JPH0442055Y2 - - Google Patents
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- JPH0442055Y2 JPH0442055Y2 JP1089188U JP1089188U JPH0442055Y2 JP H0442055 Y2 JPH0442055 Y2 JP H0442055Y2 JP 1089188 U JP1089188 U JP 1089188U JP 1089188 U JP1089188 U JP 1089188U JP H0442055 Y2 JPH0442055 Y2 JP H0442055Y2
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Description
【考案の詳細な説明】
〔考案の目的〕
(産業上の利用分野)
本考案は、飽和蒸気相(以下、単にベーパとい
う)の気化潜熱によつてリフローはんだ付けを行
う気相式はんだ付け装置に関するものである。[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Field of industrial application) The present invention is a vapor phase soldering device that performs reflow soldering using the latent heat of vaporization of the saturated vapor phase (hereinafter simply referred to as vapor). It is related to.
(従来の技術)
特開昭62−130770号公報に示されるように、蒸
気槽の下部に液槽部が設けられ、この液槽部を挟
んでワーク搬入口部およびワーク搬出口部が設け
られ、前記液槽部に収容された不活性液がヒータ
により加熱されて、蒸気槽の内部にベーパが形成
され、このベーパ中で搬送されるワークがベーパ
の気化潜熱によりリフローはんだ付けされる気相
式はんだ付け装置が知られている。(Prior Art) As shown in Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-130770, a liquid tank is provided at the bottom of a steam tank, and a workpiece loading port and a workpiece loading port are provided across the liquid tank. , a gas phase in which the inert liquid contained in the liquid tank is heated by a heater to form vapor inside the vapor tank, and the workpieces conveyed in this vapor are reflow soldered by the latent heat of vaporization of the vapor. Type soldering devices are known.
このような気相式はんだ付けにおいて、液槽部
に収容された不活性液の変位を監視する手段とし
ては、不活性液の有無によつて光の透過率が変化
することを利用して液位の変動を多段のフオトセ
ンサにより検出することが考えられる。 In such vapor phase soldering, the displacement of the inert liquid contained in the liquid tank is monitored by utilizing the fact that the light transmittance changes depending on the presence or absence of the inert liquid. It is conceivable to detect the fluctuation in position using a multi-stage photo sensor.
(考案が解決しようとする課題)
しかし、このようなフオトセンサは、耐熱温度
に限界があり、200℃以上の高温に加熱された状
態にある不活性液の近傍で使用することはできな
い。だからといつて、不活性液から十分離間した
状態で使用することもフオトセンサの性能上でき
ない。(Problem to be solved by the invention) However, such a photo sensor has a limited heat resistance temperature and cannot be used near an inert liquid heated to a high temperature of 200°C or higher. However, due to the performance of the photo sensor, it is not possible to use it at a sufficient distance from the inert liquid.
本考案は、液位の変動を検知する手段として優
れているフオトセンサを、高温の不活性液の液位
検知に利用できるようにすることを目的とする。 An object of the present invention is to enable a photo sensor, which is excellent as a means for detecting fluctuations in liquid level, to be used for detecting the liquid level of a high-temperature inert liquid.
(課題を解決するための手段)
本考案は、蒸気槽11の下部に液槽部12が設
けられ、この液槽部12に収容された不活性液1
3がヒータ22により加熱されて、蒸気槽11の
内部に飽和蒸気相142が形成され、この飽和蒸
気相142中で搬送されるワークWが飽和蒸気相
の気化潜熱によりフローはんだ付けされる気相式
はんだ付け装置において、前記液槽部12の底部
に管62を介して、大径の放熱筒体63が連通さ
れ、この放熱筒体63を介し垂直に立設された耐
熱性の透明パイプ64が連通され、この透明パイ
プ64を挟んで液槽部12内の液位を検知するた
めのフオトセンサ65,66,67,68が多段
に設けられた気相式はんだ付け装置である。
(Means for Solving the Problems) In the present invention, a liquid tank section 12 is provided at the lower part of a steam tank 11, and an inert liquid 1 is stored in the liquid tank section 12.
3 is heated by the heater 22 to form a saturated vapor phase 142 inside the steam tank 11, and the workpiece W conveyed in this saturated vapor phase 142 is flow soldered by the latent heat of vaporization of the saturated vapor phase. In the type soldering apparatus, a large-diameter heat dissipating cylinder 63 is communicated with the bottom of the liquid tank 12 via a pipe 62, and a heat-resistant transparent pipe 64 is vertically installed through the heat dissipating cylinder 63. This is a vapor phase soldering device in which photo sensors 65, 66, 67, and 68 for detecting the liquid level in the liquid tank section 12 are provided in multiple stages with the transparent pipe 64 in between.
(作用)
本考案は、液槽部12内の液位が管62および
放熱筒体63を介して透明パイプ64の内部にそ
のまま現われるので、この透明パイプ64内の液
面変動を多段のフオトセンサ65,66,67,
68によつて検知することによつて、液槽部12
内の液位を監視する。その際、液槽部12内の不
活性液13は、リフローはんだ付けに使用される
べくヒータ22の加熱によつて沸騰する高温状態
にあるが、その不活性液が有する熱は大径の放熱
筒体63にて放熱され、透明パイプの内部の不活
性液は、フオトセンサの正常な働きを妨げない程
度まで温度降下している。(Function) In the present invention, since the liquid level in the liquid tank section 12 appears as it is inside the transparent pipe 64 via the tube 62 and the heat dissipation cylinder 63, the liquid level fluctuation in the transparent pipe 64 is detected by a multi-stage photo sensor 65. ,66,67,
By detecting by 68, the liquid tank section 12
Monitor the liquid level inside. At this time, the inert liquid 13 in the liquid tank 12 is in a high temperature state where it boils due to the heating of the heater 22 to be used for reflow soldering, but the heat contained in the inert liquid is dissipated through a large diameter heat dissipation device. Heat is radiated by the cylinder 63, and the temperature of the inert liquid inside the transparent pipe has dropped to a level that does not interfere with the normal operation of the photo sensor.
(実施例)
以下、本考案を図面に示される実施例を参照し
て詳細に説明する。(Examples) Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments shown in the drawings.
第1図に示されるように、蒸気槽11の下部に
液槽部としての内槽12が形成され、この内槽1
2の内部に不活性液13が収容されている。この
不活性液13は、沸点215℃のフツ素系不活性溶
剤(商品名…フロリナート)である。さらに、蒸
気槽11には、内槽12を挟んでワーク搬入口部
14およびワーク搬出口部15が設けられてい
る。ワーク搬入口部14の内部には、不活性液1
3から蒸発された飽和蒸気相(以下、単にベーパ
という)およびその周囲に漂うミストを凝縮して
そのワーク搬入口からの漏出を防止する冷却コイ
ル16がワーク搬送コンベヤ17を挟んで上下に
配設され、また、ワーク搬出口部15の内部に
も、ベーパおよびミストを凝縮してそのワーク搬
出口からの漏出を防止する冷却コイル18がワー
ク搬送コンベヤ17の上側および下側に設けられ
ている。 As shown in FIG. 1, an inner tank 12 as a liquid tank is formed at the bottom of the steam tank 11.
An inert liquid 13 is contained inside the container 2 . This inert liquid 13 is a fluorinated inert solvent (trade name: Fluorinert) with a boiling point of 215°C. Further, the steam tank 11 is provided with a workpiece inlet 14 and a workpiece outlet 15 with the inner tank 12 in between. An inert liquid 1 is contained inside the workpiece loading port 14.
Cooling coils 16 are disposed above and below the work conveyor 17 to condense the saturated vapor phase (hereinafter simply referred to as vapor) evaporated from the workpiece 3 and the mist floating around it and prevent it from leaking from the workpiece loading port. Cooling coils 18 are also provided inside the workpiece transfer port 15 above and below the workpiece conveyor 17 to condense vapor and mist and prevent them from leaking from the workpiece transfer port.
前記内槽12の外側には外槽21が配設され、
この外槽21の内部にヒータ22が設けられてい
るとともに、少なくともこのヒータ22による加
熱で溶融状態になる伝熱媒体23が充填されてい
る。この伝熱媒体23は、不活性液13を均一に
加熱するためのもので、グリセリン、はんだ等が
適する。 An outer tank 21 is arranged outside the inner tank 12,
A heater 22 is provided inside the outer tank 21, and at least a heat transfer medium 23 that becomes molten when heated by the heater 22 is filled. This heat transfer medium 23 is for uniformly heating the inert liquid 13, and suitable materials include glycerin and solder.
さらに、前記内槽12の内部には、図示されな
い左右動案内手段に沿つて移動自在の垂直仕切板
31が設けられ、この垂直仕切板31によつて内
槽12が、ワーク搬入側の一次槽部32と、ワー
ク搬出側の二次槽部33とに区画形成されている
とともに、一次槽部32と二次槽部33との間に
通液間隙34が設けられている。垂直仕切板31
には雌ねじ部材35が一体的に取付けられ、この
雌ねじ部材35がねじ棒36に螺合され、このね
じ棒36は、ベベルギヤ37、回転軸38を介し
てモータ39により回転される。したがつて、こ
のモータ39によりねじ棒36が回転されると、
垂直仕切板31がワーク搬入側またはワーク搬出
側に移動され、前記一次槽部32と二次槽部33
との間の面積比が可変調整される。 Furthermore, a vertical partition plate 31 is provided inside the inner tank 12 and is movable along a left-right movement guide means (not shown). It is divided into a section 32 and a secondary tank section 33 on the workpiece delivery side, and a liquid passage gap 34 is provided between the primary tank section 32 and the secondary tank section 33. Vertical partition plate 31
A female threaded member 35 is integrally attached to the holder, and this female threaded member 35 is screwed onto a threaded rod 36, and this threaded rod 36 is rotated by a motor 39 via a bevel gear 37 and a rotating shaft 38. Therefore, when the threaded rod 36 is rotated by this motor 39,
The vertical partition plate 31 is moved to the workpiece loading side or the workpiece loading side, and the primary tank section 32 and the secondary tank section 33
The area ratio between the two is variably adjusted.
また、内槽12のワーク搬入側の上部およびワ
ーク搬出側の上部には、それぞれ蒸気立上げ板4
1,42が図示されない上下動案内手段に沿つて
移動自在に設けられ、この各蒸気立上げ板41,
42は、それぞれモータ43,44(第2図)に
よつて回転される送りねじまたはカム等によつて
上下動調整される。そうして、ワーク搬入側の蒸
気立上げ板41は比較的低いレベルに調整され、
また、ワーク搬出側の蒸気立上げ板42は比較的
高いレベルに調整される。 In addition, a steam rising plate 4 is provided at the upper part of the work loading side and the upper part of the workpiece unloading side of the inner tank 12, respectively.
1 and 42 are provided movably along a vertical movement guide means (not shown), and these steam rising plates 41,
42 is vertically adjusted by feed screws or cams rotated by motors 43 and 44 (FIG. 2), respectively. Then, the steam rising plate 41 on the workpiece loading side is adjusted to a relatively low level,
Further, the steam rising plate 42 on the workpiece unloading side is adjusted to a relatively high level.
前記内槽12のワーク搬入側およびワーク搬出
側にはポケツト51,52が設けられている。ワ
ーク搬入側のポケツト51の内部には冷却コイル
53が設けられ、上面開口には多孔板54が設け
られている。ワーク搬出側のポケツト52の上面
開口には多孔板55が設けられている。 Pockets 51 and 52 are provided on the workpiece loading side and the workpiece unloading side of the inner tank 12. A cooling coil 53 is provided inside the pocket 51 on the workpiece loading side, and a perforated plate 54 is provided in the upper opening. A perforated plate 55 is provided at the top opening of the pocket 52 on the workpiece delivery side.
この多孔板54,55は、多数の小孔56を有
しており、蒸気槽11内に形成されたベーパがポ
ケツト51,52に流れ落ちて液化される速度
を、この多孔板54,55の小孔56の流体抵抗
によつて押えて遅くする。これによつて飽和蒸気
相レベルの下降が抑止される。同時に、この多孔
板54,55の小孔56を通してポケツト51,
52に落込んだベーパおよびミストの再上昇を押
えるようにする。特に、ワーク搬入口部14およ
び搬出口部15で凝縮された比較的低温の不活性
液が、この多孔板54,55の小孔56からポケ
ツト51,52に落込むので、多孔板54,55
の小孔56が冷却されて、この小孔56からのベ
ーパおよびミストの再上昇が効果的に抑制され
る。 The perforated plates 54 and 55 have a large number of small holes 56, and the speed at which the vapor formed in the steam tank 11 flows down into the pockets 51 and 52 and is liquefied can be controlled by the small holes 56 of the perforated plates 54 and 55. The fluid resistance of the hole 56 suppresses and slows down the flow. This prevents the saturated vapor phase level from falling. At the same time, the pockets 51,
To prevent vapor and mist that have fallen into the air from rising again. In particular, the relatively low-temperature inert liquid condensed at the workpiece loading port 14 and the loading port 15 falls into the pockets 51, 52 through the small holes 56 of the perforated plates 54, 55.
The small hole 56 is cooled, and vapor and mist from rising again from the small hole 56 is effectively suppressed.
前記内槽12には、液位検知装置61が接続さ
れている。この液位検知装置61は、内槽12の
底部から引出された管62に、大径の金属製筒体
からなる放熱筒体としての放熱ヘツダ63が接続
連通され、この放熱ヘツダ63から垂直に耐熱ガ
ラスの透明パイプ64が2本立設され連通されて
いる。この液位検知装置61は、内槽12との間
で連通管として働き、内槽12の液位がそのまま
透明パイプ64に現れる。この透明パイプ64を
挟んで、液位の上限を検知するためのフオトセン
サ65、液位の中程度を検知するためのフオトセ
ンサ66、液位の下限を検知するためのフオトセ
ンサ67、液位の最下限を検知するためのフオト
センサ68が多段に設けられている。これらのフ
オトセンサ65,66,67,68は、それぞれ
透明パイプ64を介して対向された投光器と受光
器とからなり、透明パイプ64の内部に不活性液
がない場合とある場合とで、投光器から発光され
た光が受光器によつて感知されるかされないかの
差が生ずるので、これによつて各レベルでの不活
性液の有無を検知することができる。 A liquid level detection device 61 is connected to the inner tank 12 . In this liquid level detection device 61, a heat radiation header 63 as a heat radiation cylinder made of a large diameter metal cylinder is connected and communicated with a pipe 62 pulled out from the bottom of the inner tank 12. Two transparent pipes 64 made of heat-resistant glass are erected and communicated with each other. This liquid level detection device 61 functions as a communicating pipe with the inner tank 12, and the liquid level in the inner tank 12 appears as it is on the transparent pipe 64. A photo sensor 65 for detecting the upper limit of the liquid level, a photo sensor 66 for detecting the medium level of the liquid level, a photo sensor 67 for detecting the lower limit of the liquid level, a photo sensor 67 for detecting the lower limit of the liquid level, and a photo sensor 67 for detecting the lower limit of the liquid level. Photo sensors 68 for detecting are provided in multiple stages. These photo sensors 65, 66, 67, and 68 each consist of a light emitter and a light receiver that face each other through a transparent pipe 64. This allows the presence or absence of inert liquid at each level to be detected since the emitted light may or may not be sensed by the light receiver.
そうして、前記放熱ヘツダ63によつて内槽1
2内の高温の不活性液を放熱させ、透明パイプ6
4の内部にある不活性液の液温を低く保ち、透明
パイプ64の側面に設けられたフオトセンサを保
護するとともに、不活性液の高温状態における光
の透過率の変化を防止する。上限センサ65が液
の有を検知したら、一次槽部32に不活性液を戻
すためのポンプ(後で説明する)を停止し、下限
センサ67が液の無を検知したら、一次槽部32
に不活性液を戻すための前記ポンプを始動する。
最下限センサ68が液の無を検知したら、この気
相式はんだ付け装置の運転(ワーク搬送コンベ
ヤ、ヒータ等)を停止する。 Then, the inner tank 1 is
The high temperature inert liquid in 2 is radiated, and the transparent pipe 6
The temperature of the inert liquid inside the transparent pipe 64 is kept low to protect the photo sensor provided on the side surface of the transparent pipe 64, and to prevent changes in light transmittance when the inert liquid is in a high temperature state. When the upper limit sensor 65 detects the presence of liquid, the pump (described later) for returning the inert liquid to the primary tank section 32 is stopped, and when the lower limit sensor 67 detects the absence of liquid, the pump for returning the inert liquid to the primary tank section 32 is stopped.
Start the pump to return the inert liquid to.
When the lowest limit sensor 68 detects the absence of liquid, the operation of this vapor phase soldering apparatus (work conveyor, heater, etc.) is stopped.
次に、第2図に示された配管系統図を説明す
る。点線はミスト回収に係る配管系であり、2本
線は不活性液循環に係る配管系であり、前記一次
槽部32に対して全ての不活性液循環配管系(こ
れについては後で説明する)の最終戻し管路7
1,72,73,74が接続されている。この最
終戻し管路71,72,73,74は、第2図で
は蒸気槽11の上部から挿入されているように示
されているが、実際は、第1図に示されるように
一次槽部32の側面に接続されている。 Next, the piping system diagram shown in FIG. 2 will be explained. The dotted line is a piping system related to mist collection, and the two lines are a piping system related to inert liquid circulation, and all inert liquid circulation piping systems for the primary tank section 32 (this will be explained later) Final return line 7
1, 72, 73, and 74 are connected. Although the final return pipes 71, 72, 73, and 74 are shown as being inserted from the upper part of the steam tank 11 in FIG. 2, they are actually inserted into the primary tank section 32 as shown in FIG. connected to the side of the
点線のミスト回収に係る配管系は、前記ワーク
搬入口部14およびワーク搬出口部15の上部お
よび下部に、ミストを外部に吸引するための吸出
し口81がそれぞれ設けられ、この各吸出し口8
1から管路82が引出され、ワーク搬入側の管路
82は、凝縮槽83を介して液回収ユニツトのタ
ンク84の上部に接続され、また、ワーク搬出側
の管路82は、直接、前記タンク84の上部に接
続されている。回収ユニツトのタンク84の内部
にはミスト衝突板85の内部に空冷の冷却器86
が設けられ、ミスト衝突板85間の上部に設けら
れた空気吸出し口87に管路88を介してブロワ
89の吸込み側が接続されている。 The piping system related to mist recovery indicated by the dotted line is provided with suction ports 81 at the upper and lower portions of the workpiece loading port 14 and the workpiece loading port 15, respectively, for sucking the mist to the outside.
A pipe line 82 is drawn out from 1, and the pipe line 82 on the workpiece carry-in side is connected to the upper part of the tank 84 of the liquid recovery unit via a condensation tank 83, and the pipe line 82 on the workpiece carry-out side is directly connected to the It is connected to the upper part of the tank 84. Inside the tank 84 of the recovery unit, there is an air-cooled cooler 86 inside the mist collision plate 85.
is provided, and the suction side of a blower 89 is connected to an air suction port 87 provided above between the mist collision plates 85 via a conduit 88.
このブロワ89の吸引力によつて、前記蒸気槽
11の吸出し口81からタンク84内にミストを
吸込み、ミスト衝突板85および冷却器86の冷
却作用によつてミストを液化するとともに、空気
のみを前記ブロワ89によつて排気する。 The suction force of the blower 89 sucks the mist into the tank 84 from the suction port 81 of the steam tank 11, and the mist is liquefied by the cooling action of the mist collision plate 85 and the cooler 86, and only air is liquefied. The air is exhausted by the blower 89.
前記蒸気槽11内の冷却コイル16,18,5
3および前記凝縮槽83内の冷却コイル93には
冷却水が供給される。 Cooling coils 16, 18, 5 in the steam tank 11
3 and the cooling coil 93 in the condensing tank 83 are supplied with cooling water.
2本線で表わされる不活性液循環配管系は、ポ
ケツト51,52から引出された管路101,1
02の両方に連通する管路103を経て循環ポン
プ104の吸込み側が接続され、このポンプ10
4の吐出側が前記最終戻し管路71に接続されて
いる。同様に、ポケツト51,52から引出され
た管路101,102の両方に連通する管路10
5を経て循環ポンプ106の吸込み側が接続さ
れ、このポンプ106の吐出側が前記最終戻し管
路72に接続されている。 The inert liquid circulation piping system represented by two lines includes pipes 101 and 1 drawn out from pockets 51 and 52.
The suction side of a circulation pump 104 is connected through a pipe 103 that communicates with both of the pumps 10 and 02.
The discharge side of No. 4 is connected to the final return conduit 71. Similarly, a conduit 10 communicating with both conduits 101 and 102 drawn out from pockets 51 and 52
5, the suction side of a circulation pump 106 is connected, and the discharge side of this pump 106 is connected to the final return line 72.
また、内槽12の底部から引出された管路11
1に管路112中の電動弁113を経てサージタ
ンク114が接続されている。このサージタンク
114にはポケツト51,52から引出された前
記管路101,102も管路115中の電動弁1
16を経て連通されている。このサージタンク1
14は、装置運転が停止された直後に内槽内不活
性液のフイルタリングを行う場合、電動弁11
3,116の開によつて内槽12等から取出され
た高温の不活性液を冷却して、その熱シヨツクを
緩和するものである。このサージタンク114の
底部は、電動弁117が設けられた管路118を
経てフイルタリングタンク119に連通されてい
る。このタンク119の内部には不活性液中のフ
ラツクス等を除去するためのフイルタが設けられ
ており、このフイルタリングタンク119の底部
から引出された管路121に液供給ポンプ122
の吸込側が接続され、このポンプ122の吐出側
が管路123を経て前記最終戻し管路73に接続
され、また管路124を経てポケツト52に接続
されている。同様に、前記回収ユニツトのタンク
84の下部に液回収ポンプ125の吸込側が接続
され、その吐出側が管路126を経て前記最終戻
し管路73に接続され、また管路127を経てポ
ケツト52に接続されている。 In addition, the pipe line 11 drawn out from the bottom of the inner tank 12
1 is connected to a surge tank 114 via an electric valve 113 in a conduit 112. The surge tank 114 also includes the pipes 101 and 102 drawn out from the pockets 51 and 52 as well as the electric valve 1 in the pipe 115.
It is connected via 16. This surge tank 1
14 is an electric valve 11 when filtering the inert liquid in the inner tank immediately after the device operation is stopped.
3, 116 is opened to cool the high temperature inert liquid taken out from the inner tank 12, etc., to relieve its thermal shock. The bottom of this surge tank 114 is communicated with a filtering tank 119 via a conduit 118 in which an electric valve 117 is provided. A filter is provided inside this tank 119 to remove flux etc. from the inert liquid, and a liquid supply pump 122 is connected to a pipe line 121 drawn out from the bottom of the filtering tank 119.
The suction side of the pump 122 is connected, and the discharge side of the pump 122 is connected to the final return line 73 via a line 123, and is also connected to the pocket 52 via a line 124. Similarly, the suction side of a liquid recovery pump 125 is connected to the lower part of the tank 84 of the recovery unit, and the discharge side thereof is connected to the final return line 73 via a line 126, and to the pocket 52 via a line 127. has been done.
内槽12の底部から引出された管路111に電
動弁131を介して運転中のフイルタリングを行
う管路132が接続され、この管路132中にポ
ンプ133、フラツクス等の除去に使用される前
段フイルタ134および後段フイルタ135が設
けられ、この管路132が前記最終戻し管路74
に接続されている。 A pipe line 132 for filtering during operation is connected to a pipe line 111 drawn out from the bottom of the inner tank 12 via an electric valve 131, and a pump 133 is installed in this pipe line 132, which is used for removing flux, etc. A front stage filter 134 and a rear stage filter 135 are provided, and this pipe line 132 connects to the final return pipe line 74.
It is connected to the.
蒸気槽11のワーク搬入口には、ワーク搬送経
路を挟んで上部プリヒータ138および下部プリ
ヒータ139が設けられ、このプリヒータ13
8,139によつてワークが予加熱される。 An upper preheater 138 and a lower preheater 139 are provided at the workpiece inlet of the steam tank 11 with the workpiece conveyance path in between.
8,139, the workpiece is preheated.
次に、第1図に基づきベーパおよびミストの動
きを説明する。ヒータ22により伝熱媒体23を
介し不活性液13が加熱され、蒸気立上げ板41
と垂直仕切板31との間の一次槽部32上に、ワ
ーク搬送レベルを基準として低いレベルで飽和蒸
気相(以下、単にベーパという)141が形成さ
れ、また、蒸気立上げ板42と垂直仕切板31と
の間の二次槽部33上に、ワーク搬送レベルより
も高いレベルでベーパ142が形成されている。 Next, the movement of vapor and mist will be explained based on FIG. The inert liquid 13 is heated by the heater 22 via the heat transfer medium 23, and the steam rising plate 41
A saturated vapor phase (hereinafter simply referred to as vapor) 141 is formed on the primary tank section 32 between the vertical partition plate 31 and the workpiece conveyance level, and a saturated vapor phase (hereinafter simply referred to as vapor) 141 is formed on the primary tank section 32 between the vertical partition plate 31 and the vapor rising plate 42. Vapor 142 is formed on the secondary tank section 33 between the plate 31 and the workpiece conveyance level.
一次槽部32上のベーパ141が十分に上昇し
ないのは、この一次槽部32に前記管路71,7
2,73,74より低温の不活性液が戻されるた
めである。二次槽部33には一次槽部32で予加
熱された不活性液が通液間隙34を経て徐々に供
給されるから、この二次槽部33上のベーパ14
2は十分高いレベルまで上昇する。このベーパ1
41,142は、一定の高温領域(215℃)を形
成する飽和蒸気相であるが、その上側の温度降下
領域(200℃近傍)143にはベーパよりも粒径
大となつたミストが漂つている。 The reason why the vapor 141 on the primary tank section 32 does not rise sufficiently is that the pipes 71 and 7
This is because the inert liquid at a lower temperature than 2, 73, and 74 is returned. Since the inert liquid preheated in the primary tank part 32 is gradually supplied to the secondary tank part 33 through the liquid passage gap 34, the vapor 14 on this secondary tank part 33
2 rises to a sufficiently high level. This vapor 1
41 and 142 are saturated vapor phases forming a constant high temperature region (215°C), but in the upper temperature drop region 143 (near 200°C) there is a mist with larger particle size than the vapor. There is.
したがつて、ワークWは、一次槽部32上では
温度降下領域143中を搬送され、この比較的低
温(200℃)の領域143でワークの予加熱がな
され、次に二次槽部33上ではベーパ142中を
搬送され、この高温(215℃)のベーパ142の
気化潜熱によりワークとしてのプリント配線基板
と基板搭載部品との間に塗布されているクリーム
はんだが溶融され、リフローはんだ付けがなされ
る。 Therefore, the workpiece W is transported above the primary tank section 32 through a temperature decreasing region 143, and is preheated in this relatively low temperature (200° C.) region 143, and then transferred onto the secondary tank section 33. Then, the solder paste is transported through a vapor 142, and the latent heat of vaporization of the high temperature (215°C) vapor 142 melts the cream solder applied between the printed wiring board as a workpiece and the parts mounted on the board, and reflow soldering is performed. Ru.
さらに、前記蒸気立上げ板41,42をオーバ
ーフローしたベーパおよびミスト144は、自重
によつて多孔板54,55上に落下し、その小孔
56を通つてポケツト51,52の内部に入り、
そのポケツト内で冷却コイル53または管路12
4,127から供給された低温不活性液と接触し
て、液化する。ポケツト51,52にいつたん落
込んだベーパおよびミストは、多孔板54,55
によつて再上昇できない。また、ワーク搬入口部
14またはワーク搬出口部15を経て外部に漏出
しようとするベーパおよびミストは、冷却コイル
16,18によつて凝縮され、そのようにして液
化された不活性液はワーク搬入出口部14,15
の傾斜面を下だつて、ポケツト51,52に流れ
落ちる。その際に、冷却された不活性液が、多孔
板54,55の小孔56を通るので、その小孔5
6からのベーパおよびミストの再上昇が効果的に
防止される。また、ポケツト52があるために、
低温不活性液が前記二次槽部33に直接流れ込む
おそれがない。 Furthermore, the vapor and mist 144 that overflowed the steam rising plates 41 and 42 fall onto the perforated plates 54 and 55 due to their own weight, enter the inside of the pockets 51 and 52 through the small holes 56, and
cooling coil 53 or conduit 12 in the pocket.
It is liquefied by contacting the low-temperature inert liquid supplied from No. 4,127. The vapor and mist that has fallen into the pockets 51 and 52 are removed by the perforated plates 54 and 55.
cannot be re-ascended due to Further, vapor and mist that are about to leak outside through the workpiece loading port 14 or the workpiece loading port 15 are condensed by the cooling coils 16 and 18, and the inert liquid liquefied in this way is transported into the workpiece. Exit parts 14, 15
It flows down the slope of the pocket and into the pockets 51 and 52. At that time, the cooled inert liquid passes through the small holes 56 of the perforated plates 54 and 55, so the small holes 56
The rise of vapor and mist from 6 is effectively prevented. Also, because there is a pocket 52,
There is no possibility that the low temperature inert liquid will directly flow into the secondary tank section 33.
本考案によれば、液槽部の底部に管を介して、
大径の放熱筒体が連通され、この放熱筒体を介し
垂直に立設された耐熱性の透明パイプが連通さ
れ、この透明パイプを挟んで液槽部内の液位を検
知するための多段のフオトセンサが設けられたか
ら、このフオトセンサを用いて、液槽部内ではリ
フローはんだ付けに対応する沸点まで加熱されて
いる高温の不活性液の液位を、外部で低温状態の
もとに検知でき、高温不活性液による光の透過率
の変化やフオトセンサ自体の機能劣化を防止でき
る。
According to the present invention, via the pipe at the bottom of the liquid tank,
A large-diameter heat dissipation cylinder is connected, and a vertically erected heat-resistant transparent pipe is communicated through the heat dissipation cylinder. Since a photo sensor is installed, this photo sensor can be used to detect the liquid level of the high-temperature inert liquid, which is heated to the boiling point for reflow soldering in the liquid tank, while it is outside at a low temperature. Changes in light transmittance caused by the inert liquid and functional deterioration of the photo sensor itself can be prevented.
第1図は本考案の気相式はんだ付け装置の一実
施例を示す断面図、第2図はその配管系統図であ
る。
W……ワーク、11……蒸気槽、12……液槽
部としての内槽、13……不活性液、22……ヒ
ータ、62……管、63……放熱筒体としての放
熱ヘツダ、64……透明パイプ、65,66,6
7,68……フオトセンサ、142……飽和蒸気
相。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the vapor phase soldering apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a piping system diagram thereof. W...work, 11...steam tank, 12...inner tank as a liquid tank section, 13...inert liquid, 22...heater, 62...pipe, 63...heat radiation header as a heat radiation cylinder, 64...transparent pipe, 65, 66, 6
7, 68...Photo sensor, 142...Saturated vapor phase.
Claims (1)
に収容された不活性液がヒータにより加熱され
て、蒸気槽の内部に飽和蒸気相が形成され、この
飽和蒸気相中で搬送されるワークが飽和蒸気相の
気化潜熱によりリフローはんだ付けされる気相式
はんだ付け装置において、前記液槽部の底部に管
を介して、大径の放熱筒体が連通され、この放熱
筒体を介し垂直に立設された耐熱性の透明パイプ
が連通され、この透明パイプを挟んで液槽部内の
液位を検知するためのフオトセンサが多段に設け
られたことを特徴とする気相式はんだ付け装置。 A liquid tank section is provided at the bottom of the steam tank, and the inert liquid contained in this liquid tank section is heated by a heater to form a saturated vapor phase inside the steam tank, and the inert liquid is transported in this saturated vapor phase. In a vapor phase soldering device in which workpieces are reflow soldered using latent heat of vaporization in a saturated vapor phase, a large-diameter heat dissipating cylinder is connected to the bottom of the liquid tank via a pipe. A vapor phase soldering method characterized by a heat-resistant transparent pipe vertically installed through the pipe, and a multi-stage photo sensor for detecting the liquid level in the liquid tank section sandwiching the transparent pipe. Device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1089188U JPH0442055Y2 (en) | 1988-01-29 | 1988-01-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1089188U JPH0442055Y2 (en) | 1988-01-29 | 1988-01-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01118866U JPH01118866U (en) | 1989-08-11 |
| JPH0442055Y2 true JPH0442055Y2 (en) | 1992-10-02 |
Family
ID=31218954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1089188U Expired JPH0442055Y2 (en) | 1988-01-29 | 1988-01-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0442055Y2 (en) |
-
1988
- 1988-01-29 JP JP1089188U patent/JPH0442055Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01118866U (en) | 1989-08-11 |
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