JPH0438870A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH0438870A JPH0438870A JP2145866A JP14586690A JPH0438870A JP H0438870 A JPH0438870 A JP H0438870A JP 2145866 A JP2145866 A JP 2145866A JP 14586690 A JP14586690 A JP 14586690A JP H0438870 A JPH0438870 A JP H0438870A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- type
- gate
- gates
- semiconductor device
- rows
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/90—Masterslice integrated circuits
- H10D84/903—Masterslice integrated circuits comprising field effect technology
- H10D84/907—CMOS gate arrays
Landscapes
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、第1導電型ゲートと第2導電型ゲートとがそ
れぞれ同種のもので列を構成して並べらされたゲートア
レイ型の半導体装置に関する。
れぞれ同種のもので列を構成して並べらされたゲートア
レイ型の半導体装置に関する。
従来のシーオブゲート(SOG)型ゲートアレイを含む
ゲートアレイ半導体装置には、第3図に示すように、C
MO3のP型トランジスタとN型トランジスタが縦方向
に交互に並んだベースを有するCMO3−3OGがある
。 第3図のようなゲートアレイ型半導体装置においては、
駆動能力が、論理闇値電圧等の各セルの特性やゲート幅
によって決まる。従って、所望の駆動能力を得るにはそ
のゲート幅を調節する必要があり、第3図中に符号01
〜C4で示すようにセルを構成し隣りのゲート同士を直
列に接続することになる。 前記ゲートで例えば第4図に示すような、P型トランジ
スタを補強したN A N D UgJHを構成する場
合、例えば第5[U(A)あるいは(B)に示すように
各ゲート同士を組み合わせてセルを構成し回路を形成す
ることができる。なお、第4図において入力は符号Ai
n、Blnで、出力はEOLItで示している。
ゲートアレイ半導体装置には、第3図に示すように、C
MO3のP型トランジスタとN型トランジスタが縦方向
に交互に並んだベースを有するCMO3−3OGがある
。 第3図のようなゲートアレイ型半導体装置においては、
駆動能力が、論理闇値電圧等の各セルの特性やゲート幅
によって決まる。従って、所望の駆動能力を得るにはそ
のゲート幅を調節する必要があり、第3図中に符号01
〜C4で示すようにセルを構成し隣りのゲート同士を直
列に接続することになる。 前記ゲートで例えば第4図に示すような、P型トランジ
スタを補強したN A N D UgJHを構成する場
合、例えば第5[U(A)あるいは(B)に示すように
各ゲート同士を組み合わせてセルを構成し回路を形成す
ることができる。なお、第4図において入力は符号Ai
n、Blnで、出力はEOLItで示している。
しかしながら、前記従来のゲートアレイ型半導体装置に
おいて、各ゲートを組み合わせてセルを構成する場合、
セル内の横方向配線が多くなり、セル内の配線が制限さ
れ不自由になるという問題点がある。 又、前記セルを構成する場合、セル内に未使用ゲートが
、例えば第5図(A)あるいは(B)に示すように生じ
る場合があり、集積度低下の一因となるという問題点が
ある。これに対し、未使用ゲートが生じることを嫌って
、セルを構成するならば、回路特性の最適化ができない
という問題が生じる。 本発明は、前記従来の問題点を解消すべくなされたもの
で、集積度を低下させずに、未使用ゲート無しに所望回
路のセルが構成できる半導体装置を提供することを課題
とする。
おいて、各ゲートを組み合わせてセルを構成する場合、
セル内の横方向配線が多くなり、セル内の配線が制限さ
れ不自由になるという問題点がある。 又、前記セルを構成する場合、セル内に未使用ゲートが
、例えば第5図(A)あるいは(B)に示すように生じ
る場合があり、集積度低下の一因となるという問題点が
ある。これに対し、未使用ゲートが生じることを嫌って
、セルを構成するならば、回路特性の最適化ができない
という問題が生じる。 本発明は、前記従来の問題点を解消すべくなされたもの
で、集積度を低下させずに、未使用ゲート無しに所望回
路のセルが構成できる半導体装置を提供することを課題
とする。
本発明は、第1導電型ゲートと第2導電型ゲートとがそ
れぞれ同種のもので列を構成して並べられたゲートアレ
イ型の半導体装置において、第1導電型ゲートの列と及
び第2導電型ゲートの列とを、該列方向の直角方向に各
々複数個ずつ並ぶように配列したことにより、前記課題
を解決するものである。
れぞれ同種のもので列を構成して並べられたゲートアレ
イ型の半導体装置において、第1導電型ゲートの列と及
び第2導電型ゲートの列とを、該列方向の直角方向に各
々複数個ずつ並ぶように配列したことにより、前記課題
を解決するものである。
本発明においては、第1導電型ゲート(例えばP型トラ
ンジスタからなるゲート)と第2導電型ゲート(例えば
N型トランジスタからなるゲート)とが、それぞれ同種
のもので列を構成して並べられたゲートアレイ型の半導
体装置において、前記第1導電型ゲートの列と第2導電
型ゲートの列とを、該列方向に直角方向に各々複数個ず
つ並ぶように配列する。 従って、第1導電型ゲートと第2導電型ゲートとを隣接
して、あるいは同種のゲートを連続して接続することが
でき、各ゲートの利用度が向上する。このため、集積度
を従来と比べて低下させることなく、未使用ゲート無し
に各種所望回路のセルを構成することができ、半導体装
置の集積度を向上させることができる。
ンジスタからなるゲート)と第2導電型ゲート(例えば
N型トランジスタからなるゲート)とが、それぞれ同種
のもので列を構成して並べられたゲートアレイ型の半導
体装置において、前記第1導電型ゲートの列と第2導電
型ゲートの列とを、該列方向に直角方向に各々複数個ず
つ並ぶように配列する。 従って、第1導電型ゲートと第2導電型ゲートとを隣接
して、あるいは同種のゲートを連続して接続することが
でき、各ゲートの利用度が向上する。このため、集積度
を従来と比べて低下させることなく、未使用ゲート無し
に各種所望回路のセルを構成することができ、半導体装
置の集積度を向上させることができる。
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。 この実施例は、第1図に示すような構成のゲートアレイ
型半導体装置である。 第1図に示すように、この半導体装置は、CMOSから
なるSOG型ゲ型ゲージアレイり、P型トランジスタか
らなるゲート及びN型トランジスタからなるゲートが、
各ゲートの並び方向に直角方向にそれぞれ2つずつ並ぶ
ように配列されたものである。P型ゲートとN型ゲート
との回路構成は第2図(A)、(B)に示すようになっ
ている。 この実施例のゲートアレイ型半導体装置においては、前
出第3図に示したセルと同様のP型ゲート及びN型ゲー
トからなるセルを構成する場合に、図中符号AI、A2
で示すようにセルを構成することができる。このセルに
おいては、PとNとが隣接しており、P型とN型との各
ゲートの比が1対1となる。従って集積度が従来と比べ
て低下することがなく、例えばメモリを構成する場合に
問題は生じない。 又、前出第4図に示した回路を構成する場合には、第1
図中符号B1、B2で示すように、例えば上下方向の3
つのセルで、P型ゲート及びN型ゲートの組み合わせに
P型ゲートを補強してNAND回路を構成することがで
きる。従来には前出第5図に示すように未使用ゲートが
生じていたが、本実施例の場合、第1図に示すように、
P型ゲートを補強しても未使用ゲート無しにセルが構成
できる。従って、各種回路を未使用ゲート無しに構成で
き、従来に比較して集積度が向上する。 なお、前記実施例においては、第1図に示すような構成
のCMOSからなるSOG型ゲ型ゲージアレイ示したが
、本発明を実施可能なゲートアレイはSOG型に限定さ
れず他のものでも実施できる。 又、前記実施例ではP型トランジスタとN型トランジス
タの発生頻度は全体として略一定であり、全体での規則
性を得ることができるため、電子計算機援助設計(CA
D)による設計が容易であり、汎用性が高い、しかしな
がら、本発明を実施する際には、第1図に示す実施例の
如くに、P型トランジスタからなるゲート及びN型トラ
ンジスタからなるゲートを2個ずつ交互に配列すること
に限定されず、第1及び第2導電型の各ゲートを各々複
数個ずつの配列するゲートアレイであればいずれの構成
のゲートアレイ型半導体装置にも本発明が適用できるも
のである。
。 この実施例は、第1図に示すような構成のゲートアレイ
型半導体装置である。 第1図に示すように、この半導体装置は、CMOSから
なるSOG型ゲ型ゲージアレイり、P型トランジスタか
らなるゲート及びN型トランジスタからなるゲートが、
各ゲートの並び方向に直角方向にそれぞれ2つずつ並ぶ
ように配列されたものである。P型ゲートとN型ゲート
との回路構成は第2図(A)、(B)に示すようになっ
ている。 この実施例のゲートアレイ型半導体装置においては、前
出第3図に示したセルと同様のP型ゲート及びN型ゲー
トからなるセルを構成する場合に、図中符号AI、A2
で示すようにセルを構成することができる。このセルに
おいては、PとNとが隣接しており、P型とN型との各
ゲートの比が1対1となる。従って集積度が従来と比べ
て低下することがなく、例えばメモリを構成する場合に
問題は生じない。 又、前出第4図に示した回路を構成する場合には、第1
図中符号B1、B2で示すように、例えば上下方向の3
つのセルで、P型ゲート及びN型ゲートの組み合わせに
P型ゲートを補強してNAND回路を構成することがで
きる。従来には前出第5図に示すように未使用ゲートが
生じていたが、本実施例の場合、第1図に示すように、
P型ゲートを補強しても未使用ゲート無しにセルが構成
できる。従って、各種回路を未使用ゲート無しに構成で
き、従来に比較して集積度が向上する。 なお、前記実施例においては、第1図に示すような構成
のCMOSからなるSOG型ゲ型ゲージアレイ示したが
、本発明を実施可能なゲートアレイはSOG型に限定さ
れず他のものでも実施できる。 又、前記実施例ではP型トランジスタとN型トランジス
タの発生頻度は全体として略一定であり、全体での規則
性を得ることができるため、電子計算機援助設計(CA
D)による設計が容易であり、汎用性が高い、しかしな
がら、本発明を実施する際には、第1図に示す実施例の
如くに、P型トランジスタからなるゲート及びN型トラ
ンジスタからなるゲートを2個ずつ交互に配列すること
に限定されず、第1及び第2導電型の各ゲートを各々複
数個ずつの配列するゲートアレイであればいずれの構成
のゲートアレイ型半導体装置にも本発明が適用できるも
のである。
以上説明した通り、本発明によれば、集積度を低下させ
ることなく未使用ゲートを生じさせずに各種所望回路の
セルを構成できるという優れた効果が得られる。
ることなく未使用ゲートを生じさせずに各種所望回路の
セルを構成できるという優れた効果が得られる。
第1図は、本発明の実施例に係るCMOS−5OG型半
導体装置の構成例を示す要部平面図、第2図は、前記半
導体装置のゲート構成を詳細に示す拡大平面図及び回路
図、 第3図は、従来のゲートアレイ半導体装置の構成例を示
す要部平面図、 第4図は、前記従来の半導体装置により構成される回路
例を示す回路図、 第5図は、前記従来の半導体装置のゲートの構成例を示
す要部平面図である。 AI、A2、B1、 B2・・・セル。
導体装置の構成例を示す要部平面図、第2図は、前記半
導体装置のゲート構成を詳細に示す拡大平面図及び回路
図、 第3図は、従来のゲートアレイ半導体装置の構成例を示
す要部平面図、 第4図は、前記従来の半導体装置により構成される回路
例を示す回路図、 第5図は、前記従来の半導体装置のゲートの構成例を示
す要部平面図である。 AI、A2、B1、 B2・・・セル。
Claims (1)
- (1)第1導電型ゲートと第2導電型ゲートとがそれぞ
れ同種のもので列を構成して並べられたゲートアレイ型
の半導体装置において、 第1導電型ゲートの列と及び第2導電型ゲートの列とが
、該列方向の直角方向に各々複数個ずつ並ぶように配列
されていることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2145866A JPH0438870A (ja) | 1990-06-04 | 1990-06-04 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2145866A JPH0438870A (ja) | 1990-06-04 | 1990-06-04 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0438870A true JPH0438870A (ja) | 1992-02-10 |
Family
ID=15394872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2145866A Pending JPH0438870A (ja) | 1990-06-04 | 1990-06-04 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0438870A (ja) |
-
1990
- 1990-06-04 JP JP2145866A patent/JPH0438870A/ja active Pending
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