JPH0442449A - ディスクの現像装置 - Google Patents
ディスクの現像装置Info
- Publication number
- JPH0442449A JPH0442449A JP15122890A JP15122890A JPH0442449A JP H0442449 A JPH0442449 A JP H0442449A JP 15122890 A JP15122890 A JP 15122890A JP 15122890 A JP15122890 A JP 15122890A JP H0442449 A JPH0442449 A JP H0442449A
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- JP
- Japan
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- developer
- resist plate
- development
- exposure
- amount
- Prior art date
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- Pending
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はディスクの現像装置に関し、より詳細には露光
後のレジスト板を現像して露光溝を形成する光ディスク
の現像装置の改良に関する。
後のレジスト板を現像して露光溝を形成する光ディスク
の現像装置の改良に関する。
(従来の技術)
先ディスク原盤のスタンバ製作工程において、ガラス板
上にレジストを塗布したレジスト板を露光する露光工程
と、露光されたレジスト板を現像する現像工程は、スタ
ンバの溝形状を決定する上で重要な工程である。
上にレジストを塗布したレジスト板を露光する露光工程
と、露光されたレジスト板を現像する現像工程は、スタ
ンバの溝形状を決定する上で重要な工程である。
露光工程に用いられるAr”レーザは、温度や湿度等の
外乱によって影響を受けやすく、同じ露光量で露光して
も溝形状を一定にすることが困難であることに加え、A
r”レーザ自体の光量変動も数%程度存している。
外乱によって影響を受けやすく、同じ露光量で露光して
も溝形状を一定にすることが困難であることに加え、A
r”レーザ自体の光量変動も数%程度存している。
そこで、露光工程後の現像工程において、現像時間の調
整を行なうことにより、現像後の溝形状を一定にする現
像方式がある。この現像方式は、レジスト板を現像しな
がら該レジスト板に露光面と直交する方向よりHe−N
eレーザ光を照射したときに、現像によって経時的に形
成される露光溝が回折格子となり、この回折格子によっ
て得られるレーザ光の回折光量をモニタしてこの値が設
定回折光量になるまで現像を行なうものである。
整を行なうことにより、現像後の溝形状を一定にする現
像方式がある。この現像方式は、レジスト板を現像しな
がら該レジスト板に露光面と直交する方向よりHe−N
eレーザ光を照射したときに、現像によって経時的に形
成される露光溝が回折格子となり、この回折格子によっ
て得られるレーザ光の回折光量をモニタしてこの値が設
定回折光量になるまで現像を行なうものである。
従来のこの種の現像装置は、例えば第2図に示すように
、露光後のレジスト板lをバキュームエアにより露光面
1aを上向きにした状態で吸着載置するチャッキングテ
ーブル3と、チャッキングデープル3を回転駆動する回
転モータ5と1回転するレジスト板1の回転中心部の上
方に配置されて露光面la上に現像液7を滴下する現像
液口9とを備え、現像液口9より滴下された現像液7が
回転するレジスト板lの遠心力によりその中心部から外
縁部に向けて渦巻き状に流れることにより、露光面1a
全面が現像されるよう構成されている(いわゆるスピン
現像)、このような露光後の現像工程により、例えば第
3図(a) 、 (b)に示すように、ガラス板IA上
に塗布されたレジストIBの露光部が現像時間が経過す
るに従って深く侵食され露光溝ICが形成される。
、露光後のレジスト板lをバキュームエアにより露光面
1aを上向きにした状態で吸着載置するチャッキングテ
ーブル3と、チャッキングデープル3を回転駆動する回
転モータ5と1回転するレジスト板1の回転中心部の上
方に配置されて露光面la上に現像液7を滴下する現像
液口9とを備え、現像液口9より滴下された現像液7が
回転するレジスト板lの遠心力によりその中心部から外
縁部に向けて渦巻き状に流れることにより、露光面1a
全面が現像されるよう構成されている(いわゆるスピン
現像)、このような露光後の現像工程により、例えば第
3図(a) 、 (b)に示すように、ガラス板IA上
に塗布されたレジストIBの露光部が現像時間が経過す
るに従って深く侵食され露光溝ICが形成される。
回転モータ5の下方にはHe−Neレーザ光源l】が配
置され、このレーザ光源IIはHe−Neレーザ光(図
中で一点am図示)をミラー12を介してレジスト板l
の下方より露光面!aと直交する方向に照射するもので
ある。He−Neレーザ光はレジスト板lを透過し、H
e−Neレーザ光の照射方向の0次回折光(−点鎖線図
示)と、現像により形成されて回折格子となる露光溝I
Cに回折された1次回折光(二点鎖線図示)とに回折さ
れる。そして、チャッキングテーブル3の上方には、!
次回折光の光量をモニタする回折光量モニタ13が配設
され、回折光量モニタI3により検出される回折光量が
設定値となるまで現像が行なわれる。
置され、このレーザ光源IIはHe−Neレーザ光(図
中で一点am図示)をミラー12を介してレジスト板l
の下方より露光面!aと直交する方向に照射するもので
ある。He−Neレーザ光はレジスト板lを透過し、H
e−Neレーザ光の照射方向の0次回折光(−点鎖線図
示)と、現像により形成されて回折格子となる露光溝I
Cに回折された1次回折光(二点鎖線図示)とに回折さ
れる。そして、チャッキングテーブル3の上方には、!
次回折光の光量をモニタする回折光量モニタ13が配設
され、回折光量モニタI3により検出される回折光量が
設定値となるまで現像が行なわれる。
第4図はこのような現像工程における現像時間と回折光
量との相関図であって、現像工程の経過により露光溝t
Cの形状、即ち回折格子としての形状も変化して回折光
量も変動するため、現像開始直後は回折光量が比較的急
激に上昇するのに対し、ある程度現像が進行すると回折
光量の上昇率が鈍化している。従って、所定形状の露光
溝lCを得るための回折光量を予め設定するとともに。
量との相関図であって、現像工程の経過により露光溝t
Cの形状、即ち回折格子としての形状も変化して回折光
量も変動するため、現像開始直後は回折光量が比較的急
激に上昇するのに対し、ある程度現像が進行すると回折
光量の上昇率が鈍化している。従って、所定形状の露光
溝lCを得るための回折光量を予め設定するとともに。
回折光量モニタ13の検出による回折光量がこの設定回
折光量となるまで現像を行なうことにより、所定形状の
露光7111cを得ることができる。
折光量となるまで現像を行なうことにより、所定形状の
露光7111cを得ることができる。
しかしながら、このような従来の現像装置にあっては2
回転するレジスト板1kに滴下された現像液7が渦巻き
状に広がりながら現像が行なわれるため、レジスト板】
上を流れる現像液7の厚さを径方向に沿ってみると波状
となって変動し、He−Neレーザ11の透過部におけ
る透過率が変動して回折光量が変動する。このようにレ
ジスト板1上において変動する現像液7の厚さが一定の
部分を求めることは困難であり、各ディスク毎における
溝形状のばら付きを招来していた。
回転するレジスト板1kに滴下された現像液7が渦巻き
状に広がりながら現像が行なわれるため、レジスト板】
上を流れる現像液7の厚さを径方向に沿ってみると波状
となって変動し、He−Neレーザ11の透過部におけ
る透過率が変動して回折光量が変動する。このようにレ
ジスト板1上において変動する現像液7の厚さが一定の
部分を求めることは困難であり、各ディスク毎における
溝形状のばら付きを招来していた。
(発明の目的)
本発明は、上記課題に着目してなされたもので、露光量
が変動しても現像工程にて露光溝の形状を一定にするこ
とができ、且つレジスト板上にある現像液の厚さを一定
にすることができて各ディスク毎における露光溝の再現
を高精度なものとすることができるディスクの現像装置
の提供を目的とする。
が変動しても現像工程にて露光溝の形状を一定にするこ
とができ、且つレジスト板上にある現像液の厚さを一定
にすることができて各ディスク毎における露光溝の再現
を高精度なものとすることができるディスクの現像装置
の提供を目的とする。
(発明の構成)
上記目的を達成するため、本発明は、レジスト板の露光
面を現像液に浸して露光溝を形成するとともに、前記レ
ジスト板の露光面と直交する方向にレーザ光を照射し、
該レーザ光がレジスト板を透過する際に露光溝を回折格
子として回折された回折光の光量を検出し、この検出光
量が所定量に達したとき現像を終了することにより所定
形状の露光溝を形成するディスクの現像装置であって。
面を現像液に浸して露光溝を形成するとともに、前記レ
ジスト板の露光面と直交する方向にレーザ光を照射し、
該レーザ光がレジスト板を透過する際に露光溝を回折格
子として回折された回折光の光量を検出し、この検出光
量が所定量に達したとき現像を終了することにより所定
形状の露光溝を形成するディスクの現像装置であって。
n記現像液を収容した容器と、nkN光面が該容器内の
現俸液面に対面するようにレジスト板の上面を吸着する
チャッキングテーブルと、このチャッキングテーブルを
昇降移動する昇降機構とを備えている。
現俸液面に対面するようにレジスト板の上面を吸着する
チャッキングテーブルと、このチャッキングテーブルを
昇降移動する昇降機構とを備えている。
この昇降機構は、現像時に前記レジスト板の露光面だけ
を現像液面に浸漬する高さにチャッキングテーブルを下
降する一方、現像終了後に前記レジスト板の露光面を現
像液面から上昇させることを特徴としている。
を現像液面に浸漬する高さにチャッキングテーブルを下
降する一方、現像終了後に前記レジスト板の露光面を現
像液面から上昇させることを特徴としている。
以下1本発明の好適な実施例を図面に基づいて詳細に説
明する。
明する。
第1図は本発明の一実施例に係るディスクの現像装置の
構成図を示し、従来例と同様な構成要素には同符合を附
して説明を省略する。
構成図を示し、従来例と同様な構成要素には同符合を附
して説明を省略する。
本実施例において特徴的な点は、現像液7が収容された
容器15と、レジスト板1を露光面!aが下向きに位置
するよう吸着するチャッキングテーブル17と、このチ
ャッキングテーブル17を昇降移動する昇降機構19と
を備え、この昇降機構19は、現像時においてレジスト
板lの露光面1aが現像液7の水面と平行な位置にて現
像液7に浸漬され、且つ露光面1aと反対側に位置する
チャッキング面lb側に現像液7が回り込まない位2に
チャッキングテーブル17を下降する一方、現像終了時
においてはレジスト板lの露光面1aを現像液面Sから
離間させる位置までチャッキングテーブル17を上昇す
る位置関係を有して成る点に存する。
容器15と、レジスト板1を露光面!aが下向きに位置
するよう吸着するチャッキングテーブル17と、このチ
ャッキングテーブル17を昇降移動する昇降機構19と
を備え、この昇降機構19は、現像時においてレジスト
板lの露光面1aが現像液7の水面と平行な位置にて現
像液7に浸漬され、且つ露光面1aと反対側に位置する
チャッキング面lb側に現像液7が回り込まない位2に
チャッキングテーブル17を下降する一方、現像終了時
においてはレジスト板lの露光面1aを現像液面Sから
離間させる位置までチャッキングテーブル17を上昇す
る位置関係を有して成る点に存する。
そして、He−NeレーザI+は容器15の下方に配置
され、該レーザ夏1より照射されたHe−Neレーザ光
はミラー12を介して現像液7を透過してレジスト板l
の露光面+aより入射する。また、回折光量モニタ13
は、容器15の上方であって現像により露光面1aに形
成された露光溝ICを回折格子として得られた1次回折
光をモニタする位置に配置されている。
され、該レーザ夏1より照射されたHe−Neレーザ光
はミラー12を介して現像液7を透過してレジスト板l
の露光面+aより入射する。また、回折光量モニタ13
は、容器15の上方であって現像により露光面1aに形
成された露光溝ICを回折格子として得られた1次回折
光をモニタする位置に配置されている。
次に作用を説明する。
上記構成において、露光されたレジスト板lを露光面1
aを下に向けた状態でチャッキングテーブル17で吸着
し、昇降機構19を駆動することにより、露光面1aが
現像液7に浸され、且つ露光面1aと反対側に位置する
チャツキング面(上面)lb側に現像液7が回り込まな
い位置にチャッキングテーブル17が下降する。この結
果、時間の経過とともに現像が進行し、露光部に露光溝
ICが形成されて回折格子となる。
aを下に向けた状態でチャッキングテーブル17で吸着
し、昇降機構19を駆動することにより、露光面1aが
現像液7に浸され、且つ露光面1aと反対側に位置する
チャツキング面(上面)lb側に現像液7が回り込まな
い位置にチャッキングテーブル17が下降する。この結
果、時間の経過とともに現像が進行し、露光部に露光溝
ICが形成されて回折格子となる。
He−Neレーザ光源11より出射されたレーザ光はレ
ジスト板lに照射されており、現像が進行するに従い上
記回折格子により回折光が発生する。この回折光は回折
光量モニタ13により検出され、予め設定された回折光
量が得られるまでレジスト板!がその位置にて保持され
る。設定された回折光量が得られたら、昇降機構19を
駆動することにより、チャッキングテーブル17が上方
へ移動されて露光面taが現像液面Sから離間して現像
が中止された後、水による洗浄工程に移行される。
ジスト板lに照射されており、現像が進行するに従い上
記回折格子により回折光が発生する。この回折光は回折
光量モニタ13により検出され、予め設定された回折光
量が得られるまでレジスト板!がその位置にて保持され
る。設定された回折光量が得られたら、昇降機構19を
駆動することにより、チャッキングテーブル17が上方
へ移動されて露光面taが現像液面Sから離間して現像
が中止された後、水による洗浄工程に移行される。
容器15内の現像液量が変化し水位が変化したときは、
昇降機構19はレジスト板lの露光面laが現像液7の
水面と平行な位置にて現像液7に浸され、且つ露光面1
aと反対側に位置するチャッキング面lb側に現像液7
が回り込まない位置にチャッキングテーブル17を下降
するよう構成されていると共に1図示しない現像液補給
装置より現像液7が補給される。
昇降機構19はレジスト板lの露光面laが現像液7の
水面と平行な位置にて現像液7に浸され、且つ露光面1
aと反対側に位置するチャッキング面lb側に現像液7
が回り込まない位置にチャッキングテーブル17を下降
するよう構成されていると共に1図示しない現像液補給
装置より現像液7が補給される。
このように回折光量モニタ13によってモニタされた回
折光量に基づいて現像の進行状態を判断することにより
、露光工程における露光光量が適正でなくとも溝形状を
一定に形成することができる。しかも、現像液7の厚さ
(容器I5の底部から露光面1aまでの高さ)は、レジ
スト板lの露光面+a全全面渡って同一となるため、H
e−Neレーザ光の透析率が露光面1a全面にて均一と
なり、従来のように現像液の厚さが変動して回折光mが
変動することはない、従って、いずれかの位置における
回折格子の回折光量を回折光量モニタ13により検出す
れば、その検出値に基づいて得られたディスク毎の溝形
状のばら付きを抑えることができ安定して再現性を得る
ことができる。
折光量に基づいて現像の進行状態を判断することにより
、露光工程における露光光量が適正でなくとも溝形状を
一定に形成することができる。しかも、現像液7の厚さ
(容器I5の底部から露光面1aまでの高さ)は、レジ
スト板lの露光面+a全全面渡って同一となるため、H
e−Neレーザ光の透析率が露光面1a全面にて均一と
なり、従来のように現像液の厚さが変動して回折光mが
変動することはない、従って、いずれかの位置における
回折格子の回折光量を回折光量モニタ13により検出す
れば、その検出値に基づいて得られたディスク毎の溝形
状のばら付きを抑えることができ安定して再現性を得る
ことができる。
また、現像時においても、レジスト板1のチャツキング
面1bに現像液7が回り込まず、レジスト板lのチャツ
キング面1bにおける屈折率が大気中においてn=1で
あるため、現像液7の回り込みによる回折光の屈折率変
化を防止することができ、高精度な回折光量のモニタを
行なうことができる。
面1bに現像液7が回り込まず、レジスト板lのチャツ
キング面1bにおける屈折率が大気中においてn=1で
あるため、現像液7の回り込みによる回折光の屈折率変
化を防止することができ、高精度な回折光量のモニタを
行なうことができる。
さらに、レジスト板lは、露光面1aを下方にしてチャ
ッキングテーブル17に吸着されるため、露光面1aに
塵埃が付着することによる不具合を解消することができ
る。
ッキングテーブル17に吸着されるため、露光面1aに
塵埃が付着することによる不具合を解消することができ
る。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明によれば、レジスト板を露
光面が下向きとなるようチャッキングテーブルに吸着し
、且つ昇降機構によりチャッキングテーブルの高さを調
整しつつ現像を行なうことができる構成としたため、露
光量が変動しても現像工程にて露光溝の形状を一定にす
ることができ、且つレジスト板上にある現像液の厚さを
一定にすることができて各ディスク毎における露光溝の
再現を高精度なものとすることができるという効果を得
ることができる。
光面が下向きとなるようチャッキングテーブルに吸着し
、且つ昇降機構によりチャッキングテーブルの高さを調
整しつつ現像を行なうことができる構成としたため、露
光量が変動しても現像工程にて露光溝の形状を一定にす
ることができ、且つレジスト板上にある現像液の厚さを
一定にすることができて各ディスク毎における露光溝の
再現を高精度なものとすることができるという効果を得
ることができる。
第1図は本発明に係るディスクの現像装置の一実施例を
示す構成図、第2図は従来列に係る現像装置の構成図、
第3図(a) 、 (blは現像時間とともに露光溝が
形成される過程を示す図、第4図は現像時間と回折光量
との相関図である。 l・・・レジスト板、la・・・露光面、Ib・・・チ
ャツキング面、IC・・・露光溝、7・・・現像液、I
b・・・容器、17・・・チャッキングテーブル、19
・・・昇降機構 特許出頓大 株式会社リコー 第1図 第3図 (O) (b) B A B A 第2図 芋4図 菜 灸 時背
示す構成図、第2図は従来列に係る現像装置の構成図、
第3図(a) 、 (blは現像時間とともに露光溝が
形成される過程を示す図、第4図は現像時間と回折光量
との相関図である。 l・・・レジスト板、la・・・露光面、Ib・・・チ
ャツキング面、IC・・・露光溝、7・・・現像液、I
b・・・容器、17・・・チャッキングテーブル、19
・・・昇降機構 特許出頓大 株式会社リコー 第1図 第3図 (O) (b) B A B A 第2図 芋4図 菜 灸 時背
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 レジスト板の露光面を現像液に浸して露光溝を形成する
とともに、前記レジスト板の露光面と直交する方向にレ
ーザ光を照射し、該レーザ光がレジスト板を透過する際
に露光溝を回折格子として回折された回折光の光量を検
出し、この検出光量が所定量に達したとき現像を終了す
ることにより所定形状の露光溝を形成するディスクの現
像装置であって、 前記現像液を収容した容器と、前記露光面が該容器内の
現像液面に対面するようにレジスト板の上面を吸着する
チャッキングテーブルと、このチャッキングテーブルを
昇降移動する昇降機構とを備え、 この昇降機構は、現像時に前記レジスト板の露光面だけ
を現像液面に浸漬する高さにチャッキングテーブルを下
降する一方、現像終了後に前記レジスト板の露光面を現
像液面から上昇させることを特徴とするディスクの現像
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15122890A JPH0442449A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | ディスクの現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15122890A JPH0442449A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | ディスクの現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0442449A true JPH0442449A (ja) | 1992-02-13 |
Family
ID=15514047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15122890A Pending JPH0442449A (ja) | 1990-06-08 | 1990-06-08 | ディスクの現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0442449A (ja) |
-
1990
- 1990-06-08 JP JP15122890A patent/JPH0442449A/ja active Pending
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