JPH0441155A - ワイヤ放電加工機 - Google Patents
ワイヤ放電加工機Info
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- JPH0441155A JPH0441155A JP14924690A JP14924690A JPH0441155A JP H0441155 A JPH0441155 A JP H0441155A JP 14924690 A JP14924690 A JP 14924690A JP 14924690 A JP14924690 A JP 14924690A JP H0441155 A JPH0441155 A JP H0441155A
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- Japan
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- axis
- circular
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- axis table
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- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、2軸が直交する座標系のテーブルを有する
NC(数値制御)装置を搭載するワイヤ放電加工機に間
するものである。
NC(数値制御)装置を搭載するワイヤ放電加工機に間
するものである。
[従来の技術]
第3図(a)及び(b)は従来のワイヤ放電加工機のタ
ンク系を除いたシステム系を示す構成図及びその要部を
示す拡大図である。図において、被加工物lにはあらか
しめイニシャルホール1aを開けておき、このイニシャ
ルホールIaにワイヤ電極2を挿通ずる。被加工物1と
ワイヤ電極2との間の間隙に絶縁性の加工M9bを介在
させるために、上記間隙に加工液ノズル9aから加工液
9bを噴射させる。被加工物1とワイヤ電極2との間の
相対的運動は、被加工物1を載置させているX軸テーブ
ル3の移動によって行われる。また、X軸テーブル3は
X軸モータ14により駆動され、Y軸テーブル4はY軸
モータ15により駆動され、それぞれのX軸テーブル3
及びY軸テーブル4は直交座標系を形成している。以上
のような構成によって、被加工物1とワイヤ電極2との
間の相対的運動は、X軸、Y軸平面内において2次元的
運動となる。
ンク系を除いたシステム系を示す構成図及びその要部を
示す拡大図である。図において、被加工物lにはあらか
しめイニシャルホール1aを開けておき、このイニシャ
ルホールIaにワイヤ電極2を挿通ずる。被加工物1と
ワイヤ電極2との間の間隙に絶縁性の加工M9bを介在
させるために、上記間隙に加工液ノズル9aから加工液
9bを噴射させる。被加工物1とワイヤ電極2との間の
相対的運動は、被加工物1を載置させているX軸テーブ
ル3の移動によって行われる。また、X軸テーブル3は
X軸モータ14により駆動され、Y軸テーブル4はY軸
モータ15により駆動され、それぞれのX軸テーブル3
及びY軸テーブル4は直交座標系を形成している。以上
のような構成によって、被加工物1とワイヤ電極2との
間の相対的運動は、X軸、Y軸平面内において2次元的
運動となる。
ワイヤ電極2はワイヤ電極供給ボビン12により供給さ
れ、上部ワイヤ電極ガイド9から被加工物lを通過して
下部ワイヤ電極ガイF’ 10に達し、また電気的エネ
ルギー源である上部給電部9C及び下部給電部10aを
介してワイヤ電極巻取り回収ローラ13によって回収さ
れる。この時、ワイヤ電極2にはブレーキプーリ11に
よって一定のテンションが加えられている。X軸モータ
14゜Y軸モータ15の駆動及び制御を行う制御装置1
8としては、NC(数値制御)装置が用いられている。
れ、上部ワイヤ電極ガイド9から被加工物lを通過して
下部ワイヤ電極ガイF’ 10に達し、また電気的エネ
ルギー源である上部給電部9C及び下部給電部10aを
介してワイヤ電極巻取り回収ローラ13によって回収さ
れる。この時、ワイヤ電極2にはブレーキプーリ11に
よって一定のテンションが加えられている。X軸モータ
14゜Y軸モータ15の駆動及び制御を行う制御装置1
8としては、NC(数値制御)装置が用いられている。
なお図中で、5はテーパ装置、6はZ軸(主軸)、7は
コラム、8は下部アーム、16はX軸テーブルガイド、
17はY軸テーブルガイドを示している。
コラム、8は下部アーム、16はX軸テーブルガイド、
17はY軸テーブルガイドを示している。
第4図(a)及び(b)は第3図(a)のワイヤ放電加
工機におけるテーブル駆動部と制御装置との関連を示す
構成図及びその主要な動作説明図、第5図(a)及び(
b)は第3図(a)のワイヤ放電加工機におけるテーブ
ル駆動部上の真円測定装置と制御装置との関連を示す構
成図及びその主要な動作説明図である。図において、3
はX軸テーブル、4はY軸テーブル、9は上部ワイヤ電
極ガイド、10は下部ワイヤ電極ガイド、14はX軸モ
ータ、15はY軸モータ、18は制御装置(NC装置)
、18aは演算処理装置(制御指令装置)、18bはメ
モリ装置、18cはサーボアンプ、19aは2次元アナ
ログプローブ、19bは接触子、20はマスタリング、
21はX−Y軸プロッタである。
工機におけるテーブル駆動部と制御装置との関連を示す
構成図及びその主要な動作説明図、第5図(a)及び(
b)は第3図(a)のワイヤ放電加工機におけるテーブ
ル駆動部上の真円測定装置と制御装置との関連を示す構
成図及びその主要な動作説明図である。図において、3
はX軸テーブル、4はY軸テーブル、9は上部ワイヤ電
極ガイド、10は下部ワイヤ電極ガイド、14はX軸モ
ータ、15はY軸モータ、18は制御装置(NC装置)
、18aは演算処理装置(制御指令装置)、18bはメ
モリ装置、18cはサーボアンプ、19aは2次元アナ
ログプローブ、19bは接触子、20はマスタリング、
21はX−Y軸プロッタである。
次に、上記従来のワイヤ放電加工機の動作について説明
する。被加工物1とワイヤ電極2との相対運動は、X軸
テーブル3. Y軸テーブル4と上部ワイヤ電極ガイ
ド9.下部ワイヤ電極ガイド10との相対間係と同一で
あり、上記のような相対運動による円軌跡、三角形軌跡
、四角形軌跡等の幾何学的な移動軌跡が被加工物1に転
写されるために、X軸テーブル3. Y軸テーブル4
の運動軌跡の動的精度がワイヤ放電加工機には給体条件
となる。そのため、X軸テーブル3. Y軸テーブル
4の動的運動がどれほど精度良く、指令に忠実に実行さ
れるかどうかを判定する方法を実施する。
する。被加工物1とワイヤ電極2との相対運動は、X軸
テーブル3. Y軸テーブル4と上部ワイヤ電極ガイ
ド9.下部ワイヤ電極ガイド10との相対間係と同一で
あり、上記のような相対運動による円軌跡、三角形軌跡
、四角形軌跡等の幾何学的な移動軌跡が被加工物1に転
写されるために、X軸テーブル3. Y軸テーブル4
の運動軌跡の動的精度がワイヤ放電加工機には給体条件
となる。そのため、X軸テーブル3. Y軸テーブル
4の動的運動がどれほど精度良く、指令に忠実に実行さ
れるかどうかを判定する方法を実施する。
この判定方法では、第4図(a)に示すX軸テーブル3
. Y軸テーブル4が一定の大きさの円弧形状を描く
ように、制御装置18内の演算処理装置18aとメモリ
装置18bから円弧補間指令をサーボアンプ18cに出
力し、X軸モータ14.Y軸モータ15を駆動させる。
. Y軸テーブル4が一定の大きさの円弧形状を描く
ように、制御装置18内の演算処理装置18aとメモリ
装置18bから円弧補間指令をサーボアンプ18cに出
力し、X軸モータ14.Y軸モータ15を駆動させる。
この時、上部ワイヤ電極ガイド9又は下部ワイヤ電極ガ
イド10の路体位置よりX軸テーブル3. Y軸テー
ブル4の座標系を相対的に観測し、理想とする円弧形状
(真円形状)に対してどれほとの誤差量で円弧形状軌跡
を描くかを測定する。そして、上記誤差量の数値的量や
軌跡の形状や円弧形状内の象限位置等から、X軸テーブ
ル3. Y軸テーブル4の運動特性や機械構造上の問
題点、また制御装置18内の演算処理装置18aによる
演算処理精度、指令処理速度等を評価し判断することが
できる。
イド10の路体位置よりX軸テーブル3. Y軸テー
ブル4の座標系を相対的に観測し、理想とする円弧形状
(真円形状)に対してどれほとの誤差量で円弧形状軌跡
を描くかを測定する。そして、上記誤差量の数値的量や
軌跡の形状や円弧形状内の象限位置等から、X軸テーブ
ル3. Y軸テーブル4の運動特性や機械構造上の問
題点、また制御装置18内の演算処理装置18aによる
演算処理精度、指令処理速度等を評価し判断することが
できる。
上記のような判定方法を実施するために、公知の真円測
定装置(円板法、DBB法)を用いて実現することがで
きる。その動作原理について簡単に説明する。第5図(
a)に示すように、絶体位置系に固定される2次元アナ
ログプローブ19aの先端部に取り付けられる接触子1
9bと停台状態となるように、X軸テーブル3上に極め
て理想内に近い基準円であるマスタリング20を固定す
る。この時、接触子19bをマスタリング20の内側面
に一定の変位It(例えば40μm)を与えるように接
触させる。この状態において、制御袋a1Bより円弧補
間指令を出力し・てX軸モータ14、 Y軸モータ1
5を駆動し、X軸テーブル3゜Y軸テーブル4に変位が
一定となる半径の円運動を行わせる。そしてこの時、上
記絶体位置系に固定される2次元アナログプローブ19
aもX軸テーブル3. Y軸テーブル4に対して相対
的に円運動を行うことになる。従って、接触子19bが
検出する理想内(マスタリング20の内側面)に対する
誤差を2次元アナログプローブ19a内で増幅し、その
2次元信号をX−Y軸プロッタ21上に記録(録画)す
る。
定装置(円板法、DBB法)を用いて実現することがで
きる。その動作原理について簡単に説明する。第5図(
a)に示すように、絶体位置系に固定される2次元アナ
ログプローブ19aの先端部に取り付けられる接触子1
9bと停台状態となるように、X軸テーブル3上に極め
て理想内に近い基準円であるマスタリング20を固定す
る。この時、接触子19bをマスタリング20の内側面
に一定の変位It(例えば40μm)を与えるように接
触させる。この状態において、制御袋a1Bより円弧補
間指令を出力し・てX軸モータ14、 Y軸モータ1
5を駆動し、X軸テーブル3゜Y軸テーブル4に変位が
一定となる半径の円運動を行わせる。そしてこの時、上
記絶体位置系に固定される2次元アナログプローブ19
aもX軸テーブル3. Y軸テーブル4に対して相対
的に円運動を行うことになる。従って、接触子19bが
検出する理想内(マスタリング20の内側面)に対する
誤差を2次元アナログプローブ19a内で増幅し、その
2次元信号をX−Y軸プロッタ21上に記録(録画)す
る。
このようにして記録された円形状軌跡の図形の形や真円
との誤差・偏差を求めて解析することにより、X軸テー
ブル3. Y軸テーブル4の運動特性や制御装置18
内の演算処理装置1B&による演算処理速度、精度等を
認識することができる。
との誤差・偏差を求めて解析することにより、X軸テー
ブル3. Y軸テーブル4の運動特性や制御装置18
内の演算処理装置1B&による演算処理速度、精度等を
認識することができる。
[発明が解決しようとする課題]
上記した従来のワイヤ放電加工機は以上のように構成さ
れているので、X軸テーブル3. Y軸テーブル4の
円運動をX−Y軸プロッタ21に記録した後に、このX
−Y軸プロッタ21の記録用紙に描かれた軌跡に対し、
人間の手作業によって基準線や誤差量の記入等の解析が
行われていた。例えば、基準となる真円軌跡線を円定規
で描いて、軌跡のずれを誤差として測る等の手作業が行
われていたために、その作業性が著しく非効率的となり
、特に軌跡を描くペンの太さや真円を描く同心度等によ
ってデータの分析自身に信頼性が薄れてしまうことにな
る。そのために、正確な補正データを制御装置18内の
メモリ装置18bに人力することが不可能であり、高精
度な円軌跡運動に補正することができないという問題点
があった。
れているので、X軸テーブル3. Y軸テーブル4の
円運動をX−Y軸プロッタ21に記録した後に、このX
−Y軸プロッタ21の記録用紙に描かれた軌跡に対し、
人間の手作業によって基準線や誤差量の記入等の解析が
行われていた。例えば、基準となる真円軌跡線を円定規
で描いて、軌跡のずれを誤差として測る等の手作業が行
われていたために、その作業性が著しく非効率的となり
、特に軌跡を描くペンの太さや真円を描く同心度等によ
ってデータの分析自身に信頼性が薄れてしまうことにな
る。そのために、正確な補正データを制御装置18内の
メモリ装置18bに人力することが不可能であり、高精
度な円軌跡運動に補正することができないという問題点
があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、X軸テーブル、Y軸テーブルの高精度な円軌
跡運動を可能とするテーブル駆動系を備えたワイヤ放電
加工機を得ることを目的とする。
たもので、X軸テーブル、Y軸テーブルの高精度な円軌
跡運動を可能とするテーブル駆動系を備えたワイヤ放電
加工機を得ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段]
この発明に係るワイヤ放電加工機は、X軸テーブル、Y
軸テーブルが描いた円軌跡の誤差量をオンラインで制御
装置にフィードバックさせ、この制御装置内の図形処理
装置、メモリ装置、演算処理装置等を用いて上記誤差量
の自動補正処理を行い、X軸テーブル、Y軸テーブルの
円軌跡運動を実行させるものである。
軸テーブルが描いた円軌跡の誤差量をオンラインで制御
装置にフィードバックさせ、この制御装置内の図形処理
装置、メモリ装置、演算処理装置等を用いて上記誤差量
の自動補正処理を行い、X軸テーブル、Y軸テーブルの
円軌跡運動を実行させるものである。
[作用]
この発明におけるワイヤ放電加工機は、X軸テーブル、
Y軸テーブルが描いた円軌跡に対して、2次元アナログ
プローブで検出した幾何学的な円軌跡の誤差量を制御装
置内にオンラインで取り込み、機械的に生じるバックラ
ッシュ(ヒステリシス)や、X軸、Y軸の2軸のサーボ
追従遅れや、2軸の機械的直角塵等を幾何学的な形状の
違いや誤差とから実施する図形処理と算出式にて求め、
上記誤差量を自動的に補正処理することにより、人間の
手作業によるミス、誤差を削除する。
Y軸テーブルが描いた円軌跡に対して、2次元アナログ
プローブで検出した幾何学的な円軌跡の誤差量を制御装
置内にオンラインで取り込み、機械的に生じるバックラ
ッシュ(ヒステリシス)や、X軸、Y軸の2軸のサーボ
追従遅れや、2軸の機械的直角塵等を幾何学的な形状の
違いや誤差とから実施する図形処理と算出式にて求め、
上記誤差量を自動的に補正処理することにより、人間の
手作業によるミス、誤差を削除する。
[実施例]
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明の実施例であるワイヤ放電加工機における
テーブル駆動部上の真円測定装置と制御装置との関連を
示す構成図である。図において、3はX軸テーブル、4
はY軸テーブル、14はX軸モータ、15はY軸モータ
、18は制御装置(NC装置)、18aは演算処理装置
(制御指令装置)、18bはメモリ装置、18cはサー
ボアンプ、18dは図形処理装置、19aは2次元アナ
ログプローブ、19bは接触子、20はマスタリング、
21はX−Y軸プロッタである。
図はこの発明の実施例であるワイヤ放電加工機における
テーブル駆動部上の真円測定装置と制御装置との関連を
示す構成図である。図において、3はX軸テーブル、4
はY軸テーブル、14はX軸モータ、15はY軸モータ
、18は制御装置(NC装置)、18aは演算処理装置
(制御指令装置)、18bはメモリ装置、18cはサー
ボアンプ、18dは図形処理装置、19aは2次元アナ
ログプローブ、19bは接触子、20はマスタリング、
21はX−Y軸プロッタである。
第2図は第1図のワイヤ放電加工機において、X軸テー
ブル、Y軸テーブルが描いた円軌跡形状よりテーブル駆
動系の動的精度の判定を数値化し及び算出するための説
明図である。
ブル、Y軸テーブルが描いた円軌跡形状よりテーブル駆
動系の動的精度の判定を数値化し及び算出するための説
明図である。
次に、上記この発明の実施例であるワイヤ放電加工機の
動作について説明する。X軸テーブル。
動作について説明する。X軸テーブル。
Y軸テ・−プル4が一定の大きさの円弧形状を描く時、
2次元アナログプローブ19aが検出する誤差量(真円
に対する軌跡誤差)をオンラインで制御装置18にフィ
ードバックさせ、この制御装置18内の図形処理装置1
8dに入力し、この図形処理装置18dで補正データを
作成してメモリ装置18bに−たん格納する。ここで、
上記の補正データの作成方法において、第2図に示すよ
うに機械的なバックラッシュ(ヒステリシス)が生しる
と、破線(−一一線)で示す真円に対し、X軸。
2次元アナログプローブ19aが検出する誤差量(真円
に対する軌跡誤差)をオンラインで制御装置18にフィ
ードバックさせ、この制御装置18内の図形処理装置1
8dに入力し、この図形処理装置18dで補正データを
作成してメモリ装置18bに−たん格納する。ここで、
上記の補正データの作成方法において、第2図に示すよ
うに機械的なバックラッシュ(ヒステリシス)が生しる
と、破線(−一一線)で示す真円に対し、X軸。
Y軸線上の部分で段差形状の軌跡が表われるために、そ
の段差量を各X軸、Y軸ごとに+側、−例とに区別して
、それぞれの段差量(XI、 X21 5’++y2
)を下記の第(1)、 (2)式に当はめる。
の段差量を各X軸、Y軸ごとに+側、−例とに区別して
、それぞれの段差量(XI、 X21 5’++y2
)を下記の第(1)、 (2)式に当はめる。
X軸バックラッシュ量
△Bx” l XI+X2 l / 2 −・・・(1
)Y軸バックラッシュ量 △Bv= I yI+ 5’2 l / 2 ・・・
・・・(2)ここで、x、: X軸+側段差量、X2:
X軸−側段差量+ y+: Y軸子側段差量* y
2: Y軸−側段差量である。
)Y軸バックラッシュ量 △Bv= I yI+ 5’2 l / 2 ・・・
・・・(2)ここで、x、: X軸+側段差量、X2:
X軸−側段差量+ y+: Y軸子側段差量* y
2: Y軸−側段差量である。
よって、上記第(1)、 (2)式よりX軸バックラ
ッシュ量ABX、 Y軸バックラッシュ量△Bvが求
まる。次に、各X軸、Y軸のサーボゲインの不一致によ
るサーボ追従遅れが生じると、真円に対して円軌跡が±
45°方向の楕円となり、X軸テーブル3. Y軸テ
ーブル4の円弧補間の運動方向(cw力方向ccw方向
)を変えると長軸方向が変化する。この時、X軸、Y軸
の2軸のサーボゲインがX軸、Y軸間で一致していない
ために、下記の算出式である第(3)式が得られる。
ッシュ量ABX、 Y軸バックラッシュ量△Bvが求
まる。次に、各X軸、Y軸のサーボゲインの不一致によ
るサーボ追従遅れが生じると、真円に対して円軌跡が±
45°方向の楕円となり、X軸テーブル3. Y軸テ
ーブル4の円弧補間の運動方向(cw力方向ccw方向
)を変えると長軸方向が変化する。この時、X軸、Y軸
の2軸のサーボゲインがX軸、Y軸間で一致していない
ために、下記の算出式である第(3)式が得られる。
ΔG= ((dl−d2) (d3 d4)) /
4・・・・・・(3) ここで、ΔG:X軸、Y軸のサーボゲインの不一致によ
る遅れ量+ dl: CW時の楕円の短軸長さ、d
2:cW時の楕円の長軸長さ、d3:CCW時の楕円の
長軸長さ、d4: ccw時の楕円の短軸長さである
。
4・・・・・・(3) ここで、ΔG:X軸、Y軸のサーボゲインの不一致によ
る遅れ量+ dl: CW時の楕円の短軸長さ、d
2:cW時の楕円の長軸長さ、d3:CCW時の楕円の
長軸長さ、d4: ccw時の楕円の短軸長さである
。
上記第(3)式によりX軸、Y軸のサーボゲインの不一
致によるサーボ追従遅れ量が求まり、サーボゲインのパ
ラメータ補正量、すなわちX軸。
致によるサーボ追従遅れ量が求まり、サーボゲインのパ
ラメータ補正量、すなわちX軸。
Y軸のサーボゲインの不一致による遅れ量ΔGが求まる
。そして、X軸、Y軸の2軸の直角度に誤差が生じてい
る場合に、真円に対して±45°方向の楕円となるが、
円弧補間の運動方向(CW力方向CCW方向)を変えて
も、楕円の長軸の方向は変化しない。この時、楕円の長
軸の方向によって直角度誤差が鋭角が鈍角かの判別がで
き、その誤差量は下記の算出式である第(4)式によっ
て得られる。
。そして、X軸、Y軸の2軸の直角度に誤差が生じてい
る場合に、真円に対して±45°方向の楕円となるが、
円弧補間の運動方向(CW力方向CCW方向)を変えて
も、楕円の長軸の方向は変化しない。この時、楕円の長
軸の方向によって直角度誤差が鋭角が鈍角かの判別がで
き、その誤差量は下記の算出式である第(4)式によっ
て得られる。
△E = d + −d 2 / d ・・・・・
・・・・・・・ (4)ここで、△E:直角度誤差、d
:基準円径(マスタリング径)、 dl: ±456
方向の直径、 d2ニー45°方向の直径である。
・・・・・・・ (4)ここで、△E:直角度誤差、d
:基準円径(マスタリング径)、 dl: ±456
方向の直径、 d2ニー45°方向の直径である。
上記第(4)式によりX軸、Y軸の直角度補正量が求め
られる。
られる。
以上述べたような3つの現象については、それぞれ上記
第(1)〜(4)式によって求まる補正量を用いること
により、制御装置18内の演算処理装置18aから補正
処理を含めた指令をサーボアンプ18cを経由してX軸
モータ14.Y軸モータ15に出力する。これにより、
X軸テーブル3、 Y軸テーブル4が初回に描いた円
軌跡よりも理想内(真円)に近い円軌跡になるように、
自動的に上記円軌跡の補正をすることができる。また、
このような作業(プロセス)を数回繰り返して行うこと
により、より一層理想的な真円を得ることが可能となる
。
第(1)〜(4)式によって求まる補正量を用いること
により、制御装置18内の演算処理装置18aから補正
処理を含めた指令をサーボアンプ18cを経由してX軸
モータ14.Y軸モータ15に出力する。これにより、
X軸テーブル3、 Y軸テーブル4が初回に描いた円
軌跡よりも理想内(真円)に近い円軌跡になるように、
自動的に上記円軌跡の補正をすることができる。また、
このような作業(プロセス)を数回繰り返して行うこと
により、より一層理想的な真円を得ることが可能となる
。
なお、上記実施例では、X軸テーブル3. Y軸テー
ブル4が描いた円軌跡の誤差量を自動的に補正する自動
補正手段をワイヤ放電加工機に適用した場合について示
しているが、2軸が直交する座標系のテーブルを有する
NC装置を搭載するすべての工作機械にも適用すること
ができ、上記実施例と同様の効果を奏する。
ブル4が描いた円軌跡の誤差量を自動的に補正する自動
補正手段をワイヤ放電加工機に適用した場合について示
しているが、2軸が直交する座標系のテーブルを有する
NC装置を搭載するすべての工作機械にも適用すること
ができ、上記実施例と同様の効果を奏する。
[発明の効果コ
以上のように、この発明のワイヤ放電加工機によれば、
X軸テーブル、Y軸テーブルが描いた円軌跡の誤差量を
オンラインで制御装置にフィードバックさせ、この制御
装置内の図形処理装置、メモリ装置、演算処理装置等を
用いて上記誤差量の自動補正処理を行い、X軸テーブル
、Y軸テーブルの円軌跡運動を実行させる構成としたの
で、X軸テーブル、Y軸テーブルが描く一定の半径の円
運動の軌跡をより理想内(真円)に近い円に自動的に補
正することができ、そのために、人間の手作業が介在さ
れることなく、より高精度で高信頼性の円軌跡の補正処
理を簡単に実施することができるという優れた効果を奏
する。
X軸テーブル、Y軸テーブルが描いた円軌跡の誤差量を
オンラインで制御装置にフィードバックさせ、この制御
装置内の図形処理装置、メモリ装置、演算処理装置等を
用いて上記誤差量の自動補正処理を行い、X軸テーブル
、Y軸テーブルの円軌跡運動を実行させる構成としたの
で、X軸テーブル、Y軸テーブルが描く一定の半径の円
運動の軌跡をより理想内(真円)に近い円に自動的に補
正することができ、そのために、人間の手作業が介在さ
れることなく、より高精度で高信頼性の円軌跡の補正処
理を簡単に実施することができるという優れた効果を奏
する。
第1図はこの発明の実施例であるワイヤ放電加工機にお
けるテーブル駆動部上の真円測定装置と制御装置との関
連を示す構成図、第2図は第1図のワイヤ放電加工機に
おいて、X軸テーブル、Y軸テーブルが描いた円軌跡形
状よりテーブル駆動系の動的精度の判定を数値化し及び
算出するための説明図、第3図(a)及び(b)は従来
のワイヤ放電加工機のタンク系を除いたシステム系を示
す構成図及びその要部を示す拡大図、第4図(a)及び
(b)は第3図(a)のワイヤ放電加工機におけるテー
ブル駆動部と制御装置との関連を示す構成図及びその主
要な動作説明図、第5図(a)及び(b)は第3図(a
)のワイヤ放電加工機におけるテーブル駆動部上の真円
測定装置と制御装置との関連を示す構成図及びその主要
な動作説明図である。 図において、1・・・被加工物、1a・・・イニシャル
ホール、2・・・ワイヤ電極、3・・・X軸テーブル、
4・・・Y軸テーブル、5・・・テーバ装置、6・・・
Z軸(主軸)、7・・・コラム、8・・・下部アーム、
9・・・上部ワイヤ電極ガイド、9a・・・加工液ノズ
ル、9b・・・加工液、9c・・・上部給電部、10・
・・下部ワイヤ電極ガイド、10a・・・下部給電部、
11・・・ブレーキプーリ、12・・・ワイヤ電極供給
ボビン、13・・・ワイヤ電極巻取り回収ローラ、14
・・・X軸モータ、15・−・Y軸モータ、16−・・
X軸テーブルガイド、17・・・Y軸テーブルガイド、
18・・・制御装置(NC装置)、18a・・・演算処
理装置(制御指令装置)、18b・・・メモリ装置、1
8c・・・サーボアンプ、18d・・・図形処理装置、
19a・・・2次元アナログプローブ、19b・・・接
触子、20・・・マスタリング、21・・−X−Y軸プ
ロッタ である。 なお、図中、同一符号は同一 又は相当部分を示す。
けるテーブル駆動部上の真円測定装置と制御装置との関
連を示す構成図、第2図は第1図のワイヤ放電加工機に
おいて、X軸テーブル、Y軸テーブルが描いた円軌跡形
状よりテーブル駆動系の動的精度の判定を数値化し及び
算出するための説明図、第3図(a)及び(b)は従来
のワイヤ放電加工機のタンク系を除いたシステム系を示
す構成図及びその要部を示す拡大図、第4図(a)及び
(b)は第3図(a)のワイヤ放電加工機におけるテー
ブル駆動部と制御装置との関連を示す構成図及びその主
要な動作説明図、第5図(a)及び(b)は第3図(a
)のワイヤ放電加工機におけるテーブル駆動部上の真円
測定装置と制御装置との関連を示す構成図及びその主要
な動作説明図である。 図において、1・・・被加工物、1a・・・イニシャル
ホール、2・・・ワイヤ電極、3・・・X軸テーブル、
4・・・Y軸テーブル、5・・・テーバ装置、6・・・
Z軸(主軸)、7・・・コラム、8・・・下部アーム、
9・・・上部ワイヤ電極ガイド、9a・・・加工液ノズ
ル、9b・・・加工液、9c・・・上部給電部、10・
・・下部ワイヤ電極ガイド、10a・・・下部給電部、
11・・・ブレーキプーリ、12・・・ワイヤ電極供給
ボビン、13・・・ワイヤ電極巻取り回収ローラ、14
・・・X軸モータ、15・−・Y軸モータ、16−・・
X軸テーブルガイド、17・・・Y軸テーブルガイド、
18・・・制御装置(NC装置)、18a・・・演算処
理装置(制御指令装置)、18b・・・メモリ装置、1
8c・・・サーボアンプ、18d・・・図形処理装置、
19a・・・2次元アナログプローブ、19b・・・接
触子、20・・・マスタリング、21・・−X−Y軸プ
ロッタ である。 なお、図中、同一符号は同一 又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 2軸が直交する座標系のテーブルを有するNC装置を搭
載するワイヤ放電加工機において、上記テーブルを直交
する座標系内で一定の半径の円運動をさせた時に、同一
の半径上の真円に対して生じる円軌跡誤差を幾何学的に
求める誤差検出手段と、上記円軌跡誤差を図形処理装置
を用いて数値化し、その誤差量を制御装置により自動的
に補正する自動補正手段とを備えたことを特徴とするワ
イヤ放電加工機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14924690A JPH0441155A (ja) | 1990-06-07 | 1990-06-07 | ワイヤ放電加工機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14924690A JPH0441155A (ja) | 1990-06-07 | 1990-06-07 | ワイヤ放電加工機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0441155A true JPH0441155A (ja) | 1992-02-12 |
Family
ID=15471072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14924690A Pending JPH0441155A (ja) | 1990-06-07 | 1990-06-07 | ワイヤ放電加工機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0441155A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2157188A1 (en) | 2003-01-24 | 2010-02-24 | Ajinomoto Co., Inc. | Method for producing alpha-L-Aspartyl-L-phenylalanine-Beta-ester and method for producing alpha-L-aspartyl-L-phenylalanine-alpha-methyl ester |
-
1990
- 1990-06-07 JP JP14924690A patent/JPH0441155A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2157188A1 (en) | 2003-01-24 | 2010-02-24 | Ajinomoto Co., Inc. | Method for producing alpha-L-Aspartyl-L-phenylalanine-Beta-ester and method for producing alpha-L-aspartyl-L-phenylalanine-alpha-methyl ester |
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