JPH0440802B2 - - Google Patents

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JPH0440802B2
JPH0440802B2 JP60129464A JP12946485A JPH0440802B2 JP H0440802 B2 JPH0440802 B2 JP H0440802B2 JP 60129464 A JP60129464 A JP 60129464A JP 12946485 A JP12946485 A JP 12946485A JP H0440802 B2 JPH0440802 B2 JP H0440802B2
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JP
Japan
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powder
copper
acid
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organic compound
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Application number
JP60129464A
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English (en)
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JPS61288308A (ja
Inventor
Shigeru Sekya
Koshiro Shibata
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明はセラミツク基板との接着力に優れた導
電被膜を形成するための厚膜導体組成物の改善に
関する。 〔従来の技術〕 厚膜導体組成物は、銀、金、白金、パラジウム
等の貴金属の単体、これらの合金のうちの少なく
とも一つの粉末65〜93重量%と、ガラス粉末及
び/又は酸化ビスマス粉末0.5〜5重量%を、有
機酸ビヒクル6.5〜30重量%と共に混練したペー
スト状の組成物で、セラミツク基板上にスクリー
ン印刷等の手段を塗布し、750〜950℃の温度で焼
成すれば、上記貴金属及び/又は合金粉末はガラ
ス及び/又は酸化ビスマスを介して基板上に固着
され、導電被膜を形成するようになつており、半
導体素子を接合するための被膜形成用に、又、電
気回路や抵抗体の電極用等によく用いられてい
る。このような導電被膜のセラミツク基板との接
着力は重要な特性であり、この接着力はCuO、
Cu2Oを少量添加することにより改善される。と
ころがCuO、Cu2Oを添加した厚膜導体組成物に
より導電被膜を形成すると、該被膜表面に微小な
黒色斑点が現われることがある。この斑点は分析
の結果、酸化銅であることが判明し、添加した
CuO、Cu2O粉末が均一に分散されていないため
ではないかと考えられるが、このような斑点の存
在は外観上好ましくないばかりでなく、半田の付
着を妨げ、半導体単子の接合の障害となるので、
斑点を形成する恐れが無い組成物が望まれてい
た。 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明の目的は、上記従来の欠点を解消し、導
電被膜に酸化銅の斑点を生じる恐れのない厚膜導
体組成物を提供することにある。 〔問題点を解決するための手段〕 この目的を達成するため本発明の組成物は、
CuO、Cu2O粉末を用いる代わりに銅有機化合物
を用い、該塩をCuO換算で0.2〜5重量%含有せ
しめた点に特徴がある。 本発明に用いることができる銅有機化合物とし
て、ステアリン酸、オレイン酸、酪酸、蟻酸、乳
酸、ラウリン酸、サルチル酸、クエン酸、シユウ
酸、酒石酸、ナフテン酸、オクチル酸、安息香
酸、アセチルアセトン等の銅塩が挙げられる。こ
れらの銅有機化合物は通常固体であり、適当な有
機溶媒に溶解して添加する。 通常の厚膜組成物には有機質ビヒクルとして、
エチルセルロースをターピネオール、ブチルカル
ビトールアセテート等の溶媒に溶解したものが用
いられるが、この溶媒に溶解される銅有機化合物
は固体のまゝ添加しても良い。この溶媒に溶解し
ない銅有機化合物の溶解にはエタノール、メタノ
ール等のアルコール類、ピリジン、エーテル、ベ
ンゼン等を用いるとよい。蒸発し易い溶媒を用い
ると、大気中で組成物を製造する際に該溶媒が蒸
発して銅有機化合物が析出するが、析出粒子が微
細になるので何ら差支えはない。 本発明において銅有機化合物はCuO換算で0.2
〜5重量%含有せしめる必要がある。0.2重量%
未満では焼成膜と基板との接着力が充分でなく、
又、5重量%を超えると焼成膜の半田の濡れ性が
低下したり、半導体素子の接合性が低下したりす
るからである。 このような銅有機化合物を含有する厚膜導体組
成物をセラミツク基板に塗布し、乾燥後750〜950
℃で焼成すると銅有機化合物は分解して酸化銅と
なるが、前記乾燥により銅有機化合物が乾燥膜中
に均一に分散析出される結果、視認し得る大きさ
の斑点を形成することは無い。又、この酸化銅が
均一に分散された状態で生成する結果、焼成膜と
セラミツク基板との間に介在する酸化銅の分布も
又均一となり、強度のバラツキを小さくする効果
もある。 〔実施例〕 平均粒径2μmの粒状金粉、平均粒径3μmの銀粉
及び平均粒径0.1μmのパラジウム粉を用い、平均
粒径3.4μmの硼硅酸沿ガラス(Pbo60、B2O310、
SiO230各重量%)粉末と、酸化銅源とターピネ
オールにエチルセルロースを12重量%含有せしめ
た有機酸ビヒクルとを3本ロールミルで混練して
ペースト状とし、該ペーストを2.5cm角のAl2O3
板上に10mm角のパターンでスクリーン印刷し、
125℃で10分間乾燥後、金ペーストは900℃、銀−
パラジウム及び銀ペーストは850℃で焼成し、焼
成膜の外観、特性を評価した。金被膜は外観と、
Siチツプとの接合性、銀−パラジウム及び銀被膜
は外観と、半田濡れ性を評価した。Siチツプとの
接合性、半田濡れ性は次のような試験に依つた。 (i) Siチツプとの接合性 ダイボンダーを用いて上記金被膜上に1.5mm
角のSiチツプを接合した後、該Siチツプの剥離
強度を測定した。この強度が5Kg以上を〇、2
Kg以下を×、中間を△とした。 (ii) 半田濡れ性 230℃の半田溶上にAl2O3基板を浮べ、被膜
上にフラツクスを滴下し、直径4mm、高さ2.85
mmの60Sn/40Pb半田ペレツトを乗せて半田を
10秒間熔融し、冷却後半田の広がりの大きさを
測定した。直径6mm以上を〇、5mm以下を×と
し、中間を△とした。 又、外観の評価は、酸化銅源無添加のものを
標準試料として比較の基準とし、変色、色ムラ
のあるものは△、斑点が視認されるものを×、
標準試料と同等と認められるものを〇とした。 ペースト組成及び焼成膜の評価結果と第1表に
まとめて示す。
【表】
【表】 第1表からCuOに代えて銅有機化合物の添加に
より外観、Siチツプ接合性、半田濡れ性が改善さ
れること、添加量が多過ぎると外観、半田濡れ性
が低下するので好ましくないことが判る。 〔発明の効果〕 本発明によれば、Siチツプ接合、半田付けに有
害な酸化銅の斑点が形成されず、セラミツク基板
との接着力の優れた導電被膜を形成することがで
きる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 銀、金、白金、パラジウム等の貴金属の単
    体、これらの合金のうち少なくとも一つの粉末
    と、ガラス粉末及び/又は酸化ビスマス粉末を、
    有機質ビヒクルと共に混練した厚膜導体組成物に
    おいて、銅有機化合物をCuO換算で0.2〜5重量
    %含有することを特徴とする厚膜導体組成物。
JP12946485A 1985-06-13 1985-06-13 厚膜導体組成物 Granted JPS61288308A (ja)

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JP12946485A JPS61288308A (ja) 1985-06-13 1985-06-13 厚膜導体組成物

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JPS61288308A JPS61288308A (ja) 1986-12-18
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JPS61245406A (ja) * 1985-04-24 1986-10-31 昭和電工株式会社 導電ペ−スト

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