JPH0439785B2 - - Google Patents
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- JPH0439785B2 JPH0439785B2 JP58082608A JP8260883A JPH0439785B2 JP H0439785 B2 JPH0439785 B2 JP H0439785B2 JP 58082608 A JP58082608 A JP 58082608A JP 8260883 A JP8260883 A JP 8260883A JP H0439785 B2 JPH0439785 B2 JP H0439785B2
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- integrated circuit
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D89/00—Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
- H10D89/60—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD]
- H10D89/601—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs
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- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、マスタースライス方式により回路
結線が行われる半導体集積回路装置に関するもの
で、例えば、ゲートアレイを構成する半導体集積
回路装置の静電破壊防止に有効な技術に関するも
のである。[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device in which circuit connection is performed using a master slice method, and is effective for preventing electrostatic damage in semiconductor integrated circuit devices constituting a gate array, for example. It is related to technology.
半導体集積回路の製造技術の進展によつて、
益々素子の微細化が図られている。このような素
子の微細化に伴い、その静電破壊防止に対する高
信頼性の要求が高まつている。
With the advancement of semiconductor integrated circuit manufacturing technology,
Elements are becoming increasingly finer. With the miniaturization of such elements, there is an increasing demand for high reliability in preventing electrostatic discharge damage.
本願発明者は、回路を構成する素子を適当に配
置した基本パターンを形成しておいて、この素子
間を必要に応じて相互接続する配線マスクのみを
変更することで各種の回路機能を持つ半導体集積
回路装置を得るというマスタースライス方式を利
用して、静電破壊防止機能の強化を図ることを考
えた。 The inventor of the present application has developed a semiconductor device that has various circuit functions by forming a basic pattern in which elements constituting a circuit are appropriately arranged, and by changing only the wiring mask that interconnects the elements as necessary. We thought of using the master slicing method to obtain integrated circuit devices to strengthen the electrostatic damage prevention function.
この発明の目的は、実質的な素子を増加させる
ことなく、静電破壊防止機能の向上を図つた半導
体集積回路装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device in which the electrostatic damage prevention function is improved without increasing the number of substantial elements.
この発明の前記ならびにその他の目的と新規な
特徴は、この明細書の記述および添付図面から明
らかになるのであろう。 The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち代表的なも
のの概要を簡単に説明すれば、下記の通りであ
る。すなわち、入力端子として使用される外部端
子に、その入力回路には使用しない素子をマスタ
ースライス方式により接続して静電破壊防止用容
量として用いることによつて、静電破壊防止機能
の強化を達成するものである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows. In other words, by connecting an element that is not used in the input circuit to an external terminal used as an input terminal using the master slice method and using it as a capacitor for preventing electrostatic damage, the electrostatic damage prevention function is strengthened. It is something to do.
図面には、この発明の一実施例の要部回路図が
示されている。同図の各回路素子は、公知の半導
体集積回路の製造技術によつて、シリコンのよう
な半導体基板上において形成される。
The drawings show a circuit diagram of essential parts of an embodiment of the present invention. Each circuit element in the figure is formed on a semiconductor substrate such as silicon by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique.
同図の実施例では、特に制限されないが、pチ
ヤネンルMOSFET(絶縁ゲート形電界効果トラ
ンジスタ)とnチヤンネルMOSFETとで構成さ
れたCMOS(相補型MOS)によつて構成されたゲ
ートアレイの入力、出力部の回路が示されてい
る。 In the embodiment shown in the figure, the input and output of a gate array constituted by CMOS (complementary MOS) consisting of a p-channel MOSFET (insulated gate field effect transistor) and an n-channel MOSFET, although not particularly limited. Part of the circuit is shown.
すなわち、抵抗RとMOSFETQ1とは、公知
の静電破壊防止回路を構成し、pチヤネンル
MOSFETQ2とnチヤンネルMOSFETQ3と
は、入力回路を構成する素子として形成されてい
る。また、pチヤネンルMOSFETQ4とnチヤ
ンネルMOSFETQ5とは、出力回路を構成する
素子として形成されている。 In other words, the resistor R and MOSFET Q1 constitute a known electrostatic damage prevention circuit, and the p-channel
MOSFETQ2 and n-channel MOSFETQ3 are formed as elements constituting an input circuit. Furthermore, the p-channel MOSFET Q4 and the n-channel MOSFET Q5 are formed as elements constituting an output circuit.
ボンデイング等により外部端子と接続されるパ
ツドP1を入力端子として用いる場合、この実施
例においては、上記入力回路及び出力回路を構成
する基本パターンがマスタースライス方式によつ
て同図に示すように結線される。すなわち、パツ
ドP1は、静電破壊防止回路の入力側端子T1に
接続される。その出力側端子T2は、上記
MOSFETQ2,Q3のゲートに接続される。ま
た、これらのMOSFETQ2,Q3のドレインは、
共通接続されて次段(図示せず)の内部回路に導
かれる配線に接続される。上記MOSFETQ2の
ソースは、電源電圧線Vccに接続され、上記
MOSFETQ3のソースは、回路の接地電位線に
接続される。このようにして、入力回路が構成さ
れる。 When pad P1, which is connected to an external terminal by bonding or the like, is used as an input terminal, in this embodiment, the basic patterns constituting the input circuit and output circuit are connected as shown in the figure by the master slice method. Ru. That is, the pad P1 is connected to the input terminal T1 of the electrostatic damage prevention circuit. Its output side terminal T2 is
Connected to the gates of MOSFETQ2 and Q3. In addition, the drains of these MOSFETQ2 and Q3 are
They are commonly connected and connected to wiring that leads to an internal circuit at the next stage (not shown). The source of MOSFETQ2 above is connected to the power supply voltage line Vcc, and
The source of MOSFETQ3 is connected to the ground potential line of the circuit. In this way, the input circuit is configured.
この実施例では、出力回路を構成する
MOSFETQ4,Q5が使用されないことに着目
して、これらのMOSFETQ4,Q5を静電破壊
防止用の容量素子として有効利用するものであ
る。 In this example, we configure the output circuit
Focusing on the fact that MOSFETs Q4 and Q5 are not used, these MOSFETs Q4 and Q5 are effectively utilized as capacitive elements for preventing electrostatic damage.
すなわち、特に制限されないが、上記
MOSFETQ4,Q5のドレインを共通化して、
上記パツドP1に接続する。また、これらの
MOSFETQ4,Q5を単なる容量素子として機
能させるため、そのゲートとソースとを共通化し
て、それぞれ電源電圧線Vcc、接地電位線に接続
することによつて定常的にオフ状態にさせておく
ものである。 That is, although not particularly limited, the above
By making the drains of MOSFETQ4 and Q5 common,
Connect to the above pad P1. Also, these
In order for MOSFETQ4 and Q5 to function as mere capacitive elements, their gates and sources are shared and connected to the power supply voltage line Vcc and ground potential line, respectively, so that they are constantly turned off. .
なお、上記同様な抵抗R′及びMOSFETQ1′,
Q4′ないしQ5′からなる基本パターンにより、
パツドP2を出力端子として用い時には、同図に
示すように、出力素子を構成するMOSFETQ
4′,Q5′のドレインが共通化されて上記パツド
P2に接続される。また、これらのMOSFETQ
4′,Q5′のゲートは、共通化されて図示しない
内部回路で形成された出力すべき信号が伝達され
る信号線に接続され、それぞれのソースは電源電
圧線Vccと回路の接地線に接続される。 In addition, the same resistance R' and MOSFET Q1' as above,
With the basic pattern consisting of Q4' or Q5',
When pad P2 is used as an output terminal, as shown in the figure, MOSFETQ
The drains of Q4' and Q5' are shared and connected to the pad P2. Also, these MOSFETQ
The gates of 4' and Q5' are connected to a common signal line formed by an internal circuit (not shown) and to which a signal to be output is transmitted, and the sources of each are connected to the power supply voltage line Vcc and the circuit ground line. be done.
このような出力回路にあつては、比較的大きな
サイズのMOSFETQ4′,Q5′のドレイン領域
により、外部端子からの静電気に対して十分な耐
圧を持つものとなるので、上記静電破壊防止回路
等を接続する必要はない。 In such an output circuit, the drain regions of MOSFETs Q4' and Q5', which are relatively large in size, have sufficient withstand voltage against static electricity from external terminals, so the above-mentioned electrostatic damage prevention circuit, etc. No need to connect.
(1) 比較的大きなサイズの出力MOSFETのドレ
イン領域を利用した容量が入力端子P1に接続
されることによつて、その帯電電荷を受ける容
量の容量値が大きくなるから発出する電圧(V
=Q/C)を小さくするとともに、その寄生容
量と等価抵抗との積分動作とにより、静電破壊
防止能力を大幅に向上させることができる。
(1) When a capacitor that utilizes the drain region of a relatively large output MOSFET is connected to the input terminal P1, the capacitance value of the capacitor that receives the charged charge increases, so the voltage (V
=Q/C) and by integrating the parasitic capacitance and the equivalent resistance, the ability to prevent electrostatic damage can be greatly improved.
(2) 特別な回路素子を用いることなく、使用して
いない素子を利用するものであるので、実質的
な集積度を低下させることがないという効果が
得られる。(2) Since it utilizes unused elements without using any special circuit elements, it is possible to obtain the effect that the actual degree of integration is not reduced.
(3) 特に、ゲートアレイによつて構成される半導
体集積回路装置においては、1つの外部端子に
入力用素子と、出力用素子とが形成されるもの
であるから、静電破壊防止回路を必要とする入
力回路では、使用されない出力用素子の有効利
用が図られるという効果が得られる。(3) In particular, in semiconductor integrated circuit devices composed of gate arrays, an input element and an output element are formed on one external terminal, so an electrostatic damage prevention circuit is required. In this input circuit, it is possible to effectively utilize unused output elements.
以上本発明者によつてなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、この発明は上記実施
例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。例えば、上記実施例において、
MOSFETQ4,Q5のドレインを静電破壊防止
回路の出力側端子T2に接続するものであつても
よい。また、出力MOSFETQ4,Q5の内、一
方のMOSFETのみを使用するものであつてもよ
い。 Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, this invention is not limited to the above Examples, and it is understood that various changes can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say. For example, in the above example,
The drains of MOSFETs Q4 and Q5 may be connected to the output terminal T2 of the electrostatic breakdown prevention circuit. Alternatively, only one of the output MOSFETs Q4 and Q5 may be used.
また、入力回路及び出力回路の具体的回路構成
は、上記インバータ回路の他ゲート機能あるいは
トライステート(3状態)出力機能等を持つ回路
であつてもよい。 Further, the specific circuit configuration of the input circuit and the output circuit may be a circuit having a gate function, a tri-state (three-state) output function, or the like in addition to the above-mentioned inverter circuit.
〔利用分野〕
以上の説明では主として本願発明者によつてな
された発明をその背景となつた利用分野である
CMOSゲートアレイに適用した場合を説明した
が、これに限定されるものでなく、例えば、バイ
ポーラ型トランジスタを用いたECL(エミツタ・
カツプルド・ロジツク)等で構成されたゲートア
レイ等、マスタースライス方式により回路機能が
設計される各種の半導体集積回路装置に広く利用
できるものである。[Field of Application] The above explanation mainly focuses on the field of application that is the background of the invention made by the inventor of the present application.
Although we have explained the case where it is applied to a CMOS gate array, it is not limited to this, and for example, an ECL (emitter
It can be widely used in various semiconductor integrated circuit devices whose circuit functions are designed using the master slice method, such as gate arrays constructed using coupled logic (coupled logic) and the like.
図面は、この発明の要部一実施例を示す回路図
である。
The drawing is a circuit diagram showing an embodiment of the main part of the present invention.
Claims (1)
される半導体集積回路装置において、入力端子と
して使用される外部端子に、その入力回路機能で
は使用しない素子を静電破壊防止用容量として接
続することを特徴とする半導体集積回路装置。 2 各信号用外部端子には、入力回路を構成する
素子と出力回路を構成する素子とがそれぞれ形成
されているものであり、上記使用しない素子は出
力用素子であることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の半導体集積回路装置。 3 上記半導体集積回路装置は、ゲートアレイを
構成するものであることを特徴とする特許請求の
範囲第1又は2項記載の半導体集積回路装置。[Claims] 1. In a semiconductor integrated circuit device whose circuit function is set by the master slice method, an element not used in the input circuit function is connected to an external terminal used as an input terminal as a capacitor for preventing electrostatic damage. A semiconductor integrated circuit device characterized by: 2. A patent claim characterized in that each signal external terminal is formed with an element constituting an input circuit and an element constituting an output circuit, and the unused elements are output elements. The semiconductor integrated circuit device according to item 1. 3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1 or 2, wherein the semiconductor integrated circuit device constitutes a gate array.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58082608A JPS59208771A (en) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | Semiconductor integrated circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58082608A JPS59208771A (en) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | Semiconductor integrated circuit device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59208771A JPS59208771A (en) | 1984-11-27 |
| JPH0439785B2 true JPH0439785B2 (en) | 1992-06-30 |
Family
ID=13779184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58082608A Granted JPS59208771A (en) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | Semiconductor integrated circuit device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59208771A (en) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61218143A (en) * | 1985-03-25 | 1986-09-27 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
| US4719369A (en) * | 1985-08-14 | 1988-01-12 | Hitachi, Ltd. | Output circuit having transistor monitor for matching output impedance to load impedance |
| JPH0630379B2 (en) * | 1985-12-20 | 1994-04-20 | 日本電気株式会社 | Master slice type semiconductor device |
| JPS62268143A (en) * | 1986-05-16 | 1987-11-20 | Nec Corp | semiconductor equipment |
| JP2518852B2 (en) * | 1987-06-12 | 1996-07-31 | 富士通株式会社 | Semiconductor integrated circuit device |
| JPH05326895A (en) * | 1992-05-26 | 1993-12-10 | Sharp Corp | Master slice-type integrated circuit |
| JPH10125801A (en) * | 1996-09-06 | 1998-05-15 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor integrated circuit device |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58115844A (en) * | 1981-12-28 | 1983-07-09 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
-
1983
- 1983-05-13 JP JP58082608A patent/JPS59208771A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59208771A (en) | 1984-11-27 |
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