JPH044065A - 液塗布装置 - Google Patents
液塗布装置Info
- Publication number
- JPH044065A JPH044065A JP10212390A JP10212390A JPH044065A JP H044065 A JPH044065 A JP H044065A JP 10212390 A JP10212390 A JP 10212390A JP 10212390 A JP10212390 A JP 10212390A JP H044065 A JPH044065 A JP H044065A
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- JP
- Japan
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- coating
- roller
- cleaning liquid
- roll
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 27
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は印刷機ガイドローラー清浄液の塗布、張り合せ
を要する連続紙の糊の塗布、プリント基盤のフラックス
類の均一塗布、その他比較的年度の高い液体の均一な塗
布を行うための液塗布装置に関する。
を要する連続紙の糊の塗布、プリント基盤のフラックス
類の均一塗布、その他比較的年度の高い液体の均一な塗
布を行うための液塗布装置に関する。
（従来技術）
従来の液塗布装置は第３図に示すように清浄液槽３６内
にファンテローラ３８下部を沈漬回転させ、その表面に
清浄液３４を付着させ、塗布ローラー３９を介して走行
紙２２に洗浄液を塗布していた。
にファンテローラ３８下部を沈漬回転させ、その表面に
清浄液３４を付着させ、塗布ローラー３９を介して走行
紙２２に洗浄液を塗布していた。
（発明が解決しようとする課題）
上記従来技術にあっては塗布ローラー３９表面に付着し
た洗浄液は表面張力に基く端面効果で両端部にたまり易
く、中央部に比較して洗浄液の付着量が多くなり塗布ロ
ーラー表面金山に亘って均一に塗布されないという問題
点があった。
た洗浄液は表面張力に基く端面効果で両端部にたまり易
く、中央部に比較して洗浄液の付着量が多くなり塗布ロ
ーラー表面金山に亘って均一に塗布されないという問題
点があった。
（課題を解決するための手段）
本発明は上記問題点を解決することを目的とし、表面に
スパイラル溝を形成した塗布ローラーの一端上方に塗布
液の一定量供給装置を配設し、塗布ローラーに均一に塗
布液を配分塗布する如くしたことを特徴とする。
スパイラル溝を形成した塗布ローラーの一端上方に塗布
液の一定量供給装置を配設し、塗布ローラーに均一に塗
布液を配分塗布する如くしたことを特徴とする。
（実施例）
第１図は本考案を施した輪転機ガイドロール清浄装置で
ある。１は清浄液の塗布ローラで、表面をテフロン加工
しスパイラル溝２が形成されている。３は清掃液タンク
でノズル４は塗布ローラ１の一端上方に配設しである。
ある。１は清浄液の塗布ローラで、表面をテフロン加工
しスパイラル溝２が形成されている。３は清掃液タンク
でノズル４は塗布ローラ１の一端上方に配設しである。
５は塗布ローラ１の他端下方に配設した清浄液受槽でレ
ベルセンサ６により所定量を検出すると、環流ポンプ７
により清浄液タンク３に還流するようになっている。８
は塗布ローラ１の一端に固定されたモーメントアジャス
ターで、円盤８ａより放射状に突設された棒８ｂに重錘
８ｃが不等距離に固定され塗布ローラ１の回転をアンバ
ランスにしている。９は塗布ローラ１に当接した仲、介
ローラ、１０は清浄よう連続紙、１１は圧接ロール、１
２はガイドロールである。仲介ローラ９には液膜厚みを
一定にするスクイージ１３が配設されている。１４はノ
ズル４のバルブである。
ベルセンサ６により所定量を検出すると、環流ポンプ７
により清浄液タンク３に還流するようになっている。８
は塗布ローラ１の一端に固定されたモーメントアジャス
ターで、円盤８ａより放射状に突設された棒８ｂに重錘
８ｃが不等距離に固定され塗布ローラ１の回転をアンバ
ランスにしている。９は塗布ローラ１に当接した仲、介
ローラ、１０は清浄よう連続紙、１１は圧接ロール、１
２はガイドロールである。仲介ローラ９には液膜厚みを
一定にするスクイージ１３が配設されている。１４はノ
ズル４のバルブである。
次に作用について説明する６バルブ１４を開きノズル４
より清浄液タンク３内の清浄液１５を一定量塗布ローラ
１の一端に連続供給する。
より清浄液タンク３内の清浄液１５を一定量塗布ローラ
１の一端に連続供給する。
供給された清浄液は回転している塗布ローラ１のスパイ
ラル溝２の一端より他端に向って流れ、余剰の清浄液を
清浄液受槽５で受け、その液面をレベルセンサ６で検出
し、環流ポンプにより清浄液タンク３に戻す。塗布ロー
ラ１はモーメントアジャスター８により回転むらを生じ
、塗布ローラ１に塗布される清浄液のぬらしをよくし、
塗布ローラ１全面に亘って清浄液を均一に拡散する。塗
布ローラ１の清浄液は仲介ローラ９に移され余剰の清浄
液はスクイージ１３で除かれる。仲介ローラ９の清浄液
は清浄用連続紙１ｏに均一に適量塗布されガイドロール
１２の汚れを取る。
ラル溝２の一端より他端に向って流れ、余剰の清浄液を
清浄液受槽５で受け、その液面をレベルセンサ６で検出
し、環流ポンプにより清浄液タンク３に戻す。塗布ロー
ラ１はモーメントアジャスター８により回転むらを生じ
、塗布ローラ１に塗布される清浄液のぬらしをよくし、
塗布ローラ１全面に亘って清浄液を均一に拡散する。塗
布ローラ１の清浄液は仲介ローラ９に移され余剰の清浄
液はスクイージ１３で除かれる。仲介ローラ９の清浄液
は清浄用連続紙１ｏに均一に適量塗布されガイドロール
１２の汚れを取る。
（効 果）
本発明によると、表面にスパイラル溝を形成した塗布ロ
ーラーの一端上方に塗布液の一定量供給装置を配設し、
塗布ローラーに均一に塗布液を配分塗布する如くしであ
るので、塗布ローラ表面金山に亘って塗布液を均一に塗
布することができる。
ーラーの一端上方に塗布液の一定量供給装置を配設し、
塗布ローラーに均一に塗布液を配分塗布する如くしであ
るので、塗布ローラ表面金山に亘って塗布液を均一に塗
布することができる。
第１図は本発明を施した輪転機ガイドロール清浄装置の
正面図、第２図は第１図に施した本発明の一実施例斜視
図、第３図は従来装置の正面図である。 １・・・塗布ローラ ２・・・スパイラル溝 ３・・・清浄液タンク ４・・・ノズル 第３図 特許呂願人 株式会社 ケミカライジング研究所
正面図、第２図は第１図に施した本発明の一実施例斜視
図、第３図は従来装置の正面図である。 １・・・塗布ローラ ２・・・スパイラル溝 ３・・・清浄液タンク ４・・・ノズル 第３図 特許呂願人 株式会社 ケミカライジング研究所
Claims (1)
- 表面にスパイラル溝を形成した塗布ローラーの一端上方
に塗布液の一定量供給装置を配設し、塗布ローラーに均
一に塗布液を配分塗布する如くした液塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10212390A JPH044065A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 液塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10212390A JPH044065A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 液塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH044065A true JPH044065A (ja) | 1992-01-08 |
Family
ID=14319018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10212390A Pending JPH044065A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 液塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH044065A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61189545A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-23 | Fujitsu Ltd | 液状レジスト塗布ロ−ラ |
-
1990
- 1990-04-18 JP JP10212390A patent/JPH044065A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61189545A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-23 | Fujitsu Ltd | 液状レジスト塗布ロ−ラ |
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