JPH0437057B2 - - Google Patents
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Classifications
-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- C07C43/02—Ethers
- C07C43/257—Ethers having an ether-oxygen atom bound to carbon atoms both belonging to six-membered aromatic rings
- C07C43/29—Ethers having an ether-oxygen atom bound to carbon atoms both belonging to six-membered aromatic rings containing halogen
-
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
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- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/32—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing two or more rings
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Description
請求の範囲
1 下式で示されるジフエニルヘキサフルオロプ
ロパン化合物。 式中、Xは酸素又は硫黄、Rはエチニル、R1
およびR2はそれぞれ水素を表わす。 2 Xが酸素である請求の範囲第1項記載のジフ
エニルヘキサフルオロプロパン化合物。 3 Xが硫黄である請求の範囲第1項記載のジフ
エニルヘキサフルオロプロパン化合物。 発明の背景 1 発明の分野 本発明はジエチニル化芳香族化合物に関する。
より詳細には本発明はジフエニルヘキサフルオロ
プロパンの芳香環に結合したエチルフエノキシ基
又はエチルチオフエノキシ基を有するジフエニル
ヘキサフルオロプロパン化合物に関する。 2 背景技術の説明 ジエチニル化芳香族化合物類は、高温構造合成
物および高−木炭(high−char)生成構造母体
たとえば炭素−炭素合成物における使用のための
熱的安定樹脂の合成において重要な中間体であ
る。これらの物質は、再突入(reentry)ミサイ
ルノーズコーン、リーデイングエツジ、ロケツト
ノズル、および高構造強度および高熱安定性を要
求するその他の構造的用途に使用される。 これらの高温樹脂の処理および製造は一般にど
ちらかというと難しい。ジエチニル化芳香族化合
物をこれのみで又は種々の高温樹脂中の希釈剤と
して使用する場合に重要なことは、処理を容易に
するために、その化合物が比較的広い加工可能温
度範囲にわたつて液体であることである。この加
工可能な又は液体である温度範囲は、一般にその
ジエチニル化芳香族化合物の“プロセシングウイ
ンド”と称される。プロセシングウインドの下限
は、その化合物が液体に融解する温度であり、上
限はその化合物がゲル化および固化する温度であ
る。可能ならば、樹脂製造を容易としそして処理
を商業的に実際的とするために、大気温度を含む
プロセシングウインドを有する化合物を使用する
ことが望ましい。 現在、大気温度で粘ちような液体である2種類
のジエチニル化芳香族化合物のみが知られてい
る。一方はアセチレン末端スルホン(ATS)で
あり、他方は2,2−ビス(4−エチニルフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン(EPHFP)であ
る。EPHFPおよび関連化合物は、本願出願人の
1983年2月15日の米国特許No.4374291号明細書に
開示されている。上記に開示された公知の化合物
と同範囲にプロセシングウインドを有し、そして
公知の2つの化合物のいずれにも見られない別の
性質および特性をも有する別のジフエニル化芳香
族化合物を提供することが望ましい。 発明の概要 本発明によると、71℃から225℃にわたる広い
プロセシングウインドを有する新規なジエチニル
化芳香族化合物が開示される。この新規な化合物
は硬化することにより、公知のATS又はEPHFP
化合物よりも熱安定性が高く、そしてより高いガ
ラス転移温度度を有する架橋網目を生成する。 本発明に係る化合物は、ジフエニルヘキサフル
オロプロパンのエチニルフエノキシ及びエチニル
チオフエノキシ誘導体で次式を有する。 式中、Xは酸素又は硫黄であり、R、R1又は
R2はそれぞれ水素又はエチニルである。好まし
い化合物においては、R1およびR2は水素で、R
はエチニルである。 該新規化合物の広いプロセシングウインドは、
取扱いおよび他の高温オリゴマーおよびポリマー
との混合を容易にする。相溶希釈剤として働い
て、これがなければ加工が困難な高温ポリマー物
質を改良する(相溶性の語はここでは、一般に樹
脂混合物において混合されたポリマーの相分離を
回避を意味する)。加えて、該新規化合物とアセ
チレン末端オリゴマーとの混合および共重合は、
高温適用に適した構造物質である相互浸透
(interpenetrating)共重合ネツトワークを与え
る。 本発明の化合物は、高分子量熱可塑性物質の処
理において使用する可塑希釈剤としても有用であ
る。高分子量熱可塑性物質をここで示す発明の化
合物と共に硬化することにより、該熱可塑物質内
において架橋ネツトワークが生成し、該熱可塑物
質の高温構造強度を高める。 本発明の他の特徴として、ヘキサフルオロプロ
パン基とエチニルフエニル基との間の屈曲性酸素
又は硫黄の結合(X)の存在が、該エチニル末端基間
の大きい分子距離と共に、破砕に対する抵抗性の
改良されたポリマー及び共重合体を与える。 本発明の上記のおよびその他の多くの特徴およ
び附随的効果は、添附図面を考慮して下記の詳細
な説明を参照することによつて本発明がより良く
理解されたとき、明らかになるだろう。
ロパン化合物。 式中、Xは酸素又は硫黄、Rはエチニル、R1
およびR2はそれぞれ水素を表わす。 2 Xが酸素である請求の範囲第1項記載のジフ
エニルヘキサフルオロプロパン化合物。 3 Xが硫黄である請求の範囲第1項記載のジフ
エニルヘキサフルオロプロパン化合物。 発明の背景 1 発明の分野 本発明はジエチニル化芳香族化合物に関する。
より詳細には本発明はジフエニルヘキサフルオロ
プロパンの芳香環に結合したエチルフエノキシ基
又はエチルチオフエノキシ基を有するジフエニル
ヘキサフルオロプロパン化合物に関する。 2 背景技術の説明 ジエチニル化芳香族化合物類は、高温構造合成
物および高−木炭(high−char)生成構造母体
たとえば炭素−炭素合成物における使用のための
熱的安定樹脂の合成において重要な中間体であ
る。これらの物質は、再突入(reentry)ミサイ
ルノーズコーン、リーデイングエツジ、ロケツト
ノズル、および高構造強度および高熱安定性を要
求するその他の構造的用途に使用される。 これらの高温樹脂の処理および製造は一般にど
ちらかというと難しい。ジエチニル化芳香族化合
物をこれのみで又は種々の高温樹脂中の希釈剤と
して使用する場合に重要なことは、処理を容易に
するために、その化合物が比較的広い加工可能温
度範囲にわたつて液体であることである。この加
工可能な又は液体である温度範囲は、一般にその
ジエチニル化芳香族化合物の“プロセシングウイ
ンド”と称される。プロセシングウインドの下限
は、その化合物が液体に融解する温度であり、上
限はその化合物がゲル化および固化する温度であ
る。可能ならば、樹脂製造を容易としそして処理
を商業的に実際的とするために、大気温度を含む
プロセシングウインドを有する化合物を使用する
ことが望ましい。 現在、大気温度で粘ちような液体である2種類
のジエチニル化芳香族化合物のみが知られてい
る。一方はアセチレン末端スルホン(ATS)で
あり、他方は2,2−ビス(4−エチニルフエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン(EPHFP)であ
る。EPHFPおよび関連化合物は、本願出願人の
1983年2月15日の米国特許No.4374291号明細書に
開示されている。上記に開示された公知の化合物
と同範囲にプロセシングウインドを有し、そして
公知の2つの化合物のいずれにも見られない別の
性質および特性をも有する別のジフエニル化芳香
族化合物を提供することが望ましい。 発明の概要 本発明によると、71℃から225℃にわたる広い
プロセシングウインドを有する新規なジエチニル
化芳香族化合物が開示される。この新規な化合物
は硬化することにより、公知のATS又はEPHFP
化合物よりも熱安定性が高く、そしてより高いガ
ラス転移温度度を有する架橋網目を生成する。 本発明に係る化合物は、ジフエニルヘキサフル
オロプロパンのエチニルフエノキシ及びエチニル
チオフエノキシ誘導体で次式を有する。 式中、Xは酸素又は硫黄であり、R、R1又は
R2はそれぞれ水素又はエチニルである。好まし
い化合物においては、R1およびR2は水素で、R
はエチニルである。 該新規化合物の広いプロセシングウインドは、
取扱いおよび他の高温オリゴマーおよびポリマー
との混合を容易にする。相溶希釈剤として働い
て、これがなければ加工が困難な高温ポリマー物
質を改良する(相溶性の語はここでは、一般に樹
脂混合物において混合されたポリマーの相分離を
回避を意味する)。加えて、該新規化合物とアセ
チレン末端オリゴマーとの混合および共重合は、
高温適用に適した構造物質である相互浸透
(interpenetrating)共重合ネツトワークを与え
る。 本発明の化合物は、高分子量熱可塑性物質の処
理において使用する可塑希釈剤としても有用であ
る。高分子量熱可塑性物質をここで示す発明の化
合物と共に硬化することにより、該熱可塑物質内
において架橋ネツトワークが生成し、該熱可塑物
質の高温構造強度を高める。 本発明の他の特徴として、ヘキサフルオロプロ
パン基とエチニルフエニル基との間の屈曲性酸素
又は硫黄の結合(X)の存在が、該エチニル末端基間
の大きい分子距離と共に、破砕に対する抵抗性の
改良されたポリマー及び共重合体を与える。 本発明の上記のおよびその他の多くの特徴およ
び附随的効果は、添附図面を考慮して下記の詳細
な説明を参照することによつて本発明がより良く
理解されたとき、明らかになるだろう。
第1図は、本発明に係る好ましいジフエニルヘ
キサフルオロプロパンのエチニルフエノキシ誘導
体の製造のための2つの択一的例示的方法の図式
である。 第2図は、本発明に係る好ましいジフエニルヘ
キサフルオロプロパンのエチニルチオフエノキシ
誘導体の製造のための例示的方法の図式である。
キサフルオロプロパンのエチニルフエノキシ誘導
体の製造のための2つの択一的例示的方法の図式
である。 第2図は、本発明に係る好ましいジフエニルヘ
キサフルオロプロパンのエチニルチオフエノキシ
誘導体の製造のための例示的方法の図式である。
本発明に係る化合物は次の一般式を有する。
式中、Xは酸素又は硫黄であり、R、R1又は
R2はそれぞれ水素又はエチニルである。好まし
い化合物は、2,2−ビス[4−(4−エチニル
フエノキシ)フエニル]ヘキサフルオロプロパン
で、Xが酸素、R1およびR2が水素、そしてRが
エチニルのものである。他の好ましい化合物は
2,2−ビス[4−(4−エチニルフエニルチオ)
フエニル]ヘキサフルオロプロパンで、Xが硫
黄、R1およびR2が水素、Rがエチニルのもので
ある。これらの2つの好ましい例の典型的な製造
を次に示す。 2,2−ビス[4−(4−エチニルフエノキシ)
−フエニル]ヘキサフルオロプロパン(5)は、第1
図に図式的に示されている。2,2−ビス[4−
(4−エチニルフエノキシ)−フエニル]ヘキサフ
ルオロプロパン(5)は、2つの好ましい合成経路に
よつて製造することができる。各経路は、2,2
−ビス[4−(4−ヨードフエノキシ)−フエニ
ル]ヘキサフルオロプロパン(2)の合成、これに続
く第1図の中間体(3)および(4)を得るための、2−
メチル−3−ブチン−2−オール又はエチニルト
リメチシランのいずれかとの反応を包含する。2
つの中間体をそれぞれ以下に述べるように処理し
て、所望の2,2−ビス[4−(4−エチニルフ
エノキシ)−フエニル]ヘキサフルオロプロパン
(5)が製造される。 実施する例は次の通りである。 例 1 この例は、本発明に係る2,2−ビス[4−
(4−エチニルフエノキシ)−フエニル]ヘキサフ
ルオロプロパン(5)の製造を説明する。 A 2,2−ビス[4−(4−ヨードフエノキシ)
−フエニル]ヘキサフルオロプロパン(化合物
2)の製造: 2,2−ビス[4−(4−ヨードフエノキシ)−
フエニル]ヘキサフルオロプロパン(化合物2)
は、初めに4リツトルビーカーに250mlの濃塩酸
を用意することにより製造された。機械的に撹拌
しながら、その酸を103.6グラム(0.2モル)の
2,2−ビス[4−(4−アミノフエノキシ)−フ
エニル]ヘキサフルオロプロパン(1)(モートンケ
ミカルカンパニーから4−BDAFとして得られ
る)で処理した。このスラリーに400グラムの氷
を加えて最終温度を−15℃とした。滴下添加によ
り30.4グラム(0.44モル)の亜硝酸ナトリウムの
水溶液500mlを加えた。熱が発生したとき、反応
混合物は、氷の添加により−5℃から0℃の温度
範囲に調節しなければならない。最後にスラリー
はKIデンプン紙を青に変化させる赤みがかつた
茶色液に変わつた。溶液を0℃でさらに0.5時間
撹拌した。73グラム(0.44モル)のヨウ化カリウ
ムの250mlの水中の溶液を、発泡が調節される速
度で加えた。ヨウ化カリウムの添加の後、混合物
を250℃で16時間放置した。 溶液を中和し、総量が2リツトルとなるいくつ
かの部分のジクロロメタンで数回抽出した。有機
相を3×500mlの亜硫酸水素ナトリウム水溶液、
1×500mlの炭酸水素ナトリウム水溶液、および
2×500mlの水で洗つた。硫酸マグネシウムで乾
燥し、濃縮した後、121.9グラムの茶色固体が得
られ、これをジクロロメタン−ヘキサン1:10を
溶出液として使用するシリカゲルクロマトグラフ
によつて精製した。最後に70.4グラムのクリーム
−白色固体が得られた。 融点128−131℃。 この生成物の1グラムの試料に対する第2のシ
リカゲルカラムクロマトグラフは、140−141℃で
融解する2,2−ビス[4−(4−ヨードフエノ
キシ)−フエニル]ヘキサフルオロプロパン(2)の
光沢ある菱形の結晶を与えた。 化合物(2)の物理的性質は次の通りである。 IR(KBr):3170(弱い)、1620、1585、1515、
1485、そして非常に強い1300−1175cm-1の吸
収; NMR(CDCl3):δ6.74−7.80ppm(2つの重なつ
たねじれたAB分裂パターン) B 2,2−ビス[4−[4−(3−ヒドロキシ−
3−メチルブチ−1−イニル)フエノキシ]フ
エニル]ヘキサフルオロプロパン(化合物3)
の製造: 59.2グラム(0.08モル)の化合物2の300mlの
脱気無水トリエチルアミン(F luka)の溶液
に、0価パラジウムの前駆体として250mgの
(Ph3P)2PdCl2を加えた。全ての粒子が溶けるま
で混合物を撹拌しながらおよそ45℃で加熱した。
一部分として14.8g(0.176モル)の2−メチル
−3−ブチン−2−オールを加え、次いで68.5mg
のCu2I2を加えた。オイルバスの温度を約95℃−
100℃に上げこの範囲に4.5時間保持した。冷却お
よび300mlのエーテルでの希釈の後、スラリー濾
過して34.07gのトリエチルアミンハイドロアイ
オダイド(0.149モル、理論値の93%)を得た。 ろ液を乾燥状態まで濃縮し、200mlのジクロロ
メタンに再溶解して、各々100mlの10%塩酸、水、
飽和炭酸水素ナトリウムおよび再び水で洗つた。
硫酸マグネシウムでの乾燥および濃縮の後、残留
物をシリカゲルクロマトグラフイで精製した。ヘ
キサンでの溶出によりジアセチレン側の生成物が
分離した。アセトンでの溶出およびその溶出物の
濃縮により、黄褐色固体(51.9g、0.080モル、
理論値の99.5%)が得られ、これは化合物3と同
定された。化合物3は次の性質を有する。融点73
−77℃;IR(フイルム):3400(ブロード、強い
OH)、300(鋭い、強いメチル)、2240(弱い、C
−C)、1600、1505、および1300−1140cm-1(強
い、ブロード);NMR(アセトン−d6):δ1.05
(s,12H,CH3)、6.40−7.05ppm(2つの重なつ
たA2B2カルテツト、16H、芳香族水素) C37H30F6O4のための分析(444.407): 計算値:C,68.09;H,4.63. 実験値:C,68.17;H,4.89. C 2,2−[4−[4−(3−ヒドロキシ−3−
メチルブチ−1−イニル)−フエノキシ]フエ
ニル]ヘキサフルオロプロパン(化合物3)か
らの2,2−ビス[4−(4−エチニルフエノ
キシ)−フエニル]ヘキサフルオロプロパン
(化合物5)の製造: 0.32グラム(0.008)モルの水酸化ナトリウム
の5mlの水の溶液を、150mlのトルエン中の31.9
グラム(0.050モル)の化合物3に加えた。2時
間の還流の後、混合物を共沸蒸留した。蒸留され
た濁つた液体はアセトンを含んでいた。 冷却後、混合物を100mlの水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、固形物まで濃縮した。この
固形物をヘキサン溶出のカラムクロマトグラフで
精製した。該薄黄色固体は2,2−ビス[4−
(4−エチニルフエノキシ)フエニル]ヘキサフ
ルオロプロパン(化合物5)であると同定され
た。この同定はそのIRスペクトルの特徴的2210
cm-1の吸収、およびそのNMRスペクトルの
δ3.14ppmの特色あるシングレツトおよびδ6.90−
7.85ppmのねじれたABパターンによる。 D 2,2−ビス[4−(4−トリメチルシリル
エチニルフエノキシ)フエニル]ヘキサフルオ
ロプロパン(化合物4)の製造: 上記のようにして製造した化合物2の26.45グ
ラム(35.74ミリモル)の200mlの脱気した無水ト
リエチルアミン中の溶液に、48mgのパラジウム
[]アセテートおよび200mgのトリフエニルフオ
スフインを含包する触媒系であつて還元によつて
0価パラジウムを提供する触媒系を加えた。濁つ
た黄色液を撹拌し全ての茶色固体が溶けるまで50
℃で加熱した。エチニルトリメチルシラン
(8.760g,89.39ミリモル)を加え、混合物を速
やかに5分で70℃まで加熱した。60℃において澄
んだ黄色液が得られた。70℃で白色トリエチルア
ミンハイドロアイオダイドの沈澱が始まつた。反
応温度を10分で90−95℃に上げて、その温度範囲
に6時間保つた。1時間後パラジウム錯体の予期
しない分解が生じ、白色粒子は灰色になつた。ス
ラリーを冷却し、100mlのエーテルで希釈して濾
過した。灰色固体を別のエーテルで洗い、空気乾
燥した。事実上、定量的収量(15.64g、71.42ミ
リモル)のトリエチルアミンハイドロアイオダイ
ドが得られた。 暗茶色ろ液を200mlのエーテルに溶解し、それ
ぞれ100mlの10%塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリ
ウム、および再び水で洗浄した。エーテル相を硫
酸マグネシウムで乾燥し、泡の半固体まで濃縮し
た。粗生成物は事実上定量的であつた。1グラム
の試料を取つてカラムクロマトグラフイで精製し
た。カラムを落ちる第2のバンドを1.5リツトル
のヘキサンで溶出した。溶出液を糖密
(molasses)コンシスチンシまで濃縮し、明るい
黄色半固体の2,2−ビス[4−(4−トリメチ
ルシリルエチニルフエノキシ)フエニル]ヘキサ
フルオロプロパン(化合物4)を得た。 E 2,2−ビス−[4−(4−トリメチルシリル
エチニルフエノキシ)フエニル]ヘキサフルオ
ロプロパン(化合物4)からの2,2−ビス
[4−(4−エチニルフエノキシ)−フエニル]
ヘキサフルオロプロパン(化合物5)の別の製
造: 上記で得た明るい黄色の半固体(化合物4)を
200mlの無水メタノール−テトラハイドロフラン
1:1の混合物に溶かし、2グラムの無水炭酸カ
リウムと共に25℃で16時間撹拌した。溶液は1時
間後に暗いオレンジ茶色に変わつた。溶媒の除去
により固体残留物が残り、これを200mlのエーテ
ルに溶かして、2×200mlの水で洗つた。エーテ
ル分画を硫酸マグネシウムで乾燥し、粘しようオ
イルまで濃縮した。9:1ヘキサン−ジクロロメ
タンでの溶出によるシリカゲルクロマトグラフイ
は白色低融点固体を与え、これは2,2−ビス
[4−(4−エチニルフエノキシ)フエニル]ヘキ
サフルオロプロパン(化合物5)であると同定さ
れた。IRおよびNMRスペクトルは次の通りであ
る。 IR(KBr):3310(強い、C≡C−H)、2200(弱
い、C≡C) NMR(CDCl3)δ3.14(s,2H,C≡CH)およ
び6.90−7.85ppm(ねじれたABカルテツト,
16H,芳香族) 例 2 この例は、本発明に係る2,2−ビス[4−
(4−エチニルフエニルチオ)フエニル]ヘキサ
フルオロプロパンの製造を説明する。 2,2−ビス[4−(4−エチニルフエニルチ
オ)フエニル]ヘキサフルオロプロパン(11)の製造
は第2図に図式で示されている。第2図に示され
た方法による典型的な合成は次の通りである。 A 2,2−ビス(4−メルカプトフエニル)ヘ
キサフルオロプロパン(化合物6)の製造: 化合物6および関連ビス(ベンゼンチオール)
化合物は、1982年12月27日特許出願(No.453,
431)の明細書に開示され、本件特許と同じ譲受
人に譲渡されている。化合物6および関連化合物
は3段階工程で製造される。第1段階では、塩基
存在下ビスフエノールをN,Nジメチルチオカー
バモイルクロライドと反応させる。好ましくはこ
の反応ではビスフエノールに対して10%乃至20%
モル過剰のカーバモイルクロライドを使用する。
この反応にとつて好ましい温度は大気圧下で約0
℃乃至約60℃である。好ましい反応温度は約1乃
至約2時間である。この第1の処理段階からO−
チオカルバメイトエステルと呼ばれる一群の化合
物が得られる。 この方法の第2の段階では、第1段階からのO
−チオカルバメイトエステルを約150℃乃至約275
℃の温度範囲において約1乃至約2時間、大気圧
下、好ましくは不活性雰囲気例えばアルゴン雰囲
気下で加熱して、S−チオカーバメイトと呼ばれ
る一群の化合物を得る。この再配列反応は一般語
“スマイルスリアレンジメント”によつて知られ
ている。 この方法の第3段階では、第2段階からのS−
チオカルバメイトエステルをメタノール中で強塩
基例えば水酸化カリウムと反応させ、それから濃
酸例えば塩酸又は硝酸で処理して所望のビス(ベ
ンゼンチオール)を得る。 次の例はビス(ベンゼンチオール)(化合物6)
の製造を示す。 112グラム(0.33モル)のビスフエノールAF
[2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニル)ヘキ
サフルオロプロパン]の700ミリリツトルのベン
ゼンの溶液に、43.5グラム(0.66モル)の85%水
酸化カリウムを加えた。得られた溶液を、水を除
くためのトラツプをつけてリフラツクスし;それ
から減圧下でベンゼンを除去した。得られた塩に
700ミリリツトルのジメチルホルムアミドを加え、
混合物を0℃に冷却し、そして100グラム(0.81
モル)のN,N−ジメチルチオカーバモイルクロ
ライドを加えた。得られた混合物を室温に、それ
から60℃に加熱し、60℃に1時間保つた。 生成混合物を3リツトルの水で希釈し、80:20
ベンゼン/ヘキサン液で2回抽出した。有機相を
減圧下で留去し、固体結晶残留物を得た。残留物
を5:1メタノール/ベンゼン液から再結晶して
125グラムの融点約209゜−211℃の生成物を得た。
この生成物はビスフエノールAFのO−チオカル
バメイトエステルであつた。 15グラム(0.3モル)の、ビスフエノールAFの
O−チオカルバメイトエステルを反応器に入れ、
アルゴン下250℃で1時間加熱した。生成物を室
温まで冷却した後、ガラス質残留物を60ミリリツ
トルのメタノールから再結晶して、141゜−144℃
の融点を有する生成物を11グラム得た。この生成
物はビスベンゼンチオール誘導体のS−チオカー
バメイトエステルであつた。 75グラム(0.15モル)の上記S−チオカーバメ
イトエステルを400ミリリツトルのメタノール中
の置き、75グラムの水酸化カリウムの200ミリリ
ツトルの溶液を加えた。この混合物を1時間リフ
ラツクスし、冷やして、2リツトルの水で希釈し
た。165ミリリツトルの濃塩機の1リツトルの水
中溶液を加えた。沈澱物が得られ、これを3:1
メタノール−水の混合物から再結晶して50グラム
の2,2−ビス(4−メルカプトフエニル)ヘキ
サフルオロプロパン(化合物6)の生成物を得
た。化合物6の二カリウム塩は、化合物6のカリ
ウム含有塩基との反応により製造された。 B 2,2−ビス[4−(4−ニトロフエニルチ
オ)フエニル]ヘキサフルオロプロパン(化合
物7)の製造: 化合物7は、ジメチルスルホキシド中150゜−
160℃における化合物6の二カリウム塩と2当量
の4−クロロニトロベンゼンとの求核芳香置換反
応によつて合成された。 C 2,2−ビス[4−(4−アミノフエニルチ
オ)フエニル]ヘキサフルオロプロパン(化合
物8)の製造: 化合物8は、エチルアルコール溶媒中木炭(チ
ヤーコル)上パラジウム触媒上における4気圧の
水素雰囲気下のパー(Parr)装置での2,2−
ビス[4−(4−ニトロフエニルチオ)フエニル]
ヘキサフルオロプロパン(化合物7)の水素化に
より製造された。 D 2,2−ビス[4−(4−ヨードフエニルチ
オ)フエニル]ヘキサフルオロプロパン(化合
物9)の製造: 化合物9は、前記例1の節Aに説明した一般的
ジアゾ化方法による、化合物8の亜硝酸ナトリウ
ム処理に続くヨウ化カリウムでの処理によつて製
造された。 E 2,2−ビス[4−(4−トリメチルシリル
エチニルフエニルチオ)フエニル]ヘキサフル
オロプロパン(化合物10)の製造: 化合物10は、前記例1の節Dに説明した一般方
法に従つて、化合物9をパラジウム触媒系および
エチルトリメチルシランで処理することによつて
製造された。 F 2,2−ビス[4−(4−エチニルフエニル
チオ)フエニル]ヘキサフルオロプロパン(化
合物11)の製造: 最終の所望の生成物2,2−ビス[4−(4−
エチニルフエニルチオ)フエニル]ヘキサフルオ
ロプロパン(化合物11)は、前記例1の節Eに説
明した一般方法に従つて、化合物10を無水メタノ
ール−テトラハイドロフランおよび無水炭酸カリ
ウムで処理することによつて製造された。 本発明に係る化合物類は、ホモポリマーを製造
するために使用することができ、又はこれらは
種々の他のエチニル化されたモノマー例えばアセ
チレン末端スルホン(ATS)およびアセチレン
末端イミドと共重合させることもできる。共重合
体に混入させるエチニル化モノマーの量は、共重
合体に望まれる性質によつて変わる。1乃至99重
量%のエチニル化モノマーを伴う共重合体が可能
である。 加えて、該化合物は種々の高温樹脂、例えばポ
リイミド、ポリベンゾチアゾール、ポリキノリ
ン、およびポリキノキサリンなどの製造における
可塑希釈剤として使用することができる。可塑希
釈剤として使用する場合、樹脂に該化合物を好ま
しくは数重量%から約30重量%加える。可塑剤と
して添加されるこの化合物の量は、最終樹脂生成
物のもろさの所望の低下と共に、樹脂の加工およ
び処理の間の所望の改良を達成するために、変化
される。 例 3 2,2−ビス[4−(4−エチニルフエノキシ)
フエニル]ヘキサフルオロプロパンのホモポリマ
ーは、無溶媒の材料試料を52℃から315℃までの
ボタン型(button mold)中で毎分2−3℃の速
度で加熱して製造された。得られたボタンを316
℃で2時間硬化させた。硬化したボタンはおよそ
333℃のガラス転移点を有した。この重合体は安
定で、すなわち500℃以上までの熱重量試験で重
量減少を示さなかつた。硬化ボタンには、316℃
の温度で合計24時間の後硬化をも施した。得られ
た後硬化ボタンは約370℃のガラス転移点を有し
た。 例 4 1部の2,2−ビス[4−(4−エチニルフエ
ノキシ)フエニルフルオロプロパンと、4部のア
セチレン末端ポリイミドオリゴマー(米国特許第
4438243号明細書第9−10段に記載されたタイプ
のもの、平均重合度(DP)15)との共重合体が、
混合物試料をボタン型中52℃から315℃まで毎分
2℃の速度で加熱することにより得られた。得ら
れたボタンはおよそ325℃のガラス転移点を有し、
熱重量分析では500℃までは重量損失を示さなか
つた。 本発明の典型例を説明してきたが、当業者は、
ここでの開示は例示にすぎず種々の他の修飾が本
発明の見地内でなされ得ることに注意すべきであ
る。したがつて本発明はここで説明した特定の具
体例に限定されることなく、次の請求の範囲にの
み限定される。
R2はそれぞれ水素又はエチニルである。好まし
い化合物は、2,2−ビス[4−(4−エチニル
フエノキシ)フエニル]ヘキサフルオロプロパン
で、Xが酸素、R1およびR2が水素、そしてRが
エチニルのものである。他の好ましい化合物は
2,2−ビス[4−(4−エチニルフエニルチオ)
フエニル]ヘキサフルオロプロパンで、Xが硫
黄、R1およびR2が水素、Rがエチニルのもので
ある。これらの2つの好ましい例の典型的な製造
を次に示す。 2,2−ビス[4−(4−エチニルフエノキシ)
−フエニル]ヘキサフルオロプロパン(5)は、第1
図に図式的に示されている。2,2−ビス[4−
(4−エチニルフエノキシ)−フエニル]ヘキサフ
ルオロプロパン(5)は、2つの好ましい合成経路に
よつて製造することができる。各経路は、2,2
−ビス[4−(4−ヨードフエノキシ)−フエニ
ル]ヘキサフルオロプロパン(2)の合成、これに続
く第1図の中間体(3)および(4)を得るための、2−
メチル−3−ブチン−2−オール又はエチニルト
リメチシランのいずれかとの反応を包含する。2
つの中間体をそれぞれ以下に述べるように処理し
て、所望の2,2−ビス[4−(4−エチニルフ
エノキシ)−フエニル]ヘキサフルオロプロパン
(5)が製造される。 実施する例は次の通りである。 例 1 この例は、本発明に係る2,2−ビス[4−
(4−エチニルフエノキシ)−フエニル]ヘキサフ
ルオロプロパン(5)の製造を説明する。 A 2,2−ビス[4−(4−ヨードフエノキシ)
−フエニル]ヘキサフルオロプロパン(化合物
2)の製造: 2,2−ビス[4−(4−ヨードフエノキシ)−
フエニル]ヘキサフルオロプロパン(化合物2)
は、初めに4リツトルビーカーに250mlの濃塩酸
を用意することにより製造された。機械的に撹拌
しながら、その酸を103.6グラム(0.2モル)の
2,2−ビス[4−(4−アミノフエノキシ)−フ
エニル]ヘキサフルオロプロパン(1)(モートンケ
ミカルカンパニーから4−BDAFとして得られ
る)で処理した。このスラリーに400グラムの氷
を加えて最終温度を−15℃とした。滴下添加によ
り30.4グラム(0.44モル)の亜硝酸ナトリウムの
水溶液500mlを加えた。熱が発生したとき、反応
混合物は、氷の添加により−5℃から0℃の温度
範囲に調節しなければならない。最後にスラリー
はKIデンプン紙を青に変化させる赤みがかつた
茶色液に変わつた。溶液を0℃でさらに0.5時間
撹拌した。73グラム(0.44モル)のヨウ化カリウ
ムの250mlの水中の溶液を、発泡が調節される速
度で加えた。ヨウ化カリウムの添加の後、混合物
を250℃で16時間放置した。 溶液を中和し、総量が2リツトルとなるいくつ
かの部分のジクロロメタンで数回抽出した。有機
相を3×500mlの亜硫酸水素ナトリウム水溶液、
1×500mlの炭酸水素ナトリウム水溶液、および
2×500mlの水で洗つた。硫酸マグネシウムで乾
燥し、濃縮した後、121.9グラムの茶色固体が得
られ、これをジクロロメタン−ヘキサン1:10を
溶出液として使用するシリカゲルクロマトグラフ
によつて精製した。最後に70.4グラムのクリーム
−白色固体が得られた。 融点128−131℃。 この生成物の1グラムの試料に対する第2のシ
リカゲルカラムクロマトグラフは、140−141℃で
融解する2,2−ビス[4−(4−ヨードフエノ
キシ)−フエニル]ヘキサフルオロプロパン(2)の
光沢ある菱形の結晶を与えた。 化合物(2)の物理的性質は次の通りである。 IR(KBr):3170(弱い)、1620、1585、1515、
1485、そして非常に強い1300−1175cm-1の吸
収; NMR(CDCl3):δ6.74−7.80ppm(2つの重なつ
たねじれたAB分裂パターン) B 2,2−ビス[4−[4−(3−ヒドロキシ−
3−メチルブチ−1−イニル)フエノキシ]フ
エニル]ヘキサフルオロプロパン(化合物3)
の製造: 59.2グラム(0.08モル)の化合物2の300mlの
脱気無水トリエチルアミン(F luka)の溶液
に、0価パラジウムの前駆体として250mgの
(Ph3P)2PdCl2を加えた。全ての粒子が溶けるま
で混合物を撹拌しながらおよそ45℃で加熱した。
一部分として14.8g(0.176モル)の2−メチル
−3−ブチン−2−オールを加え、次いで68.5mg
のCu2I2を加えた。オイルバスの温度を約95℃−
100℃に上げこの範囲に4.5時間保持した。冷却お
よび300mlのエーテルでの希釈の後、スラリー濾
過して34.07gのトリエチルアミンハイドロアイ
オダイド(0.149モル、理論値の93%)を得た。 ろ液を乾燥状態まで濃縮し、200mlのジクロロ
メタンに再溶解して、各々100mlの10%塩酸、水、
飽和炭酸水素ナトリウムおよび再び水で洗つた。
硫酸マグネシウムでの乾燥および濃縮の後、残留
物をシリカゲルクロマトグラフイで精製した。ヘ
キサンでの溶出によりジアセチレン側の生成物が
分離した。アセトンでの溶出およびその溶出物の
濃縮により、黄褐色固体(51.9g、0.080モル、
理論値の99.5%)が得られ、これは化合物3と同
定された。化合物3は次の性質を有する。融点73
−77℃;IR(フイルム):3400(ブロード、強い
OH)、300(鋭い、強いメチル)、2240(弱い、C
−C)、1600、1505、および1300−1140cm-1(強
い、ブロード);NMR(アセトン−d6):δ1.05
(s,12H,CH3)、6.40−7.05ppm(2つの重なつ
たA2B2カルテツト、16H、芳香族水素) C37H30F6O4のための分析(444.407): 計算値:C,68.09;H,4.63. 実験値:C,68.17;H,4.89. C 2,2−[4−[4−(3−ヒドロキシ−3−
メチルブチ−1−イニル)−フエノキシ]フエ
ニル]ヘキサフルオロプロパン(化合物3)か
らの2,2−ビス[4−(4−エチニルフエノ
キシ)−フエニル]ヘキサフルオロプロパン
(化合物5)の製造: 0.32グラム(0.008)モルの水酸化ナトリウム
の5mlの水の溶液を、150mlのトルエン中の31.9
グラム(0.050モル)の化合物3に加えた。2時
間の還流の後、混合物を共沸蒸留した。蒸留され
た濁つた液体はアセトンを含んでいた。 冷却後、混合物を100mlの水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、固形物まで濃縮した。この
固形物をヘキサン溶出のカラムクロマトグラフで
精製した。該薄黄色固体は2,2−ビス[4−
(4−エチニルフエノキシ)フエニル]ヘキサフ
ルオロプロパン(化合物5)であると同定され
た。この同定はそのIRスペクトルの特徴的2210
cm-1の吸収、およびそのNMRスペクトルの
δ3.14ppmの特色あるシングレツトおよびδ6.90−
7.85ppmのねじれたABパターンによる。 D 2,2−ビス[4−(4−トリメチルシリル
エチニルフエノキシ)フエニル]ヘキサフルオ
ロプロパン(化合物4)の製造: 上記のようにして製造した化合物2の26.45グ
ラム(35.74ミリモル)の200mlの脱気した無水ト
リエチルアミン中の溶液に、48mgのパラジウム
[]アセテートおよび200mgのトリフエニルフオ
スフインを含包する触媒系であつて還元によつて
0価パラジウムを提供する触媒系を加えた。濁つ
た黄色液を撹拌し全ての茶色固体が溶けるまで50
℃で加熱した。エチニルトリメチルシラン
(8.760g,89.39ミリモル)を加え、混合物を速
やかに5分で70℃まで加熱した。60℃において澄
んだ黄色液が得られた。70℃で白色トリエチルア
ミンハイドロアイオダイドの沈澱が始まつた。反
応温度を10分で90−95℃に上げて、その温度範囲
に6時間保つた。1時間後パラジウム錯体の予期
しない分解が生じ、白色粒子は灰色になつた。ス
ラリーを冷却し、100mlのエーテルで希釈して濾
過した。灰色固体を別のエーテルで洗い、空気乾
燥した。事実上、定量的収量(15.64g、71.42ミ
リモル)のトリエチルアミンハイドロアイオダイ
ドが得られた。 暗茶色ろ液を200mlのエーテルに溶解し、それ
ぞれ100mlの10%塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリ
ウム、および再び水で洗浄した。エーテル相を硫
酸マグネシウムで乾燥し、泡の半固体まで濃縮し
た。粗生成物は事実上定量的であつた。1グラム
の試料を取つてカラムクロマトグラフイで精製し
た。カラムを落ちる第2のバンドを1.5リツトル
のヘキサンで溶出した。溶出液を糖密
(molasses)コンシスチンシまで濃縮し、明るい
黄色半固体の2,2−ビス[4−(4−トリメチ
ルシリルエチニルフエノキシ)フエニル]ヘキサ
フルオロプロパン(化合物4)を得た。 E 2,2−ビス−[4−(4−トリメチルシリル
エチニルフエノキシ)フエニル]ヘキサフルオ
ロプロパン(化合物4)からの2,2−ビス
[4−(4−エチニルフエノキシ)−フエニル]
ヘキサフルオロプロパン(化合物5)の別の製
造: 上記で得た明るい黄色の半固体(化合物4)を
200mlの無水メタノール−テトラハイドロフラン
1:1の混合物に溶かし、2グラムの無水炭酸カ
リウムと共に25℃で16時間撹拌した。溶液は1時
間後に暗いオレンジ茶色に変わつた。溶媒の除去
により固体残留物が残り、これを200mlのエーテ
ルに溶かして、2×200mlの水で洗つた。エーテ
ル分画を硫酸マグネシウムで乾燥し、粘しようオ
イルまで濃縮した。9:1ヘキサン−ジクロロメ
タンでの溶出によるシリカゲルクロマトグラフイ
は白色低融点固体を与え、これは2,2−ビス
[4−(4−エチニルフエノキシ)フエニル]ヘキ
サフルオロプロパン(化合物5)であると同定さ
れた。IRおよびNMRスペクトルは次の通りであ
る。 IR(KBr):3310(強い、C≡C−H)、2200(弱
い、C≡C) NMR(CDCl3)δ3.14(s,2H,C≡CH)およ
び6.90−7.85ppm(ねじれたABカルテツト,
16H,芳香族) 例 2 この例は、本発明に係る2,2−ビス[4−
(4−エチニルフエニルチオ)フエニル]ヘキサ
フルオロプロパンの製造を説明する。 2,2−ビス[4−(4−エチニルフエニルチ
オ)フエニル]ヘキサフルオロプロパン(11)の製造
は第2図に図式で示されている。第2図に示され
た方法による典型的な合成は次の通りである。 A 2,2−ビス(4−メルカプトフエニル)ヘ
キサフルオロプロパン(化合物6)の製造: 化合物6および関連ビス(ベンゼンチオール)
化合物は、1982年12月27日特許出願(No.453,
431)の明細書に開示され、本件特許と同じ譲受
人に譲渡されている。化合物6および関連化合物
は3段階工程で製造される。第1段階では、塩基
存在下ビスフエノールをN,Nジメチルチオカー
バモイルクロライドと反応させる。好ましくはこ
の反応ではビスフエノールに対して10%乃至20%
モル過剰のカーバモイルクロライドを使用する。
この反応にとつて好ましい温度は大気圧下で約0
℃乃至約60℃である。好ましい反応温度は約1乃
至約2時間である。この第1の処理段階からO−
チオカルバメイトエステルと呼ばれる一群の化合
物が得られる。 この方法の第2の段階では、第1段階からのO
−チオカルバメイトエステルを約150℃乃至約275
℃の温度範囲において約1乃至約2時間、大気圧
下、好ましくは不活性雰囲気例えばアルゴン雰囲
気下で加熱して、S−チオカーバメイトと呼ばれ
る一群の化合物を得る。この再配列反応は一般語
“スマイルスリアレンジメント”によつて知られ
ている。 この方法の第3段階では、第2段階からのS−
チオカルバメイトエステルをメタノール中で強塩
基例えば水酸化カリウムと反応させ、それから濃
酸例えば塩酸又は硝酸で処理して所望のビス(ベ
ンゼンチオール)を得る。 次の例はビス(ベンゼンチオール)(化合物6)
の製造を示す。 112グラム(0.33モル)のビスフエノールAF
[2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニル)ヘキ
サフルオロプロパン]の700ミリリツトルのベン
ゼンの溶液に、43.5グラム(0.66モル)の85%水
酸化カリウムを加えた。得られた溶液を、水を除
くためのトラツプをつけてリフラツクスし;それ
から減圧下でベンゼンを除去した。得られた塩に
700ミリリツトルのジメチルホルムアミドを加え、
混合物を0℃に冷却し、そして100グラム(0.81
モル)のN,N−ジメチルチオカーバモイルクロ
ライドを加えた。得られた混合物を室温に、それ
から60℃に加熱し、60℃に1時間保つた。 生成混合物を3リツトルの水で希釈し、80:20
ベンゼン/ヘキサン液で2回抽出した。有機相を
減圧下で留去し、固体結晶残留物を得た。残留物
を5:1メタノール/ベンゼン液から再結晶して
125グラムの融点約209゜−211℃の生成物を得た。
この生成物はビスフエノールAFのO−チオカル
バメイトエステルであつた。 15グラム(0.3モル)の、ビスフエノールAFの
O−チオカルバメイトエステルを反応器に入れ、
アルゴン下250℃で1時間加熱した。生成物を室
温まで冷却した後、ガラス質残留物を60ミリリツ
トルのメタノールから再結晶して、141゜−144℃
の融点を有する生成物を11グラム得た。この生成
物はビスベンゼンチオール誘導体のS−チオカー
バメイトエステルであつた。 75グラム(0.15モル)の上記S−チオカーバメ
イトエステルを400ミリリツトルのメタノール中
の置き、75グラムの水酸化カリウムの200ミリリ
ツトルの溶液を加えた。この混合物を1時間リフ
ラツクスし、冷やして、2リツトルの水で希釈し
た。165ミリリツトルの濃塩機の1リツトルの水
中溶液を加えた。沈澱物が得られ、これを3:1
メタノール−水の混合物から再結晶して50グラム
の2,2−ビス(4−メルカプトフエニル)ヘキ
サフルオロプロパン(化合物6)の生成物を得
た。化合物6の二カリウム塩は、化合物6のカリ
ウム含有塩基との反応により製造された。 B 2,2−ビス[4−(4−ニトロフエニルチ
オ)フエニル]ヘキサフルオロプロパン(化合
物7)の製造: 化合物7は、ジメチルスルホキシド中150゜−
160℃における化合物6の二カリウム塩と2当量
の4−クロロニトロベンゼンとの求核芳香置換反
応によつて合成された。 C 2,2−ビス[4−(4−アミノフエニルチ
オ)フエニル]ヘキサフルオロプロパン(化合
物8)の製造: 化合物8は、エチルアルコール溶媒中木炭(チ
ヤーコル)上パラジウム触媒上における4気圧の
水素雰囲気下のパー(Parr)装置での2,2−
ビス[4−(4−ニトロフエニルチオ)フエニル]
ヘキサフルオロプロパン(化合物7)の水素化に
より製造された。 D 2,2−ビス[4−(4−ヨードフエニルチ
オ)フエニル]ヘキサフルオロプロパン(化合
物9)の製造: 化合物9は、前記例1の節Aに説明した一般的
ジアゾ化方法による、化合物8の亜硝酸ナトリウ
ム処理に続くヨウ化カリウムでの処理によつて製
造された。 E 2,2−ビス[4−(4−トリメチルシリル
エチニルフエニルチオ)フエニル]ヘキサフル
オロプロパン(化合物10)の製造: 化合物10は、前記例1の節Dに説明した一般方
法に従つて、化合物9をパラジウム触媒系および
エチルトリメチルシランで処理することによつて
製造された。 F 2,2−ビス[4−(4−エチニルフエニル
チオ)フエニル]ヘキサフルオロプロパン(化
合物11)の製造: 最終の所望の生成物2,2−ビス[4−(4−
エチニルフエニルチオ)フエニル]ヘキサフルオ
ロプロパン(化合物11)は、前記例1の節Eに説
明した一般方法に従つて、化合物10を無水メタノ
ール−テトラハイドロフランおよび無水炭酸カリ
ウムで処理することによつて製造された。 本発明に係る化合物類は、ホモポリマーを製造
するために使用することができ、又はこれらは
種々の他のエチニル化されたモノマー例えばアセ
チレン末端スルホン(ATS)およびアセチレン
末端イミドと共重合させることもできる。共重合
体に混入させるエチニル化モノマーの量は、共重
合体に望まれる性質によつて変わる。1乃至99重
量%のエチニル化モノマーを伴う共重合体が可能
である。 加えて、該化合物は種々の高温樹脂、例えばポ
リイミド、ポリベンゾチアゾール、ポリキノリ
ン、およびポリキノキサリンなどの製造における
可塑希釈剤として使用することができる。可塑希
釈剤として使用する場合、樹脂に該化合物を好ま
しくは数重量%から約30重量%加える。可塑剤と
して添加されるこの化合物の量は、最終樹脂生成
物のもろさの所望の低下と共に、樹脂の加工およ
び処理の間の所望の改良を達成するために、変化
される。 例 3 2,2−ビス[4−(4−エチニルフエノキシ)
フエニル]ヘキサフルオロプロパンのホモポリマ
ーは、無溶媒の材料試料を52℃から315℃までの
ボタン型(button mold)中で毎分2−3℃の速
度で加熱して製造された。得られたボタンを316
℃で2時間硬化させた。硬化したボタンはおよそ
333℃のガラス転移点を有した。この重合体は安
定で、すなわち500℃以上までの熱重量試験で重
量減少を示さなかつた。硬化ボタンには、316℃
の温度で合計24時間の後硬化をも施した。得られ
た後硬化ボタンは約370℃のガラス転移点を有し
た。 例 4 1部の2,2−ビス[4−(4−エチニルフエ
ノキシ)フエニルフルオロプロパンと、4部のア
セチレン末端ポリイミドオリゴマー(米国特許第
4438243号明細書第9−10段に記載されたタイプ
のもの、平均重合度(DP)15)との共重合体が、
混合物試料をボタン型中52℃から315℃まで毎分
2℃の速度で加熱することにより得られた。得ら
れたボタンはおよそ325℃のガラス転移点を有し、
熱重量分析では500℃までは重量損失を示さなか
つた。 本発明の典型例を説明してきたが、当業者は、
ここでの開示は例示にすぎず種々の他の修飾が本
発明の見地内でなされ得ることに注意すべきであ
る。したがつて本発明はここで説明した特定の具
体例に限定されることなく、次の請求の範囲にの
み限定される。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US647000 | 1984-09-04 | ||
| US06/647,000 US4695655A (en) | 1984-09-04 | 1984-09-04 | Ethynylthiophenoxy derivatives of diphenylhexafluoropropane |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62500104A JPS62500104A (ja) | 1987-01-16 |
| JPH0437057B2 true JPH0437057B2 (ja) | 1992-06-18 |
Family
ID=24595307
Family Applications (1)
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| JP60504402A Granted JPS62500104A (ja) | 1984-09-04 | 1985-07-05 | ジフェニルヘキサフルオロプロパンのエチニルフェノキシおよびエチニルチオフェノキシ誘導体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
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| EP (1) | EP0192766B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62500104A (ja) |
| DE (1) | DE3565101D1 (ja) |
| WO (1) | WO1986001504A1 (ja) |
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Family Cites Families (4)
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- 1985-07-05 WO PCT/US1985/001272 patent/WO1986001504A1/en not_active Ceased
- 1985-07-05 JP JP60504402A patent/JPS62500104A/ja active Granted
- 1985-07-05 DE DE8585905011T patent/DE3565101D1/de not_active Expired
Also Published As
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|---|---|
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| WO1986001504A1 (en) | 1986-03-13 |
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