JPH04370749A - 蛍光x線分析法における蛍光x線強度補正方法 - Google Patents
蛍光x線分析法における蛍光x線強度補正方法Info
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- JPH04370749A JPH04370749A JP14730991A JP14730991A JPH04370749A JP H04370749 A JPH04370749 A JP H04370749A JP 14730991 A JP14730991 A JP 14730991A JP 14730991 A JP14730991 A JP 14730991A JP H04370749 A JPH04370749 A JP H04370749A
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- dilution rate
- ray
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、X線を試料に照射して
試料の含有元素を励起し、これが安定状態に戻るときに
放射される蛍光X線の波長を分析することにより、含有
元素の同定と含有量の測定とを行う蛍光X線分析法に係
り、特には、試料が粉体であり、分光分析の前処理とし
て粉体試料をガラスビード化し、このガラスビードに対
してX線を照射するようにした蛍光X線分析法に関する
。
試料の含有元素を励起し、これが安定状態に戻るときに
放射される蛍光X線の波長を分析することにより、含有
元素の同定と含有量の測定とを行う蛍光X線分析法に係
り、特には、試料が粉体であり、分光分析の前処理とし
て粉体試料をガラスビード化し、このガラスビードに対
してX線を照射するようにした蛍光X線分析法に関する
。
【0002】
【従来の技術】試料が粉体である場合の蛍光X線分析法
においては、粉体そのものを測定対象とすることができ
ないため、通常は、粉体試料を微粉砕した後、■プレス
マウント(加圧成形)するか、■ガラスビード化し、こ
のように前処理されたものを実際の分析試料としている
。本発明は、分析試料として後者のガラスビード化され
たものを対象とするものである。
においては、粉体そのものを測定対象とすることができ
ないため、通常は、粉体試料を微粉砕した後、■プレス
マウント(加圧成形)するか、■ガラスビード化し、こ
のように前処理されたものを実際の分析試料としている
。本発明は、分析試料として後者のガラスビード化され
たものを対象とするものである。
【0003】粉体試料のガラスビード化は、ホウ酸リチ
ウムやホウ酸ナトリウムなどの融剤と粉体試料とを均一
に混合し、その混合物をルツボで溶融し(1000℃〜
1100℃)、冷却して固化したものすなわちガラスビ
ードを取り出して、これを分析試料として蛍光X線分析
装置に供給する。
ウムやホウ酸ナトリウムなどの融剤と粉体試料とを均一
に混合し、その混合物をルツボで溶融し(1000℃〜
1100℃)、冷却して固化したものすなわちガラスビ
ードを取り出して、これを分析試料として蛍光X線分析
装置に供給する。
【0004】このガラスビード化という試料前処理にお
いて重要な要素は、希釈率(換言すると濃度)と蛍光X
線強度との相関関係である。
いて重要な要素は、希釈率(換言すると濃度)と蛍光X
線強度との相関関係である。
【0005】粉体試料の質量をx、融剤の質量をyとす
ると、希釈率Dは、 D=(y/x)×100〔%〕
‥‥‥‥‥‥‥(1)で表され
る。
ると、希釈率Dは、 D=(y/x)×100〔%〕
‥‥‥‥‥‥‥(1)で表され
る。
【0006】希釈率Dが高いほど(濃度が低いほど、つ
まり粉体が少ないほど、あるいは融剤が多いほど)、蛍
光X線強度が低くなる。反対に、希釈率が低いほど(濃
度が高いほど、つまり粉体が多いほど、あるいは融剤が
少ないほど)、蛍光X線強度が高くなる。
まり粉体が少ないほど、あるいは融剤が多いほど)、蛍
光X線強度が低くなる。反対に、希釈率が低いほど(濃
度が高いほど、つまり粉体が多いほど、あるいは融剤が
少ないほど)、蛍光X線強度が高くなる。
【0007】そこで、ガラスビード化の工程において、
粉体試料の秤量を行い、次いで、基準の希釈率D0 と
なるように融剤の投入量を正確に制御する。これによっ
て、希釈率を一定(基準値D0 )に保ちながら、ガラ
スビード化された分析試料について蛍光X線強度を測定
するようにしている。
粉体試料の秤量を行い、次いで、基準の希釈率D0 と
なるように融剤の投入量を正確に制御する。これによっ
て、希釈率を一定(基準値D0 )に保ちながら、ガラ
スビード化された分析試料について蛍光X線強度を測定
するようにしている。
【0008】粉体試料はオンラインによって連続的に供
給され、次々と分光分析されていくが、従来では、この
間、希釈率は常に一定(基準値D0 )であるものとし
て処理が行われており、これで問題がないとされていた
のである。
給され、次々と分光分析されていくが、従来では、この
間、希釈率は常に一定(基準値D0 )であるものとし
て処理が行われており、これで問題がないとされていた
のである。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年で
は、蛍光X線分析法においてきわめて高い分析精度が要
求されるようになってきている。上述したように希釈率
と蛍光X線強度とはきわめて密接な相関関係を有してい
る。
は、蛍光X線分析法においてきわめて高い分析精度が要
求されるようになってきている。上述したように希釈率
と蛍光X線強度とはきわめて密接な相関関係を有してい
る。
【0010】粉体試料の質量xと融剤の質量yとの少な
くともいずれかに誤差を含むと、その誤差がわずかなも
のであっても、希釈率に変動を与えるため、最終結果と
しての蛍光X線強度に微妙な影響を与え、高精度な分光
分析に支障をきたすことになる。
くともいずれかに誤差を含むと、その誤差がわずかなも
のであっても、希釈率に変動を与えるため、最終結果と
しての蛍光X線強度に微妙な影響を与え、高精度な分光
分析に支障をきたすことになる。
【0011】本発明は、このような事情に鑑みて創案さ
れたものであって、粉体試料の質量や融剤の質量に秤量
の誤差を生じた結果、希釈率が変動したとしても、これ
が蛍光X線強度に与える影響を補正してオンラインでの
分光分析を高精度に行うことができる蛍光X線分析法に
おける蛍光X線強度補正方法を提供することを目的とす
る。
れたものであって、粉体試料の質量や融剤の質量に秤量
の誤差を生じた結果、希釈率が変動したとしても、これ
が蛍光X線強度に与える影響を補正してオンラインでの
分光分析を高精度に行うことができる蛍光X線分析法に
おける蛍光X線強度補正方法を提供することを目的とす
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明に係る蛍光X線分
析法における蛍光X線強度補正方法は、大きく分けて、
補正のもとになる基準データの収集の過程と、ガラスビ
ード化から分光分析までの実測の過程とからなっている
。
析法における蛍光X線強度補正方法は、大きく分けて、
補正のもとになる基準データの収集の過程と、ガラスビ
ード化から分光分析までの実測の過程とからなっている
。
【0013】■ まず、測定対象となる粉体試料と同
一品種の粉体試料について希釈率を異にして複数種類の
ガラスビードを予め作製し、各ガラスビードについて各
元素の蛍光X線強度を測定し、各元素について、基準希
釈率D0 に対する任意の希釈率Dの比(D/D0 )
と、基準希釈率D0に対応した基準蛍光X線強度I0
に対する前記希釈率Dに対応した蛍光X線強度Iの比(
I/I0 )との間に成立する相関関係、 I/I0 =f(D/D0 )
‥‥‥‥‥‥‥(A)
を前もっての実験により求めておく。
一品種の粉体試料について希釈率を異にして複数種類の
ガラスビードを予め作製し、各ガラスビードについて各
元素の蛍光X線強度を測定し、各元素について、基準希
釈率D0 に対する任意の希釈率Dの比(D/D0 )
と、基準希釈率D0に対応した基準蛍光X線強度I0
に対する前記希釈率Dに対応した蛍光X線強度Iの比(
I/I0 )との間に成立する相関関係、 I/I0 =f(D/D0 )
‥‥‥‥‥‥‥(A)
を前もっての実験により求めておく。
【0014】■ 次いで、粉体試料および融剤を秤量
した後に、両者を混合し加熱溶融ならびに冷却固化によ
ってガラスビード化する一方、前記秤量結果に基づいて
ガラスビードにおける粉体試料の実測希釈率D′を求め
る。
した後に、両者を混合し加熱溶融ならびに冷却固化によ
ってガラスビード化する一方、前記秤量結果に基づいて
ガラスビードにおける粉体試料の実測希釈率D′を求め
る。
【0015】そして、そのガラスビードに対する蛍光X
線分析法に基づいた分光分析の結果得られた実測蛍光X
線強度I0 ′と前記実測希釈率D′とを前記相関関係
I/I0 =f(D/D0 )に代入して、補正蛍光X
線強度I′を、式、 I′=f(D′/D0 )×I0 ′
‥‥‥‥‥‥‥(B)によっ
て求める。
線分析法に基づいた分光分析の結果得られた実測蛍光X
線強度I0 ′と前記実測希釈率D′とを前記相関関係
I/I0 =f(D/D0 )に代入して、補正蛍光X
線強度I′を、式、 I′=f(D′/D0 )×I0 ′
‥‥‥‥‥‥‥(B)によっ
て求める。
【0016】
【作用】前もっての実験により相関関係I/I0 =f
(D/D0 )を求めておく。この相関関係は、粉体試
料に含まれる各元素それぞれについて求めておく。
(D/D0 )を求めておく。この相関関係は、粉体試
料に含まれる各元素それぞれについて求めておく。
【0017】そして、オンラインで実際に分光分析され
るためにガラスビード化する前段階での粉体試料および
融剤の秤量結果に基づいて、実測されるべきガラスビー
ドについての実測希釈率D′をその都度測定する。
るためにガラスビード化する前段階での粉体試料および
融剤の秤量結果に基づいて、実測されるべきガラスビー
ドについての実測希釈率D′をその都度測定する。
【0018】そのガラスビードについて実測蛍光X線強
度I0 ′が得られるが、これには実測希釈率D′と基
準希釈率D0 との誤差に起因した誤差要因が含まれて
いる可能性がある。
度I0 ′が得られるが、これには実測希釈率D′と基
準希釈率D0 との誤差に起因した誤差要因が含まれて
いる可能性がある。
【0019】そこで、実測蛍光X線強度I0 ′と実測
希釈率D′とを相関関係I/I0 =f(D/D0 )
に代入し、 I′=f(D′/D0 )×I0 ′
‥‥‥‥‥‥‥(B)によっ
て補正蛍光X線強度I′を求め、実測希釈率D′に対応
した高精度な蛍光X線強度I′に補正することができる
。
希釈率D′とを相関関係I/I0 =f(D/D0 )
に代入し、 I′=f(D′/D0 )×I0 ′
‥‥‥‥‥‥‥(B)によっ
て補正蛍光X線強度I′を求め、実測希釈率D′に対応
した高精度な蛍光X線強度I′に補正することができる
。
【0020】
【実施例】以下、本発明に係る蛍光X線分析法における
蛍光X線強度補正方法の実施例を説明する。
蛍光X線強度補正方法の実施例を説明する。
【0021】〔a〕まず、実測希釈率D′と基準希釈率
D0 との間の誤差が比較的小さい場合の補正方法の実
施例について説明する。
D0 との間の誤差が比較的小さい場合の補正方法の実
施例について説明する。
【0022】まず、測定対象となる粉体試料と同一品種
の粉体試料について、基準希釈率D0 となるガラスビ
ードを作製し、そのガラスビードについて各元素の蛍光
X線強度である基準蛍光X線強度I0 を測定する。こ
の結果を、図1の(a)のように横軸に希釈率をとり、
縦軸に蛍光X線強度をとったグラフにプロットする。な
お、図1では1つの元素についてのみ代表的に示してあ
る。
の粉体試料について、基準希釈率D0 となるガラスビ
ードを作製し、そのガラスビードについて各元素の蛍光
X線強度である基準蛍光X線強度I0 を測定する。こ
の結果を、図1の(a)のように横軸に希釈率をとり、
縦軸に蛍光X線強度をとったグラフにプロットする。な
お、図1では1つの元素についてのみ代表的に示してあ
る。
【0023】次に、前記と同一品種の粉体試料について
、基準希釈率D0とあまり変わらない任意の希釈率D1
をもつガラスビードを作製し、そのガラスビードにつ
いて各元素の蛍光X線強度I1 を測定する。この結果
も図1の(a)のようにプロットする。
、基準希釈率D0とあまり変わらない任意の希釈率D1
をもつガラスビードを作製し、そのガラスビードにつ
いて各元素の蛍光X線強度I1 を測定する。この結果
も図1の(a)のようにプロットする。
【0024】ここで、図1の(b)に示すように、横軸
および縦軸の尺度を調整する。すなわち、横軸をD0
で割り、縦軸をI0 で割った値をプロットする。する
と、横軸は希釈率比D/D0 となり、縦軸は強度比I
/I0 となる。
および縦軸の尺度を調整する。すなわち、横軸をD0
で割り、縦軸をI0 で割った値をプロットする。する
と、横軸は希釈率比D/D0 となり、縦軸は強度比I
/I0 となる。
【0025】図1の(a)で(D0 ,I0 )の点は
図1の(b)で(1,1)となり、図1の(a)で(D
1 ,I1 )の点は図1の(b)で(D1 /D0
,I1 /I0 )となる。
図1の(b)で(1,1)となり、図1の(a)で(D
1 ,I1 )の点は図1の(b)で(D1 /D0
,I1 /I0 )となる。
【0026】これらの図は、希釈率Dが大きくなると蛍
光X線強度Iが低くなり、反対に希釈率Dが小さくなる
と蛍光X線強度Iが高くなることを示している。
光X線強度Iが低くなり、反対に希釈率Dが小さくなる
と蛍光X線強度Iが高くなることを示している。
【0027】図1の(b)での2点を通る直線(実線)
の方程式は、a,bを定数として、 I/I0 =a×(D/D0 )+b
‥‥‥‥‥‥‥(2)となる
。ちなみに、D=D0 ,I=I0 すなわちD/D0
=1,I/I0 =1を(2)式に代入してみると、
a+b=1
‥‥‥‥‥
‥‥(3)の関係が成り立つ。
の方程式は、a,bを定数として、 I/I0 =a×(D/D0 )+b
‥‥‥‥‥‥‥(2)となる
。ちなみに、D=D0 ,I=I0 すなわちD/D0
=1,I/I0 =1を(2)式に代入してみると、
a+b=1
‥‥‥‥‥
‥‥(3)の関係が成り立つ。
【0028】なお、D1 <D0 としたが、D2 >
D0 となる希釈率D2 を用いた場合(破線参照)も
、結局、直線の方程式となり、同じことである。
D0 となる希釈率D2 を用いた場合(破線参照)も
、結局、直線の方程式となり、同じことである。
【0029】I/I0 をD/D0 の関数と見て、
I/I0 =f(D/D0 )
‥‥‥‥‥‥‥(4)と
表すと、I/I0 とD/D0 との相関関係を示す関
数f(D/D0 )は、 f(D/D0 )=a×(D/D0 )+b
‥‥‥‥‥‥‥(5)と表すことが
できる。また、(2)式を変形して、任意の希釈率Dに
対する蛍光X線強度Iの方程式は、 I={a×
(D/D0 )+b}×I0
‥‥‥‥‥‥‥(6)となる。つまり、 I=f(D/D0 )×I0
‥‥‥‥‥‥‥(7)
となる。
I/I0 =f(D/D0 )
‥‥‥‥‥‥‥(4)と
表すと、I/I0 とD/D0 との相関関係を示す関
数f(D/D0 )は、 f(D/D0 )=a×(D/D0 )+b
‥‥‥‥‥‥‥(5)と表すことが
できる。また、(2)式を変形して、任意の希釈率Dに
対する蛍光X線強度Iの方程式は、 I={a×
(D/D0 )+b}×I0
‥‥‥‥‥‥‥(6)となる。つまり、 I=f(D/D0 )×I0
‥‥‥‥‥‥‥(7)
となる。
【0030】以上は、前もっての実験により、各元素に
ついて求めておく。
ついて求めておく。
【0031】次に、オンラインで流れてくる蛍光X線強
度を測定すべき粉体試料を秤量するとともに、それをガ
ラスビード化した際に基準希釈率D0 となるべき融剤
の秤量を行う。粉体試料の質量をx、融剤の質量をyと
する。そして、粉体試料と融剤とを混合し、ルツボによ
って加熱溶融した後、冷却固化したガラスビードを取り
出し、蛍光X線分析装置にセットして分光分析を行う。
度を測定すべき粉体試料を秤量するとともに、それをガ
ラスビード化した際に基準希釈率D0 となるべき融剤
の秤量を行う。粉体試料の質量をx、融剤の質量をyと
する。そして、粉体試料と融剤とを混合し、ルツボによ
って加熱溶融した後、冷却固化したガラスビードを取り
出し、蛍光X線分析装置にセットして分光分析を行う。
【0032】その分光分析の結果得られた実測蛍光X線
強度をI0 ′とする。
強度をI0 ′とする。
【0033】また、粉体試料の質量xと融剤の質量yと
から(1)式に基づいて求めた実測希釈率をD′とする
。この実測希釈率D′の算出は、次の補正演算を行うま
でのいずれかの時点で行えばよい。
から(1)式に基づいて求めた実測希釈率をD′とする
。この実測希釈率D′の算出は、次の補正演算を行うま
でのいずれかの時点で行えばよい。
【0034】実測蛍光X線強度をI0 ′、実測希釈率
をD′としたときの正しい補正蛍光X線強度I′は、(
7)式で与えられ、 I′=f(D′/D0 )×I0 ′
‥‥‥‥‥‥‥(8)となる
。(6)式を用いると、 I′={a×(D′/D0 )+b}×I0
′ ‥‥‥‥‥‥‥(9)となる。
をD′としたときの正しい補正蛍光X線強度I′は、(
7)式で与えられ、 I′=f(D′/D0 )×I0 ′
‥‥‥‥‥‥‥(8)となる
。(6)式を用いると、 I′={a×(D′/D0 )+b}×I0
′ ‥‥‥‥‥‥‥(9)となる。
【0035】〔b〕次に、実測希釈率D′と基準希釈率
D0 との間の誤差が比較的大きい場合の補正方法の実
施例について説明する。
D0 との間の誤差が比較的大きい場合の補正方法の実
施例について説明する。
【0036】測定対象となる粉体試料と同一品種の粉体
試料について、基準希釈率D0 となるガラスビードを
作製し、そのガラスビードについて各元素の蛍光X線強
度である基準蛍光X線強度I0 を測定する。この結果
を、図2に示すように、図1の(b)と同様に(1,1
)の点にプロットする。図2は1つの元素を代表的に示
している。
試料について、基準希釈率D0 となるガラスビードを
作製し、そのガラスビードについて各元素の蛍光X線強
度である基準蛍光X線強度I0 を測定する。この結果
を、図2に示すように、図1の(b)と同様に(1,1
)の点にプロットする。図2は1つの元素を代表的に示
している。
【0037】次に、前記と同一品種の粉体試料について
、様々な希釈率D1 ,D2 ……Dnをもつガラスビ
ードを個別的に作製し、それぞれのガラスビードについ
て各元素の蛍光X線強度I1 ,I2 ……In を測
定する。 各希釈率をD0 で割り、各蛍光X線強度をI0 で割
った値をプロットする。この場合も、希釈率Dが大きく
なると蛍光X線強度Iが低くなり、反対に希釈率Dが小
さくなると蛍光X線強度Iが高くなる。
、様々な希釈率D1 ,D2 ……Dnをもつガラスビ
ードを個別的に作製し、それぞれのガラスビードについ
て各元素の蛍光X線強度I1 ,I2 ……In を測
定する。 各希釈率をD0 で割り、各蛍光X線強度をI0 で割
った値をプロットする。この場合も、希釈率Dが大きく
なると蛍光X線強度Iが低くなり、反対に希釈率Dが小
さくなると蛍光X線強度Iが高くなる。
【0038】このようにプロットされた曲線は、c,d
を定数として、方程式、 I/I0 =c log(D/D0 )+d
‥‥‥‥‥‥(10)で近
似することができることが判った。そして、c,dの値
は最小二乗法で求めることができる。ちなみに、d=1
であり、また、cは負の値をとる。
を定数として、方程式、 I/I0 =c log(D/D0 )+d
‥‥‥‥‥‥(10)で近
似することができることが判った。そして、c,dの値
は最小二乗法で求めることができる。ちなみに、d=1
であり、また、cは負の値をとる。
【0039】I/I0 をD/D0 の関数と見ると、
やはり、 I/I0 =f(D/D0 )
‥‥‥‥‥‥(11)
と表すことができる。
やはり、 I/I0 =f(D/D0 )
‥‥‥‥‥‥(11)
と表すことができる。
【0040】I/I0 とD/D0 との相関関係を示
す関数f(D/D0 )は、 f(D/D0 )=c log(D/D0 )
+d ‥‥‥‥‥‥(12)と表すこと
ができる。また、(10)式を変形して、任意の希釈率
Dに対する蛍光X線強度Iの方程式は、 I={
c log(D/D0 )+d}×I0
‥‥‥‥‥‥(13)となる。つまり、 I=f(D/D0 )×I0
‥‥‥‥‥‥(14)
となる。これは、f(D/D0 )の内容は別として、
形式的には〔a〕の場合の(7)式と全く同じ形で表さ
れている。
す関数f(D/D0 )は、 f(D/D0 )=c log(D/D0 )
+d ‥‥‥‥‥‥(12)と表すこと
ができる。また、(10)式を変形して、任意の希釈率
Dに対する蛍光X線強度Iの方程式は、 I={
c log(D/D0 )+d}×I0
‥‥‥‥‥‥(13)となる。つまり、 I=f(D/D0 )×I0
‥‥‥‥‥‥(14)
となる。これは、f(D/D0 )の内容は別として、
形式的には〔a〕の場合の(7)式と全く同じ形で表さ
れている。
【0041】次に、オンラインで流れてくる蛍光X線強
度を測定すべき粉体試料を秤量すること、ガラスビード
化した際に基準希釈率D0 となるべき融剤の秤量を行
うこと、および、実測希釈率D′を求めることは、〔a
〕の場合と同様である。
度を測定すべき粉体試料を秤量すること、ガラスビード
化した際に基準希釈率D0 となるべき融剤の秤量を行
うこと、および、実測希釈率D′を求めることは、〔a
〕の場合と同様である。
【0042】そして、粉体試料と融剤とからガラスビー
ドを作製し、これを蛍光X線分析装置にセットして分光
分析を行った結果得られた実測蛍光X線強度をI0 ′
とすると、補正蛍光X線強度I′は、(14)式で与え
られ、 I′=f(D′/D0 )×I0 ′
‥‥‥‥‥‥(15)となり
、具体的には、(13)式を用いて、 I′={
c log(D′/D0 )+d}×I0 ′
‥‥‥‥‥‥(16)となる。
ドを作製し、これを蛍光X線分析装置にセットして分光
分析を行った結果得られた実測蛍光X線強度をI0 ′
とすると、補正蛍光X線強度I′は、(14)式で与え
られ、 I′=f(D′/D0 )×I0 ′
‥‥‥‥‥‥(15)となり
、具体的には、(13)式を用いて、 I′={
c log(D′/D0 )+d}×I0 ′
‥‥‥‥‥‥(16)となる。
【0043】なお、〔a〕,〔b〕いずれの場合も、蛍
光X線分析は、真空容器内に分析試料であるガラスビー
ドをセットし、真空排気、あるいは、試料の種類によっ
てはガスパージ後に不活性ガスと置換し、次いで、ガラ
スビードに向けてX線を照射し、ガラスビードから放射
された蛍光X線を分光検出部に導いて分光する。そして
、上記の蛍光X線強度の補正とともに、一般と同様に、
ドリフト補正、内標準補正、検量線定数計算などを行い
、最終的に波長および補正後の蛍光X線強度のパターン
を分析することで、含有元素の同定と含有量の測定とを
行う。
光X線分析は、真空容器内に分析試料であるガラスビー
ドをセットし、真空排気、あるいは、試料の種類によっ
てはガスパージ後に不活性ガスと置換し、次いで、ガラ
スビードに向けてX線を照射し、ガラスビードから放射
された蛍光X線を分光検出部に導いて分光する。そして
、上記の蛍光X線強度の補正とともに、一般と同様に、
ドリフト補正、内標準補正、検量線定数計算などを行い
、最終的に波長および補正後の蛍光X線強度のパターン
を分析することで、含有元素の同定と含有量の測定とを
行う。
【0044】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、粉体試
料の質量や融剤の質量に秤量の誤差を生じたために希釈
率に変動があったとしても、その希釈率変動による影響
を除去して蛍光X線強度を補正するようにしたので、オ
ンラインにおいて分光分析を高精度に行うことができる
という効果を奏する。
料の質量や融剤の質量に秤量の誤差を生じたために希釈
率に変動があったとしても、その希釈率変動による影響
を除去して蛍光X線強度を補正するようにしたので、オ
ンラインにおいて分光分析を高精度に行うことができる
という効果を奏する。
【図1】本発明に係る蛍光X線分析法における蛍光X線
強度補正方法の一実施例であって、希釈率誤差が小さい
場合に用いる希釈率と蛍光X線強度との相関関係、およ
び、希釈率比と蛍光X線強度比との相関関係を示すグラ
フである。
強度補正方法の一実施例であって、希釈率誤差が小さい
場合に用いる希釈率と蛍光X線強度との相関関係、およ
び、希釈率比と蛍光X線強度比との相関関係を示すグラ
フである。
【図2】本発明に係る蛍光X線分析法における蛍光X線
強度補正方法の別の実施例であって、希釈率誤差が大き
い場合に用いる希釈率比と蛍光X線強度比との相関関係
を示すグラフである。
強度補正方法の別の実施例であって、希釈率誤差が大き
い場合に用いる希釈率比と蛍光X線強度比との相関関係
を示すグラフである。
D0 基準希釈率
I0 基準蛍光X線強度
Claims (1)
- 【請求項1】 測定対象となる粉体試料と同一品種の
粉体試料について希釈率を異にして複数種類のガラスビ
ードを予め作製し、各ガラスビードについて各元素の蛍
光X線強度を測定し、各元素について、基準希釈率D0
に対する任意の希釈率Dの比(D/D0 )と、基準
希釈率D0 に対応した基準蛍光X線強度I0に対する
前記希釈率Dに対応した蛍光X線強度Iの比(I/I0
)との間に成立する相関関係I/I0 =f(D/D
0 )を前もっての実験により求めておく過程と、前記
粉体試料および融剤を秤量した後に、両者を混合し加熱
溶融ならびに冷却固化によってガラスビード化する一方
、前記秤量結果に基づいてガラスビードにおける粉体試
料の実測希釈率D′を求める過程と、前記ガラスビード
に対する蛍光X線分析法に基づいた分光分析の結果得ら
れた実測蛍光X線強度I0 ′と前記実測希釈率D′と
を前記相関関係I/I0 =f(D/D0)に代入して
、補正蛍光X線強度I′を、式、 I′=f(D′/D0 )×I0 ′ によって求める過程、とを含むことを特徴とする蛍光X
線分析法における蛍光X線強度補正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14730991A JP2513094B2 (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 蛍光x線分析法における蛍光x線強度補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14730991A JP2513094B2 (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 蛍光x線分析法における蛍光x線強度補正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04370749A true JPH04370749A (ja) | 1992-12-24 |
| JP2513094B2 JP2513094B2 (ja) | 1996-07-03 |
Family
ID=15427284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14730991A Expired - Fee Related JP2513094B2 (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 蛍光x線分析法における蛍光x線強度補正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2513094B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009535619A (ja) * | 2006-04-28 | 2009-10-01 | エックスアールエフ アナリティカル エービー | 少なくとも2つの元素を含む試料の調査のための分光法における方法 |
| JP2013246137A (ja) * | 2012-05-29 | 2013-12-09 | Rigaku Corp | 蛍光x線分析用の試料処理方法およびそれを用いた蛍光x線分析方法 |
-
1991
- 1991-06-19 JP JP14730991A patent/JP2513094B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009535619A (ja) * | 2006-04-28 | 2009-10-01 | エックスアールエフ アナリティカル エービー | 少なくとも2つの元素を含む試料の調査のための分光法における方法 |
| JP2013246137A (ja) * | 2012-05-29 | 2013-12-09 | Rigaku Corp | 蛍光x線分析用の試料処理方法およびそれを用いた蛍光x線分析方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2513094B2 (ja) | 1996-07-03 |
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