JPH0439397B2 - - Google Patents
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- JPH0439397B2 JPH0439397B2 JP59149773A JP14977384A JPH0439397B2 JP H0439397 B2 JPH0439397 B2 JP H0439397B2 JP 59149773 A JP59149773 A JP 59149773A JP 14977384 A JP14977384 A JP 14977384A JP H0439397 B2 JPH0439397 B2 JP H0439397B2
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- oxide
- mixture
- phosphine
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/26—Treatment of water, waste water, or sewage by extraction
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D11/00—Solvent extraction
- B01D11/04—Solvent extraction of solutions which are liquid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/53—Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
- C07F9/5304—Acyclic saturated phosphine oxides or thioxides
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- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は、酸性有機化合物を水溶液から除去す
る方法、特に低級カルボン酸及びフエノール性化
合物を商業的排水から除去するために希釈剤を使
用しないで２種又はそれ以上のホスフインオキシ
ドの混合物を使用する方法に関する。 汚染物の除去、更に有用な化合物の溶液からの
回収のための水性排液の処理は近代化学工場にお
いて最も必要とされる部分である。そしてそれに
対し水蒸気除去法及びいくらか複雑な溶媒抽出法
のような多くの方法が使用されている。この後者
の方法は回収する化合物の性質に非常に依存する
ものである。溶媒の選択は厳密であり、溶媒損失
を最小にしなければならない。 いくつかの有機化合物例えば希水溶液中の酢酸
及びフエノールは特に除去が困難である。酢酸を
エーテル又はケトンを溶媒として用いて抽出する
ことは公知である。しかしながら、酢酸のこれら
の溶媒との平衡分配係数kd（平衡時における溶媒
相の溶質の重量画分／水性相の重量画分）は約
1.0又はそれ以下である。この低いkdは抽出工程
において非常に高い溶媒流速を必要とし、これら
の溶媒での回収は、水溶液に酸が３〜５重量％以
下で存在している場合、経済的に魅力がない。 他の、またいくらか放良された溶媒系は、ある
有機燐化合物及び特にホスフインオキシドを希釈
剤中で用いることによつて適用されてきた。しか
しこれらの抽出剤／希釈剤系は、希釈剤（これは
高融点の抽出剤を使用しうるためにしばしば必要
とされる）の存在が抽出剤の濃度をかなり減少さ
せ且つ水溶液から除去された化合物と並流的に蒸
発するために続く除去工程を妨害するという理由
から不利である。 それ故に希釈剤を用いないで100％抽出剤を溶
媒として用いることは有利であるが、抽出剤の融
点及び除去を行なう経済的な運転温度によつてそ
れは制限される。特に純トリアルキルホスフイン
オキシドを用いることは公知であるが、その比較
的高い融点は、除去工程を大気温度以上で行なう
ことを必要とし、工場の故障中に凍結する危険を
こうむる。 今回予期を越えて、トリアルキルホスフインオ
キシド混合物を用いることにより、融点がより許
容しうる程度となるばかりでなく、この混合物
の、希水溶液から酸性有機化合物を抽出する能力
が高くなるということが発見された。この混合物
は酢酸のように抽出しにくい化合物に対して予期
を越えた高抽出係数を提供する。除去された化合
物を含む有機相は、蒸留又はアルカリ溶液での除
去のようないくつかの方法を用いて除去すること
ができる。 従つて本発明によれば、炭素数１〜５の置換又
は未置換カルボン酸及び置換又は未置換フエノー
ル性化合物からなる群から選択される酸性有機化
合物を希水溶液から除去する際に、該水溶液を、 少くとも２種のホスフインオキシド、即ち式 の第１のホスフインオキシド及び式 の第２のホスフインオキシドの、但し式中R1，
R2，R3，R1′，R2′及びR3′はそれぞれC4〜C18を
有するアルキル、シクロアルキル、アラルキル及
び置換アラルキルからなる群から独立に選択さ
れ、該第１のホスフインオキシド中の炭素原子の
全数は少くとも15であり、該第２のホスフインオ
キシド中の炭素原子の全数は少くとも17であり、
第１及び第２のオキシドにおける炭素原子の全数
における差は少くとも２であり、該ホスフインオ
キシドの少くとも１種が少くとも５重量％で60重
量％より多くない量で存在する、ホスフインオキ
シドの混合物１）と、或いは式R3″PO，R3
PO，R2″RPO，R″R2POを有し、但しR″及
びＲはそれぞれC4〜C18を有するアルキル、シ
クロアルキル、アラルキル及び置換アラルキルか
らなる群から選択される、少くとも４種のホスフ
インオキシドの、室温において液体である混合物
であつて、それぞれのホスフインオキシドの炭素
原子の全数が少くとも15、好ましくは少くとも18
であり、該ホスフインオキシドは少くとも１重量
％で60重量％より多くない量で存在する、混合物
２）と接触させることを含んでなる、該酸性有機
化合物の除去法が提供される。 好ましくは、混合物１）の該第２のホスフイン
オキシドにおける炭素原子の全数は少くとも19で
あり、また第１及び第２のオキシドにおける炭素
原子の全数の差は少くとも４である。 更に好ましくは、混合物１）の少くとも１つの
ホスフインオキシドは約25〜45重量％の量で存在
し、ホスフインオキシドの該混合物は約50℃より
低い融点を有する。 好ましくは、最低の炭素原子を有する第１のホ
スフインオキシドの炭素原子の全数が18である場
合は、第二番に最低の炭素原子数を有する混合物
２）の第２のホスフインオキシドの炭素原子数は
少くとも20であり、第１のオキシドの炭素原子の
全数と最高の炭素原子数を有するオキシドのそれ
との差は少くとも６である。 更に好ましくは、混合物２）における少くとも
１種のホスフインオキシドは約35〜50重量％の量
で存在し、ホスフインオキシドの該混合物は約20
℃より低い、更に普通には約10℃より低い融点を
有する。 本発明の方法は希水性流における種々の有用な
汚染物又は不純物に関して有用であると思われる
が、酸性有機化合物例えばカルボン酸及びフエノ
ール性化合物に対して特に有用である。特に本方
法は炭素数１〜５のカルボン酸、好ましくは酢
酸、プロピオン酸、酪酸及び吉草酸（通常工業排
水に見出される）及びフエノールを除去するため
に用いられる。このカルボン酸は１つ又はそれ以
上のハロゲン、ヒドロキシル、シアノ又はアルコ
キシル基によつて置換されていてよい。本発明の
方法で除去しうる他の特別な酸は、ヘキサン酸、
ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、安息香酸、
コハク酸、シユウ酸、リンゴ酸、乳酸、シアノ酢
酸、グリコール酸及びマレイン酸を例示できる。
本発明に供されるフエノール性化合物は、１つ又
はそれ以上のアルキル基で置換されたものを含
む。希水性流から除去しうるフエノール性化合物
の例は、ｐ−クレゾール、レゾルシノール、１−
ナフトール、２−ナフトール、ｏ−、ｍ−及びｐ
−キシレノール及び未置換又は置換ハイドロキノ
ン、フロログルシノール及びピロガロールを含
む。 希水溶液から除去される化合物は希溶液中にい
ずれかの低量で又は適度に低量で存在しうるが、
普通５重量％より少ない量で、更に望ましくは２
重量％より少ない或いは１重量より少ない量であ
つてもよい。 本発明の方法は、製紙及び合成燃料油工場の排
水からカルボン酸を回収するのに特に有用であ
る。本方法は、フエノール樹脂製造工程の排水か
らのフエノールの回収に、また石英のガス化にお
いても有用である。普通抽出しにくい有機及び無
機の化合物（例えばSb，As，Bi化合物）の回収
は本発明の方法で行ないうると思われる。 ホスフインオキシドにおいて、１つ又はそれ以
上のＲ又はR″基がアルキルである時、好適なア
ルキルは約C4〜約C18の直鎖及び分岐鎖アルキル
を含み、一方好適なシクロアルキルは炭素数６〜
８の置換又は未置換シクロアルキルを含む。 混合物１）として有用である適当なホスフイン
オキシドの例は、トリ−ｎ−ヘキシルホスフイン
オキシド（THPO）、トリ−ｎ−オクチルホスフ
インオキシド（TOPO）、トリス（２，４，４−
トリメチルペンチル）−ホスフインオキシド、ト
リシクロヘキシルホスフインオキシド、トリ−ｎ
−ドデシルホスフインオキシド、トリ−ｎ−オク
タデシルホスフインオキシド、トリス（２−エチ
ルヘキシル）ホスフインオキシド、ジ−ｎ−オク
チルエチルホスフインオキシド、ジ−ｎ−ヘキシ
ルイソブチルホスフインオキシド、オクチルジイ
ソブチルホスフインオキシド、トリベンジルホス
フインオキシド、ジ−ｎ−ヘキシルベンジルホス
フインオキシド、ジ−ｎ−オクチルベンジルホス
フインオキシド、９−オクチル−９−ホスフアビ
シクロ〔３，３，１〕ノナン−９−オキシドなど
を含むが、これに限定されるものではない。
TOPO及びTHPOは２パート・ミツクス（part
mix）おいて好適なオキシドである。 混合物１）の１つのオキシドは少くとも５重量
％且つ高々60重量％の量で存在すべきであり、好
適な量は約25〜45重量％、更に好ましくは約35重
量％である。多数のホスフインオキシドが混合物
１）に使用できるけれど、２パート・ミツクスを
用いることは最も簡便である。特に好適な２パー
ト・ミツクスはトリ−ｎ−オクチルホスフインオ
キシド（TOPO）とトリ−ｎ−ヘキシル−ホス
フインオキシド（THPO）の混合物である。
TOPO／THPO混合物に対して好適な比は35／
65重量％である。しかしながら、予期を越えて増
大したkd値を与える相乗効果は、上述のホスフ
インオキシドの２パート・ミツクス又はそれ以上
の混合物で得ることができる。 混合物１）で使用されるホスフインオキシド
は、第１及び第２のオキシドにおける炭素原子の
全数の差が少くとも２、好ましくは少くとも４、
更に好ましくは６又は８であるように選択され
る。 好ましくは混合物１）の融点は、商業的排溶液
を液／液抽出法で処理する普通の上限温度である
約60℃よりも低い。しかしながら、融点は工程の
効率及び費用を改善するためにより低い方が望ま
しい。約50℃の融点は好ましく、従つて約50℃よ
り低い、更に好ましくは30℃又は25℃より下で溶
融するホスフインオキシド混合物は、酸性有機化
合物を抽出する能力が許容できる場合、実際上の
観点から本方法で使用されるであろう。
TOPO／THPOの、35／65重量％割合の最も好
適な混合物は約16℃で溶融する。 混合物２）として有用である適当なホスフイン
オキシドの例は混合物１）に対して上述したもの
を含む。更に次のホスフインオキシドも使用しう
る：ジヘキシルモノオクチルホスフインオキシ
ド、ジオクチルモノヘキシルホスフインオキシ
ド、ジヘキシルモノデシルホスフインオキシド、
ジデシルモノヘキシルホスフインオキシド、ジオ
クチルモノデシルホスフインオキシド、ジデシル
モノオクチルホスフインオキシド、及びジヘキシ
ルモノブチルホスフインオキシド。 すべての酸化物は混合物２）に少くとも１重量
％及び高々60重量％の量で存在すべきであるけれ
ど、少くとも１種のオキシドに対する好適な量
は、約1.5〜10.0重量％である。４つよりも多い
ホスフインオキシドも混合物２）に使用しうるけ
れども、２種のオレフイン化合物から４ミツクス
を製造することが最も簡便である。特に好適な４
パート・ミツクスはトリ−ｎ−オクチルホスフイ
ンオキシド（TOPO）：トリ−ｎ−ヘキシルホス
フインオキシド（THPO）：ジヘキシルモノオク
チルホスフインオキシド及びジオクチルモノヘキ
シルホスフインオキシドである。しかしながら予
期を越えて増大したKD値を与える相乗効果は上
記ホスフインオキシドの４パート・ミツクス又は
それ以上のパート・ミツクスを用いて得ることが
できる。 混合物２）で使用されるホスフインオキシド
は、オキシドの少くとも２つの炭素原子の全数に
おける差が少くとも２であり、また６まで、また
はそれ以上まであるように選択される。 好ましくは、混合物２）の融点は約20℃より低
い。しかしながら、工程の効率及び費用を改良
し、また物質の取り扱い性の利点を与えるため
に、融点は更に低い方が望ましい。約10℃より低
い融点は好適であり、従つて約10℃、更に好まし
くは０±５℃で溶融するホスフインオキシド混合
物は、その酸性有機化合物の抽出性能が許容でき
るならば、実際的な観点から本方法に用いるため
に選択できる。 低融点ホスフインオキシド混合物を用いること
によつて得られるエネルギーの節約とは別に、低
融点混合物の他の利点は、ホスフインオキシドが
そのまゝで使用できるために希釈剤の使用が避け
られ、また工場の運転停止中の凍結の可能性が回
避される。ホスフインオキシドの低融点の共融混
合物は、今まで昇温度で或いは希釈剤と一緒にだ
け使用でき、しばしば複雑な除去操作が後続する
ホスフインオキシドを、融点の低下のために使用
することを可能にする。 更にヘキセン及びオクテンから製造される好適
な４元ホスフインオキシド混合物は、約70％の
THOPを有するTHOP／TOPOの好適な２元ホ
スフインオキシド混合物と比べて、約20％の
THPOしか有さない。THPOは望ましい量以上
に水に溶解するから、より少ないTHPOを有す
る好適な４元ホスフインオキシド混合物は、明ら
かに水溶液への溶解度が小さくなり、水溶液から
酸性有機化合物を抽出するのに２元系よりも有利
である。 しかしながら本発明の方法で用いるホスフイン
オキシド混合物の主な利点は、そのような混合物
によつて提供される予期を越えて増大した抽出性
である。 この抽出性は、単独で用いたときのあるホスフ
インオキシドと等しい量の抽出性を越え、従つて
希水溶液から所望の溶質を抽出するのに必要とさ
れるホスフインオキシドの量を工程時に節約す
る。 好適なホスフインオキシド混合物２）は、２種
又はそれ以上のオレフイン化合物、例えばペンテ
ン、ヘキセン、オクテン及びデセンをホスフイン
と反応させることによつて製造される。２種のオ
レフイン性化合物例えばオクテン及びヘキセンか
らの中間体の３級ホスフイン生成物を過酸化水素
で酸化して、４成分のトリアルキルホスフインオ
キシド混合物、即ちR3″PO，R3PO，R2″R
PO，R′R2POを得る。オレフイン化合物（オ
クテン／ヘキサン）の比に依存して、混合物は室
温で液体でありうる。例えばヘキセン70重量％：
オクテン30重量％の混合物の凍結温度は約０℃で
ある。実際の取り扱い上の理由から、混合物は室
温で液体である。例えばヘキセン、オクテン及び
デセンから得られる９パート・ミツクスは特に簡
便で効果的であることがわかつた。 単に例示の目的で示す次の実施例によつて、本
発明を更に詳細に記述する。 実施例 １ 酢酸及び更にフエノールの、希水溶液からの抽
出性に関して溶媒の試料を試験した。各溶媒の試
料を、酢酸を含有する水溶液の一定量と共に振と
うし且つ混合した。数分後に、水性相及び有機相
を分離し、水性相を酢酸の存在に関して分析し
た。すべての酢酸が有機相へ回収され且つ移動す
るまで水性相との混合を繰返した。100％回収の
ために必要とされる有機相（溶媒）の容積量を水
性／有機（Ａ／Ｏ）比で示す。
る方法、特に低級カルボン酸及びフエノール性化
合物を商業的排水から除去するために希釈剤を使
用しないで２種又はそれ以上のホスフインオキシ
ドの混合物を使用する方法に関する。 汚染物の除去、更に有用な化合物の溶液からの
回収のための水性排液の処理は近代化学工場にお
いて最も必要とされる部分である。そしてそれに
対し水蒸気除去法及びいくらか複雑な溶媒抽出法
のような多くの方法が使用されている。この後者
の方法は回収する化合物の性質に非常に依存する
ものである。溶媒の選択は厳密であり、溶媒損失
を最小にしなければならない。 いくつかの有機化合物例えば希水溶液中の酢酸
及びフエノールは特に除去が困難である。酢酸を
エーテル又はケトンを溶媒として用いて抽出する
ことは公知である。しかしながら、酢酸のこれら
の溶媒との平衡分配係数kd（平衡時における溶媒
相の溶質の重量画分／水性相の重量画分）は約
1.0又はそれ以下である。この低いkdは抽出工程
において非常に高い溶媒流速を必要とし、これら
の溶媒での回収は、水溶液に酸が３〜５重量％以
下で存在している場合、経済的に魅力がない。 他の、またいくらか放良された溶媒系は、ある
有機燐化合物及び特にホスフインオキシドを希釈
剤中で用いることによつて適用されてきた。しか
しこれらの抽出剤／希釈剤系は、希釈剤（これは
高融点の抽出剤を使用しうるためにしばしば必要
とされる）の存在が抽出剤の濃度をかなり減少さ
せ且つ水溶液から除去された化合物と並流的に蒸
発するために続く除去工程を妨害するという理由
から不利である。 それ故に希釈剤を用いないで100％抽出剤を溶
媒として用いることは有利であるが、抽出剤の融
点及び除去を行なう経済的な運転温度によつてそ
れは制限される。特に純トリアルキルホスフイン
オキシドを用いることは公知であるが、その比較
的高い融点は、除去工程を大気温度以上で行なう
ことを必要とし、工場の故障中に凍結する危険を
こうむる。 今回予期を越えて、トリアルキルホスフインオ
キシド混合物を用いることにより、融点がより許
容しうる程度となるばかりでなく、この混合物
の、希水溶液から酸性有機化合物を抽出する能力
が高くなるということが発見された。この混合物
は酢酸のように抽出しにくい化合物に対して予期
を越えた高抽出係数を提供する。除去された化合
物を含む有機相は、蒸留又はアルカリ溶液での除
去のようないくつかの方法を用いて除去すること
ができる。 従つて本発明によれば、炭素数１〜５の置換又
は未置換カルボン酸及び置換又は未置換フエノー
ル性化合物からなる群から選択される酸性有機化
合物を希水溶液から除去する際に、該水溶液を、 少くとも２種のホスフインオキシド、即ち式 の第１のホスフインオキシド及び式 の第２のホスフインオキシドの、但し式中R1，
R2，R3，R1′，R2′及びR3′はそれぞれC4〜C18を
有するアルキル、シクロアルキル、アラルキル及
び置換アラルキルからなる群から独立に選択さ
れ、該第１のホスフインオキシド中の炭素原子の
全数は少くとも15であり、該第２のホスフインオ
キシド中の炭素原子の全数は少くとも17であり、
第１及び第２のオキシドにおける炭素原子の全数
における差は少くとも２であり、該ホスフインオ
キシドの少くとも１種が少くとも５重量％で60重
量％より多くない量で存在する、ホスフインオキ
シドの混合物１）と、或いは式R3″PO，R3
PO，R2″RPO，R″R2POを有し、但しR″及
びＲはそれぞれC4〜C18を有するアルキル、シ
クロアルキル、アラルキル及び置換アラルキルか
らなる群から選択される、少くとも４種のホスフ
インオキシドの、室温において液体である混合物
であつて、それぞれのホスフインオキシドの炭素
原子の全数が少くとも15、好ましくは少くとも18
であり、該ホスフインオキシドは少くとも１重量
％で60重量％より多くない量で存在する、混合物
２）と接触させることを含んでなる、該酸性有機
化合物の除去法が提供される。 好ましくは、混合物１）の該第２のホスフイン
オキシドにおける炭素原子の全数は少くとも19で
あり、また第１及び第２のオキシドにおける炭素
原子の全数の差は少くとも４である。 更に好ましくは、混合物１）の少くとも１つの
ホスフインオキシドは約25〜45重量％の量で存在
し、ホスフインオキシドの該混合物は約50℃より
低い融点を有する。 好ましくは、最低の炭素原子を有する第１のホ
スフインオキシドの炭素原子の全数が18である場
合は、第二番に最低の炭素原子数を有する混合物
２）の第２のホスフインオキシドの炭素原子数は
少くとも20であり、第１のオキシドの炭素原子の
全数と最高の炭素原子数を有するオキシドのそれ
との差は少くとも６である。 更に好ましくは、混合物２）における少くとも
１種のホスフインオキシドは約35〜50重量％の量
で存在し、ホスフインオキシドの該混合物は約20
℃より低い、更に普通には約10℃より低い融点を
有する。 本発明の方法は希水性流における種々の有用な
汚染物又は不純物に関して有用であると思われる
が、酸性有機化合物例えばカルボン酸及びフエノ
ール性化合物に対して特に有用である。特に本方
法は炭素数１〜５のカルボン酸、好ましくは酢
酸、プロピオン酸、酪酸及び吉草酸（通常工業排
水に見出される）及びフエノールを除去するため
に用いられる。このカルボン酸は１つ又はそれ以
上のハロゲン、ヒドロキシル、シアノ又はアルコ
キシル基によつて置換されていてよい。本発明の
方法で除去しうる他の特別な酸は、ヘキサン酸、
ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、安息香酸、
コハク酸、シユウ酸、リンゴ酸、乳酸、シアノ酢
酸、グリコール酸及びマレイン酸を例示できる。
本発明に供されるフエノール性化合物は、１つ又
はそれ以上のアルキル基で置換されたものを含
む。希水性流から除去しうるフエノール性化合物
の例は、ｐ−クレゾール、レゾルシノール、１−
ナフトール、２−ナフトール、ｏ−、ｍ−及びｐ
−キシレノール及び未置換又は置換ハイドロキノ
ン、フロログルシノール及びピロガロールを含
む。 希水溶液から除去される化合物は希溶液中にい
ずれかの低量で又は適度に低量で存在しうるが、
普通５重量％より少ない量で、更に望ましくは２
重量％より少ない或いは１重量より少ない量であ
つてもよい。 本発明の方法は、製紙及び合成燃料油工場の排
水からカルボン酸を回収するのに特に有用であ
る。本方法は、フエノール樹脂製造工程の排水か
らのフエノールの回収に、また石英のガス化にお
いても有用である。普通抽出しにくい有機及び無
機の化合物（例えばSb，As，Bi化合物）の回収
は本発明の方法で行ないうると思われる。 ホスフインオキシドにおいて、１つ又はそれ以
上のＲ又はR″基がアルキルである時、好適なア
ルキルは約C4〜約C18の直鎖及び分岐鎖アルキル
を含み、一方好適なシクロアルキルは炭素数６〜
８の置換又は未置換シクロアルキルを含む。 混合物１）として有用である適当なホスフイン
オキシドの例は、トリ−ｎ−ヘキシルホスフイン
オキシド（THPO）、トリ−ｎ−オクチルホスフ
インオキシド（TOPO）、トリス（２，４，４−
トリメチルペンチル）−ホスフインオキシド、ト
リシクロヘキシルホスフインオキシド、トリ−ｎ
−ドデシルホスフインオキシド、トリ−ｎ−オク
タデシルホスフインオキシド、トリス（２−エチ
ルヘキシル）ホスフインオキシド、ジ−ｎ−オク
チルエチルホスフインオキシド、ジ−ｎ−ヘキシ
ルイソブチルホスフインオキシド、オクチルジイ
ソブチルホスフインオキシド、トリベンジルホス
フインオキシド、ジ−ｎ−ヘキシルベンジルホス
フインオキシド、ジ−ｎ−オクチルベンジルホス
フインオキシド、９−オクチル−９−ホスフアビ
シクロ〔３，３，１〕ノナン−９−オキシドなど
を含むが、これに限定されるものではない。
TOPO及びTHPOは２パート・ミツクス（part
mix）おいて好適なオキシドである。 混合物１）の１つのオキシドは少くとも５重量
％且つ高々60重量％の量で存在すべきであり、好
適な量は約25〜45重量％、更に好ましくは約35重
量％である。多数のホスフインオキシドが混合物
１）に使用できるけれど、２パート・ミツクスを
用いることは最も簡便である。特に好適な２パー
ト・ミツクスはトリ−ｎ−オクチルホスフインオ
キシド（TOPO）とトリ−ｎ−ヘキシル−ホス
フインオキシド（THPO）の混合物である。
TOPO／THPO混合物に対して好適な比は35／
65重量％である。しかしながら、予期を越えて増
大したkd値を与える相乗効果は、上述のホスフ
インオキシドの２パート・ミツクス又はそれ以上
の混合物で得ることができる。 混合物１）で使用されるホスフインオキシド
は、第１及び第２のオキシドにおける炭素原子の
全数の差が少くとも２、好ましくは少くとも４、
更に好ましくは６又は８であるように選択され
る。 好ましくは混合物１）の融点は、商業的排溶液
を液／液抽出法で処理する普通の上限温度である
約60℃よりも低い。しかしながら、融点は工程の
効率及び費用を改善するためにより低い方が望ま
しい。約50℃の融点は好ましく、従つて約50℃よ
り低い、更に好ましくは30℃又は25℃より下で溶
融するホスフインオキシド混合物は、酸性有機化
合物を抽出する能力が許容できる場合、実際上の
観点から本方法で使用されるであろう。
TOPO／THPOの、35／65重量％割合の最も好
適な混合物は約16℃で溶融する。 混合物２）として有用である適当なホスフイン
オキシドの例は混合物１）に対して上述したもの
を含む。更に次のホスフインオキシドも使用しう
る：ジヘキシルモノオクチルホスフインオキシ
ド、ジオクチルモノヘキシルホスフインオキシ
ド、ジヘキシルモノデシルホスフインオキシド、
ジデシルモノヘキシルホスフインオキシド、ジオ
クチルモノデシルホスフインオキシド、ジデシル
モノオクチルホスフインオキシド、及びジヘキシ
ルモノブチルホスフインオキシド。 すべての酸化物は混合物２）に少くとも１重量
％及び高々60重量％の量で存在すべきであるけれ
ど、少くとも１種のオキシドに対する好適な量
は、約1.5〜10.0重量％である。４つよりも多い
ホスフインオキシドも混合物２）に使用しうるけ
れども、２種のオレフイン化合物から４ミツクス
を製造することが最も簡便である。特に好適な４
パート・ミツクスはトリ−ｎ−オクチルホスフイ
ンオキシド（TOPO）：トリ−ｎ−ヘキシルホス
フインオキシド（THPO）：ジヘキシルモノオク
チルホスフインオキシド及びジオクチルモノヘキ
シルホスフインオキシドである。しかしながら予
期を越えて増大したKD値を与える相乗効果は上
記ホスフインオキシドの４パート・ミツクス又は
それ以上のパート・ミツクスを用いて得ることが
できる。 混合物２）で使用されるホスフインオキシド
は、オキシドの少くとも２つの炭素原子の全数に
おける差が少くとも２であり、また６まで、また
はそれ以上まであるように選択される。 好ましくは、混合物２）の融点は約20℃より低
い。しかしながら、工程の効率及び費用を改良
し、また物質の取り扱い性の利点を与えるため
に、融点は更に低い方が望ましい。約10℃より低
い融点は好適であり、従つて約10℃、更に好まし
くは０±５℃で溶融するホスフインオキシド混合
物は、その酸性有機化合物の抽出性能が許容でき
るならば、実際的な観点から本方法に用いるため
に選択できる。 低融点ホスフインオキシド混合物を用いること
によつて得られるエネルギーの節約とは別に、低
融点混合物の他の利点は、ホスフインオキシドが
そのまゝで使用できるために希釈剤の使用が避け
られ、また工場の運転停止中の凍結の可能性が回
避される。ホスフインオキシドの低融点の共融混
合物は、今まで昇温度で或いは希釈剤と一緒にだ
け使用でき、しばしば複雑な除去操作が後続する
ホスフインオキシドを、融点の低下のために使用
することを可能にする。 更にヘキセン及びオクテンから製造される好適
な４元ホスフインオキシド混合物は、約70％の
THOPを有するTHOP／TOPOの好適な２元ホ
スフインオキシド混合物と比べて、約20％の
THPOしか有さない。THPOは望ましい量以上
に水に溶解するから、より少ないTHPOを有す
る好適な４元ホスフインオキシド混合物は、明ら
かに水溶液への溶解度が小さくなり、水溶液から
酸性有機化合物を抽出するのに２元系よりも有利
である。 しかしながら本発明の方法で用いるホスフイン
オキシド混合物の主な利点は、そのような混合物
によつて提供される予期を越えて増大した抽出性
である。 この抽出性は、単独で用いたときのあるホスフ
インオキシドと等しい量の抽出性を越え、従つて
希水溶液から所望の溶質を抽出するのに必要とさ
れるホスフインオキシドの量を工程時に節約す
る。 好適なホスフインオキシド混合物２）は、２種
又はそれ以上のオレフイン化合物、例えばペンテ
ン、ヘキセン、オクテン及びデセンをホスフイン
と反応させることによつて製造される。２種のオ
レフイン性化合物例えばオクテン及びヘキセンか
らの中間体の３級ホスフイン生成物を過酸化水素
で酸化して、４成分のトリアルキルホスフインオ
キシド混合物、即ちR3″PO，R3PO，R2″R
PO，R′R2POを得る。オレフイン化合物（オ
クテン／ヘキサン）の比に依存して、混合物は室
温で液体でありうる。例えばヘキセン70重量％：
オクテン30重量％の混合物の凍結温度は約０℃で
ある。実際の取り扱い上の理由から、混合物は室
温で液体である。例えばヘキセン、オクテン及び
デセンから得られる９パート・ミツクスは特に簡
便で効果的であることがわかつた。 単に例示の目的で示す次の実施例によつて、本
発明を更に詳細に記述する。 実施例 １ 酢酸及び更にフエノールの、希水溶液からの抽
出性に関して溶媒の試料を試験した。各溶媒の試
料を、酢酸を含有する水溶液の一定量と共に振と
うし且つ混合した。数分後に、水性相及び有機相
を分離し、水性相を酢酸の存在に関して分析し
た。すべての酢酸が有機相へ回収され且つ移動す
るまで水性相との混合を繰返した。100％回収の
ために必要とされる有機相（溶媒）の容積量を水
性／有機（Ａ／Ｏ）比で示す。
【表】
【表】
試料１及び２では、TOPOを、ジフエニルア
ルカンからなるConoco製の市販の希釈剤DPA中
に溶解した。溶媒中のTOPOの量を増加させる
と、有機相の使用量が減る、即ち水性／有機
（Ａ／Ｏ）比が増大することが見られる。しかし
ながら溶媒試料３の場合、ホスフインオキシド混
合物（THPO：TOPOの65重量％：35重量％）
は酢酸の抽出能力を実質的に増加させる。またフ
エノールの抽出において、試料４は実質的に増大
したＡ／Ｏ値を示した。これはフエノールの水溶
液からの100％回収のために、より少量の有機
（溶媒）相で十分であることを明白に示している。 実施例 ２ 酢酸及びプロピオン酸を6.15及び1.50gplの量で
含有する商業的な水性排液を、THPO／TOPO
混合物を用いて抽出した。各カルボン酸に対する
平衡濃度を異なるＡ／Ｏ比に対して測定した。
ルカンからなるConoco製の市販の希釈剤DPA中
に溶解した。溶媒中のTOPOの量を増加させる
と、有機相の使用量が減る、即ち水性／有機
（Ａ／Ｏ）比が増大することが見られる。しかし
ながら溶媒試料３の場合、ホスフインオキシド混
合物（THPO：TOPOの65重量％：35重量％）
は酢酸の抽出能力を実質的に増加させる。またフ
エノールの抽出において、試料４は実質的に増大
したＡ／Ｏ値を示した。これはフエノールの水溶
液からの100％回収のために、より少量の有機
（溶媒）相で十分であることを明白に示している。 実施例 ２ 酢酸及びプロピオン酸を6.15及び1.50gplの量で
含有する商業的な水性排液を、THPO／TOPO
混合物を用いて抽出した。各カルボン酸に対する
平衡濃度を異なるＡ／Ｏ比に対して測定した。
【表】
＊ 水性分析及び物質収支に基づく。
残留する酸に対するY軸と一致した
等温線。
更に同一の排水を、異なる濃度でTOPOを含
有する溶媒を用いて抽出した。
残留する酸に対するY軸と一致した
等温線。
更に同一の排水を、異なる濃度でTOPOを含
有する溶媒を用いて抽出した。
【表】
一致した等温線。
THPO／TOPO混合物に対するKd値は対応す
るＡ／Ｏ比に対して、ジフエニルアルカン
（DPA）希釈剤中にTOPOだけを用いたものの
Kd値よりもかなり大きいことが明確に示される。 実施例 ３ 10gplフエノールを含む水溶液を、異なる抽出
剤濃度の溶媒で抽出した。
THPO／TOPO混合物に対するKd値は対応す
るＡ／Ｏ比に対して、ジフエニルアルカン
（DPA）希釈剤中にTOPOだけを用いたものの
Kd値よりもかなり大きいことが明確に示される。 実施例 ３ 10gplフエノールを含む水溶液を、異なる抽出
剤濃度の溶媒で抽出した。
【表】
種々のＡ／Ｏ値に対する有機及び水性相におけ
る平衡のフエノール濃度を決定し、平衡分配係数
Kdを計算した。この場合にも、ホスフインオキ
シド混合物に対するKd値はすべてのＡ／Ｏ値に
対し、単一のオキシド溶媒よりも予期を越えて高
いということが見られる。 次の４つの実施例は、４元ホスフインオキシド
混合物の製造におけるC8／C6混合物、更にC10／
C6混合物の使用例を示す。 実施例 ４ オートクレーブ中において、ホスフインを、オ
クテン70重量％及びヘキセン30重量％からなるオ
レフイン混合物と反応させた。続いて中間体の反
応生成物（３級ホスフイン）を過酸化水素で酸化
して４種の３級ホスフインオキサイドの混合物を
含有する最終生成物を製造した。生成物は、分析
によるとトリヘキシルホスフインオキシド3.9％、
ジヘキシルモノオクチルホスフインオキシド22.8
％、ジオクチルモノヘキシルホスフインオキシド
45.7％及びトリオクチルホスフインオキシド27.6
％（重量基準）を含むことがわかつた。最終生成
物は８〜17℃の融点範囲を有し、室温で液体であ
つた。 実施例 ５ オクテン60重量％及びヘキセン40重量％からな
るオレフイン混合物を用いて実施例４を繰返し
た。最終の３級ホスフインオキシド生成物は、分
析によるとトリヘキシルホスフインオキシド８
％、ジヘキシルモノオクチルホスフインオキシド
31.9％、ジオクチルモノヘキシルホスフインオキ
シド42.8％及びトリオクチルホスフインオキシド
17.4％（重量基準）を含有することがわかつた。
最終生成物は、−５〜０℃の融点範囲を有し、室
温で液体であつた。 実施例 ６ オクテン30重量％及びヘキセン70重量％からな
るオレフイン混合物を用いて実施例４を繰返し
た。最終生成物は分析によると、トリヘキシルホ
スフインオキシド40.2％、ジヘキシルモノオクチ
ルホスフインオキシド42.6％、ジオクチルモノヘ
キシルホスフインオキシド15.3％及びトリオクチ
ルホスフインオキシド２％を含有することがわか
つた。３級ホスフインオキシド混合物は−７〜＋
６℃の融点範囲を有し、室温で液体であつた。 実施例 ７ デセン50重量％及びヘキセン50重量％からなる
オレフイン混合物を用いて実施例４を繰返した。
最終生成物は分析によると、トリヘキシルホスフ
インオキシド22％、ジヘキシルモノデシルホスフ
インオキシド42.5％、ジデシルモノヘキシルホス
フインオキシド28.9％及びトリデシルホスフイン
オキシド6.4％を含有することがわかつた。最終
生成物は−５〜＋10℃の融点範囲を有し、室温で
液体であつた。 次の第４表は、ヘキセン70重量％及びオクテン
30重量％からの４元ホスフインオキシド混合物
（実施例６）が、THPO65重量％／TOPO35重量
％の２元混合物と比較した時、溶媒抽出剤として
用いるのに幾分改良された性能特性を有するこ
と、但し２元及び４元混合物の双方とも従来法よ
り優れていることを示す。
る平衡のフエノール濃度を決定し、平衡分配係数
Kdを計算した。この場合にも、ホスフインオキ
シド混合物に対するKd値はすべてのＡ／Ｏ値に
対し、単一のオキシド溶媒よりも予期を越えて高
いということが見られる。 次の４つの実施例は、４元ホスフインオキシド
混合物の製造におけるC8／C6混合物、更にC10／
C6混合物の使用例を示す。 実施例 ４ オートクレーブ中において、ホスフインを、オ
クテン70重量％及びヘキセン30重量％からなるオ
レフイン混合物と反応させた。続いて中間体の反
応生成物（３級ホスフイン）を過酸化水素で酸化
して４種の３級ホスフインオキサイドの混合物を
含有する最終生成物を製造した。生成物は、分析
によるとトリヘキシルホスフインオキシド3.9％、
ジヘキシルモノオクチルホスフインオキシド22.8
％、ジオクチルモノヘキシルホスフインオキシド
45.7％及びトリオクチルホスフインオキシド27.6
％（重量基準）を含むことがわかつた。最終生成
物は８〜17℃の融点範囲を有し、室温で液体であ
つた。 実施例 ５ オクテン60重量％及びヘキセン40重量％からな
るオレフイン混合物を用いて実施例４を繰返し
た。最終の３級ホスフインオキシド生成物は、分
析によるとトリヘキシルホスフインオキシド８
％、ジヘキシルモノオクチルホスフインオキシド
31.9％、ジオクチルモノヘキシルホスフインオキ
シド42.8％及びトリオクチルホスフインオキシド
17.4％（重量基準）を含有することがわかつた。
最終生成物は、−５〜０℃の融点範囲を有し、室
温で液体であつた。 実施例 ６ オクテン30重量％及びヘキセン70重量％からな
るオレフイン混合物を用いて実施例４を繰返し
た。最終生成物は分析によると、トリヘキシルホ
スフインオキシド40.2％、ジヘキシルモノオクチ
ルホスフインオキシド42.6％、ジオクチルモノヘ
キシルホスフインオキシド15.3％及びトリオクチ
ルホスフインオキシド２％を含有することがわか
つた。３級ホスフインオキシド混合物は−７〜＋
６℃の融点範囲を有し、室温で液体であつた。 実施例 ７ デセン50重量％及びヘキセン50重量％からなる
オレフイン混合物を用いて実施例４を繰返した。
最終生成物は分析によると、トリヘキシルホスフ
インオキシド22％、ジヘキシルモノデシルホスフ
インオキシド42.5％、ジデシルモノヘキシルホス
フインオキシド28.9％及びトリデシルホスフイン
オキシド6.4％を含有することがわかつた。最終
生成物は−５〜＋10℃の融点範囲を有し、室温で
液体であつた。 次の第４表は、ヘキセン70重量％及びオクテン
30重量％からの４元ホスフインオキシド混合物
（実施例６）が、THPO65重量％／TOPO35重量
％の２元混合物と比較した時、溶媒抽出剤として
用いるのに幾分改良された性能特性を有するこ
と、但し２元及び４元混合物の双方とも従来法よ
り優れていることを示す。
【表】
即ち、種々のＡ／Ｏ値に対し、有機及び水性相
における平衡酢酸濃度を用いてKD値を計算する
時、４元混合物に対するKD値が、特に高酢酸負
荷量において２元混合物よりもいくらか高い（高
Ａ／Ｏ比）ことが理解できる。更に第４表に示す
酢酸等温線からの内挿は、２元混合物に対する
Ａ／Ｏ＝２において、４段階での完全な抽出を示
している。対比しうる４元混合物を用いる場合に
は、Ａ／Ｏ＝２において３段階が必要である。 添付する図面には、実施例８の４元ホスフイン
オキシド混合物及び２元混合物の抽出特性を示し
てある。
における平衡酢酸濃度を用いてKD値を計算する
時、４元混合物に対するKD値が、特に高酢酸負
荷量において２元混合物よりもいくらか高い（高
Ａ／Ｏ比）ことが理解できる。更に第４表に示す
酢酸等温線からの内挿は、２元混合物に対する
Ａ／Ｏ＝２において、４段階での完全な抽出を示
している。対比しうる４元混合物を用いる場合に
は、Ａ／Ｏ＝２において３段階が必要である。 添付する図面には、実施例８の４元ホスフイン
オキシド混合物及び２元混合物の抽出特性を示し
てある。
図面は、２元及び４元ホスフインオキシドを用
いた場合の酢酸の抽出特性を示す。
いた場合の酢酸の抽出特性を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 炭素数１〜５の置換又は未置換カルボン酸及
び置換又は未置換フエノール性化合物からなる群
から選択される酸性有機化合物を希水溶液から除
去する際に、該水溶液を、 少くとも２種のホスフインオキシド、即ち式 の第１のホスフインオキシド及び の第２のホスフインオキシドの、但し式中R1，
R2，R3，R1′，R2′，R3′はそれぞれC4〜C18を有
するアルキル、シクロアルキル、アラルキル及び
置換アラルキルからなる群から独立に選択され、
該第２のホスフインオキシド中の炭素原子の全数
は少くとも17であり、第１及び第２のオキシドに
おける炭素原子の全数における差が少くとも２で
あり、該ホスフインオキシドの少くとも一方は、
少くとも５重量％であつて60重量％より多くない
量で存在する、ホスフインオキシドの混合物１）
と、 或いは少くとも４種のホスフインオキシド、即
ち式R3″PO，R3PO，R2″RPO，R″R2PO
の、但しR″及びＲはそれぞれC4〜C18を有する
アルキル、シクロアルキル、アラルキル及び置換
アラルキルからなる群から独立に選択され、各ホ
スフインオキシド中の炭素原子の全数が少くとも
１重量％で60重量％より多くない量で存在する、
室温において液体である混合物２）と、 接触させることを特徴とする該酸性有機化合物
の除去法。 ２ 混合物１）の該第２のホスフインオキシド中
の炭素原子の全数が少くとも19であり、また混合
物１）の第１及び第２のオキシドにおける炭素原
子の全数の差が少くとも４である特許請求の範囲
第１項記載の方法。 ３ 混合物１）の該少くとも１つのホスフインオ
キシドが約25〜45重量％の量で存在する特許請求
の範囲第１項記載の方法。 ４ 混合物１）のホスフインオキシドの該混合物
が約50℃より低い融点を有する特許請求の範囲第
１又は３項記載の方法。 ５ 該酸性有機化合物が酢酸、プロピオン酸及び
フエノールからなる群から選択される特許請求の
範囲第１又は３項記載の方法。 ６ 混合物１）の該少くとも１つのホスフインオ
キシドが約35重量％の量で存在する特許請求の範
囲第１項記載の方法。 ７ ホスフインオキシドの該混合物１）が約30℃
より低い融点を有する特許請求の範囲第１又は３
項記載の方法。 ８ 混合物１）の該少くとも１つのホスフインオ
キシドがトリ−ｎ−オクチルホスフインオキシド
である特許請求の範囲第１項記載の方法。 ９ ホスフインオキシドの該混合物１）がトリ−
ｎ−ヘキシルホスフインオキシド及びトリ−ｎ−
オクチルホスフインオキシドである特許請求の範
囲第３又は５項記載の方法。 １０ ホスフインオキシドの該混合物が約20℃よ
り低い融点を有する特許請求の範囲第１項記載の
方法。 １１ 炭素数の最低数を有する混合物２）の該ホ
スフインオキシドの第１のものの炭素原子の全数
が少くとも18であり、また混合物２）の該ホスフ
インオキシドの第２のものが少くとも20であり、
そして混合物２）の第１のオキシドの炭素原子の
全数及び混合物２）の炭素原子の最高数を有する
オキシドのそれの差が少くとも６である特許請求
の範囲第１項記載の方法。 １２ 混合物２）における該ホスフインオキシド
の少くとも１つが約35〜50重量％の量で存在する
特許請求の範囲第１項記載の方法。 １３ ホスフインオキシドの該混合物２）が約10
℃より低い融点を有する特許請求の範囲第１項記
載の方法。 １４ ホスフインオキシドの該混合物２）がトリ
−ｎ−ヘキシルホスフインオキシド、トリ−ｎ−
オクチルホスフインオキシド、ジヘキシルモノオ
クチルホスフインオキシド及びジオクチルモノヘ
キシルホスフインオキシドである特許請求の範囲
第１項記載の方法。 １５ ホスフインオキシドの該混合物２）がトリ
−ｎ−ヘキシルホスフインオキシド、トリ−ｎ−
デシルホスフインオキシド、ジヘキシルモノデシ
ルホスフインオキシド及びジデシルモノヘキシル
ホスフインオキシドである特許請求の範囲第１項
記載の方法。 １６ ホスフインオキシドの該混合物２）が少く
とも９つのホスフインオキシドを含む特許請求の
範囲第１項記載の方法。 １７ ヘキシル、オクチル及びデシル基が混合物
２）に存在する特許請求の範囲第１６項記載の方
法。 １８ 式R3″PO，R3PO，R2″RPO，R″R2
POを有し、但しR″及びＲはそれぞれC4〜C18
を有するアルキル、シクロアルキル、アラルキル
及び置換アラルキルからなる群から独立に選択さ
れ、各ホスフインオキシド中の炭素原子の全数が
少くとも15である、少くとも４種のホスフインオ
キシドのホスフインオキシド混合物であつて、該
ホスフインオキシド類が混合物中に少くとも１重
量％で60重量％より多くない量で存在し、該混合
物が室温で液体であるホスフインオキシド混合
物。 １９ 20℃より低い融点を有する特許請求の範囲
第１８項記載のホスフインオキシド混合物。 ２０ 炭素数の最低数を有する該ホスフインオキ
シドの第１のものの炭素原子の全数が少くとも18
であり、また該ホスフインオキシドの第２のもの
が少くとも20であり、そして第１のオキシドの炭
素原子の全数及び炭素原子の最高数を有するオキ
シドのそれの差が少くとも６である特許請求の範
囲第１８項記載のホスフインオキシド混合物。 ２１ 少くとも１つの該ホスフインオキシドが約
35〜50重量％の量で存在する特許請求の範囲第１
８項記載のホスフインオキシド混合物。 ２２ 約10℃より低い融点を有する特許請求の範
囲第１８項記載のホスフインオキシド混合物。 ２３ トリヘキシルホスフインオキシド約２〜45
重量％、ジヘキシルモノオクチルホスフインオキ
シド20〜45重量％、ジオクチルモノヘキシルホス
フインオキシド10〜48重量％、及びトリオクチル
ホスフインオキシド１〜30重量％を含んでなる特
許請求の範囲第１８項記載のホスフインオキシド
混合物。 ２４ トリヘキシルホスフインオキシド約２〜24
重量％、ジヘキシルモノデシルホスフインオキシ
ド40〜45重量％、ジデシルモノヘキシルホスフイ
ンオキシド26〜33重量％及びトリデシルホスフイ
ンオキシド４〜９重量％を含んでなる特許請求の
範囲第１８項記載のホスフインオキシド混合物。 ２５ 式R3″PO，R3PO，R2″RPO，R″R2
POを有し、但しR″及びＲはそれぞれC4〜C18
を有するアルキル、シクロアルキル、アラルキル
及び置換アラルキルからなる群から独立に選択さ
れ、各ホスフインオキシド中の炭素原子の全数が
少くとも15である、少くとも４種のホスフインオ
キシドのホスフインオキシド混合物であつて、該
ホスフインオキシド類が混合物中に少くとも１重
量％で60重量％より多くない量で存在し、該混合
物が室温で液体であるホスフインオキシド混合物
の製造法であつて、少くとも２種のオレフイン性
化合物をホスフインと反応させて中間体の３級ホ
スフイン生成物を製造し、第３級ホスフインオキ
シドのホスフインオキシド混合物を得る製造法。 ２６ 該酸化を過酸化水素の添加で行なう特許請
求の範囲第２５項記載の方法。 ２７ ヘキセンをオクテンと一緒に反応させる特
許請求の範囲第２５又は２６項記載の方法。 ２８ オクテン約25〜65重量％をヘキセン約75〜
35重量％と一緒に反応させる特許請求の範囲第２
５又は２６項記載の方法。 ２９ オクテン約55〜65重量％をヘキセン約35〜
45重量％と一緒に反応させる特許請求の範囲第２
５又は２６項記載の方法。 ３０ ヘキセンをデセンと一緒に反応させる特許
請求の範囲第２５又は２６項記載の方法。 ３１ ヘキセン、オクテン及びデセンを反応さ
せ、続いて酸化して該混合物中に９つのホスフイ
ンオキシドを生成せしめる特許請求の範囲第２５
又は２６項記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CA432929 | 1983-07-21 | ||
| CA000432929A CA1200627A (en) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | Process for solvent extraction using phosphine oxide mixtures |
| CA444795 | 1984-01-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6041591A JPS6041591A (ja) | 1985-03-05 |
| JPH0439397B2 true JPH0439397B2 (ja) | 1992-06-29 |
Family
ID=4125723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59149773A Granted JPS6041591A (ja) | 1983-07-21 | 1984-07-20 | ホスフインオキシドを用いる溶媒抽出法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6041591A (ja) |
| CA (1) | CA1200627A (ja) |
| ZA (1) | ZA845643B (ja) |
-
1983
- 1983-07-21 CA CA000432929A patent/CA1200627A/en not_active Expired
-
1984
- 1984-07-20 ZA ZA845643A patent/ZA845643B/xx unknown
- 1984-07-20 JP JP59149773A patent/JPS6041591A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1200627A (en) | 1986-02-11 |
| ZA845643B (en) | 1985-03-27 |
| JPS6041591A (ja) | 1985-03-05 |
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