JPH04370963A - 半導体装置 - Google Patents
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- JPH04370963A JPH04370963A JP3148967A JP14896791A JPH04370963A JP H04370963 A JPH04370963 A JP H04370963A JP 3148967 A JP3148967 A JP 3148967A JP 14896791 A JP14896791 A JP 14896791A JP H04370963 A JPH04370963 A JP H04370963A
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
に内部降圧回路を内蔵する半導体装置および内部電源線
の電位モニタ方法に関する。
スタのゲート酸化膜に印加される電界を緩和すること、
消費電流を低減すること等を目的として、外部電源電圧
を所定の内部電源電圧に降圧して内部回路に供給する内
部降圧回路が開発されている。
9) 図35は、内部降圧回路を内蔵した従来のMOS・DR
AM(DynamicRandom Access
Memory)を示すブロック図である。このDRA
Mは、SSDM86講演番号B−6−4,“On−Ch
ip Supply Voltage Conv
ersion System and ItsA
pplication to a 4Mb D
RAM”に開示されている。
1a,1b、DRAM3、周辺回路4および出力バッフ
ァ5からなる。この半導体装置CHは、外部電源電圧V
ccを受ける電源端子P1および接地電位Vssを受け
る接地端子P2を有している。内部降圧回路1aは、外
部電源電圧Vccを内部電源電圧IVcc1に降圧し、
それを周辺回路4に供給する。周辺回路4は、アドレス
バッファ、データ入力バッファ、制御回路等を含む。内
部降圧回路1bは、外部電源電圧Vccを内部電源電圧
IVcc2に降圧し、それをDRAM3に供給する。D
RAM3は、メモリアレイMAおよびCMOSセンスア
ンプSAを含む。出力バッファ5は外部電源電圧Vcc
により駆動される。
ード線に交差する複数のビット線、ビット線とワード線
との交点に設けられた複数のメモリセル、複数のワード
線のいずれかを選択するロウデコーダおよび複数のビッ
ト線のいずれかを選択するコラムデコーダを含む。また
、CMOSセンスアンプは、複数のビット線に読出され
たデータを増幅する複数のセンスアンプを含む。
制御され内部降圧回路1bは制御信号φ2により制御さ
れる。
を示す。内部降圧回路は、基準電圧発生回路10、差動
増幅回路20およびドライバ回路30を含む。基準電圧
発生回路10は、外部電源電圧Vccを受け、その外部
電源電圧Vccにほとんど依存しない基準電圧VR1を
発生する。その基準電圧VR1は差動増幅回路20に入
力され、差動増幅回路20およびドライバ回路30によ
り電源電圧Vccの変動および負荷電流の変動に依存し
ない内部電源電圧IVccが発生され、周辺回路4また
はDRAM3に供給される。外部電源電圧Vccは例え
ば5Vであり、内部電源電圧IVccはたとえば4Vで
ある。
成が示される。基準電圧発生回路10は、PチャネルM
OSトランジスタQ11〜Q15を含む。トランジスタ
Q11〜Q13により外部電源電圧Vccが分圧され、
その分圧された電圧がノードN1に現われる。外部電源
電圧Vccが上昇すると、ノードN1の電圧も上昇し、
トランジスタQ24がオフする。これにより、ノードN
2の電圧の上昇が阻止される。逆に、外部電源電圧Vc
cが低下すると、ノードN1の電圧も低下し、トランジ
スタQ24がオンする。これにより、ノードN2の電圧
の低下が阻止される。このようにして、ノードN2から
は外部電源電圧Vccの変動にほとんど依存しない基準
電圧VR1が発生される。
ンジスタQ21,Q22およびNチャネルMOSトラン
ジスタQ23,Q24からなるカレントミラー回路を含
む。ノードN3と電源端子P1との間には、サイズの大
きいPチャネルMOSトランジスタQ25およびサイズ
の小さいPチャネルMOSトランジスタQ26が接続さ
れている。これらのトランジスタQ25,Q26は、カ
レントミラー回路の消費電力を低減するために付加され
ている。
クティブ期間中は、制御信号φi(i=1,2)が“L
”となり、トランジスタQ25がオンする。これにより
、カレントミラー回路の応答性が良くなる。DRAM3
および周辺回路4において少ない電流しか消費されない
スタンドバイ期間には、制御信号φiが“H”となり、
トランジスタQ25がオフする。この場合、微小電流が
流れる小さいサイズのトランジスタQ26のみがオンし
ている。したがって、カレントミラー回路の感度が低下
するが、消費電力が抑制される。
ランジスタQ35を含む。カレントミラー回路のトラン
ジスタQ22のゲートはノードN4に接続される。トラ
ンジスタQ35は電源端子P1とノードN4との間に接
続される。トランジスタQ35のゲートはカレントミラ
ー回路のノードN5に接続される。
Vccが基準電圧VR1よりも高くなれば、トランジス
タQ21に流れる電流の値がトランジスタQ22に流れ
る電流の値よりも大きくなる。それにより、ノードN5
の電位が上昇する。そのため、トランジスタQ35が浅
い導通状態または非導通状態となる。その結果、電源端
子P1からノードN4への電流の供給が停止または低減
され、内部電源電圧IVccが低下する。
R1よりも低くなると、トランジスタQ21に流れる電
流の値がトランジスタQ22に流れる電流の値よりも小
さくなる。それにより、ノードN5の電位が低下する。 そのため、トランジスタQ35が導通状態となり、電源
端子P1からノードN4に十分な電流が供給される。そ
の結果、内部電源電圧IVccが上昇する。
動または負荷の変動に依存しない一定の内部電源電圧I
Vccが得られる。
。内部電源電圧IVccは4Vに設定されている。外部
電源電圧Vccが4V以下であると、内部電源電圧IV
ccは外部電源電圧Vccと等しくなるが、外部電源電
圧Vccが4V以上になると、内部電源電圧IVccは
外部電源電圧Vccの値に依存せず4Vで一定となる。
bの制御タイミングが示される。外部から与えられるロ
ウアドレスストローブ信号/RASが“H”である期間
に対応する期間をスタンドバイ期間と呼び、ロウアドレ
スストローブ信号/RASが“L”である期間に対応す
る期間をアクティブ期間と呼ぶ。アクティブ期間にDR
AM3および周辺回路4が動作し、電流が消費される。
下がりに応答して制御信号φ1が“L”になる。それに
より、内部降圧回路1a内のトランジスタQ25(図3
7参照)がオンし、内部降圧回路1aの電流供給能力が
上昇し、内部電源電圧IVcc1が一定に保たれる。
H”に立上がる。それにより、DRAM3内のセンスア
ンプSAが活性化される。センスアンプ活性化信号SE
の立上がりに応答して、制御信号φ2が“L”になる。 それにより、内部降圧回路1b内のトランジスタQ25
(図37参照)がオンし、内部降圧回路1bの電流供給
能力が上昇し、内部電源電圧IVcc2が一定に保たれ
る。
アドレス信号の入力からワード線の電位の立上がりまで
の間に各回路の活性化により生じる電流である。センス
アンプ系電流は、CMOSセンスアンプSAの活性化に
より生じる電流である。コラム系電流は、CMOSセン
スアンプSAの活性化後データの出力までの間に各回路
の活性化により生じる電流である。ロウ系リセット電流
は、ロウアドレスストローブ信号/RASの立上がり時
に生ずる電流である。
アクティブ期間中“L”となっている。一方、内部降圧
回路1bのための制御信号φ2はCMOSセンスアンプ
SAの活性から一定期間だけ“L”になっている。これ
は、ビット線の充放電時つまりセンスアンプの活性時に
のみセンスアンプ系電流が流れるからである。
2) 図40は、レベルシフト回路を用いた従来の内部降圧回
路を示すブロック図である。レベルシフト回路90は、
差動増幅回路20の感度を上げるために、ドライバ回路
30から出力される内部電源電圧IVccを4Vから2
.4Vにレベルシフトして差動増幅回路20に与える。 この場合、基準電圧発生回路10から発生される基準電
圧VR1も2.4Vに設定される。
30およびレベルシフト回路90の詳細な構成が示され
る。差動増幅回路20は、PチャネルMOSトランジス
タQ27,Q28およびNチャネルMOSトランジスタ
Q29,Q30を含むカレントミラー回路からなる。N
チャネルMOSトランジスタQ31のゲートには制御信
号φiまたは電源電圧Vccが与えられる。差動増幅回
路20は、ノードN6の電圧を基準電圧VR1と比較し
、ドライバ回路30のトランジスタQ35をオンオフさ
せる。トランジスタQ29,Q30の特性から、トラン
ジスタQ29,Q30に与えられる電圧レベルが低いほ
ど差動増幅回路20の感度が高くなる。したがって、ノ
ードN4に供給される内部電源電圧IVccがレベルシ
フト回路90により2.4Vに変換され、ノードN6に
与えられる。
るようにPチャネルMOSトランジスタQ90,Q91
からなる抵抗分割回路または図42に示されるように抵
抗R1,R2からなる抵抗分割回路である。
部電源電圧IVccが4V以下になると、レベルシフト
回路90の出力は2.4V以下となる。このとき、ノー
ドN6の電圧は基準電圧VR1よりも低いので、差動増
幅回路20のノードN5の出力は“L”になる。その結
果、ドライバ回路30のトランジスタQ35がオンし、
ノードN4に外部電源電圧Vccが供給される。
、レベルシフト回路90の出力は2.4V以上になる。 そのため、ノードN6の電圧が基準電圧VR1よりも高
くなるので、差動増幅回路20のノードN5の出力が“
H”になる。その結果、ドライバ回路30のトランジス
タQ35がオフし、ノードN4には外部電源電圧Vcc
が供給されなくなる。
源電圧Vccが4V以下であると内部電源電圧IVcc
は外部電源電圧Vccと等しくなり、外部電源電圧Vc
cが4V以上になると内部電源電圧IVccは4Vで一
定になる。なお、レベルシフト回路90は抵抗分割回路
であるので、ドライバ回路30のトランジスタQ35が
オンすると、電源端子P1から接地端子へ貫通電流が流
れる。
6) 図43は、従来の内部降圧回路の他の例を示す回路図で
ある。この内部降圧回路を搭載したMOS・DRAMは
、IEEE JSSCC,Vol.23,No.5,
pp.1128−1132,Oct.1988に開示さ
れている。
し、電圧発生回路10bは基準電圧V2を発生する。基
準電圧発生回路10cは基準電圧V1,V2を受け、基
準電圧VLを発生する。基準電圧V1,V2,VLは図
45に示す特性を有する。
は、図41に示される差動増幅回路20およびドライバ
回路30と同様に、内部電源電圧IVccを基準電圧V
Lと比較し、フィードバックループにより一定の内部電
源電圧IVccを供給する。図43において、J1,J
2は電流源を示している。
の一例が示される。基準電圧発生回路10cは、2つの
カレントミラーアンプ11,12および出力ステージ1
3を含む。カレントミラーアンプ11は、PチャネルM
OSトランジスタQ61,Q62、NチャネルMOSト
ランジスタQ63,Q64および電流源J3を含む。カ
レントミラーアンプ12は、PチャネルMOSトランジ
スタQ65,Q66、NチャネルMOSトランジスタQ
67,Q68および電流源J4を含む。出力ステージ1
3は、PチャネルMOSトランジスタQ69,Q70お
よび抵抗R3,R4を含む。
ジ13のノードN7の電圧を基準電圧V1と比較し、ト
ランジスタQ69を制御する。カレントミラーアンプ1
2は、出力ステージ13のノードN7の電圧を基準電圧
V1と比較し、トランジスタQ70を制御する。出力ス
テージ13のノードN8から基準電圧VLが発生される
。
圧IVccの外部電源電圧依存性を示す。外部電源電圧
Vccが4Vになるまでは、内部電源電圧IVccは直
線的に増加し、外部電源電圧Vccが4V〜7Vの範囲
では、内部電源電圧IVccは4Vで一定となり、外部
電源電圧Vccが7V以上になると内部電源電圧IVc
cは直線的に増加する。
蔵した半導体装置のバーンイン試験(電圧印加加速試験
)を行なう場合には、内部回路の回路素子に高電圧を印
加するために、内部電源電圧IVccが外部電源電圧V
ccに従って直線的に変動する領域で高い外部電源電圧
を印加する必要がある。
されるDRAM3、周辺回路4等の内部回路では、定常
的に消費される電流(直流的に消費される電流)が存在
する。このような電流により内部電源電圧が低下すると
、ドライバ回路30のトランジスタQ35がオンする(
図37参照)。それにより、内部電源電圧が、図47に
示すように、4Vに戻る。このとき、差動増幅回路20
において電源端子P1から接地端子P2へ貫通電流が流
れ、消費電流にピークが現われる。そのため、消費電流
が大きくなるという問題がある。
に示されるようにスタンドバイ期間にはトランジスタQ
25がオフし、トランジスタQ26のみにより電流供給
が行なわれる。このようにして、差動増幅回路20の電
流供給能力が低くされ、消費電力が小さくされる。しか
しながら、消費電力をある程度までしか小さくできない
という問題がある。
は、アクティブ期間に電流を消費するので、図39に示
されるように、アクティブ期間には制御信号φ1を“L
”にすることにより内部降圧回路1aの差動増幅器20
の電流供給能力を上げておく必要がある。そのため、ア
クティブ期間が長くなると、差動増幅器20で消費され
る電力が増大する。
では、図39に示すように、アクティブ期間内でセンス
アンプの活性化後一定期間だけ制御信号φ2が“L”と
なり、電流供給能力が上げられる。その後は、図37に
示されるトランジスタQ26のみにより電流供給が行な
われる。この場合、上記のように、消費電力をある程度
までしか小さくできないという問題がある。
AM3と周辺回路4とでは電流消費が異なるので、内部
回路ごとに消費電力を低減する必要がある。
1bでは、図39に示すように、アクティブ期間内でセ
ンスアンプの活性化後一定期間だけ電流供給能力が上げ
られる。しかしながら、リフレッシュサイクルにおける
電流消費は、ノーマルサイクルにおける電流消費とは異
なる。特に、リフレッシュサイクルの時間が長くなると
、内部降圧回路1bの動作電流が増大し、リフレッシュ
時に流れる電流が増加するという問題がある。
る半導体装置において、バーンイン試験を行なう場合に
は、内部回路に高電圧を印加するために、外部電源端子
に7V以上のかなり高い外部電源電圧を印加する必要が
ある。その場合、本来外部電源電圧Vccにより直接駆
動される出力バッファ5のような内部回路にはそのまま
その高い外部電源電圧が印加される。それにより、その
内部回路の回路素子が破壊される危険性がある。
降圧回路では、上記のように、レベルシフト回路90に
貫通電流が流れる。そのため、消費電力の増大を防止す
るためにレベルシフト回路90に流れる電流を小さく設
定する必要がある。その結果、内部電源電圧IVccの
変動に対するレベルシフト回路90の出力の応答が遅く
なる。
抗分割されるので、差動増幅回路20の入力振幅が小さ
くなる。そのため、レベルシフト回路90を有するにも
かかわらず、内部降圧回路の感度があまり良くならない
という問題がある。
装置では、図48に示すように、チップch上に1本の
電源線L1しか有さない。この電源線L1は、外部電源
電圧Vccを受ける電源パッドpVccに接続される。 したがって、電源線L1の電位を電源パッドpVccか
らモニタすることができる。なお、CIRは回路領域を
示す。
導体装置では、チップ上に外部電源線および内部電源線
を有する。外部電源線は、電源パッドに接続されている
が、内部電源線はパッドには接続されていない。したが
って、内部電源線の電位をモニタするためには、直接内
部電源線にプロービングする必要がある。そのため、モ
ールドされた半導体装置では、内部電源線の電位をモニ
タすることができないという問題がある。
点を解決するためになされたものであり、次の(1)〜
(7)の目的を有する。
安定に内部電源電圧を供給しつつ内部降圧回路の消費電
力を低減することである。
路のアクティブ期間が長くなった場合でも、内部降圧回
路の消費電力を十分に低減することである。
異なる動作を行なう複数の内部回路に内部電源電圧を供
給する場合に、消費電力を最小限にすることである。
内部電源電圧により駆動される記憶装置において、リフ
レッシュサイクルの期間が長くなった場合に、リフレッ
シュ電流の増加を阻止することである。
内部降圧回路を備えた半導体装置の加速試験を回路素子
を破壊することなく効率よく行なうことである。
内部降圧回路の感度を向上させることである。
内部電源線に直接プロービングすることなしにその電位
をモニタすることである。
係る半導体装置は、外部電源電圧を所定の内部電源電圧
に降圧する内部降圧手段および内部電源電圧により駆動
される内部回路手段を備える。
2の電圧供給手段および制御手段を含む。第1の電圧供
給手段は、第1導電チャネル型電界効果素子を含み、第
1の基準電圧に応答して第1導電チャネル型電界効果素
子をフィードバック制御することにより内部電源電圧を
内部回路手段に供給する。第2の電圧供給手段は、第2
の基準電圧に応答して内部電源電圧を出力して内部回路
手段に供給する第2導電チャネル型電界効果素子を含む
。制御手段は、第1の電圧供給手段の活性化および非活
性化を制御する。
電流消費量に基づいて第1の電圧供給手段の活性化およ
び非活性化を制御する。
タンドバイ期間を有する動作を行ない、好ましくは、制
御手段は、アクティブ期間に第1の電圧供給手段を活性
化し、スタンドバイ期間に第1の電圧供給手段を非活性
化する。
、外部電源電圧を所定の内部電源電圧に降圧する内部降
圧手段、内部電源電圧により駆動される内部回路手段、
および内部降圧手段を制御する制御手段を備える。内部
回路手段は、アクティブ期間およびスタンドバイ期間を
有する動作を行なう。
び第2の電圧供給手段を含む。第1の電圧供給手段は、
第1導電チャネル型電界効果素子を含み、第1の基準電
圧に応答して第1導電チャネル型電界効果素子をフィー
ドバック制御することにより内部電源電圧を内部回路手
段に供給する。第2の電圧供給手段は、第2の基準電圧
に応答して内部電源電圧を出力して内部回路手段に供給
する第2導電チャネル型電界効果素子を含む。
供給手段を活性化しかつスタンドバイ期間に第1の電圧
供給手段を非活性化し、アクティブ期間内で内部回路手
段の動作が定常状態になっているときに第1の電圧供給
手段を非活性化する。
、外部電源電圧を所定の内部電源電圧に降圧する複数の
内部降圧手段、複数の内部降圧手段にそれぞれ対応する
複数の内部回路手段、および複数の内部降圧手段を制御
する制御手段を備える。複数の内部回路手段の各々は、
対応する内部電源電圧により駆動され、アクティブ期間
およびスタンドバイ期間を有する動作を行なう。
供給手段および第2の電圧供給手段を含む。第1の電圧
供給手段は、第1導電チャネル型電界効果素子を含み、
第1の基準電圧に応答して第1導電チャネル型電界効果
素子をフィードバック制御することにより内部電源電圧
を内部回路手段に供給する。第2の電圧供給手段は、第
2の基準電圧に応答して内部電源電圧を出力して内部回
路手段に供給する第2導電チャネル型電界効果素子を含
む。複数の内部回路手段は互いに異なる動作を行なう。
手段の第1の電圧供給手段を活性化しかつスタンドバイ
期間に各内部回路手段の第1の電圧供給手段を非活性化
し、アクティブ期間内で各内部回路手段の動作が定常状
態になっているときに対応する第1の電圧供給手段を非
活性化する。
、外部電源電圧を所定の内部電源電圧に降圧する内部降
圧手段、内部電源電圧により駆動されるダイナミック型
記憶手段、およびリフレッシュ動作期間において記憶手
段のリフレッシュに必要な最小限の時間だけ内部降圧手
段を活性化する制御手段を備える。
データを記憶するメモリ手段と、リフレッシュされるべ
きメモリセルを選択する選択手段と、選択されたメモリ
セルから読出されたデータを増幅するセンスアンプ手段
とを含む。内部降圧手段は、センスアンプ手段に内部電
源電圧を供給する。好ましくは、制御手段は、リフレッ
シュ動作期間内で選択されたメモリセルのリフレッシュ
に必要な最小限の時間だけ内部降圧手段を活性化する。
リセルのリフレッシュの開始に応答して第1の信号を発
生する第1の信号発生手段と、選択されたメモリセルの
リフレッシュの完了に応答して第2の信号を発生する第
2の信号発生手段と、第1の信号に応答して活性化され
かつ第2の信号に応答して非活性化される制御信号を発
生する制御信号発生手段とを含む。
、外部電源電圧を受ける電源端子、外部電源電圧を所定
の内部電源電圧に降圧する内部降圧手段、内部電源電圧
により駆動される内部回路手段、電源端子と内部回路手
段との間に設けられたスイッチ手段、および制御手段を
備える。
活性化しかつスイッチ手段をオフし、試験時に内部降圧
手段を非活性化しかつスイッチ手段をオンする。
めの制御信号を外部から受ける。制御手段は、制御信号
のタイミングが通常動作時とは異なる所定のタイミング
であるときに試験時の制御を行なう。
めの制御信号を外部から受け、予め定められた信号また
は電位を受ける外部端子をさらに備える。制御手段は、
制御信号のタイミングが通常動作時のタイミングとは異
なる所定のタイミングでありかつ外部端子の電圧レベル
が通常動作時とは異なる所定の電圧レベルであるときに
試験時の制御を行なう。
、外部電源電圧を所定の内部電源電圧に降圧する内部降
圧手段および内部電源電圧により駆動される内部回路手
段を備える。
基準電圧を発生する基準電圧発生手段と、内部回路手段
に内部電源電圧を供給するためのドライバ手段と、ドラ
イバ手段の出力をレベルシフトするレベルシフト手段と
、レベルシフト手段の出力振幅を増幅する増幅手段と、
基準電圧と増幅手段の出力とを差動増幅する差動増幅手
段とを含む。ドライバ手段は、差動増幅手段の出力によ
り制御される。
、内部電源電圧が与えられる内部電源線、所定の信号ま
たは電位を受ける外部パッド、およびモニタ手段を含む
。 モニタ手段は、外部パッドと内部電源線との間に接続さ
れかつ既知のしきい値電圧を有するトランジスタを含む
。
電位モニタ方法は、外部パッドの電圧、および、外部パ
ッドと内部電源線との間に接続されるトランジスタのし
きい値電圧に基づいて、内部電源線の電位を算出するス
テップを含む。
の電圧供給手段では、第1導電チャネル型電界効果素子
のオン・オフ制御により貫通電流が流れ、消費電流にピ
ークが生じるが、高い電流供給能力が得られる。一方、
第2の電圧供給手段では、高い電流供給能力は得られな
いが、貫通電流が流れず、消費電流にピークが生じない
。
回路手段に内部電源電圧が供給される。それにより、内
部回路手段で定常的に消費される電流を随時補償するこ
とができる。したがって、内部電源電圧の低下はほとん
どなく、消費電流にピークは生じない。内部回路手段の
動作時には、第1の電圧供給手段が活性化される。それ
により、内部回路手段に流れる動作電流を補償すること
ができる。
スタンドバイ期間には、第2の電圧供給手段により内部
回路手段に内部電源電圧が供給される。それにより、内
部回路手段に定常的に流れる電流を補償することができ
る。アクティブ期間には、第1および第2の電圧供給手
段により内部回路手段に内部電源電圧が供給される。そ
れにより、内部回路手段に流れる動作電流を補償するこ
とができる。さらに、アクティブ期間内で内部回路手段
の動作が定常状態になると、第1の電圧供給手段が非活
性化される。したがって、アクティブ期間が長くなって
も、消費電力を十分に低減することができる。
アクティブ期間内で各内部回路手段の動作が定常状態に
なっているときには、対応する第1の電圧供給手段がそ
れぞれ非活性化される。したがって、異なる動作を行な
う複数の内部回路手段にそれぞれ内部電源電圧を供給す
る場合に、消費電力が最小限になる。
ダイナミック型記憶手段のリフレッシュ期間には、リフ
レッシュに必要な最小限の時間だけ内部降圧手段が活性
化され、リストア動作の完了後は内部降圧手段は非活性
化される。したがって、リフレッシュサイクルの長さに
かかわらず、リフレッシュ時に不必要な電流が流れない
。
試験時には、外部電源電圧が直接内部回路手段に供給さ
れる。それにより、過電圧を外部から供給することなく
、内部回路手段に試験に必要な高電圧を供給することが
できる。したがって、回路素子を破壊することなく効率
の良い加速試験を行なうことができる。
グまたは通常とは異なる電圧レベルを用いることによっ
て、スイッチ手段がオンされるならば、通常動作時に誤
って内部回路手段に高電圧が印加されることが防止され
る。
ドライブ手段の出力が差動増幅手段の感度が良くなる電
圧レベルにシフトされ、かつシフトされた電圧の振幅が
増幅される。そのため、差動増幅手段の入力のレベル差
が大きくなり、内部降圧手段の感度が向上する。
よび第8の発明に係るモニタ方法;外部パッドの電位お
よびモニタ手段のトランジスタのしきい値電圧に基づい
て内部電源線の電位を算出することができる。それによ
り、内部電源線に直接プロービングすることなく、内部
電源線の電位をモニタすることができる。
a) 全体構成および概略動作(図1)図1は、この
発明の第1の実施例による半導体装置の構成を示すブロ
ック図である。半導体装置CHは、内部降圧回路1、D
RAM3、周辺回路4および出力バッファ5を含む。内
部降圧回路1は、外部電源電圧Vccを内部電源電圧I
Vccに降圧し、それをDRAM3および周辺回路4の
両方に供給する。出力バッファ5は外部電源電圧Vcc
により駆動される。
同様に、基準電圧VR1を発生する基準電圧発生回路1
0、差動増幅回路20およびドライバ回路30を含み、
さらに、nチャネルドライバ回路40および基準電圧発
生回路45を含む。基準電圧発生回路45は、基準電圧
VR2を発生し、それをnチャネルドライバ回路40に
供給する。nチャネルドライバ回路40は、後述するよ
うに、基準電圧VR2を受け、内部電源電圧IVccを
発生する。
線L1と内部電源電圧IVccが与えられる内部電源線
L2との間にはバーンインモード設定回路50が接続さ
れている。バーンインモード設定回路50はバーンイン
モード設定信号発生回路70から発生されるバーンイン
モード設定信号BVDにより制御される。
生回路80から発生される活性化信号ACTにより制御
される。活性化信号発生回路80は、制御信号発生回路
60から発生される制御信号φXおよびバーンインモー
ド設定信号発生回路70から発生されるバーンインモー
ド設定信号BVDに応答して活性化信号ACTを発生す
る。
バーンインモード設定信号BVDによりバーンインモー
ド設定回路50は非活性化される。このとき、差動増幅
回路20には、活性化信号ACTとして制御信号発生回
路60からの制御信号φXが与えられる。したがって、
差動増幅回路20は制御信号φXにより制御される。通
常は、nチャネルドライバ回路40により内部電源電圧
IVccが供給され、DRAM3および周辺回路4の動
作時には、差動増幅回路20が活性化され、ドライバ回
路30によりnチャネルドライバ回路40の供給能力不
足が補われる。
には、バーンインモード設定回路50が活性化され、か
つ差動増幅回路20が非活性化される。それにより、外
部電源線L1の外部電圧Vccが内部電源線L2に直接
供給される。
30の構成は図37に示される構成と同様である。差動
増幅回路20の構成は図41に示される構成と同様であ
る。この場合、トランジスタQ31のゲートに活性化信
号ACTが与えられる。
示される構成を用いてもよい。ただし、トランジスタQ
26は設けられず、また、制御信号φXの論理が逆にな
る。
図4) 図2に、内部降圧回路1の一部分の構成を詳細に示す。 nチャネルドライバ回路40はNチャネルMOSトラン
ジスタQ40を含む。トランジスタQ40はソースフォ
ロワトランジスタであり、ドライバ回路30のトランジ
スタQ35と並列に接続されている。トランジスタQ4
0のゲートには、基準電圧VR2が与えらる。基準電圧
VR2は、次式のように設定される。
はトランジスタQ40のしきい値電圧である。一方、V
R1=IVccが成立するので、基準電圧VR1を4V
とすると、基準電圧VR2は、(4+Vth)Vに設定
される。
ので、電流供給能力は小さいが、常時一定の内部電源電
圧IVccを供給することができる。これにより、DR
AM3および周辺回路4で定常的に消費される電流を補
償することができる。DRAM3および周辺回路4の動
作時には、差動増幅器20が活性化され、ドライバ回路
30およびnチャネルドライバ回路40の両方により内
部電源電圧IVccが供給される。
の出力電圧をレベルシフトさせて差動増幅回路20に与
えるためにレベルシフト回路90を設けてもよい。また
、図4に示されるように、レベルシフト回路90にイン
バータ91を介して活性化信号ACTを与えてもよい。 この場合、活性化信号ACTが“H”になると、インバ
ータ91の出力は“L”となる。そのため、レベルシフ
ト回路90が活性化される。逆に、活性化信号ACTが
“L”になると、インバータ91の出力は“H”となる
。そのため、レベルシフト回路90は非活性化される。
ベルシフト回路90も活性化され、差動増幅回路20の
非活性時にはレベルシフト回路90も非活性化される。 そのため、スタンドバイ状態において差動増幅回路20
とレベルシフト回路90とを非活性にすることにより、
さらに消費電力を低減することができる。
御動作(図5〜図8) 図5に示すように、リフレッシュ制御回路61は、外部
から与えられるロウアドレスストローブ信号/RASお
よび外部から与えられるコラムアドレスストローブ信号
/CASに応答してセンスアンプ制御回路62に制御信
号を与える。センスアンプ制御回路62はその制御信号
に応答してセンスアンプ活性化信号SEを発生する。制
御信号発生回路60は、ロウアドレスストローブ信号/
RAS、コラムアドレスストローブ信号/CASおよび
センスアンプ活性化信号SEに応答して制御信号φXを
発生する。
号発生回路60の制御動作を説明する。
(通常動作)のノーマルサイクル時の動作を説明する。 ロウアドレスストローブ信号/RASが“L”になって
アクティブ期間が開始すると、制御信号φXが“H”に
立上がる。これにより、差動増幅回路20が活性化され
、ドライバ回路30によりDRAM3および周辺回路4
に内部電源電圧IVccが供給される。その結果、ロウ
系セット電流、センスアンプ系電流、コラム系電流およ
びロウ系リセット電流を補償することができる。
H”に立上がってアクティブ期間が終了すると、制御信
号φXが“L”に立下がる。それにより、差動増幅回路
20が非活性化され、nチャネルドライバ回路40のみ
により内部電源電圧IVccが供給される。スタンドバ
イ期間には、DRAM3および周辺回路4の電流消費量
は少ないので、内部電源電圧IVccを一定に保持する
ことができる。
のCASビッフォアRASリフレッシュサイクル時の動
作を説明する。CASビッフォアRASリフレッシュ時
には、コラム系は動作しない。したがって、ロウアドレ
スストローブ信号/RASが“L”であっても、メモリ
セルのリフレッシュが完了した時点でDRAM3および
周辺回路4の動作を終了させることが可能である。この
場合、その時点でDRAM3および周辺回路4をリセッ
トすると、以後ロウアドレスストローブ信号/RASが
“L”であってもDRAM3および周辺回路4にはピー
ク電流は発生しない。
ドバイ期間と同様にスタンドバイ状態となる。そのため
、制御信号φXはDRAM3および周辺回路4の動作が
終了するまでの期間だけ“H”となり、差動増幅器20
を活性化させる。この期間以外は、ロウアドレスストロ
ーブ信号/RASが“L”であっても、nチャネルドラ
イバ回路40のみにより内部電源電圧IVccが供給さ
れる。
レッシュサイクルにおいてロウアドレスストローブ信号
/RASが“L”である期間が長くなっても、DRAM
3および周辺回路4の動作が完了していれば差動増幅回
路20で消費される電力を十分に減少させることができ
る。
のCASビッフォアRASリフレッシュサイクル時の動
作の他の例を説明する。DRAM3および周辺回路4を
リフレッシュの完了時点でリセットせずに、ロウアドレ
スストローブ信号/RASが“H”に立上がった時点で
リセットする場合には、制御信号φXのタイミングは図
8に示すようになる。制御信号φXはリフレッシュ動作
時およびリセット動作時のみに“H”になり、差動増幅
回路20を活性化させる。それ以外の期間には、nチャ
ネルドライバ回路40のみにより内部電源電圧IVcc
が供給される。それにより、ロウアドレスストローブ信
号/RASが“L”である期間が長い場合でも、消費電
力を大幅に低減することができる。
御動作(図9〜図12) まず、図9および図10を参照しながらオートリフレッ
シュサイクルにおける制御信号発生回路60の動作を説
明する。この場合、制御信号発生回路60は、リフレッ
シュ制御回路61、タイマ回路64および遅延回路66
により制御される。
びコラムアドレスストローブ信号/CASに応答してオ
ートリフレッシュサイクルが開始すると、リフレッシュ
制御回路61からリフレッシュアドレスカウンタ回路6
3に活性化信号が与えられるとともに、タイマ回路64
に活性化信号TEが与えられる。これにより、リフレッ
シュアドレスカウンタ回路63およびタイマ回路64が
活性化される。その結果、リフレッシュアドレスカウン
タ回路63からリフレッシュアドレス信号RAがアドレ
スバッファ65に与えられる。アドレスバッファ65は
、タイマ回路64から出力される制御信号CNにより制
御される。アドレスバッファ65はリフレッシュアドレ
ス信号RAに応答してメモリアレイMA(図1参照)に
アドレス信号ADを与える。このアドレス信号ADによ
りリフレッシュされるべきアドレスが指定される。
遅延回路66および制御信号発生回路60に与える。制
御信号発生回路60は、トリガ信号Aの立上がりに応答
して制御信号φXを“H”に立上げる。また、遅延回路
66は、トリガ信号Aを一定時間遅延させて遅延信号D
Aを出力する。制御信号発生回路60は、遅延信号DA
の立上がりに応答して制御信号φXを“L”に立下げる
。
シュされるべきメモリセルにおいてリストア動作が完了
するのに十分な時間に予め設定される。この制御信号φ
Xを用いて図1に示される差動増幅回路20が活性化お
よび非活性化される。その結果、メモリセルがリフレッ
シュされている期間だけ差動増幅回路20が活性化され
るので、リフレッシュ時に不必要な電流が流れず、リフ
レッシュの電流を低減することができる。
れるアドレス信号ADDがアドレスバッファ65を介し
てメモリアレイMA(図1参照)にアドレス信号ADと
して与えられる。
CASビッフォアRASリフレッシュサイクル時の動作
を説明する。この場合、制御信号発生回路60は、リフ
レッシュ制御回路61、リフレッシュアドレスカウンタ
回路63、アドレスバッファ65、ワード線制御回路6
6、センスアンプ制御回路67および遅延回路68によ
り制御される。
びコラムアドレスストローブ信号/CASに応答してC
ASビッフォアRASリフレッシュサイクルが開始する
と、リフレッシュ制御回路61からリフレッシュアドレ
スカウンタ回路63に活性化信号が与えられる。それに
より、リフレッシュアドレスカウンタ回路63が活性化
され、アドレスバッファ65にリフレッシュアドレス信
号RAが与えられる。
ュアドレス信号RAに応答してアドレス信号ADをメモ
リアレイMA(図1参照)に与えるとともに、リフレッ
シュアドレス信号RAをワード線制御回路66およびセ
ンスアンプ制御回路67に与える。その結果、ワード線
制御回路66はワード線制御信号RXを出力し、センス
アンプ制御回路67はセンスアンプ活性化信号SEを出
力する。遅延回路68は、センスアンプ活性化信号SE
を一定時間遅延させて遅延信号SEDを出力する。
号RXの立上がりに応答して制御信号φXを“H”に立
上げ、遅延信号SEDの立上がりに応答して制御信号φ
Xを“L”に立下げる。遅延回路68による遅延時間は
、リフレッシュされるべきメモリセルのリストア動作が
完了するのに十分な時間に設定される。この制御信号φ
Xを用いて差動増幅回路20が活性化および非活性化さ
れる。
ュされている間だけ差動増幅回路20が活性化されるの
で、リフレッシュ時に不必要な電流が流れず、リフレッ
シュ時の電流を低減することができる。
れる内部降圧回路1bにも適用することができる。この
場合にも、リフレッシュ時の電流を低減することができ
る。
の詳細(図13〜図15) 図13に、バーンインモード設定回路50の詳細な構成
を示す。バーンインモード設定回路50はPチャネルM
OSトランジスタQ50を含む。トランジスタQ50は
ドライバ回路30のトランジスタQ35と並列に接続さ
れている。トランジスタQ50のゲートにはバーンイン
モード設定信号BVDが与えられる。
設定信号BVDが“H”となる。それにより、トランジ
スタQ50はオフする。このとき、差動増幅回路20に
は、活性化信号ACTとして制御信号φXが与えられる
。それにより、ドライバ回路30により内部電源電圧I
Vccが供給される。
モード設定信号BVDが“L”となる。それにより、ト
ランジスタQ50がオンする。したがって、外部電源電
圧Vccが内部電源線L2に直接与えられる。その結果
、Vcc=IVccとなる。このとき、活性化信号AC
Tは“L”となる。それにより、差動増幅回路20は非
活性化され、差動増幅回路20の出力は“H”となる。 したがって、トランジスタQ35はオフする。
の他の例を示す。バーンインモード設定回路50はNチ
ャネルMOSトランジスタQ51およびインバータ51
を含む。トランジスタQ51はドライバ回路30のトラ
ンジスタQ35のゲートと接地端子との間に接続される
。トランジスタQ51のゲートにはインバータ51を介
してバーンインモード設定信号BVDが与えられる。
設定信号BVDが“H”になり、トランジスタQ51が
オフする。それにより、差動増幅回路20およびドライ
バ回路30がフィードバックループを構成し、内部電源
電圧IVccが供給される。
ド設定信号BVDが“L”となり、トランジスタQ51
がオンする。それにより、ドライバ回路30のトランジ
スタQ35がオンし、外部電源電圧Vccが直接内部電
源線L2に供給される。
示す。バーンインモード時には外部電源電圧Vccと内
部電源電圧IVccとが等しくなるので、各回路素子に
必要以上に過電圧が印加されることがない。また、プロ
セスパラメータの変動にかかわらず、各回路素子に正確
な電圧を印加することができるので、精度および再現性
の良いバーンイン試験を行なうことができる。
35に示される半導体装置に適用することも可能である
。この場合にも、精度および再現性の良いバーンイン試
験を行なうことができる。
回路70の詳細(図16〜図21) 図16に、バーンインモード設定信号発生回路70の一
例を示し、図17および図18にバーンインモードセッ
トサイクルおよびバーンインモードリセットサイクルの
信号波形図をそれぞれ示す。
説明する。タイミングジェネレータ71は、ロウアドレ
スストローブ信号/RASの立下がり時点でコラムアド
レスストローブ信号/CASおよびライトイネーブル信
号/WEが“L”であると、カウンタリセットパルスφ
Aを発生する。これにより、nビットカウンタ72がカ
ウントを開始する。
アドレスストローブ信号/CASが与えられる。コラム
アドレスストローブ信号/CASを“H”および“L”
に変化させる動作が2n 回繰り返されると、nビット
カウンタ72から出力されるカウンタ信号φCが“H”
に立上がる。カウンタ信号φCの立上がりに応答して、
バッファ73から出力されるバーンインモード設定信号
BVDが“L”に立下がる。
を説明する。ロウアドレスストローブ信号/RASの立
下がり時点でコラムアドレスストローブ信号/CASが
“L”でありかつライトイネーブル信号/WEが“H”
であると、タイミングジェネレータ71がカウンタリセ
ットパルスφBを発生する。それにより、nビットカウ
ンタ72がリセットされ、カウンタ信号φCが“L”に
立下がる。カウンタ信号φCの立下がりに応答して、バ
ッファ73から出力されるバーンインモード設定信号B
VDが“H”に立上がる。
RAMにおいてJEDECで標準化されたWCBR(W
E・CASビッフォアRAS)テストモードセットサイ
クルを基礎として外部コラムアドレスストローブ信号/
CASのトグリングによってバーンインモードがセット
され、CBR(CASビッフォアRAS)サイクルまた
はROR(RASオンリーリフレッシュ)サイクルによ
りバーンインモードがリセットされる。
ンインモードの設定を行なうことができるので、バーン
イン試験時にバーイン装置に複数の電源が要求されない
。したがって、バーインモードの設定を安価に行なうこ
とができる。バーンインモード設定のためのタイミング
は上記のタイミングには限られないが、製品スペックに
通常記述されていないタイミング、すなわちノーマルサ
イクルのタイミングとは区別できるタイミングを選択す
る必要がある。
路70の他の例を示し、図20および図21にバーンイ
ンモードセットサイクルおよびバーンインモードリセッ
トサイクルの信号波形図をそれぞれ示す。
説明する。高電圧検出回路76は任意のアドレス端子に
縦続接続されたn段のNチャネルMOSトランジスタQ
71〜Q7nを含む。ロウアドレスストローブ信号/R
ASの立下がり時点でコラムアドレスストローブ信号/
CASおよびライトイネーブル信号/WEが“L”であ
ると、タイミングジェネレータ74はクロックパルスφ
Dを発生する。このとき、アドレス端子に高電圧(Vc
c+n・Vth)が与えられていると、信号φEが“H
”となっている。バッファ75は、クロックパルスφD
の立上がり時に信号φEが“H”であると、バーンイン
モード設定信号BVDを“L”に立下げる。
を説明する。ロウアドレスストローブ信号/RASの立
下がり時点でコラムアドレスストローブ信号/CASが
“L”でありかつライトイネーブル信号/WEが“H”
であると、タイミングジェネレータ74はクロックパル
スφFを発生する。バッファ75は、クロックパルスφ
Fの立上がりに応答してバーンインモード設定信号BV
Dを“H”に立上げる。
電源電圧Vccよりも高く設定された高電圧の1つまた
は複数のアドレス端子への印加とWCBRテストモード
セットサイクルとの組合わせにより、バーンインモード
設定信号が発生される。
きには、そのアドレス端子には高電圧ではなく通常の高
レベルまたは低レベルの電圧が“H”または“L”とし
て与えられる。通常の高レベルの電圧の代わりに、“H
”として高電圧が与えられてもよい。
、アドレス端子を用いる代わりにたとえばデータ入力端
子に与える高レベルの電圧を上記の高電圧に設定しても
よい。
)(a) 全体構成および概略動作(図22)図22
は、第2の実施例による半導体装置の構成を示すブロッ
ク図である。この半導体装置CHは、2つの内部降圧回
路1a,1bを含む。内部降圧回路1Aは外部電源電圧
Vccを内部電源電圧IVcc1に降圧し、それを周辺
回路4に供給する。内部降圧回路1Bは、外部電源電圧
Vccを内部電源電圧IVcc2に降圧し、それをDR
AM3に供給する。活性化信号発生回路60aは、2つ
の活性化信号ACT1,ACT2を発生する。 内部降圧回路1Aの差動増幅回路20は活性化信号AC
T1により制御され、内部降圧回路1Bの差動増幅回路
20は活性化信号ACT2により制御される。
60aは、ロウアドレスストローブ信号/RASおよび
コラムアドレスストローブ信号/CASおよびセンスア
ンプ活性化信号SEに応答して、活性化信号ACT1,
ACT2を発生する。
ドのノーマルサイクル時の動作を説明する。ロウアドレ
スストローブ信号/RASの立下がりに応答して活性化
信号ACT1が“H”に立上がる。それにより、内部降
圧回路1A内の差動増幅回路20が活性化される。その
後、センスアンプ活性化信号SEが“H”に立上がり、
その立上がりに応答して、活性化信号ACT2が“H”
に立上がる。それにより、内部降圧回路1B内の差動増
幅回路20が活性化される。
L”に立下がる。これにより、内部降圧回路1B内の差
動増幅回路20が非活性化される。活性化信号ACT2
が“H”である時間は、センスアンプ系電流を補償する
ために必要な時間に予め設定されている。
H”に立上がると、活性化信号ACT1が“L”に立下
がる。これにより、内部降圧回路1A内の差動増幅回路
20が非活性化される。
ドのCASビッフォアRASリフレッシュサイクル時の
動作を説明する。ロウアドレスストローブ信号/RAS
の立下がりに応答して活性化信号ACT1が“H”に立
上がる。それにより、内部降圧回路1A内の差動増幅回
路20が活性化される。その後、センスアンプ活性化信
号SEが“H”に立上がり、その立上がりに応答して、
活性化信号ACT2が“H”に立上がる。それにより、
内部降圧回路1B内の差動増幅回路20が活性化される
。
L”に立下がる。その立下がりに応答して、活性化信号
ACT1が“L”に立下がり、活性化信号ACT2が“
L”に立下がる。それにより、内部降圧回路1A内の差
動増幅回路20が非活性化され、差動増幅回路1B内の
差動増幅回路20が非活性化される。
リフレッシュサイクルにおいて、消費電力を低減するこ
とができる。
6〜図27) 図26は、内部降圧回路1の他の例を示すブロック図で
ある。この内部降圧回路1においては、レベルシフト回
路90の出力振幅を増幅するための増幅回路100がさ
らに設けられている。増幅回路100の出力は差動増幅
回路20に与えられる。この増幅回路100は、基準電
圧VR1により制御される。
分の詳細な構成を示す。差動増幅回路20、ドライバ回
路30およびレベルシフト回路90の構成は、図40に
示される構成と同様である。ただし、差動増幅回路20
のトランジスタQ31のゲートには活性化信号ACTが
与えられる。増幅回路100は、PチャネルMOSトラ
ンジスタQ101,Q102およびNチャネルMOSト
ランジスタQ103,Q104からなるカレントミラー
回路である。トランジスタQ103のゲートには基準電
圧VR1が与えられ、トランジスタQ104のゲートは
レベルシフト回路90のノードN6に接続される。Nチ
ャネルMOSトランジスタQ105のゲートには活性化
信号ACTが与えられる。
部電源電圧IVccが4V以下のときには、レベルシフ
ト回路90の出力は2.4V以下になり、基準電圧VR
1よりも低くなる。それにより、増幅回路100のノー
ドN7の出力は約1〜2Vの“L”になる。
は、レベルシフト回路90の出力は2.4V以上になり
、基準電圧VR1よりも高くなる。それにより、増幅回
路100のノードN7の出力は、約4V〜5Vの“H”
となる。増幅回路100により、レベルシフト回路90
の出力電圧の振幅が増幅されるので、内部降圧回路の感
度が向上する。
体装置のみならず、図35に示される半導体装置にも適
用することができる。
図28〜図34) 図28は、外部電源電圧Vccを受ける外部電源線L1
および内部電源電圧IVccを受ける内部電源線L2を
備えた半導体装置のチップch上の構成を示す模式図で
ある。図28に示すように、外部電源線L1は、電源パ
ッドpVccに接続される。信号または所定の電位を受
ける任意のパッドpaと内部電源線L2との間にモニタ
回路110が接続される。パッドpaは外部ピンに接続
される。
ニタ回路110は、NチャネルMOSトランジスタQN
1〜QN3を含む。トランジスタQN1〜QN3は外部
ピンEPと内部電源線L2との間に直列に接続される。 トランジスタQN1〜QN3のしきい値電圧をVthと
する。
ンと接地電位を受ける接地ピンとの間に流れるスタンド
バイ電流を測定する。そして、電源ピンと接地ピンとの
間を流れる電流をモニタしながら、外部ピンEPの電位
を徐々に上昇させる。電源ピンと接地ピンとの間に流れ
る電流が上昇し始めたときの外部ピンEPの電位をVE
XTとすると、内部電源線L2の電位VINTは次式か
ら算出される。
て、内部電源線L2を直接プロービングすることなく、
その電位をモニタすることができる。
ニタ回路110は、NチャネルMOSトランジスタQN
4,QN5を含む。トランジスタQN4,QN5は定電
圧源Vと任意の外部ピンEPとの間に直列に接続される
。定電圧源Vは、たとえば外部電源電圧Vccを受ける
電源ピンである。トランジスタQN4のゲートは内部電
源線L2に接続される。トランジスタQN5のゲートに
は特殊モード信号発生回路111から特殊モード信号φ
が与えられる。
スストローブ信号/RAS、コラムアドレスストローブ
信号/CASおよびライトイネーブル信号/WEに応答
して特殊モード信号φを発生する。トランジスタQN4
,QN5のしきい値電圧をVthとする。
位を5Vに設定し、特殊モード信号φの電位を7Vに設
定する。そして、外部ピンEPと定電圧源Vとの間を流
れる電流をモニタしながら、外部ピンEPの電位を徐々
に下降させる。外部ピンEPと定電圧源Vとの間に電流
が流れ始めたときの外部ピンEPの電位をVEXTとす
ると、内部電源線L2の電位VINTは次式により算出
される。
内部電源線L2を直接プロービングすることなく、その
電位をモニタすることができる。
ニタ回路110は、PチャネルMOSトランジスタQP
1を含む。トランジスタQP1は内部電源線L2と任意
の外部ピンEPとの間に接続される。トランジスタQP
1のゲートには特殊モード信号φが与えられる。Nチャ
ネルMOSトランジスタQN6は内部回路内の1つのト
ランジスタである。
と、トランジスタQP1がオンし、外部ピンEPと内部
電源線L2とが電気的に接続される。したがって、外部
ピンEPの電位VEXTをモニタすることにより、内部
電源線L2の電位VINTを次式により算出することが
できる。
となく、その電位をモニタすることができる。
ニタ回路110は、NチャネルMOSトランジスタQN
7およびPチャネルMOSトランジスタQP2を含む。 トランジスタQN7は任意の外部ピンEP1と任意の外
部ピンEP2との間に接続される。トランジスタQP2
は内部電源線L2とトランジスタQN7のゲートとの間
に接続される。トランジスタQP2のゲートには特殊モ
ード信号φが与えられる。
hとする。特殊モード信号φの電位を0Vに設定すると
、トランジスタQP2がオンし、トランジスタQN7の
ゲートに内部電源線L2の電位が印加される。外部ピン
EP1の電位を5Vに設定する。外部ピンEP1と外部
ピンEP2との間に流れる電流をモニタしながら、外部
ピンEP2の電位を徐々に下降させる。そして、外部ピ
ンEP1と外部ピンEP2との間に電流が流れ始めたと
きの外部ピンEP2の電位をVEXTとすると、内部電
源線L2の電位VINTは次式により算出される。
内部電源線L2を直接プロービングすることなく、その
電位をモニタすることができる。
ニタ回路110は、NチャネルMOSトランジスタQN
8を含む。トランジスタQN8は、内部電源線L2と任
意の外部ピンEPとの間に接続される。トランジスタQ
N8のゲートには特殊モード信号φが与えられる。Nチ
ャネルMOSトランジスタQN9は内部回路内の1つの
トランジスタである。
と、トランジスタQN8がオンし、外部ピンEPと内部
電源線L2とが電気的に接続される。したがって、外部
ピンEPの電位VEXTを測定することにより、内部電
源線L2の電位VINTは次式により算出される。
となく、その電位をモニタすることができる。
ニタ回路110は、NチャネルMOSトランジスタQN
10およびPチャネルMOSトランジスタQP3を含む
。トランジスタQN10およびトランジスタQP3は内
部電源線L2と任意の外部ピンEPとの間に直列に接続
される。トランジスタQN10はダイオード接続される
。トランジスタQP3のゲートには特殊モード信号φが
与えられる。NチャネルMOSトランジスタQN11は
内部回路内の1つのトランジスタである。トランジスタ
QN10のしきい値電圧をVthとする。
定すると、トランジスタQP3がオンし、内部電源線L
2と外部ピンEPとがトランジスタQN10を介して接
続される。したがって、外部ピンEPの電位VEXTを
測定することにより、内部電源線L2の電位VINTは
次式により算出される。
内部電源線L2を直接プロービングすることなく、その
電位をモニタすることができる。
半導体装置に限らず、内部電源線を有する種々の半導体
装置に適用することができる。
成として、図16または図19に示される構成と同様の
構成を用いることができる。
き、かつ消費電力が低減される。したがって、高性能か
つ低消費電力の内部降圧回路を備えた半導体装置が得ら
れる。
内部降圧手段の消費電力を十分に低減することができる
。したがって、高性能かつ低消費電力の半導体装置が得
られる。
をそれぞれ供給する場合に、消費電力を最小限にするこ
とができる。したがって、高性能かつ低消費電力の半導
体装置が得られる。
ュ時に流れる電流を低減することができる。したがって
、高性能かつ低消費電力の半導体装置が得られる。
定、かつ高効率に行なうことができる。
半導体装置が得られる。
線に直接プロービングすることなくその電位をモニタす
ることができる。したがって、モールドされた半導体装
置の内部電源線の電位をモニタすることができる。
成を示すブロック図である。
る。
る。
ック図である。
作を説明するための波形図である。
レッシュサイクル時の制御動作を説明するための波形図
である。
レッシュサイクル時の制御動作の他の例を説明するため
の波形図である。
めのブロック図である。
図である。
明するためのブロック図である。
図である。
図である。
路図である。
一例を示すブロック図である。
ための波形図である。
るための波形図である。
他の例を示すブロック図である。
ための波形図である。
るための波形図である。
構成を示すブロック図である。
ブロック図である。
化信号のタイミングを説明するための波形図である。
フレッシュサイクル時の活性化信号のタイミングを説明
するための波形図である。
る。
を示す回路図である。
構成を示す模式図である。
AMの構成を示すブロック図である。
である。
る。
の波形図である。
る。
を示す回路図である。
ある。
の構成を示す回路図である。
である。
部電源電圧依存性を示す図である。
の特性を示す図である。
の図である。
の構成を示す模式図である。
性化信号発生回路 L1 外部電源線 L2 内部電源線 P1 電源端子 P2 接地端子 1A,1B 内部降圧回路 60a 活性化信号発生回路 90 レベルシフト回路 100 増幅回路 110 モニタ回路 pVcc 電源パッド pa パッド Vcc 外部電源電圧 IVcc 内部電源電圧 ACT 活性化信号 φX 制御信号 BVD バーンインモード設定信号 ACT1,ACT2 活性化信号 VR1,VR2 基準電圧 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (14)
- 【請求項1】 外部電源電圧を所定の内部電源電圧に
降圧する内部降圧手段および前記内部電源電圧により駆
動される内部回路手段を備え、前記内部降圧手段は、第
1導電チャネル型電界効果素子を含み、第1の基準電圧
に応答して前記第1導電チャネル型電界効果素子をフィ
ードバック制御することにより前記内部電源電圧を前記
内部回路手段に供給する第1の電圧供給手段と、第2の
基準電圧に応答して前記内部電源電圧を出力して前記内
部回路手段に供給する第2導電チャネル型電界効果素子
を含む第2の電圧供給手段と、前記第1の電圧供給手段
の活性化および非活性化を制御する制御手段とを含む、
半導体装置。 - 【請求項2】 前記制御手段は、前記内部回路手段の
電流消費量に基づいて前記第1の電圧供給手段の活性化
および非活性化を制御する、請求項1記載の半導体装置
。 - 【請求項3】 前記内部回路手段は、アクティブ期間
およびスタンドバイ期間を有する動作を行ない、前記制
御手段は、前記アクティブ期間に前記第1の電圧供給手
段を活性化し、前記スタンドバイ期間に前記第1の電圧
供給手段を非活性化する、請求項1記載の半導体装置。 - 【請求項4】 外部電源電圧を所定の内部電源電圧に
降圧する内部降圧手段、前記内部電源電圧により駆動さ
れ、アクティブ期間およびスタンドバイ期間を有する動
作を行なう内部回路手段、および前記内部降圧手段を制
御する制御手段を備え、前記内部降圧手段は、第1導電
チャネル型電界効果素子を含み、第1の基準電圧に応答
して前記第1導電チャネル型電界効果素子をフィードバ
ック制御することにより前記内部電源電圧を前記内部回
路手段に供給する第1の電圧供給手段と、第2の基準電
圧に応答して前記内部電源電圧を出力して前記内部回路
手段に供給する第2導電チャネル型電界効果素子を含む
第2の電圧供給手段とを含み、前記制御手段は、前記ア
クティブ期間に前記第1の電圧供給手段を活性化し、前
記スタンドバイ期間に前記第1の電圧供給手段を非活性
化し、前記アクティブ期間内で前記内部回路手段の動作
が定常状態になっているときに前記第1の電圧供給手段
を非活性化する、半導体装置。 - 【請求項5】 外部電源電圧を所定の内部電源電圧に
降圧する複数の内部降圧手段、前記複数の内部降圧手段
にそれぞれ対応し、各々が対応する内部電源電圧により
駆動され、アクティブ期間およびスタンドバイ期間を有
する動作を行なう複数の内部回路手段、および前記複数
の内部降圧手段を制御する制御手段を備え、前記内部降
圧手段の各々は、第1導電チャネル型電界効果素子を含
み、第1の基準電圧に応答して前記第1導電チャネル型
電界効果素子をフィードバック制御することにより前記
内部電源電圧を対応する内部回路手段に供給する第1の
電圧供給手段と、第2の基準電圧に応答して前記内部電
源電圧を出力して対応する内部回路手段に供給する第2
導電チャネル型電界効果素子を含む第2の電圧供給手段
とを含み、前記複数の内部回路手段は互いに異なる動作
を行ない、前記制御手段は、前記アクティブ期間に各内
部回路手段の第1の電圧供給手段を活性化し、前記スタ
ンドバイ期間に各内部回路手段の第1の電圧供給手段を
非活性化し、前記アクティブ期間内で各内部回路手段の
動作が定常状態になっているときに対応する第1の電圧
供給手段を非活性化する、半導体装置。 - 【請求項6】 外部電源電圧を所定の内部電源電圧に
降圧する内部降圧手段、前記内部電源電圧により駆動さ
れるダイナミック型記憶手段、およびリフレッシュ動作
期間において前記記憶手段のリフレッシュに必要な最小
限の時間だけ前記内部降圧手段を活性化する制御手段を
備えた、半導体装置。 - 【請求項7】 前記記憶手段は、複数のメモリを含み
かつデータを記憶するメモリ手段と、リフレッシュされ
るべきメモリを選択する選択手段と、前記選択手段によ
り選択されたメモリセルから読出されたデータを増幅す
るセンスアンプ手段とを含み、前記内部降圧手段は、前
記センスアンプ手段に前記内部電源電圧を供給し、前記
制御手段は、前記リフレッシュ動作期間内で前記選択手
段により選択されたメモリのリフレッシュに必要な最小
限の時間だけ前記内部降圧手段を活性化する、請求項6
記載の半導体装置。 - 【請求項8】 前記制御手段は、前記選択されたメモ
リセルのリフレッシュの開始に応答して第1の信号を発
生する第1の信号発生手段と、前記選択されたメモリセ
ルのリフレッシュの完了に応答して第2の信号を発生す
る第2の信号発生手段と、前記第1の信号に応答して活
性化されかつ前記第2の信号に応答して非活性化される
制御信号を発生する制御信号発生手段とを含む、請求項
7記載の半導体装置。 - 【請求項9】 外部電源電圧を受ける電源端子、前記
外部電源電圧を所定の内部電源電圧に降圧する内部降圧
手段、前記内部電源電圧により駆動される内部回路手段
、前記電源端子と前記内部回路手段との間に設けられる
スイッチ手段、および通常の動作時に前記内部降圧手段
を活性化しかつ前記スイッチ手段をオフし、試験時に前
記内部降圧手段を非活性化しかつ前記スイッチ手段をオ
ンする制御手段を備えた、半導体装置。 - 【請求項10】 前記内部回路手段を制御するための
制御信号を外部から受け、前記制御手段は、前記制御信
号のタイミングが通常動作時とは異なる所定のタイミン
グであるときに、前記試験時の制御を行なう、請求項9
記載の半導体装置。 - 【請求項11】 前記内部回路手段を制御するための
制御信号を外部から受け、かつ予め定められた信号また
は電位を受ける外部端子をさらに備え、前記制御手段は
、前記制御信号のタイミングが通常動作時とは異なる所
定のタイミングでありかつ前記外部端子の電圧レベルが
通常動作時とは異なる所定の電圧レベルであるときに前
記試験時の制御を行なう、請求項9記載の半導体装置。 - 【請求項12】 外部電源電圧を所定の内部電源電圧
に降圧する内部降圧手段、および前記内部電源電圧によ
り駆動される内部回路手段を備え、前記内部降圧手段は
、前記外部電源電圧に応答して基準電圧を発生する基準
電圧発生手段と、前記内部回路手段に前記内部電源電圧
を供給するためのドライバ手段と、前記ドライバ手段の
出力をレベルシフトするレベルシフト手段と、前記レベ
ルシフト手段の出力振幅を増幅する増幅手段と、前記基
準電圧と前記増幅手段の出力とを差動増幅する差動増幅
手段とを含み、前記ドライバ手段は前記差動増幅手段の
出力により制御される、半導体装置。 - 【請求項13】 内部電源電圧が与えられる内部電源
線、所定の信号または電位を受ける外部パッド、および
前記外部パッドと前記内部電源線との間に接続されかつ
既知のしきい値電圧を有するトランジスタを含むモニタ
手段を備えた、半導体装置。 - 【請求項14】 内部電源電圧が与えられる内部電源
線と、所定の信号または電位を受ける外部パッドと、前
記外部パッドと前記内部電源線との間に接続されたトラ
ンジスタとを含む半導体装置において内部電源線の電位
をモニタする方法であって、前記外部パッドの電圧およ
び前記トランジスタのしきい値電圧に基づいて前記内部
電源線の電位を算出する、内部電源線の電位のモニタ方
法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3148967A JP2945508B2 (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 半導体装置 |
| US07/819,208 US5249155A (en) | 1991-06-20 | 1992-01-10 | Semiconductor device incorporating internal voltage down converting circuit |
| DE4205040A DE4205040C2 (de) | 1991-06-20 | 1992-02-19 | Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Überwachen eines Potentials auf einer internen Versorgungsspannungsleitung derselben |
| KR1019920008202A KR960004463B1 (ko) | 1991-06-20 | 1992-05-15 | 반도체장치 및 내부전원선의 전위모니터 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3148967A JP2945508B2 (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 半導体装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05894199A Division JP3313081B2 (ja) | 1999-03-05 | 1999-03-05 | 半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04370963A true JPH04370963A (ja) | 1992-12-24 |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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| KR (1) | KR960004463B1 (ja) |
| DE (1) | DE4205040C2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11162194A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
| US6804158B2 (en) | 1995-08-18 | 2004-10-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor circuit device with improved special mode |
| US6859403B2 (en) | 1993-10-14 | 2005-02-22 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor memory device capable of overcoming refresh disturb |
| KR100500009B1 (ko) * | 1997-06-30 | 2006-04-21 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 반도체집적회로 |
| JP2006203248A (ja) * | 1994-08-04 | 2006-08-03 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
| JP2008117215A (ja) * | 2006-11-06 | 2008-05-22 | Toshiba Corp | 基準電位発生回路 |
| JP2016080623A (ja) * | 2014-10-21 | 2016-05-16 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路 |
| JP2021052122A (ja) * | 2019-09-26 | 2021-04-01 | 日立Astemo株式会社 | 半導体集積回路装置 |
Families Citing this family (55)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5217917A (en) * | 1990-03-20 | 1993-06-08 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor memory device with improved substrate arrangement to permit forming a plurality of different types of random access memory, and a testing method therefor |
| KR940008286B1 (ko) * | 1991-08-19 | 1994-09-09 | 삼성전자 주식회사 | 내부전원발생회로 |
| KR950008453B1 (ko) * | 1992-03-31 | 1995-07-31 | 삼성전자주식회사 | 내부전원전압 발생회로 |
| JPH05314769A (ja) * | 1992-05-13 | 1993-11-26 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路装置 |
| JP3085782B2 (ja) * | 1992-05-29 | 2000-09-11 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
| KR950014099B1 (ko) * | 1992-06-12 | 1995-11-21 | 가부시기가이샤 도시바 | 반도체 기억장치 |
| JP2768172B2 (ja) * | 1992-09-30 | 1998-06-25 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリ装置 |
| JP2851767B2 (ja) * | 1992-10-15 | 1999-01-27 | 三菱電機株式会社 | 電圧供給回路および内部降圧回路 |
| JP2953226B2 (ja) * | 1992-12-11 | 1999-09-27 | 株式会社デンソー | 基準電圧発生回路 |
| JP3286869B2 (ja) * | 1993-02-15 | 2002-05-27 | 三菱電機株式会社 | 内部電源電位発生回路 |
| JPH06243677A (ja) * | 1993-02-19 | 1994-09-02 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置とメモリ装置及びその品種設定方法 |
| JP3297124B2 (ja) * | 1993-02-24 | 2002-07-02 | 三菱電機株式会社 | ダイナミック型半導体記憶装置 |
| JP3759758B2 (ja) * | 1994-02-03 | 2006-03-29 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体記憶装置 |
| KR960009960B1 (ko) * | 1994-03-12 | 1996-07-25 | 금성일렉트론 주식회사 | 디램의 리프레쉬 콘트롤회로 |
| KR0181307B1 (ko) * | 1994-05-27 | 1999-04-01 | 오우라 히로시 | 반도체 시험장치용 드라이버회로 |
| JP3510335B2 (ja) * | 1994-07-18 | 2004-03-29 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体記憶装置、内部電源電圧発生回路、内部高電圧発生回路、中間電圧発生回路、定電流源、および基準電圧発生回路 |
| JP3705842B2 (ja) * | 1994-08-04 | 2005-10-12 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置 |
| US5625305A (en) * | 1994-10-20 | 1997-04-29 | Acer Incorporated | Load detection apparatus |
| JPH08153388A (ja) * | 1994-11-28 | 1996-06-11 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
| JPH08203269A (ja) * | 1995-01-23 | 1996-08-09 | Mitsubishi Electric Corp | 内部電圧発生回路、半導体記憶装置および消費電流測定方法 |
| JPH08298722A (ja) * | 1995-04-26 | 1996-11-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置および半導体装置の内部電源電位の調整方法 |
| JP3625918B2 (ja) * | 1995-10-16 | 2005-03-02 | 株式会社ルネサステクノロジ | 電圧発生回路 |
| JPH10149699A (ja) * | 1996-11-18 | 1998-06-02 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体回路装置 |
| KR100253283B1 (ko) * | 1997-04-07 | 2000-04-15 | 김영환 | 메모리소자의소모전류감소회로 |
| KR100474986B1 (ko) * | 1997-06-30 | 2005-06-27 | 삼성전자주식회사 | 반도체장치 |
| KR100448857B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2004-12-17 | 주식회사 하이닉스반도체 | 내부전압 발생기의 공급 및 소모전류 측정장치 |
| JP2000011649A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-14 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
| JP3802239B2 (ja) | 1998-08-17 | 2006-07-26 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路 |
| US6140805A (en) * | 1999-05-18 | 2000-10-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Source follower NMOS voltage regulator with PMOS switching element |
| US6477079B2 (en) | 1999-05-18 | 2002-11-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Voltage generator for semiconductor device |
| US6392472B1 (en) * | 1999-06-18 | 2002-05-21 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Constant internal voltage generation circuit |
| JP2001052476A (ja) * | 1999-08-05 | 2001-02-23 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
| JP2001067867A (ja) | 1999-08-31 | 2001-03-16 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
| JP4353593B2 (ja) * | 1999-09-16 | 2009-10-28 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置 |
| KR100391152B1 (ko) * | 2000-11-23 | 2003-07-12 | 삼성전자주식회사 | 조기동작 고전압 발생기를 가지는 반도체 장치 및 그에따른 고전압 공급방법 |
| US6337827B1 (en) * | 2001-01-05 | 2002-01-08 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Voltage-dropping power unit for semiconductor memory device |
| JP4656747B2 (ja) * | 2001-03-30 | 2011-03-23 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
| US6661279B2 (en) * | 2001-04-11 | 2003-12-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor integrated circuit which outputs first internal power supply voltage and second internal power supply voltage lower than first internal supply power voltage |
| DE10211912B4 (de) * | 2002-03-18 | 2004-02-05 | Infineon Technologies Ag | Integrierter Schaltkreis und Verfahren zum Steuern einer Stromversorgung desselben |
| JP2003283321A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | 内部電源電位発生回路 |
| JP3768202B2 (ja) * | 2003-05-13 | 2006-04-19 | 松下電器産業株式会社 | 半導体集積回路 |
| US7212067B2 (en) * | 2003-08-01 | 2007-05-01 | Sandisk Corporation | Voltage regulator with bypass for multi-voltage storage system |
| KR100626367B1 (ko) * | 2003-10-02 | 2006-09-20 | 삼성전자주식회사 | 내부전압 발생장치 |
| JP5038616B2 (ja) * | 2005-11-14 | 2012-10-03 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路 |
| KR100798804B1 (ko) * | 2006-06-29 | 2008-01-29 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 장치 |
| US7432758B2 (en) * | 2006-11-08 | 2008-10-07 | Elite Semiconductor Memory Technology Inc. | Voltage regulator for semiconductor memory |
| WO2008088135A1 (en) * | 2007-01-16 | 2008-07-24 | Chungbuk National University Industry-Academic Cooperation Foundation | Multiple valued dynamic random access memory cell and thereof array using single electron transistor |
| KR100795027B1 (ko) * | 2007-03-12 | 2008-01-16 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 집적 회로 및 이를 포함하는 반도체 패키지 모듈 |
| JP5104118B2 (ja) * | 2007-08-09 | 2012-12-19 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 内部電源回路 |
| US8014214B2 (en) * | 2007-11-08 | 2011-09-06 | Hynix Semiconductor Inc. | Semiconductor memory device |
| KR100930409B1 (ko) * | 2008-03-11 | 2009-12-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 장치의 내부 전압 생성 회로 |
| US9130587B2 (en) * | 2014-01-29 | 2015-09-08 | Broadcom Corporation | Frame adaptive digital to analog converter and methods for use therewith |
| US9317051B2 (en) * | 2014-02-06 | 2016-04-19 | SK Hynix Inc. | Internal voltage generation circuits |
| US9728231B1 (en) | 2016-05-03 | 2017-08-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Device and method for data-writing |
| KR102652802B1 (ko) | 2016-11-01 | 2024-04-01 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 웨이퍼 번인 테스트 회로 및 이를 포함하는 반도체 장치 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61163655A (ja) * | 1985-01-14 | 1986-07-24 | Toshiba Corp | 相補型半導体集積回路 |
| JPS625422A (ja) * | 1985-06-29 | 1987-01-12 | Toshiba Corp | 半導体集積回路装置 |
| JPS6455857A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Nec Corp | Semiconductor integrated device |
| JPH02195596A (ja) * | 1989-01-24 | 1990-08-02 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
| JPH02302990A (ja) * | 1989-05-01 | 1990-12-14 | Samsung Electron Co Ltd | 電源供給電圧変換回路 |
| JPH0346575A (ja) * | 1989-07-14 | 1991-02-27 | Nec Corp | テスト回路 |
| JPH0346188A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶回路 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4482985A (en) * | 1981-04-17 | 1984-11-13 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit |
| KR920010749B1 (ko) * | 1989-06-10 | 1992-12-14 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 집적소자의 내부전압 변환회로 |
-
1991
- 1991-06-20 JP JP3148967A patent/JP2945508B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-01-10 US US07/819,208 patent/US5249155A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-02-19 DE DE4205040A patent/DE4205040C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-05-15 KR KR1019920008202A patent/KR960004463B1/ko not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61163655A (ja) * | 1985-01-14 | 1986-07-24 | Toshiba Corp | 相補型半導体集積回路 |
| JPS625422A (ja) * | 1985-06-29 | 1987-01-12 | Toshiba Corp | 半導体集積回路装置 |
| JPS6455857A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Nec Corp | Semiconductor integrated device |
| JPH02195596A (ja) * | 1989-01-24 | 1990-08-02 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
| JPH02302990A (ja) * | 1989-05-01 | 1990-12-14 | Samsung Electron Co Ltd | 電源供給電圧変換回路 |
| JPH0346188A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶回路 |
| JPH0346575A (ja) * | 1989-07-14 | 1991-02-27 | Nec Corp | テスト回路 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6859403B2 (en) | 1993-10-14 | 2005-02-22 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor memory device capable of overcoming refresh disturb |
| JP2006203248A (ja) * | 1994-08-04 | 2006-08-03 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
| US6804158B2 (en) | 1995-08-18 | 2004-10-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor circuit device with improved special mode |
| KR100500009B1 (ko) * | 1997-06-30 | 2006-04-21 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 반도체집적회로 |
| JPH11162194A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
| JP2008117215A (ja) * | 2006-11-06 | 2008-05-22 | Toshiba Corp | 基準電位発生回路 |
| JP2016080623A (ja) * | 2014-10-21 | 2016-05-16 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路 |
| JP2021052122A (ja) * | 2019-09-26 | 2021-04-01 | 日立Astemo株式会社 | 半導体集積回路装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| KR960004463B1 (ko) | 1996-04-06 |
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