JPH0441274B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0441274B2 JPH0441274B2 JP25316686A JP25316686A JPH0441274B2 JP H0441274 B2 JPH0441274 B2 JP H0441274B2 JP 25316686 A JP25316686 A JP 25316686A JP 25316686 A JP25316686 A JP 25316686A JP H0441274 B2 JPH0441274 B2 JP H0441274B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- hopper
- particle size
- discharged
- repulsion plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Vertical, Hearth, Or Arc Furnaces (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(イ) 産業上の利用分野
本発明は、精錬炉への原料装入方法に関するも
のである。
のである。
(ロ) 従来技術
従来の精錬炉への原料装入方法は、例えばベル
レス炉頂装入装置の場合、第２図に示すように、
精錬炉１の炉頂部に、原料貯蔵ホツパ２、原料下
部集合ホツパ３、分配シユート４を設けて炉内に
原料を装入している。原料装入のさいに、ホツパ
２の内張りライナの摩耗防止のために、ストー
ン・ボツクス等の原料反発板５が設けられてい
る。
レス炉頂装入装置の場合、第２図に示すように、
精錬炉１の炉頂部に、原料貯蔵ホツパ２、原料下
部集合ホツパ３、分配シユート４を設けて炉内に
原料を装入している。原料装入のさいに、ホツパ
２の内張りライナの摩耗防止のために、ストー
ン・ボツクス等の原料反発板５が設けられてい
る。
精錬炉１の付帯設備である原料ホツパ２からの
排出原料粒径経時変化は、精錬炉１内の原料装入
物分布に重大な影響を与える。特に、還元ガスと
粒状原料の向流還元精錬炉において、この原料粒
径経時変化の制御は還元ガスの利用効率および原
料充填層の圧損を決定する支配的要因の１つであ
る。
排出原料粒径経時変化は、精錬炉１内の原料装入
物分布に重大な影響を与える。特に、還元ガスと
粒状原料の向流還元精錬炉において、この原料粒
径経時変化の制御は還元ガスの利用効率および原
料充填層の圧損を決定する支配的要因の１つであ
る。
この原料ホツパ２からの排出原料粒径経時変化
を最小にする方法として、原料整流板（反発板）
をホツパ２出口付近に固定設置し、原料排出状況
をフアンネルフローからマスフロー（ピストンフ
ロー）に近付ける方式が提案されている（川崎製
鉄技報1982年、Vol.14，No.４，pp405−415）。し
かし、この方法は原料整流板を出口付近に設置す
ることに起因する原料の棚吊り現象が発生する危
険性がある。
を最小にする方法として、原料整流板（反発板）
をホツパ２出口付近に固定設置し、原料排出状況
をフアンネルフローからマスフロー（ピストンフ
ロー）に近付ける方式が提案されている（川崎製
鉄技報1982年、Vol.14，No.４，pp405−415）。し
かし、この方法は原料整流板を出口付近に設置す
ることに起因する原料の棚吊り現象が発生する危
険性がある。
なお、参考のために、従来の原料ホツパ２内の
原料排出時のフアンネルフローを第３図Ａ，Ｂ，
Ｃ，Ｄ，Ｅに経時的に示す。図示するように、粗
粒の原料は側壁抵抗により、排出が遅れる傾向が
ある。
原料排出時のフアンネルフローを第３図Ａ，Ｂ，
Ｃ，Ｄ，Ｅに経時的に示す。図示するように、粗
粒の原料は側壁抵抗により、排出が遅れる傾向が
ある。
この現象を第４図に示す。図中モデル・ホツパ
を破線でまた実機ホツパを実線で示す。図から原
料排出時間が長くなるにつれて、原料の粗粒が増
えることがわかる。
を破線でまた実機ホツパを実線で示す。図から原
料排出時間が長くなるにつれて、原料の粗粒が増
えることがわかる。
また、第５図Ａに示すように、ホツパ２内の反
発板５を設けない場合のホツパからの排出原料粒
径経時変化パターンは単調増加となる。その結
果、精錬炉１内のガス流は中心流型となる（第５
図Ｂ）。
発板５を設けない場合のホツパからの排出原料粒
径経時変化パターンは単調増加となる。その結
果、精錬炉１内のガス流は中心流型となる（第５
図Ｂ）。
一方、第６図Ａに示すように、ホツパ２内に反
発板５を設けた場合には、排出原料粒径経時変化
パターンは平滑化する傾向がある。その結果、精
錬炉１内のガス流は炉壁流型となる（第６図Ｂ）。
発板５を設けた場合には、排出原料粒径経時変化
パターンは平滑化する傾向がある。その結果、精
錬炉１内のガス流は炉壁流型となる（第６図Ｂ）。
(ハ) 発明が解決しようとする問題点
本発明が解決しようとする問題点は、ホツパ内
に設けられた反発板が発揮する粒径偏差緩和効果
を利用して排出原料の粒径経時変化を制御するこ
とができる精錬炉への原料装入方法を得ることに
ある。
に設けられた反発板が発揮する粒径偏差緩和効果
を利用して排出原料の粒径経時変化を制御するこ
とができる精錬炉への原料装入方法を得ることに
ある。
(ニ) 問題点を解決するための手段
本発明の精錬炉への原料装入方法は、原料貯蔵
ホツパを経由して精錬炉内に原料を装入する方法
において、前記ホツパ内に設置した原料反発板の
高さを調節することによつて、原料が該ホツパ内
に堆積するさいの該ホツパ内半径方向の原料粒径
分布を制御し、これにより、該ホツパから原料を
排出するさいの原料粒径経時変化パターンを制御
することによつて、上記問題点を解決している。
ホツパを経由して精錬炉内に原料を装入する方法
において、前記ホツパ内に設置した原料反発板の
高さを調節することによつて、原料が該ホツパ内
に堆積するさいの該ホツパ内半径方向の原料粒径
分布を制御し、これにより、該ホツパから原料を
排出するさいの原料粒径経時変化パターンを制御
することによつて、上記問題点を解決している。
(ホ) 実施例
次に、図面を参照して本発明の方法の実施例に
ついて説明する。第１図に示すように、ホツパ２
内に設ける反発板５は、図示していない外部駆動
装置によつて垂直・水平方向に移動調節可能にな
つている。
ついて説明する。第１図に示すように、ホツパ２
内に設ける反発板５は、図示していない外部駆動
装置によつて垂直・水平方向に移動調節可能にな
つている。
反発板５はストーン・ボツクス等からつくら
れ、その形状は直方体、円筒体、半球体等のいず
れのものでもよい。
れ、その形状は直方体、円筒体、半球体等のいず
れのものでもよい。
第１図に示すように、ホツパ２内における反発
板５の設置高さをＬとし、またホツパ２内の装入
原料高さをLoとしたとき、無次元反発板高さを
Ｌ／Loとする。一方、ホツパ２から排出される
原料粒径の各時点における平均粒径の標準偏差を
σdpとし、また、ホツパ２内の全原料の平均粒径
をdpとしたとき、無次元原料粒径偏差をσdp／dp
とする。
板５の設置高さをＬとし、またホツパ２内の装入
原料高さをLoとしたとき、無次元反発板高さを
Ｌ／Loとする。一方、ホツパ２から排出される
原料粒径の各時点における平均粒径の標準偏差を
σdpとし、また、ホツパ２内の全原料の平均粒径
をdpとしたとき、無次元原料粒径偏差をσdp／dp
とする。
第７図Ａは実機ホツパに本発明の方法を適用し
たときのσdp／dpとＬ／Loとの関係を示す。第
７図Ｂは比較のために、従来法による同様の関係
を示す。
たときのσdp／dpとＬ／Loとの関係を示す。第
７図Ｂは比較のために、従来法による同様の関係
を示す。
第８図は実高炉にホツパから焼結鉱を装入する
さいの原料粒径経時変化を示す。図中Ａ，Ｂの曲
線は第９図における反発板５のレベルＡ，Ｂにお
けるものである。
さいの原料粒径経時変化を示す。図中Ａ，Ｂの曲
線は第９図における反発板５のレベルＡ，Ｂにお
けるものである。
第１０図は、第１１図に示すホツパ２内の原料
内の各レベル，，における原料粒径分布を
示す。
内の各レベル，，における原料粒径分布を
示す。
第７図Ａ，Ｂを比較することによつて明らかな
ように、本発明法では排出粒径経時変化偏差と反
発板の高さとの関係でまつたく異質である。従来
法がホツパからの原料排出時の制御であるのに対
し、本発明法は原料をホツパへ装入するさいの制
御である。
ように、本発明法では排出粒径経時変化偏差と反
発板の高さとの関係でまつたく異質である。従来
法がホツパからの原料排出時の制御であるのに対
し、本発明法は原料をホツパへ装入するさいの制
御である。
第１０図からわかるように、ホツパへの原料装
入が反発板設置レベル以下まで進んだ状態である
レベルとは半径方向の原料粒径分布の偏差は
レベルにくらべて小さくなつている。したがつ
て、この反発板の装置高さを変更することによつ
て、第８図に示すようにホツパから排出される原
料の粒径経時変化を任意に制御することが可能と
なり、精錬炉内の原料粒径分布の制御性を飛躍的
に向上させることができる。
入が反発板設置レベル以下まで進んだ状態である
レベルとは半径方向の原料粒径分布の偏差は
レベルにくらべて小さくなつている。したがつ
て、この反発板の装置高さを変更することによつ
て、第８図に示すようにホツパから排出される原
料の粒径経時変化を任意に制御することが可能と
なり、精錬炉内の原料粒径分布の制御性を飛躍的
に向上させることができる。
本発明法は精錬炉内真近のホツパに限らず、中
継ホツパの排出原料粒径変化パターンを制御する
方法としても応用でき、精錬炉内のガス流分布制
御としても有力な制御手段である。
継ホツパの排出原料粒径変化パターンを制御する
方法としても応用でき、精錬炉内のガス流分布制
御としても有力な制御手段である。
第１図は本発明の方法の実施例の説明図。第２
図は従来の精錬炉への原料装入方法の一例の説明
図。第３図はホツパ内の原料のフアンネルフロー
の説明図。第４図は従来法によるホツパ排出原料
粒径変化を示すグラフ。第５図は従来法によるホ
ツパ排出原料粒径経時変化パターンおよび精錬炉
のガス流パターン。第６図は第５図と同様な図面
であつて本発明法によるものである。第７図はホ
ツパ排出原料粒径偏差と反発板高さとの関係を示
すグラフ。第８図は原料粒径経時変化を示すグラ
フ。第９図は第８図の結果を得るために設定した
反発板位置の説明図。第１０図はホツパ内の原料
内の各位置における原料の平均粒径の分布図。第
１１図は第１０図に関連したホツパ内原料内の反
発板の各位置を示す説明図。 １……精錬炉、２……ホツパ、５……反発板。
図は従来の精錬炉への原料装入方法の一例の説明
図。第３図はホツパ内の原料のフアンネルフロー
の説明図。第４図は従来法によるホツパ排出原料
粒径変化を示すグラフ。第５図は従来法によるホ
ツパ排出原料粒径経時変化パターンおよび精錬炉
のガス流パターン。第６図は第５図と同様な図面
であつて本発明法によるものである。第７図はホ
ツパ排出原料粒径偏差と反発板高さとの関係を示
すグラフ。第８図は原料粒径経時変化を示すグラ
フ。第９図は第８図の結果を得るために設定した
反発板位置の説明図。第１０図はホツパ内の原料
内の各位置における原料の平均粒径の分布図。第
１１図は第１０図に関連したホツパ内原料内の反
発板の各位置を示す説明図。 １……精錬炉、２……ホツパ、５……反発板。
Claims (1)
- １ 原料貯蔵ホツパを経由して精錬炉内に原料を
装入する方法において、前記ホツパ内に設置した
原料反発板の高さを調節することによつて、原料
が該ホツパ内に堆積するさいの該ホツパ内半径方
向の原料粒径分布を制御し、これにより、該ホツ
パから原料を排出するさいの原料粒径経時変化パ
ターンを制御することを特徴とした精錬炉への原
料装入方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25316686A JPS63108186A (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 精錬炉への原料装入方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25316686A JPS63108186A (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 精錬炉への原料装入方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63108186A JPS63108186A (ja) | 1988-05-13 |
| JPH0441274B2 true JPH0441274B2 (ja) | 1992-07-07 |
Family
ID=17247448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25316686A Granted JPS63108186A (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 精錬炉への原料装入方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63108186A (ja) |
-
1986
- 1986-10-24 JP JP25316686A patent/JPS63108186A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63108186A (ja) | 1988-05-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |