JPH0442839A - Production of optical fiber - Google Patents
Production of optical fiberInfo
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- JPH0442839A JPH0442839A JP2146781A JP14678190A JPH0442839A JP H0442839 A JPH0442839 A JP H0442839A JP 2146781 A JP2146781 A JP 2146781A JP 14678190 A JP14678190 A JP 14678190A JP H0442839 A JPH0442839 A JP H0442839A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、炭素被膜か形成された光ファイバの製造方
法に関し、炭素被膜を形成する際に所定の流速で原料ガ
スを供給することにより、より優れた耐水素特性と機械
的強度とを有する光ファイバを得られるようにしたもの
である。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing an optical fiber having a carbon coating formed thereon, and in which a raw material gas is supplied at a predetermined flow rate when forming the carbon coating, This makes it possible to obtain an optical fiber having better hydrogen resistance and mechanical strength.
[従来技術およびその課題]
石英系ファイバは、水素と接触するとファイバ内に拡散
した水素分子の分子振動に起因する吸収損失が増大する
。さらにドーパントとして含有されているP、05、G
eO2、B、03などか水素と反応しOH基としてファ
イバガラス中に取り込まれるため、OH基の吸収による
伝送損失も増大してしまう問題がある。[Prior art and its problems] When a silica-based fiber comes into contact with hydrogen, absorption loss due to molecular vibration of hydrogen molecules diffused into the fiber increases. Furthermore, P, 05, and G contained as dopants
Since eO2, B, 03, etc. react with hydrogen and are incorporated into the fiber glass as OH groups, there is a problem that transmission loss due to absorption of OH groups also increases.
このような弊害に対処するため、水素吸収能を有する液
状の組成物を光ケーブル内に充填すること(特願昭61
−251808号)か考えられているか、その効果か不
十分であるうえ、構造か複雑となって経済的にも問題か
ある。In order to deal with such adverse effects, it is necessary to fill the optical cable with a liquid composition having hydrogen absorption ability (Japanese Patent Application No. 1983).
-251808), but its effectiveness is insufficient and the structure is complicated, which poses economical problems.
このような問題を解決するため、化学気相成長法によっ
て光ファイバ表面に炭素被膜を形成し、これによって光
ファイバの耐水素特性を向上させうろことが発表されて
いるか、製造条件により耐水素特性や疲労特性が異なり
、ファイバ強度も従来の光ファイバ心線に比べ劣ってい
るという問題かあった。In order to solve these problems, it has been announced that a carbon film can be formed on the surface of an optical fiber using chemical vapor deposition, thereby improving the hydrogen resistance properties of the optical fiber. There were problems in that the fiber strength was inferior to that of conventional optical fibers, and the fatigue characteristics were different.
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、より優れ
た耐水素特性および機械的強度を有する光ファイバを得
られる製造方法を提供することを目的としている。The present invention was made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a manufacturing method capable of obtaining an optical fiber having superior hydrogen resistance and mechanical strength.
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、炭素被膜が形成された光ファイバの耐水
素特性および機械的強度の向上について、鋭意研究を重
ねた結果、反応管への原料ガスを所定流速で供給するこ
とによって、光ファイバの耐水素特性および機械的強度
とを格段に向上できることを見出した。[Means for Solving the Problems] As a result of extensive research into improving the hydrogen resistance and mechanical strength of optical fibers coated with carbon, the present inventors have found that the raw material gas is supplied to the reaction tube in a specified manner. It has been found that by supplying at a flow rate, the hydrogen resistance and mechanical strength of the optical fiber can be significantly improved.
すなわちこの発明の製造方法は、原料ガスを反応管内で
熱分解させて光ファイバ裸線表面に炭素被膜を形成する
光ファイバの製造方法において、上記反応管内における
原料ガスの流速Aと光ファイバの線引速度Bとの比A/
Bが5以上であることを解決手段とした。That is, the manufacturing method of the present invention is a method for manufacturing an optical fiber in which a raw material gas is thermally decomposed in a reaction tube to form a carbon film on the surface of the bare optical fiber, and the flow rate A of the raw material gas in the reaction tube and the wire of the optical fiber are Ratio A/ to pulling speed B
The solution is that B is 5 or more.
以下、この発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.
第1図はこの発明の光ファイバの製造方法に好適に用い
られる光ファイバ製造装置の一例を示したものである。FIG. 1 shows an example of an optical fiber manufacturing apparatus suitably used in the optical fiber manufacturing method of the present invention.
第1図中、符号1は光ファイバ裸線である。光ファイバ
裸線lは、光ファイバ母材を光ファイバ紡糸炉2内で加
熱紡糸したもので、紡糸された光ファイバ裸線lは、冷
却用ヘリウムが流通する冷却管11を経てCVD反応炉
3へ導かれるようになっている。このCVD反応P3は
、その内部でCVD反応を進行させるで光ファイバ裸線
1表面に炭素被膜を形成するためのものである。CVD
反応炉3は概略円筒状の反応管4と、この反応管4を加
熱する発熱体5とから概略構成される。反応管4と、こ
れを加熱する発熱体5とは加熱温度等によって適宜選択
することができ、抵抗CVD反応炉、誘導CVD反応炉
、赤外線CVD反応炉等を用いることができるほか、発
熱体5には高周波またはマイクロ波を用いてプラズマを
発生させて原料ガスをイオン分解させるようなものをも
用いることがてきる。In FIG. 1, reference numeral 1 indicates a bare optical fiber. The optical fiber bare wire 1 is obtained by heating and spinning an optical fiber base material in an optical fiber spinning furnace 2, and the spun optical fiber bare wire 1 is passed through a cooling pipe 11 through which cooling helium flows to a CVD reactor 3. It is designed to lead you to. This CVD reaction P3 is for forming a carbon film on the surface of the bare optical fiber 1 by allowing the CVD reaction to proceed therein. CVD
The reactor 3 is generally composed of a generally cylindrical reaction tube 4 and a heating element 5 that heats the reaction tube 4. The reaction tube 4 and the heating element 5 that heats it can be appropriately selected depending on the heating temperature, etc., and a resistance CVD reactor, an induction CVD reactor, an infrared CVD reactor, etc. can be used. It is also possible to use a method that generates plasma using high frequency waves or microwaves to decompose raw material gas into ions.
反応管4の上部には、反応管4内で原料ガスを供給する
ための原料ガス供給管6か、下部には未反応ガス等を排
気する排気管7が、それぞれ取り付けられている。反応
管4の下部には、反応管4および光ファイバ紡糸炉2を
ノールするためのガスノール機構8が設けられている。A raw material gas supply pipe 6 for supplying raw material gas within the reaction tube 4 is attached to the upper part of the reaction tube 4, and an exhaust pipe 7 for exhausting unreacted gas and the like is attached to the lower part. A gas nol mechanism 8 for nodding the reaction tube 4 and the optical fiber spinning furnace 2 is provided at the bottom of the reaction tube 4 .
またこのCVD反応炉3の下段には、樹脂液塗布装置9
と硬化装置10とか設けられており、上記CVD反応炉
3内で形成された炭素被膜上に保護被膜を形成できるよ
うになっている。In addition, a resin liquid coating device 9 is provided at the lower stage of this CVD reactor 3.
A curing device 10 is provided so that a protective film can be formed on the carbon film formed in the CVD reactor 3.
上記製造装置を用いて、この発明の製造方法に沿って光
ファイバを製造するには、以下の工程による。To manufacture an optical fiber according to the manufacturing method of the present invention using the above manufacturing apparatus, the following steps are performed.
光ファイバ母材を光ファイバ紡糸炉2内で加熱紡糸する
と共に、光ファイバ紡糸炉2の下段に設けられた冷却管
11.CVD反応炉3、樹脂液塗布装置9、硬化装置l
O内へ順次挿通し、これらの中心軸上を所定の線速て走
行するように供給する。なお第1図に示した装置にあっ
ては、先ファイバの紡糸速度と光ファイバ裸線lの線引
き速度とか一致する。The optical fiber preform is heated and spun in the optical fiber spinning furnace 2, and a cooling pipe 11 provided at the lower stage of the optical fiber spinning furnace 2. CVD reactor 3, resin liquid coating device 9, curing device 1
They are sequentially inserted into O and are fed so as to run on these central axes at a predetermined linear speed. In the apparatus shown in FIG. 1, the spinning speed of the tip fiber and the drawing speed of the bare optical fiber l coincide with each other.
ついで発熱体5を発熱させて反応管4内を所定温度に加
熱すると共に、原料ガス供給管6より原料ガスを所定流
速で反応管4内へ供給する。反応管4内の温度は、原料
ガスの種類や光ファイバの線引速度等によって適宜選択
されるが、原料ガスの熱分解に十分な温度であれば良く
、500〜1400℃程度が好適である。加熱温度を5
00°C未満とすると原料カスの熱分解が進行せず、1
400°Cより高くすると煤が多量に発生するとともに
、光ファイバ裸線1表面に形成される炭素被膜の耐水素
特性が低下するので、共に好ましくない。Next, the heating element 5 generates heat to heat the inside of the reaction tube 4 to a predetermined temperature, and the raw material gas is supplied into the reaction tube 4 from the raw material gas supply pipe 6 at a predetermined flow rate. The temperature inside the reaction tube 4 is appropriately selected depending on the type of raw material gas, the drawing speed of the optical fiber, etc., but it is sufficient as long as it is sufficient for thermal decomposition of the raw material gas, and approximately 500 to 1400°C is preferable. . Heating temperature 5
If the temperature is lower than 00°C, the thermal decomposition of the raw material residue will not proceed, and 1
If the temperature is higher than 400°C, a large amount of soot will be generated and the hydrogen resistance of the carbon film formed on the surface of the bare optical fiber 1 will deteriorate, both of which are not preferred.
また煤の発生を抑制する目的で、原料カスの熱分解温度
よりもごく僅かに低温に設定するのか好ましい。Further, in order to suppress the generation of soot, it is preferable to set the temperature to be slightly lower than the thermal decomposition temperature of the raw material residue.
なおここで原料ガスとは、CVD反応を進行する反応管
4に供給されるカスを指し、少なくとも原料化合物とキ
ャリアガスとが混合されてなるものである。具体的には
メタン、エタン、プロパン、ヘンゼン、トルエン等のほ
か、これら化合物の水素原子を塩素原子に置換したクロ
ロメタン、クロロメンゼンなどを挙げることができる。Note that the raw material gas here refers to the waste supplied to the reaction tube 4 in which the CVD reaction proceeds, and is a mixture of at least a raw material compound and a carrier gas. Specific examples include methane, ethane, propane, hensen, toluene, and the like, as well as chloromethane, chloromenzene, and the like, which are obtained by replacing the hydrogen atoms of these compounds with chlorine atoms.
またキャリアガスとしてはヘリウムガス、アルゴンガス
、水素ガスなど公知の種々のものを利用できる。Further, various known carrier gases such as helium gas, argon gas, and hydrogen gas can be used as the carrier gas.
この原料ガスの流量は、原料化合物の種類、加熱温度等
によって適宜選択されるが、通常は0゜2〜1.0ρ/
分程度である。そして反応管4内における原料ガスの流
速Aと光ファイバの線引速度Bとの比A/Bか5以上、
好ましくは5〜10の範囲となるように設定する。The flow rate of this raw material gas is appropriately selected depending on the type of raw material compound, heating temperature, etc., but is usually 0°2 to 1.0ρ/
It takes about a minute. and the ratio A/B of the flow rate A of the raw material gas in the reaction tube 4 and the drawing speed B of the optical fiber is 5 or more,
Preferably, it is set in a range of 5 to 10.
反応管4内における原料ガスの流速Aと光ファイバの線
引速度Bとの比A/Bが5より小さいと、光ファイバ強
度が著しく低下する。これは光ファイバ表面に炭素被膜
が十分な膜厚で形成される前に、原料ガスが分解して発
生する水素ラジカルの存在領域に光ファイバが接触する
ためである。光ファイバと水素ラジカルとが接触すると
、SiO結合が水素ラジカルによって分解され、光ファ
イバの強度低下および伝送損失の増加の原因となるシラ
ノール(Si−OH)基が形成されるためである。また
、上記A/Bが15を越えると、炭素被膜がわずかしか
堆積されないので、通常はこれ以下とされる。If the ratio A/B between the flow rate A of the raw material gas in the reaction tube 4 and the drawing speed B of the optical fiber is less than 5, the strength of the optical fiber will be significantly reduced. This is because the optical fiber comes into contact with a region where hydrogen radicals generated by decomposition of the source gas exist before the carbon film is formed to a sufficient thickness on the surface of the optical fiber. This is because when an optical fiber comes into contact with hydrogen radicals, SiO bonds are decomposed by the hydrogen radicals, forming silanol (Si-OH) groups that cause a decrease in the strength of the optical fiber and an increase in transmission loss. Moreover, if the above-mentioned A/B exceeds 15, only a small amount of carbon film will be deposited, so it is usually set to less than this.
このようにして炭素被膜が形成された光ファイバ裸線l
を、下段に設けられた樹脂液塗布装置9内へ導入する。Bare optical fiber l with carbon coating formed in this way
is introduced into the resin liquid coating device 9 provided at the lower stage.
樹脂液塗布装置9内へ挿通された光ファイバ裸線lは、
保護被膜を形成するための紫外線硬化型樹脂液または熱
硬化型樹脂液が塗布され、ついで塗布された樹脂液に好
適な硬化条件を有する硬化装置10内で硬化されて保護
被膜が形成されて光ファイバとされる。The bare optical fiber l inserted into the resin liquid coating device 9 is
An ultraviolet curable resin liquid or a thermosetting resin liquid for forming a protective film is applied, and then cured in a curing device 10 having curing conditions suitable for the applied resin liquid to form a protective film and exposed to light. Considered to be fiber.
上記のように、反応管4内における原料ガスの流速Aと
光ファイバ裸線1の線引速度Bとの比A/Bが5以上と
なるように、原料ガスの供給速度および紡糸速度を設定
すると、炭素被膜が十分に形成されていない光ファイバ
が原料ガスが熱分解して発生する水素ラジカルと接触す
ることがなくなるので、光ファイバの耐水素特性の低下
および伝送損失の増加の原因となるンラノール基の生成
を抑制することができる。As mentioned above, the feed rate of the raw material gas and the spinning speed are set so that the ratio A/B between the flow rate A of the raw material gas in the reaction tube 4 and the drawing speed B of the bare optical fiber 1 is 5 or more. This prevents the optical fiber, which does not have a sufficient carbon coating, from coming into contact with the hydrogen radicals generated by thermal decomposition of the raw material gas, which causes a decrease in the hydrogen resistance of the optical fiber and an increase in transmission loss. The formation of ranol groups can be suppressed.
[実施例]
(実施例1)
光ファイバ紡糸炉の下段に、石英管の反応管を有する抵
抗CVD反応炉を取り付けて第1図に示したと同様の装
置とした。[Example] (Example 1) A resistance CVD reactor having a quartz tube reaction tube was attached to the lower stage of an optical fiber spinning furnace to prepare an apparatus similar to that shown in FIG. 1.
光ファイバ紡糸炉内にGeO7がドープ剤として含浸さ
れたコア部を有する外径30mmの単一モード光ファイ
バ母材を設置した。この光ファイバ母材を2000°C
に加熱して15m/分の紡糸速度で外径125μmの単
一モートファイバに紡糸した。そしてこの光ファイバ裸
線を冷却筒で50°Cに冷却した後、CVD反応炉内に
導入して炭素被膜を形成した。なお光ファイバ裸線の線
引速度は光ファイバの紡糸速度と一致するので、線引速
度Bは15m/分となる。A single mode optical fiber preform having an outer diameter of 30 mm and having a core impregnated with GeO7 as a dopant was placed in an optical fiber spinning furnace. This optical fiber base material was heated to 2000°C.
The fibers were heated to 15 m/min and spun into a single moat fiber with an outer diameter of 125 μm at a spinning speed of 15 m/min. After cooling this bare optical fiber to 50° C. in a cooling tube, it was introduced into a CVD reactor to form a carbon film. Note that since the drawing speed of the bare optical fiber matches the spinning speed of the optical fiber, the drawing speed B is 15 m/min.
CVD反応炉内の温度が1200℃となるように発熱体
を加熱し、原料ガスを流速15ρ/分で供給して、反応
管内での原料ガスの流速Aが80m/分となるようにし
た。また原料ガスは、ヘンセン中にヘリウムを導入する
ことによって発生させたベンゼン/ヘリウム混合ガスを
用いた。この混合ガスのベンゼン濃度は0 、5 vo
1%の濃度であった。またCVD反応炉の排気圧は一7
mmHgとした。反応管内での原料ガスの流速Aと光フ
ァイバ裸線の線引速度Bとの比A/Bは5,3であった
。The heating element was heated so that the temperature inside the CVD reactor was 1200° C., and the raw material gas was supplied at a flow rate of 15 ρ/min, so that the flow rate A of the raw material gas in the reaction tube was 80 m/min. The raw material gas used was a benzene/helium mixed gas generated by introducing helium into Hensen. The benzene concentration of this mixed gas is 0,5 vo
The concentration was 1%. Also, the exhaust pressure of the CVD reactor is -7
It was set as mmHg. The ratio A/B between the flow rate A of the raw material gas in the reaction tube and the drawing rate B of the bare optical fiber was 5.3.
こ”のようにして炭素被膜が形成された光ファイバをウ
レタンアクレート樹脂液(ヤング率70kg/mm2、
伸び60%)か封入された樹脂コート用ダイスポットに
挿入し、ついで紫外線照射ランプを備えた硬化装置によ
り塗布された樹脂を硬化させて保護被膜を形成し、外径
250μmの光ファイバとした。The optical fiber with the carbon coating formed in this manner is treated with a urethane acrylate resin solution (Young's modulus: 70 kg/mm2,
The optical fiber was inserted into a die spot for resin coating sealed with an elongation of 60%, and then the applied resin was cured using a curing device equipped with an ultraviolet irradiation lamp to form a protective coating, and an optical fiber with an outer diameter of 250 μm was obtained.
(実施例2〜3および比較例1〜4)
光ファイバ裸線の線引速度Bと、反応管内での原料ガス
の流速Aとを、それぞれ第1表に示しfコように変化さ
せた以外は上記実施例1と全く同様にして光ファイバを
製造した。(Examples 2 to 3 and Comparative Examples 1 to 4) Except that the drawing speed B of the bare optical fiber and the flow rate A of the raw material gas in the reaction tube were changed as shown in Table 1, respectively. An optical fiber was manufactured in exactly the same manner as in Example 1 above.
(以下、余白)
(試験例1)
上記実施例および比較例で得られた光ファイバをそれぞ
れIkmずつとり、波長1.24μmにおける伝送損失
を測定した。この後、これらを直径150mmに巻いて
束状とし、温度80℃、水素分圧1 atmの水素評価
加圧容器内に48時間放置した。(Hereinafter, blank space) (Test Example 1) The optical fibers obtained in the above Examples and Comparative Examples were each taken at a length of I km, and the transmission loss at a wavelength of 1.24 μm was measured. Thereafter, these were wound into a bundle with a diameter of 150 mm, and left in a hydrogen evaluation pressurized container at a temperature of 80° C. and a hydrogen partial pressure of 1 atm for 48 hours.
この後、再度波長1.24μmにおける伝送損失を測定
して、水素による吸収損失の増加を調べた。After this, the transmission loss at a wavelength of 1.24 μm was measured again to examine the increase in absorption loss due to hydrogen.
この結果を第1表に併せて示した。The results are also shown in Table 1.
(試験例2)
上記実施例および比較例で得られた各光ファイバの引っ
張り強度を測定しに。引っ張り強度試験の条件は、試験
本数を25本、ゲージ長さ3m、歪速度10%/分、温
度23°C1相対湿度50%とし、破断確率の引っ張り
強度で評価した。この結果を第1表に併せて示した。(Test Example 2) To measure the tensile strength of each optical fiber obtained in the above Examples and Comparative Examples. The conditions for the tensile strength test were as follows: the number of specimens tested was 25, the gauge length was 3 m, the strain rate was 10%/min, the temperature was 23° C., and the relative humidity was 50%, and the tensile strength was evaluated based on the probability of breakage. The results are also shown in Table 1.
[発明の効果コ
上記説明したように、光ファイバ裸線1表面に炭素被膜
を形成するにあたって、反応管内における原料ガスの流
速Aと光ファイバの線引速度Bとの比A/Bが5以上と
なるように、原料ガスの供給速度と光ファイバ裸線の線
引き速度とをそれぞれ設定すると、CVD反応炉内で光
ファイバ裸線表面に十分な膜厚で炭素被膜が形成された
後に、水素ラジカルと接触するために、シラノール基が
形成されることがなくなる。よって水素ラジカルによる
耐水素特性と機械的強度の低下の原因となるシラノール
基の生成を抑制することかできるので、より優れTコ耐
水素特性および機械的強度とを有する光ファイバを得る
ことができる。[Effects of the Invention] As explained above, in forming a carbon film on the surface of the bare optical fiber 1, the ratio A/B of the flow rate A of the raw material gas in the reaction tube and the drawing speed B of the optical fiber is 5 or more. If the feed rate of the raw material gas and the drawing rate of the bare optical fiber are respectively set so that Due to the contact with the silanol group, no silanol groups are formed. Therefore, it is possible to suppress the production of silanol groups, which cause a decrease in hydrogen resistance and mechanical strength, due to hydrogen radicals, so it is possible to obtain an optical fiber having better hydrogen resistance and mechanical strength. .
第1図はこの発明の製造方法に好適に用いられる光ファ
イバの製造装置の一例を示した概略構成図である。
1・光ファイバ裸線、
3・CVD反応炉、
4・・・反応管。FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of an optical fiber manufacturing apparatus suitably used in the manufacturing method of the present invention. 1. Bare optical fiber, 3. CVD reactor, 4. Reaction tube.
Claims (1)
に炭素被膜を形成する光ファイバの製造方法において、 上記反応管内における原料ガスの流速Aと光ファイバの
線引速度Bとの比A/Bが5以上であることを特徴とす
る光ファイバの製造方法[Scope of Claims] A method for manufacturing an optical fiber in which a raw material gas is thermally decomposed in a reaction tube to form a carbon film on the surface of a bare optical fiber, the flow rate A of the raw material gas in the reaction tube and the drawing speed of the optical fiber. A method for manufacturing an optical fiber, characterized in that the ratio A/B to B is 5 or more.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2146781A JP2798790B2 (en) | 1990-06-05 | 1990-06-05 | Optical fiber manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2146781A JP2798790B2 (en) | 1990-06-05 | 1990-06-05 | Optical fiber manufacturing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0442839A true JPH0442839A (en) | 1992-02-13 |
| JP2798790B2 JP2798790B2 (en) | 1998-09-17 |
Family
ID=15415391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2146781A Expired - Fee Related JP2798790B2 (en) | 1990-06-05 | 1990-06-05 | Optical fiber manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2798790B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7678082B2 (en) | 2001-10-03 | 2010-03-16 | Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | Esophagus stoma button |
-
1990
- 1990-06-05 JP JP2146781A patent/JP2798790B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7678082B2 (en) | 2001-10-03 | 2010-03-16 | Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | Esophagus stoma button |
Also Published As
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|---|---|
| JP2798790B2 (en) | 1998-09-17 |
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