対側にバックコー
ト層を設けてもかまわない。この厚みは0.1〜2μ、
好ましくは0.3〜1.0μである。これらの中間層、
バックコート層は公知のものが使用できる。
支持体が1〜100μm、好ましくは6〜20μm、下
層磁性層が0.5μm〜10μm、好ましくは1.5〜
5μm、上層磁性層の0.05μm〜2μm、好ましく
は0.2〜1.0μmである。磁性層の厚みは非磁性支
持体の厚みの1/100〜2倍の範囲で用いられる。ま
た、非磁性支持体と下層の間に密着性向上のための下塗
り層、または帯電防止のためのカーボンブラックを含む
層等の中間層を設けてもかまわない。これらの厚みは0
.01〜2μ、好ましくは0.05〜0.5μである。 また、非磁性支持体性の磁性層側と反対側にバックコー
ト層を設けてもかまわない。この厚みは0.1〜2μ、
好ましくは0.3〜1.0μである。これらの中間層、
バックコート層は公知のものが使用できる。
【0037】本発明に用いられる非磁性支持体はポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、等
のポリエステル類、ポリオレフイン類、セルローストリ
アセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、アラミド、芳
香族ポリアミドなどの公知のフイルムが使用できる。こ
れらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ
処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっ
ても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性支持体
として中心線平均表面粗さが、好ましくは0.02以下
、さらに好ましくは0.01μ以下のものを使用する必
要がある。また、これらの非磁性支持体は単に中心線平
均表面粗さが小さいだけではなく、1μ以上の粗大突起
がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応
じて支持体に添加されるフイラーの大きさと量により自
由にコントロールされるものである。これらのフイラー
としては一例としてはCa,Si,Tiなどの酸化物や
炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末があげられる
。
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、等
のポリエステル類、ポリオレフイン類、セルローストリ
アセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、アラミド、芳
香族ポリアミドなどの公知のフイルムが使用できる。こ
れらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ
処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっ
ても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性支持体
として中心線平均表面粗さが、好ましくは0.02以下
、さらに好ましくは0.01μ以下のものを使用する必
要がある。また、これらの非磁性支持体は単に中心線平
均表面粗さが小さいだけではなく、1μ以上の粗大突起
がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応
じて支持体に添加されるフイラーの大きさと量により自
由にコントロールされるものである。これらのフイラー
としては一例としてはCa,Si,Tiなどの酸化物や
炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末があげられる
。
【0038】
【実施例】 実施例1
下層磁性層
コバルト変性酸化鉄
100部
Hc 600Oe、比表面積 35m2 /
g 結晶子サイズ400オングストローム
粒子サイズ(長軸径) 0.25μ、針状
比 10 塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン
酸共重合体 10部 組成比
86:13:1 重合度400 ポリエステル
ポリウレタン樹脂
5部 カーボンブラック(粒子サ
イズ0.05μm) 3部
ブチルステアレート
1部 ス
テアリン酸
2部
酢酸ブチル
200部
上層磁性層 コバルト変性酸化鉄
100部
Hc 1000Oe、比表面積 60m2
/g 結晶子サイズ350オングストローム
粒子サイズ(長軸径) 0.20μ、針
状比 12 塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイ
ン酸共重合体 12部 組成比
86:13:1 重合度400 ポリエステ
ルポリウレタン樹脂
6部 (カルボキシル
基10−4モル/g含有) α−アルミナ(粒子サイ
ズ0.3μm)
3部 カーボンブラック(粒子サイズ0.10μm)
3部 ブチルステアレート
1部 ステアリン酸
2部 酢酸ブチル
200部上記2つの塗料のそ
れぞれについて、各成分を連続ニーダで混練したのち、
サンドミルをもちいて分散させた。 得られた分散液にポリイソシアネートを下層の塗布液に
は5部、上層の塗布液には6部を加え、さらにそれぞれ
に酢酸ブチル40部を加え、1μmの平均孔径を有する
フィルターを用いて濾過し、下層磁性層形成用および上
層磁性層形成用塗布液をそれぞれ調製した。得られた下
層磁性層用塗布液を、乾燥後の厚さが3.0μmになる
ように塗布し、水平方向に配向し、さらにその直後にそ
の上に上層磁性層の厚さが0.5μmになるように塗布
し垂直方向に配向してから乾燥する。つづいて金属ロー
ルのみから構成される7段のカレンダーで温度120℃
にて処理を行い、1/2インチの幅にスリットし、ビデ
オテープを製造した。
100部
Hc 600Oe、比表面積 35m2 /
g 結晶子サイズ400オングストローム
粒子サイズ(長軸径) 0.25μ、針状
比 10 塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン
酸共重合体 10部 組成比
86:13:1 重合度400 ポリエステル
ポリウレタン樹脂
5部 カーボンブラック(粒子サ
イズ0.05μm) 3部
ブチルステアレート
1部 ス
テアリン酸
2部
酢酸ブチル
200部
上層磁性層 コバルト変性酸化鉄
100部
Hc 1000Oe、比表面積 60m2
/g 結晶子サイズ350オングストローム
粒子サイズ(長軸径) 0.20μ、針
状比 12 塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイ
ン酸共重合体 12部 組成比
86:13:1 重合度400 ポリエステ
ルポリウレタン樹脂
6部 (カルボキシル
基10−4モル/g含有) α−アルミナ(粒子サイ
ズ0.3μm)
3部 カーボンブラック(粒子サイズ0.10μm)
3部 ブチルステアレート
1部 ステアリン酸
2部 酢酸ブチル
200部上記2つの塗料のそ
れぞれについて、各成分を連続ニーダで混練したのち、
サンドミルをもちいて分散させた。 得られた分散液にポリイソシアネートを下層の塗布液に
は5部、上層の塗布液には6部を加え、さらにそれぞれ
に酢酸ブチル40部を加え、1μmの平均孔径を有する
フィルターを用いて濾過し、下層磁性層形成用および上
層磁性層形成用塗布液をそれぞれ調製した。得られた下
層磁性層用塗布液を、乾燥後の厚さが3.0μmになる
ように塗布し、水平方向に配向し、さらにその直後にそ
の上に上層磁性層の厚さが0.5μmになるように塗布
し垂直方向に配向してから乾燥する。つづいて金属ロー
ルのみから構成される7段のカレンダーで温度120℃
にて処理を行い、1/2インチの幅にスリットし、ビデ
オテープを製造した。
【0039】実施例2
実施例1の上層の強磁性粉末の比表面積を82m2 /
gに変えた以外は実施例1と同様に上層磁性層を形成し
、下層磁性層は実施例1と同様の磁性塗料を用いて実施
例1の記載の方法でビデオテープを得た。
gに変えた以外は実施例1と同様に上層磁性層を形成し
、下層磁性層は実施例1と同様の磁性塗料を用いて実施
例1の記載の方法でビデオテープを得た。
【0040】実施例3
実施例1の上層の強磁性粉末の比表面積を98m2 /
gに変えた以外は実施例1と同様に上層磁性層を形成し
、下層磁性層は実施例1と同様の磁性塗料を用いて実施
例1の記載の方法でビデオテープを得た。
gに変えた以外は実施例1と同様に上層磁性層を形成し
、下層磁性層は実施例1と同様の磁性塗料を用いて実施
例1の記載の方法でビデオテープを得た。
【0041】比較例1
実施例1の上層の強磁性粉末の比表面積を45m2 /
gに変えた以外は実施例1と同様に上層磁性層を形成し
、下層磁性層は実施例1と同様の磁性塗料を用いて実施
例1の記載の方法でビデオテープを得た。
gに変えた以外は実施例1と同様に上層磁性層を形成し
、下層磁性層は実施例1と同様の磁性塗料を用いて実施
例1の記載の方法でビデオテープを得た。
【0042】比較例2
実施例1の上層の強磁性粉末の比表面積を110m2
/gに変えた以外は実施例1と同様に上層磁性層を形成
し、下層磁性層は実施例1と同様の磁性塗料を用いて実
施例1の記載の方法でビデオテープを得た。
/gに変えた以外は実施例1と同様に上層磁性層を形成
し、下層磁性層は実施例1と同様の磁性塗料を用いて実
施例1の記載の方法でビデオテープを得た。
【0043】実施例4
実施例1のSQ2を0.55に変えた以外は実施例1と
同様に上層磁性層を形成し、下層磁性層は実施例1と同
様の磁性塗料を用いて実施例1の記載の方法でビデオテ
ープを得た。
同様に上層磁性層を形成し、下層磁性層は実施例1と同
様の磁性塗料を用いて実施例1の記載の方法でビデオテ
ープを得た。
【0044】実施例5
実施例1のSQ2を0.65に変えた以外は実施例1と
同様に上層磁性層を形成し、下層磁性層は実施例1と同
様の磁性塗料を用いて実施例1の記載の方法でビデオテ
ープを得た。
同様に上層磁性層を形成し、下層磁性層は実施例1と同
様の磁性塗料を用いて実施例1の記載の方法でビデオテ
ープを得た。
【0045】比較例.3
実施例1のSQ2を0.23に変えた以外は実施例1と
同様に上層磁性層を形成し、下層磁性層は実施例1と同
様の磁性液を用いて実施例1の記載の方法でビデオテー
プを得た。
同様に上層磁性層を形成し、下層磁性層は実施例1と同
様の磁性液を用いて実施例1の記載の方法でビデオテー
プを得た。
【0046】比較例.4
実施例1のSQ2を0.71に変えた以外は実施例1と
同様に上層磁性層を形成し、下層磁性層は実施例1と同
様の磁性液を用いて実施例1の記載の方法でビデオテー
プを得た。
同様に上層磁性層を形成し、下層磁性層は実施例1と同
様の磁性液を用いて実施例1の記載の方法でビデオテー
プを得た。
【0047】実施例.6
実施例1の下層の強磁性粉末の比表面積を21m2 /
gに変えた以外は実施例1と同様に下層磁性層を形成し
、上層は実施例1と同様の磁性液を用いて実施例1の記
載の方法でビデオテープを得た。
gに変えた以外は実施例1と同様に下層磁性層を形成し
、上層は実施例1と同様の磁性液を用いて実施例1の記
載の方法でビデオテープを得た。
【0048】実施例.7
実施例1の下層の強磁性粉末の比表面積を48m2 /
gに変えた以外は実施例1と同様に下層磁性層を形成し
、上層は実施例1と同様の磁性液を用いて実施例1の記
載の方法でビデオテープを得た。
gに変えた以外は実施例1と同様に下層磁性層を形成し
、上層は実施例1と同様の磁性液を用いて実施例1の記
載の方法でビデオテープを得た。
【0049】比較例.5
実施例1の下層磁性層の強磁性粉末の比表面積を14m
2 /gに変えた以外は実施例1と同様に下層磁性層を
形成し、上層は実施例1と同様の磁性液を用いて実施例
1の記載の方法でビデオテープを得た。
2 /gに変えた以外は実施例1と同様に下層磁性層を
形成し、上層は実施例1と同様の磁性液を用いて実施例
1の記載の方法でビデオテープを得た。
【0050】比較例.6
実施例1の下層の強磁性粉末の比表面積を55m2 /
gに変えた以外は実施例1と同様に下層磁性層を形成し
、上層は実施例1と同様の磁性液を用いて実施例1の記
載の方法でビデオテープを得た。
gに変えた以外は実施例1と同様に下層磁性層を形成し
、上層は実施例1と同様の磁性液を用いて実施例1の記
載の方法でビデオテープを得た。
【0051】比較例.7
実施例1のSQ1を0.60に変えた以外は実施例1と
同様に下層磁性層を形成し、上層は実施例1と同様の磁
性液を用いて実施例1の記載の方法でビデオテープを得
た。
同様に下層磁性層を形成し、上層は実施例1と同様の磁
性液を用いて実施例1の記載の方法でビデオテープを得
た。
【0052】評価方法
RF出力(Y−S)
画像信号50IREの映像信号を基準録画電流で記録し
た。この再生RF出力のエンベロープの平均値をオシロ
スコープで測定し、次式により算出した。 RF出力(dB)=20 log10(V/V0 )
V 平均値 V0 基準値 クロマ出力(C−S) 画像信号50IREの映像信号にクロマ信号を重畳し基
準録画電流で記録したのち、再生クロマ出力のエンベロ
ープの平均値をオシロスコープで測定し同様に算出した
。 Y−S/N,C−S/N シバソク製ノイズメータ(925R)を使用し、比較例
1で得たテープを基準テープとしてS/N比の差を求め
た。使用したVTRは松下NV−8300である。 粉落ち VTR(松下電器製AG−6200)を用いて、試験テ
ープを全長2時間300パス走行させ、デッキ内及びハ
ーフ内の、オーディオコントロールヘッド及びポールに
付着した汚れ具合いを観察し、5点満点で表示した。
た。この再生RF出力のエンベロープの平均値をオシロ
スコープで測定し、次式により算出した。 RF出力(dB)=20 log10(V/V0 )
V 平均値 V0 基準値 クロマ出力(C−S) 画像信号50IREの映像信号にクロマ信号を重畳し基
準録画電流で記録したのち、再生クロマ出力のエンベロ
ープの平均値をオシロスコープで測定し同様に算出した
。 Y−S/N,C−S/N シバソク製ノイズメータ(925R)を使用し、比較例
1で得たテープを基準テープとしてS/N比の差を求め
た。使用したVTRは松下NV−8300である。 粉落ち VTR(松下電器製AG−6200)を用いて、試験テ
ープを全長2時間300パス走行させ、デッキ内及びハ
ーフ内の、オーディオコントロールヘッド及びポールに
付着した汚れ具合いを観察し、5点満点で表示した。
【0053】1:非常に劣る
2:劣る
3:普通
4:良い
5:非常に良い
【0054】
【表1】
【0055】比較例1、2、実施例1〜3より上層の強
磁性粉末の比表面積が小さいとノイズレベルが高く、大
きすぎると分散性劣化による面性不良でノイズレベルが
高く好ましくないことがわかる。比較例3、4、実施例
1、4、5より上層の垂直方向の角型比が小さいと充分
な出力が得られず、大きすぎると出力は得られるがヤン
グ率の低下による粉落ちが悪化し好ましくない。比較例
5、6、実施例6、7より下層の強磁性粉末の比表面積
が小さいとノイズレベルが高く、大きすぎると分散性劣
化に伴う水平方向角型比が充分に得られずヤング率の低
下による粉落ちが悪化し好ましくない。比較例7、実施
例1より下層に同一の比表面積を有する磁性層を使用し
ても下層の水平方向の角型比が充分でないとヤング率の
低下に伴う粉落ちが悪化し好ましくない。
磁性粉末の比表面積が小さいとノイズレベルが高く、大
きすぎると分散性劣化による面性不良でノイズレベルが
高く好ましくないことがわかる。比較例3、4、実施例
1、4、5より上層の垂直方向の角型比が小さいと充分
な出力が得られず、大きすぎると出力は得られるがヤン
グ率の低下による粉落ちが悪化し好ましくない。比較例
5、6、実施例6、7より下層の強磁性粉末の比表面積
が小さいとノイズレベルが高く、大きすぎると分散性劣
化に伴う水平方向角型比が充分に得られずヤング率の低
下による粉落ちが悪化し好ましくない。比較例7、実施
例1より下層に同一の比表面積を有する磁性層を使用し
ても下層の水平方向の角型比が充分でないとヤング率の
低下に伴う粉落ちが悪化し好ましくない。
【0056】以上の結果から、本発明に伴う磁気テープ
が、特に短波長における出力の向上と走行耐久性に優れ
た特性を示すことが明らかである。
が、特に短波長における出力の向上と走行耐久性に優れ
た特性を示すことが明らかである。
【0057】
【発明の効果】本発明は、下層、上層の各Co含有酸化
鉄のサイズを各々規定すると共にSQ1と下層のヤング
率およびSQ2を規定することにより、長波長域の電磁
変換特性を良好に維持すると共に短波長域の電磁変換特
性を改善し、かつ走行耐久性の優れた磁気記録媒体を提
供できる。
鉄のサイズを各々規定すると共にSQ1と下層のヤング
率およびSQ2を規定することにより、長波長域の電磁
変換特性を良好に維持すると共に短波長域の電磁変換特
性を改善し、かつ走行耐久性の優れた磁気記録媒体を提
供できる。
Claims (3)
- 【請求項1】 非磁性支持体の表面に強磁性粉末と結
合剤を含む下層磁性層とその上に設けた上層磁性層より
なる複数の磁性層を有する磁気記録媒体において、上層
磁性層は前記強磁性粉末としてBET比表面積が60m
2 /g以上のCo含有酸化鉄を含有し、非磁性支持体
面に垂直方向の角型比が0.4以上であり、水平方向の
ヤング率は200kg/mm2 以上であり、下層磁性
層は前記強磁性粉末としてBET比表面積が20〜50
m2 /gの範囲のCo含有酸化鉄を含有し、水平方向
の角型比が0.7以上、水平方向のヤング率が300k
g/mm2 以上であることを特徴とする磁気記録媒体
。 - 【請求項2】 前記上層磁性層含有の強磁性粉末のB
ET比表面積が60〜100m2 /gの範囲にあるこ
とを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】 前記上層磁性層の垂直方向の角型比が
0.4〜0.65の範囲にあることを特徴とする請求項
1または2記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17337891A JPH04370521A (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17337891A JPH04370521A (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04370521A true JPH04370521A (ja) | 1992-12-22 |
Family
ID=15959288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17337891A Pending JPH04370521A (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04370521A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6268043B1 (en) * | 1999-02-23 | 2001-07-31 | Sony Corporation | Magnetic recording medium |
-
1991
- 1991-06-19 JP JP17337891A patent/JPH04370521A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6268043B1 (en) * | 1999-02-23 | 2001-07-31 | Sony Corporation | Magnetic recording medium |
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