JPH0439038A - 真空ラミネータ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、真空中で基板に感光性ドライフィルムをラミ
ネートするための真空ラミネータに関する。

感光性ドライフィルムは、平滑な基板表面にばかりでな
く、電気回路パターンが既に形成されて凹凸ができた基
板表面にもラミネートされる。後者の場合の感光性ドラ
イフィルムは、半田付は時のソルダーマスクとして、ま
ｔ；はパターンを長期にわたり保護する膜として用いら
れる。

このように表面に凹凸のある基板にフィルムをラミネー
トする場合、基板とフィルムとの間に空気溜まりができ
やすい。大気圧中でラミネートした場合には、このよう
な空気溜まりの発生は殆ど避けられない。

そこで、真空中でラミネートすることにより、基板とフ
ィルムとの間の微細な隙間にまでフィルムの感光材を入
り込ませ、空気溜まりの発生を防止しようとする試みが
なされてきた。

（従来の技術） 第６図は、フィルムを真空中で基板にラミネートするた
めの従来の装置の断面図である。まず、電気回路パター
ン１″の形成された基板２″の両面に感光性ドライフィ
ルム３′を配置し、これをゴムのような弾性体４′で挟
む。さらにこれを箱体５′の底面に置き、箱体５′の上
面を可撓性の薄膜６°で密閉する。その後、真空ポンプ
７′を作動させて箱体５′内を減圧し、真空にする。こ
の装置は、以上の操作により、フィルム３′の感光材を
基盤２″およびパターン１″上に隙間なく密着させよう
とするものである。

しかしながら、この方法では、減圧と同時に弾性体４′
が内外面の圧力差によってフィルム３′を基板２′に強
く押し付けることになる。この急激な動作により、真空
引きの通路となるパターンｌ′　どうしの間の溝は、フ
ィルム３′の感光材によってつぶされることになる。も
し、この溝の両端、あるいは溝中の互いに離れた二点が
先につぶれた場合、間の空気は、真空吸引にもかかわら
ず、抜は出すことができなくなり、空気溜まりとなる。

パターンの形状によっては、このような空気溜まりを所
どころに残してしまう危険が高く、製品は信頼性の低い
ものとなってしまう。また、この装置では連続的なラミ
ネーションを行うことができない。

第７図は、真空中で基板にフィルムをラミネートするた
めの従来の別の装置を簡略化して示した断面図である。

こ”の装置の特徴は、ロール８″の形態に巻かれた連続
ウェブ状の感光性ドライフィルム３″を引きだしながら
、次々に搬送されてくる基板２′上に圧着ロール９′に
よってラミネートしてゆくという、従来使用されている
連続処理用ラミネータの全体を、ラミネート装置として
真空室１０’　内に閉じ込めてしまう構成にある。真空
室１０″内に収容するラミネート装置として、第７図に
示したものの代わりに、例えば特公昭６２−４９１６９
号公報に記載されているようにフィルム切断機構やフィ
ルム仮付は機構などが備えられているオートカットラミ
ネータを利用することも容易に考えられる。この従来例
においては、ローフコンベア１１′で搬送される基板２
″が出入りする真空室１０″の出入口には、密閉シール
された一対のピンチロール１２′がそれぞれ設けられて
いる。ラミネーションは、真空ポンプ７′で真空引きさ
れた真空室１０″内で行われる。圧着ロールを使用して
いるので、前述した第６図の従来例のような欠点は少な
いと言える。

しかしながら、真空室１０′の出入口に設けたピンチロ
ール１２″の回転部を密閉ンールすることは非常に困難
であり、シール部材の耐久性、信頼性にも問題がある。

また、ピンチロールを密閉シールする場合において、基
板に油等が付着することを避けるため、シール部材は乾
燥状態でピンチロールに接しており、したがってゴミが
発生してこれが基板に付着し、製品不良を起こす原因と
なる。

（発明が解決しようとする課題） そこで本発明の課題は、真空中で基板に対して信頼性の
高いフィルムラミネーションを行えるようにすることに
ある。

（課題を解決するための手段） 本発明によれば、真空中で基板に感光性ドライフィルム
をラミネートするための真空ラミネータであって、開閉
可能な入ロンヤッターを有する入口室と、開閉可能な第
１の仕切りンヤッターを介して前記入口室に連接してい
る真空室と、開閉可能な第２の仕切りシャッターを介し
て前記真空室と連接し且つ開閉可能な出口シャッターを
有している出口室と、前記入口室、真空室および出口室
を通して前記基板を搬送するための搬送手段と、前記真
空室内に配置されたラミネート装置にして、該真空室内
へと搬送された基板に対して感光性ドライフィルムを供
給し且つラミネートするためのラミネート装置と、前記
入口室、真空室および出口室に連通ずるそれぞれの真空
源と、を備えてなる真空ラミネータが提供される。

前記入口室および出口室の真空源は、前記真空室とする
ことができる。

前記ラミネート装置は、感光性ドライフィルムを真空吸
引力によって吸着するための真空吸引機構を有するもの
とすることができ、該真空吸引機構は、前記真空室内圧
力よりも高い真空度を与えることができる真空源に連通
させることができる。

前記真空室には該真空室内の真空度を自動調節するため
の自動空気導入弁を設け、また、前記入口室および出口
室のそれぞれは、開閉弁を介してそれぞれの真空源と連
通させるとともに、大気開放弁を有するものとしてもよ
い。

（作　用〕 本発明による真空ラミネータによって基板にフィルムを
ラミネートするには、まず入口室の入口シャッターを開
いて基板を入口室内に搬送し、入口シャッターをとじて
から入口室内を真空にする。それから第１の仕切りシャ
ッターを開いて基板を真空室内に搬送し、該真空室内で
ラミネート装置によって基板にフィルムをラミネートす
る。次に第２の仕切りシャッターを開き、予め内部を真
空にされた出口室内へと基板を搬送し、第２の仕切りシ
ャッターを閉じてから出口シャッターを開き、基板を外
部に搬出する。

この真空ラミネータの生産性、つまり単位時間当たりの
生産数を上げるには、基板が入口室、出口室をいかに速
く通過できるかが大きな要素となる。基板を速く入口室
および出口室を通過させるには、これらの室内の真空引
き時間、基板搬送時間、シャッターの開閉時間、室内を
真空から大気圧に戻す時間等を短縮する必要がある。こ
れらの所要時間の中で、最も時間を要するのは真空引き
時間である。この真空引き時間を短縮するには、以下の
３項目を実施することが必要である。

１、入口室、出口室の内容積を極力小さくする。

２、大きな容量の真空源を設ける◇ ３、各室と真空源間の配管抵抗を小さくする。

以上の項目の内、１項および３項は実施が容易であるが
、２項すなわち大容量の真空源を設けることは、装置の
大型化、コストアップ等を伴う。

本発明の一実施例においては、ラミネート装置全体を収
容して必然的に大容量となっている真空室を入口室およ
び出口室の真空源として利用することにより、この問題
を解決することができる。真空室の内容積が入口室およ
び出口室の内容積に比して十分に大きい場合には、入口
室および出口室の真空源として真空室を利用しても真空
室の真空度に与える影響は小さく、本発明の一実施例に
おいては数パーセント以下の変動しか起こらない。

また、真空室内に配置されるラミネート装置は、従来の
オートカットラミネータと同様に、感光性ドライフィル
ムを仮付は作業等のために真空吸引力によって吸着する
ための真空吸引機構を有していてもよい。この真空吸引
機構を、真空室内圧力よりも高い真空度を与えることが
できる真空源に連通させることにより、真空室内であっ
ても真空吸引作用を支障なく行うことができる。

また、真空室に該真空室内の真空度を自動調節するだめ
の自動空気導入弁を設け、入口室および出口室のそれぞ
れを、開閉弁を介してそれぞれの真空源と連通させると
ともに、大気開放弁を有するものとすれば、真空室内の
真空度を一定に保つことができ、少なくとも入口室およ
び出口室は個別選択的に且つ迅速に真空状態を作り出す
ことができる。

なお、この明細書において使用される「真空」の語は、
必ずしも完全な真空あるいはこれに近い圧力状態のみを
意味するものではなく、本発明を実施する場合において
基板とフィルムとの間に空気溜まりを生じさせない程度
にまで減圧されＩ；圧力状態、あるいは上記真空吸引機
構においてフィルムを吸着するのに十分な程度にまで減
圧された圧力状態を意味するものとする。

（９１施例） 第１図は本発明による真空ラミネータの一実施例の縦断
面図である。入口室１、真空室２および出口室３は互い
に連接されており、それぞれの室が、開閉可能な第１の
仕切りシャッター５および第２の仕切りシャッター６に
よって仕切られている。また、入口室１および出口室３
には、それぞれ開閉可能な入口シャッター４および出口
シャッター７が設けられている。入口室１、真空室２お
よび出口室３を通して基板１１を搬送するため、コンベ
アローラ４６からなるローラコンベア８の形態をした搬
送手段が設けられている。このローラコンベア８は、入
口室１、真空室２、出口室３ごとに運転、停止および速
度制御が可能な駆動系になっている。

真空室２には、基板１１の幅方向のセンタリングを行う
ための機構ｌＯと、基板１１および感光性ドライフィル
ム３９の後端部をガイドするためのガイドユニット９と
、ラミネート装置１２とが収納されている。

該ラミネート装置１２は、基板１１上にフィルム３９の
先端を仮付けするための仮付はブロック１４と、フィル
ム３９を切断するためのフィルムカット機構と、切断さ
れたフィルム３９を基板１１に熱圧着するための熱圧着
ロール１７とを備えている。この、フィルム３９を基板
１１にラミネートするラミネート装置１２の構成および
作用は、特公昭６２−４９１６９号公報に記載されＩ；
オートカットラミネータと同一あるいは類似したものな
ので、ここでは第１図および第３図を参照しながら筒単
に述べる。基板１１がラミネート装置１２の手前まで搬
送されて停止すると、フィルム３９の先端部を真空吸着
して保持した仮付はブロック１４が、ロール１３の形に
巻かれたフィルム３９を引き出しながら基板１１に近付
き、フィルム３９の先端を基板１１の前端に仮付けする
。それから仮付はブロック１４は基板１１から遠ざかっ
て図示位置となる。フィルム３９の先端を仮付けされた
基板１１は前進せしめられ、熱圧着ロール１７によって
フィルム３９をラミネートされはじめる。フィルム３９
は、ラミネート中のフィルム３９の長手方向走行速度と
実質的に同じ速度で移動するロータリーカッター３８に
よって、基板１１に適合する所定長さのフィルムシート
にされ、基板１１上に完全にラミネートされる。このよ
うにラミネート装置１２は、真空室２内で切断されたフ
ィルムシートを１枚いちまい基板１１にラミネートする
作用をなす。

入口室１、出口室３はそれぞれ個別の開閉弁２３．２８
を介して真空室２に配管によって接続されているととも
に、個別の大気開放弁２２．２９を有している。また、
真空室２は開閉弁３０を介して真空ポンプ３１に接続さ
れるとともに、内部真空度を一定に保つ調節弁である自
動空気導入弁２５および大気開放弁２４を有している。

これらの大気開放弁２２．２９．２４および自動空気導
入弁２５はフィルタＦを介して空気を取り入れる。

入口室１、真空室２および出口室３の各室には、内部圧
力を感知するセンサ（ＰＳ）３５が取り付けられ、所要
の圧力範囲になっているかどうかを検知し、答弁または
真空ポンプを制御するようになされている。

ラミネート装置１２において、フィルム３９を真空吸引
力によって吸着保持する機能を有する仮付はブロック１
４には、分岐ヘッダ２１および弁２７を介して別個の真
空ポンプ３３が接続されている。真空引き通路を形成す
べく中空になっている仮付はブロック１４のフィルム吸
着面には、多数の孔７０（第３図）が設けられており、
フィルム仮付は時に矢印５６（第３図）のように真空引
きすることにより、フィルム先端部は仮付はブロック１
４の吸着面に吸着保持される。

カッターバックアップ１５およびフィルムガイド１６も
また、仮付はブロック１４と同様の孔および真空引き通
路を備えた真空吸引機構を有しており、分岐ヘッダ２１
および弁２７を介して真空ポンプ３３に接続されている
。カッターバックアップ１５は、ロータリーカッター３
８によってフィルム３９を切断する際に、矢印５７（第
３図）のように真空引きすることにより該フィルム３９
を吸着保持し、カッター３８に確寅な切断を行わせる。

カッターバックアップ１５の中央にはカッター３８の刃
を受は入れる溝が横方向に形成されている。フィルムガ
イド１６は、ラミネート中のフィルムカットシートの後
端部が基板１１の上に垂れないよう、矢印５８（第３図
）のように真空引きすることにより、該フィルムカット
シートの後端部を吸着保持する。

仮付はブロック１４、カッターバックアップ１５および
フィルムガイド１６のそれぞれの真空吸引機構に接続さ
れている真空ポンプ３３は、真空室２内の真空度よりも
高い真空度をこれらの真空吸引機構に与えることができ
るようになされている・したがって、これらの真空吸引
機構は、真空室２内にありながらフィルムを真空吸着す
ることができる。

第１図および第３図に基づいて、本発明の真空ラミネー
タによりフィルム３９が基板１１にラミネートされる一
連の作用を説明する。

まず、第１の仕切りシャッター５が閉じられた状態で入
口シャッター４が開かれ、基板１１が入口室１内に送り
込まれてそこで停止される。それから入口シャッター４
が閉じられる。弁２３を開にすることにより、入口室１
内は真空源としての真空室２に接続されて真空状態にな
る。次に第１の仕切りシャッター５が開かれ、既に真空
状態とされている真空室２内へと基板１１が送り込まれ
る。基板１１は、センタリング機構１０によって幅方向
に関してセンタリングされ、ラミネート装置１２に送ら
れる。このラミネート装置１２によっテ、前述したよう
にフィルムカットシートが基板１１にラミネートされる
。

このときのラミネーション状態においては、第４図に示
すように、フィルム３９の感光材３９ａが基板１１上の
電気回路等のパターンｌｌａ間の溝を隙間なく埋めつく
している。

このようにしてフィルム３９を完全にラミネートされた
基板１１を真空室２から出す前に、第２の仕切りシャッ
ター６および出口シャッター７を閉じた状態で弁２８を
開にし、出口室３内を真空状態にする。それから第２の
仕切りシャッター６を開き、基板１１を出口室３内へと
搬送してそこで停止させる。次いで第２の仕切りシャッ
ター６を閉じて真空室２内の真空状態を維持し、開放弁
２９を開いて出口室３内を大気圧とした後、出口シャッ
ター７を闘いて基板１１を外部へ出す。

以上で一枚の基板１１がラミネートされて搬出されるが
、各シャッター、開閉弁および大気開放弁を選択的に操
作することにより、効率のよい連続処理を行うことがで
きる。例えば、基板１１が入口室１から真空室２へと搬
送されて第１の仕切りシャッター５が閉じられた後は、
すぐに入口室ｌ内を大気圧状態にして入口シャッター４
を開き、次の基板１１を入口室ｌ内に入れることができ
る。

開閉可能な各シャッターは、扉がスライドする形式のも
のでもよいが、これだと構造が複雑となり、封止の信頼
性もやや低くなるので、第５図に示すような回転扉（ス
イング・ドア）形式のものが好ましい。第５図に示した
シャッターは、横方向軸６０に枢着された回転扉６１を
有しており、該扉６１が閉じたとき、ベース６２の開口
部周辺に設けたシール部材６３によって完全な密封状態
がつくられるようになっている。なお、図示実施例では
、扉６１が斜めになるように配置されているが、このよ
うにすると、扉６１を垂直に配置した場合と比べ、ロー
ラコンベア８のローラ４６間のピッチが狭くても、扉６
１は開いたときに基板１１の搬送路から逃げることがで
きる。各ローラ４６を狭いピッチで配置すれば、信頼性
の高い搬送が可能である。

また、フィルムロール１３の取り替え、メンテナンス等
を容易にするため、第２図に示すように、真空室２の前
面扉９０を開いてラミネート装置１２をレール１８．１
９．２０（第１図参照）に沿って引き出せるようにする
とよい。

感光性ドライフィルム３９は通常、第４図に示すように
、ベースフィルム３９ｂ、感光材（フォトレジスト）３
９ａおよびカバーフィルム（図示せず）の三層からなり
、基板１１にラミネートされる際にカバーフィルムが剥
がされ、ベースフィルム３９ｂを外側にして感光材側が
基板ｌｌ上に付着される。従来はベースフィルム３９ｂ
に比較的硬い材料を使用していたが、基板ｌｌ上に電気
回路パターンによる凹凸がある場合には、感光材を隙間
なく密着させるため、ベースフィルム３９ｂを比較的柔
らかい材料にするか、あるいは加熱によって軟化する材
料とすることが望ましい。

次に、ガイドユニット９の構造および作用を第３図の実
施例に基づいて説明する。

仮付はブロック１４は、フィルム先端を基板１１に仮付
けするために、図示矢印８０のような経路に沿って基板
１１に対して接近および離反移動する。したがって、こ
のような仮付はブロック１４の移動を邪魔しないように
するため、ローラコンベア８のローラ４６はフィルムガ
イド１６の近くには配置できなかった。このため基板１
１は、フィルムガイド１６から離れた位置にあるローラ
４６から突き出された片持ち支持状態で熱圧着ロール１
７まで送られるため、特に薄い基板の場合であって、仮
付けされた上下のフィルム張力がうまくバランスしてい
ない場合、基板１１が大きく曲がってしまい、ラミネー
ト不良の原因となっていた。また、切断されたフィルム
３９の後端部を真空吸引して吸着保持するフィルムガイ
ド１６は、十分な吸引力を与えられないと、基板１１上
にフィルム後端５４を落としてシワの原因をつくるおそ
れがある。

こうした問題点を解消するのが、以下に説明するように
ピンチロール４３、板状ガイド４４およびフレーム８１
からなるガイドユニット９である。

ピンチロール４３は、基板搬送のためのローラコンベア
８を構成するローラ４６のうちラミネート装置１２に最
も近い位置に設けられたローラ４６と、ラミネート装置
１２との間の基板搬送路中に、上下２本ずつ配置される
。場合によっては、このピンチロール４３は上下１本ず
つでもよいし、３本ずつ以上でもよい。さらに該ピンチ
ロール４３の前方（第３図で右方）には、フィルム３９
の後端部を案内する板状ガイド４４が配置される。

ピンチロール４３および板状ガイド４４は、それぞれ基
板１１およびフィルム３９の幅を越えて延び、両端にお
いて１つのフレーム８１に装着されている。一方、フレ
ーム８１の両側上部は、一対のガイドブロック４０に滑
動可能に案内された一対の支持棒４１の先端に取り付け
られ、フレーム８１は該支持棒４１によって支持されて
いる。該支持棒４１の後端は、一対のエアーシリンダ装
置４２のロッドに連結されている。したがって、ピンチ
ロール４３および板状ガイド４４は、エアーシリンダ装
置４２の作動によってフレーム８１とともに前後に移動
可能な構造となっている。

モータ（図示せず）によって駆動されるローラ４６の軸
端に取り付けたスプロケット５９は、アイドラーとして
のスプロケット４７．５０．５１の回りに掛は回された
チェーン５２と係合している。一方、下側のピンチロー
ル４３の軸端に設けたスプロケット４９．４Ｂもチェー
ン５２に係合している。したがって、ローラ４６が回転
駆動されているとき、静止状態にあるガイドユニット９
におけるピンチロール４３も、チェーン５２、スプロケ
ット４９．４８を介してローラ４６と同じ周速度で回転
駆動されるようになっている、ガイドユニット９は次の
ように作動する。コンベアローラ４６で送られてきた基
板１１は、その前端にフィルム３９が仮付けされる位置
で停止する。基板１１の停止はローラ４６の停止によっ
て行われる。フィルム先端部を吸着保持した仮付はブロ
ック１４が経路８０に沿って基板１１に接近し、該基板
１１にフィルム３９の先端が仮付けされる。仮付は終了
後、仮付はブロック１４は経路８０に沿って基板１１か
ら離反し、第３図に示す位置へ戻る。フィルム先端が仮
付けされた基板１１は再びコンベアローラ４６の作動に
よって搬送され始める。同時に、この搬送速度（ローラ
４６の周速度）とほぼ同じ速度で、ガイドユニ・７ト９
がエアーシリンダ装置４２の作用により前進ぜしめられ
、フィルムガイド１６に板状ガイド４４が接近した位置
（第３図の二点鎖線で示す位置）で停止せしめられる。

このガイドユニット９の移動中、ピンチロール４３は、
チェーン５２の動きによって回転しようとする傾向と、
基板１１に当接した状態で前進せしめられるためにそれ
とは逆の方向に回転しようとする傾向とが相殺され、回
転しないで基板１１の先端部分を挟持したまま、フィル
ムガイド１６に近接した位置まで移動することになる。

基板１１の前端は、ガイドユニット９の移動中に熱圧着
ロール１７に挟持され始めてもよいし、ガイドユニット
９の停止後に挟持されるようにしてもよい。ガイドユニ
ット９の停止後は、ピンチロール４３は再びローラ４６
と同じ周速度で回転し始め、基板１１を搬送する・基板
１１の後端がガイドユニット９を通過すると、該ガイド
ユニット９はエアーシリンダ装置４２の作用により後退
せしめられ、ｖＪ３図に実線で示す位置まで戻る。この
ように、移動可能なガイドユニット９によって基板１１
の先端部分をフィルムガイド１６付近においても支持で
きることにより、薄い基板であっても曲がる心配はない
。また、たとえフィルムガイド１６の吸着力が不十分で
あったとしても、フィルムガイド１６に近接した位置ま
で移動する板状ガイド４４によって、フィルム後端５４
が基板１１上に落下することは防止される。

もちろん、ここに示したガイドユニット９は、真空ラミ
ネータに限らず、大気中で作動される通常の多くのラミ
ネータにも適用可能である。特に、前述した特公昭６２
−４９１６９号に記載されたオートカットラミネータな
どのように、仮付は作業のｔ；めにローラコンベアのロ
ーラがフィルムガイド近くに配置できないラミネータに
適用すると効果的である。また、ガイドユニット９は、
板状ガイド４４を省略して、ピンチロール４３およびフ
レーム８１からなる基板ガイドユニットとして使用して
もよい。特に大気中で作動するラミネータに適用する場
合は、フィルムガイド１６の吸着力が不十分になる心配
があまりないので、板状ガイド４４を省略しても差し支
えない。板状ガイド４４を省略した実施例の場合、基板
１１の前端が熱圧着ロール１７に挟持され始めた時点で
ガイドユニット９を後退させることができる。さらに、
いずれの場合においても、エアーシリンダ装置４２の代
わりに別の駆動装置を利用してもよい。

（発明の効果） 本発明の真空ラミネータによれば、真空室内で基板に感
光性ドライフィルムをラミネートするに際し、開閉可能
なシャッターを介して真空室に連接され且つ内部を真空
状態とすることのできる入口室および出口室の働きによ
り、真空室内を確実に真空状態に維持することができる
ので、信頼性の高いフィルムラミネーションを行うこと
ができる。

また、真空シールが、基板に接触しない開閉可能なシャ
ッターによって行われるため、基板にゴミなどが付着す
るおそれがなく、さらに信頼性の高い真空ラミネーショ
ンが可能となる。

ラミネート装置を収容した大容量の真空室を入口室およ
び出口室の真空源として利用した場合、入口室および出
口室を迅速に真空引きすることができるので、生産性は
大きく向上する。しかも、別個の大容量の真空源を設け
る必要がないから、構造も簡素である。

真空室内のラミネート装置の真空吸引機構を、真空室内
圧力よりも高い真空度を与えることができる真空源に連
通させた場合、真空室内でありながら所望のフィルム吸
着作用を行わせることができる。

真空室に該真空室内の真空度を自動調節するための自動
空気導入弁を設け、入口室および出口室のそれぞれを開
閉弁を介してそれぞれの真空源と連通させるとともに該
入口室および出口室のそれぞれに大器開放弁を設けた場
合、真空室内の真空度を容易に一定に保つことができ、
入口室および出口室を個別的に且つ迅速に真空状態にし
たり大気圧状態にしたりすることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の真空ラミネータの一実施例を示す概略
縦断面図。 第２図は第１図の実施例の真空室の部分の上面図であり
、該真空室の土壁は取り除いである。 第３図は第１図の実施例のガイドユニットの部分を説明
するための側面図であり、ともに示すラミネート装置は
断面をとっである。 第４図はフィルムを完全にラミネートされた基板を示す
側面図。 第５図は開閉可能なシャッターの一実施例の構造を示す
拡大縦断面図。 第６図は従来の真空ラミネータの縦断面図。 第７図は従来の真空ラミネータのもう一つの例を示す概
略縦断面図。 に　入口室　２：　真空室　３：　出口室４：　入口シ
ャッター ５：　第１の仕切りシャッター ６：　第２の仕切りシャッター ７：　出口シャッター ８：　搬送手段（ローラコンベア） ９：　ガイドユニット １０：　センタリング機構　　１１：　基板ｌ　２　： １４　： １５　： ｌ　６　： ２２． ２３． ２５　： ３１． ３５　： ３８　： ３９　＝ ラミネート装置 仮付はブロック カッターバックアップ フィルムガイド　１７： ２４．２９：　大気開放弁 ２７．２７ａ、２８．３０： 自動空気導入弁 ３２．３３：　真空ポンプ 圧力センサ ロータリーカッター 感光性ドライフィルム 熱圧着ロール 開閉弁 特許出願人　伯　東　株　式　会　社 〃　　サンニー技研株式会社 ｊ ４ｂ δ 第 乙 口 第 圏

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、真空中で基板に感光性ドライフィルムをラミネート
   するための真空ラミネータであって、開閉可能な入口シ
   ャッターを有する入口室と、開閉可能な第１の仕切りシ
   ャッターを介して前記入口室に連接している真空室と、
   開閉可能な第２の仕切りシャッターを介して前記真空室
   と連接し且つ開閉可能な出口シャッターを有している出
   口室と、前記入口室、真空室および出口室を通して前記
   基板を搬送するための搬送手段と、前記真空室内に配置
   されたラミネート装置にして、該真空室内へと搬送され
   た基板に対して感光性ドライフィルムを供給し且つラミ
   ネートするためのラミネート装置と、前記入口室、真空
   室および出口室に連通するそれぞれの真空源と、を備え
   てなる真空ラミネータ。 ２、前記入口室および出口室の真空源が前記真空室であ
   ることを特徴とする請求項１記載の真空ラーミネータ。 ３、前記ラミネート装置が、感光性ドライフィルムを真
   空吸引力によって吸着するための真空吸引機構を有して
   おり、該真空吸引機構は、前記真空室内圧力よりも高い
   真空度を与えることができる真空源に連通していること
   を特徴とする請求項１または２記載の真空ラミネータ。 ４、前記真空室には該真空室内の真空度を自動調節する
   ための自動空気導入弁が設けられており、前記入口室お
   よび出口室のそれぞれは、開閉弁を介してそれぞれの真
   空源と連通するとともに、大気開放弁を有していること
   を特徴とする請求項１ないし３のいずれか記載の真空ラ
   ミネータ。