JPH0442841A - Production of optical fiber - Google Patents
Production of optical fiberInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、その表面に炭素被膜が形成された光ファイ
バの製造方法に関し、光ファイバ裸線表面に炭素被膜を
形成する際に、光ファイバ裸線表面と反応管壁とを所定
温度に調整することによって、より優れた耐水素特性を
有する光ファイバを高い線引き速度で得られるようにし
たものである。Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a method of manufacturing an optical fiber having a carbon coating formed on its surface, and in forming a carbon coating on the surface of a bare optical fiber. By adjusting the temperature of the bare wire surface and the reaction tube wall to a predetermined temperature, an optical fiber having better hydrogen resistance can be obtained at a high drawing speed.
[従来技術およびその課題]
石英系ファイバは、水素と接触するとファイバ内に拡散
した水素分子の分子振動に起因する吸収損失が増大する
。さらにドーパントとして含有されているP2O5、Q
e02、B、03なとが水素と反応しOH基としてファ
イバガラス中に取り込まれるため、OH基の吸収による
伝送損失も増大してしまう問題がある。[Prior art and its problems] When a silica-based fiber comes into contact with hydrogen, absorption loss due to molecular vibration of hydrogen molecules diffused into the fiber increases. Furthermore, P2O5 and Q contained as dopants
Since e02, B, 03, etc. react with hydrogen and are incorporated into the fiber glass as OH groups, there is a problem in that transmission loss due to absorption of OH groups also increases.
このような弊害に対処するにめ、水素吸収能を有する液
状の組成物を光ケーブル内に充填すること(特願昭61
−251808号)か考えられているか、その効果が不
十分であるうえ、構造が複雑となって経済的にも問題が
ある。In order to deal with such adverse effects, it is necessary to fill an optical cable with a liquid composition having hydrogen absorption ability (Japanese Patent Application No. 1983).
-251808), but the effect is not sufficient and the structure is complicated, which poses an economical problem.
このような問題を解決するため、化学気相成長法によっ
て先ファイバ表面に炭素被膜を形成し、これによって光
ファイバの耐水素特性を向上させうろことが発表されて
いる。In order to solve these problems, it has been announced that a carbon film can be formed on the surface of the fiber by chemical vapor deposition, thereby improving the hydrogen resistance of the optical fiber.
ところが上記製造方法では、光ファイバ裸線表面に形成
される炭素被膜の析出速度が小さく、またその膜質も緻
密でないので、十分な耐水素特性を得るには、光ファイ
バの100m/分以下の線引き速度に保たなければなら
なく、その生産性において問題があっ1こ。However, in the above manufacturing method, the deposition rate of the carbon film formed on the surface of the bare optical fiber is slow, and the quality of the film is not dense. It has to be kept at a high speed, and there is a problem with productivity.
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、耐水素特
性に優れた光ファイバを高速で線引き可能な製造方法を
提供することを目的としている。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a manufacturing method capable of drawing an optical fiber having excellent hydrogen resistance at high speed.
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、表面に炭素被膜が形成された光ファイバ
の耐水素特性および紡糸速度の向上について鋭意研究を
重ねた結果、加熱された光ファイバ裸線に原料ガスを反
応管内にて接触させて炭素被膜を形成するにあたって、
光ファイバ裸線の表面温度と反応管の壁温度とを調整す
ることにより、光ファイバの耐水素特性および線引き速
度を格段に向上できることを見出した。[Means for Solving the Problems] As a result of extensive research on improving the hydrogen resistance and spinning speed of optical fibers with carbon coatings formed on their surfaces, the present inventors have discovered that heated bare optical fibers When forming a carbon film by contacting the raw material gas in the reaction tube,
We have discovered that by adjusting the surface temperature of the bare optical fiber and the wall temperature of the reaction tube, the hydrogen resistance and drawing speed of the optical fiber can be significantly improved.
すなわちこの発明の製造方法は、表面温度が700℃以
上1100℃未満に加熱された光ファイバ裸線と原料ガ
スとを反応管内において、反応管の壁温度を400℃以
下として接触させ、原料ガスを熱分解して光ファイバ裸
線表面に炭素被膜を形成することを解決手段とした。That is, in the manufacturing method of the present invention, a bare optical fiber heated to a surface temperature of 700° C. or more and less than 1100° C. and a raw material gas are brought into contact with each other in a reaction tube with a wall temperature of 400° C. or less, and the raw material gas is The solution was to form a carbon film on the surface of the bare optical fiber by thermal decomposition.
以下、この発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.
第1図はこの発明の光ファイバの製造方法に好適に用い
られる光ファイバ製造装置の一例を示したものである。FIG. 1 shows an example of an optical fiber manufacturing apparatus suitably used in the optical fiber manufacturing method of the present invention.
第1図中、符号1は光ファイバ裸線である。光ファイバ
裸線1は、光ファイバ母材2を光ファイバ紡糸炉3内で
加熱紡糸したものである。この光ファイバ裸線lは、紡
糸炉直下に設けられたCVD反応炉4へ冷却されること
なく導かれるようになっている。In FIG. 1, reference numeral 1 indicates a bare optical fiber. The bare optical fiber 1 is obtained by heating and spinning an optical fiber preform 2 in an optical fiber spinning furnace 3. This bare optical fiber 1 is guided without being cooled to a CVD reactor 4 provided directly below the spinning furnace.
このCVD反応炉4は、加熱された光ファイバ裸線lと
原料ガスとを接触させて、先ファイバ裸線1の表面温度
により原料ガスを熱分解させて、光ファイバ裸線1表面
に炭素被膜を形成するためのものである。このCVD反
応炉4は概略円筒状の反応管5と、この反応管5の壁温
度を調整する調温装置6とから概略構成される。This CVD reactor 4 brings the heated bare optical fiber 1 into contact with the raw material gas, thermally decomposes the raw material gas by the surface temperature of the bare fiber 1, and forms a carbon coating on the surface of the bare optical fiber 1. It is intended to form a This CVD reactor 4 is generally composed of a generally cylindrical reaction tube 5 and a temperature control device 6 for adjusting the wall temperature of this reaction tube 5.
調温装置6は、反応管5の壁温度を400℃以下に保つ
ためのものであって、たとえば水や不活性ガス等の冷媒
を流動せしめた冷却管を巻回したもの等からなり、コン
トロール部7を介して反応管5と接続されている。この
コントロール部7は、さらに反応管5の壁温度を測定す
る非接触温度計等からなる測温部(図示せず)と接続さ
れており、その測定結果に上り調温装置6の冷媒供給量
等を調整できるようになっている。The temperature control device 6 is for keeping the wall temperature of the reaction tube 5 below 400° C., and is made of, for example, a winding cooling tube in which a refrigerant such as water or inert gas flows. It is connected to the reaction tube 5 via the section 7. This control section 7 is further connected to a temperature measurement section (not shown) consisting of a non-contact thermometer etc. that measures the wall temperature of the reaction tube 5, and the measurement results are used to determine the amount of refrigerant supplied to the temperature control device 6. etc. can be adjusted.
光ファイバ裸線1の表面温度の調整には、紡糸予熱を利
用することかできる。すなわち紡糸された光ファイバ裸
線lの表面温度が700℃以上1100℃未満となる位
置にCVD反応炉4を設置する。これは光ファイバ裸線
lの紡糸速度等によって適宜選択されるものであるが、
たとえば光ファイバ裸線lを300m/分の速度で紡糸
する場合には、光ファイバ母材2のネックダウン部から
約30mm程度の位置とする。To adjust the surface temperature of the bare optical fiber 1, spinning preheating can be used. That is, the CVD reactor 4 is installed at a position where the surface temperature of the spun bare optical fiber 1 is 700°C or more and less than 1100°C. This is appropriately selected depending on the spinning speed of the bare optical fiber l, etc.
For example, when spinning a bare optical fiber l at a speed of 300 m/min, the position is approximately 30 mm from the neck-down portion of the optical fiber preform 2.
また反応管5の上部には、原料ガスを供給するための原
料ガス供給管8が、下部には未反応ガスや余剰の炭素微
粒子等を排気する排気管9が、それぞれ取り付けられて
いる。さらに反応管5の上段と下段には、反応管5内を
7−ルするためのガスシール機構10が連設されている
。Further, a raw material gas supply pipe 8 for supplying raw material gas is attached to the upper part of the reaction tube 5, and an exhaust pipe 9 for exhausting unreacted gas, excess carbon particles, etc. is attached to the lower part. Further, gas seal mechanisms 10 for sealing the inside of the reaction tube 5 are connected to the upper and lower portions of the reaction tube 5.
さらにこのCVD反応炉4の下段には、樹脂液塗布装置
11と硬化装置12とか設けられており、炭素被膜上に
樹脂製の保護被膜を形成できるようになっている。Furthermore, a resin liquid coating device 11 and a curing device 12 are provided at the lower stage of the CVD reactor 4, so that a resin protective film can be formed on the carbon film.
上記製造装置を用いて、この発明の製造方法に沿って光
ファイバを製造するには、以下の工程による。To manufacture an optical fiber according to the manufacturing method of the present invention using the above manufacturing apparatus, the following steps are performed.
光ファイバ母材2を光ファイバ紡糸炉3内で加熱紡糸す
ると共に、光ファイバ紡糸炉3の下段に設けられたC
V D反応炉4、樹脂液塗布装置11、硬化装置12内
へ順次挿通し、これらの中心軸上を走行するように供給
する。なおこの際に、光ファイバ裸線lの表面温度が反
応管5内において700℃以上1100℃未満となるよ
うにCVD反応炉4の位置を設定すると共に、光ファイ
バ裸線lの紡糸速度、すなわち線引き速度を設定する。The optical fiber preform 2 is heated and spun in the optical fiber spinning furnace 3, and a
It is sequentially inserted into the VD reactor 4, the resin liquid coating device 11, and the curing device 12, and is fed so as to run on the central axes thereof. At this time, the position of the CVD reactor 4 is set so that the surface temperature of the bare optical fiber l is 700°C or more and less than 1100°C in the reaction tube 5, and the spinning speed of the bare optical fiber l, i.e. Set the drawing speed.
光ファイバ裸線lの表面温度は高温である方が原料ガス
の熱分解を促進するので好ましいが、l100℃以上と
なると石英の軟化点に近くなり、光ファイバ裸線lの断
線が発生するので好ましくない。また光ファイバ裸線1
の表面温度が700℃未満であると、原料ガスを十分に
熱分解できなく、炭素被膜の膜厚が薄くなり、耐水素特
性が低下する。It is preferable for the surface temperature of the bare optical fiber l to be high because it promotes thermal decomposition of the raw material gas, but if it is higher than 100°C, it will be close to the softening point of quartz and breakage of the bare optical fiber l will occur. Undesirable. Also, optical fiber bare wire 1
If the surface temperature is less than 700° C., the raw material gas cannot be thermally decomposed sufficiently, the thickness of the carbon film becomes thin, and the hydrogen resistance properties deteriorate.
ついで原料ガス供給管8より原料ガスを反応管5内へ供
給する。この原料ガスは、熱分解によって炭素被膜を形
成可能な炭素化合物であれば特に限定されるものではな
く、少なくとも原料化合物と、それを希釈し移送するキ
ャリアガスとが混合されてなるものである。原料化合物
の具体例としては、メタン、エタン、プロパン、ベンゼ
ン、トルエン等のほか、これら化合物の水素原子を塩素
原子に置換したクロロメタン、クロロベンゼンなどを挙
げることができる。またキャリアガスとしてはヘリウム
ガス、アルゴンガス、水素ガス、窒素ガスなど公知の種
々のものを利用できる。Then, the raw material gas is supplied into the reaction tube 5 from the raw material gas supply pipe 8 . This raw material gas is not particularly limited as long as it is a carbon compound that can form a carbon film by thermal decomposition, and is a mixture of at least the raw material compound and a carrier gas that dilutes and transports it. Specific examples of the raw material compounds include methane, ethane, propane, benzene, toluene, and the like, as well as chloromethane and chlorobenzene obtained by replacing the hydrogen atoms of these compounds with chlorine atoms. Further, various known carrier gases such as helium gas, argon gas, hydrogen gas, and nitrogen gas can be used as the carrier gas.
そしてこの際に、反応管5の壁温度を400℃以下に保
つように、8温装置6を駆動する。反応管5の壁温度が
低温である程、耐水素特性と紡糸速度の向上を図れるの
で、50℃以下が特に好ましく、400℃を上限とする
。反応管5の壁温度が400℃を越えると、原料ガスが
熱分解して発生した炭素微粒子が反応管5内に付着して
、光ファイバ裸線1表面への炭素被膜の析出速度が低下
するためである。また気相領域で成長した炭素の粗大粒
子が光ファイバ裸線1表面に付着しやすくなり、得られ
る光ファイバの耐水素特性を低下させるためである。At this time, the 8-temperature device 6 is driven so as to keep the wall temperature of the reaction tube 5 below 400°C. The lower the wall temperature of the reaction tube 5, the better the hydrogen resistance and spinning speed, so it is particularly preferably 50°C or lower, and the upper limit is 400°C. When the wall temperature of the reaction tube 5 exceeds 400° C., carbon particles generated by thermal decomposition of the raw material gas adhere to the inside of the reaction tube 5, reducing the rate of precipitation of the carbon film on the surface of the bare optical fiber 1. It's for a reason. This is also because coarse carbon particles grown in the gas phase region tend to adhere to the surface of the bare optical fiber 1, reducing the hydrogen resistance of the resulting optical fiber.
このようにして炭素被膜が形成された先ファイバ裸線l
を、下段に設けられた樹脂液塗布装置ll内へ導入する
。樹脂液塗布装置11内へ挿通された光ファイバ裸線l
は、保護被膜を形成するための紫外線硬化型樹脂液また
は熱硬化型樹脂液が塗布され、ついで塗布された樹脂液
に好適な硬化条件を有する硬化装置12内で硬化されて
保護被膜が形成されて光ファイバとされる。The bare fiber l on which the carbon coating was formed in this way
is introduced into the resin liquid coating device ll provided in the lower stage. Bare optical fiber l inserted into the resin liquid coating device 11
The material is coated with an ultraviolet curable resin liquid or a thermosetting resin liquid for forming a protective film, and then cured in a curing device 12 having curing conditions suitable for the applied resin liquid to form a protective film. It is considered as an optical fiber.
このように、加熱された光ファイバ裸線と原料ガスとを
反応管内で接触させて、光ファイバ裸線表面に炭素被膜
を形成する際に、光ファイバ裸線の表面温度を700℃
以上1100℃未満とし、反応管の壁温度を400℃以
下、特に好ましくは50℃以下とすることにより、炭素
粒子を微細化すると共に、この炭素微粒子の光ファイバ
裸線表面への析出効率を向上できるので、線引き速度を
大きくしても十分な膜厚の炭素被膜を形成することかで
きる。さらに炭素微粒子は、発生後直ちに光ファイバ裸
線表面に析出するので、形成される炭素被膜は緻密なも
のとなり、耐水素特性に非常に優れたものとなる。In this way, when bringing the heated bare optical fiber into contact with the raw material gas in the reaction tube to form a carbon film on the surface of the bare optical fiber, the surface temperature of the bare optical fiber is kept at 700°C.
By setting the above temperature to less than 1100°C and the wall temperature of the reaction tube to 400°C or less, particularly preferably 50°C or less, the carbon particles are made finer and the precipitation efficiency of the carbon fine particles on the surface of the bare optical fiber is improved. Therefore, even if the drawing speed is increased, a carbon film of sufficient thickness can be formed. Furthermore, since the carbon fine particles are deposited on the surface of the bare optical fiber immediately after being generated, the carbon film formed is dense and has excellent hydrogen resistance.
[実施例]
(実施例)
光ファイバ紡糸炉の下段に反応管を設置すると共に、こ
の反応管の周囲に水を冷媒とする冷却管を巻回して第1
図に示したと同様の装置とした。[Example] (Example) A reaction tube was installed in the lower stage of an optical fiber spinning furnace, and a cooling tube using water as a coolant was wound around the reaction tube.
The device was similar to that shown in the figure.
なお、反応管は光ファイバ母材のネックダウン位置から
30mmのところに設置した。Note that the reaction tube was installed 30 mm from the neck-down position of the optical fiber preform.
光ファイバ紡糸炉内にGe0zがドープ剤として含浸さ
れたコア部を有する外径30+amの単一モード光ファ
イバ母材を設置した。この光ファイバ母材を2000℃
に加熱して300m/分の紡糸速度で外径125μmの
単一モードファイバに紡糸した。A single mode optical fiber preform having an outer diameter of 30+ am and having a core impregnated with GeOz as a dopant was placed in an optical fiber spinning furnace. This optical fiber base material was heated to 2000°C.
The fiber was heated to 300 m/min and spun into a single mode fiber with an outer diameter of 125 μm at a spinning speed of 300 m/min.
ついでこの光ファイバ裸線を反応管内に挿通すると共に
ベンゼンを原料化合物とし、窒素ガスをキャリアガスと
した原料ガスを供給し、この原料ガスを先ファイバ裸線
と接触させることにより熱分解させて、炭素被膜を光フ
ァイバ裸線表面に形成した。なお原料ガスの流星はベン
ゼンガス02Q/分、窒素ガス08Q/分とした。排気
管からは一4mmHtOの排気圧で反応管内を排気した
。Next, this bare optical fiber is inserted into the reaction tube, and a raw material gas containing benzene as a raw material compound and nitrogen gas as a carrier gas is supplied, and this raw material gas is thermally decomposed by contacting with the bare fiber at the end. A carbon film was formed on the surface of a bare optical fiber. Note that the meteor gases used as raw material gases were benzene gas 02Q/min and nitrogen gas 08Q/min. The inside of the reaction tube was evacuated from the exhaust pipe at an exhaust pressure of -4 mmHtO.
そして反応管内に挿通された光ファイバ裸線の表面温度
を、原料ガス供給口と排気管付近の二点で非接触温度計
を用いて測定したところ、900’Cと750℃であっ
た。また反応管の壁温度は3゜0℃であった。The surface temperature of the bare optical fiber inserted into the reaction tube was measured using a non-contact thermometer at two points near the raw material gas supply port and the exhaust pipe, and found to be 900'C and 750C. The wall temperature of the reaction tube was 3°0°C.
このようにして炭素被膜が形成された光ファイバをウレ
タンアクレート樹脂液(ヤング率70kg/mm’、伸
び60%)が封入された樹脂コート用ダイスポットに挿
入し、ついで紫外線照射ランプを備えた硬化装置により
塗布された樹脂を硬化させて保護被膜を形成し、外径2
50μmの光ファイバとした。The optical fiber with the carbon film formed in this way was inserted into a resin coating die spot filled with urethane acrylate resin liquid (Young's modulus 70 kg/mm', elongation 60%), and then equipped with an ultraviolet irradiation lamp. The resin applied by the curing device is cured to form a protective film, and the outer diameter is 2.
A 50 μm optical fiber was used.
(実施例2〜4および比較例1〜4)
原料ガスの種類、光ファイバ裸線の紡糸速度、反応管の
壁温度をそれぞれ第1表に示したように変化させた以外
は上記実施例1と全く同様にして光ファイバを製造した
。(Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 4) Example 1 above except that the type of raw material gas, the spinning speed of the bare optical fiber, and the wall temperature of the reaction tube were changed as shown in Table 1. An optical fiber was manufactured in exactly the same manner.
(試験例1)
上記実施例1〜4および比較例1〜4で得られた各光フ
ァイバをそれぞれlkmずつ採取し、波長1.24μm
における伝送損失を測定した。この後、これらを直径1
50m+nに巻いて束状とし、温度80℃、水素分圧1
atmの水素評価加圧容器内に96時間放置した。こ
の後、再度波長1.24μ印における伝送損失を測定し
て、水素による吸収損失の増加を調べた。この結果を第
1表に併せて示した。(Test Example 1) Each optical fiber obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 was sampled at a length of 1 km, and the wavelength was 1.24 μm.
The transmission loss was measured. After this, make these with a diameter of 1
Wrap it into a bundle of 50 m + n, and store it at a temperature of 80°C and a hydrogen partial pressure of 1.
It was left in an ATM hydrogen evaluation pressurized container for 96 hours. Thereafter, the transmission loss at the wavelength mark of 1.24 μm was measured again to examine the increase in absorption loss due to hydrogen. The results are also shown in Table 1.
(試験例2)
上記実施例1〜4および比較例1〜4で得られた各光フ
ァイバのウレタンアクリレート樹脂被覆層を溶剤で除去
し、光ファイバ裸線表面に形成された炭素被膜の電気抵
抗値をデジタルマルチメータにて測定した。この電気抵
抗値をもって炭素被膜の付着度合を測る方法とした。こ
の結果を第1表に併せて示した。(Test Example 2) The urethane acrylate resin coating layer of each optical fiber obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 was removed using a solvent, and the electrical resistance of the carbon coating formed on the surface of the bare optical fiber was The values were measured using a digital multimeter. This electrical resistance value was used as a method of measuring the degree of adhesion of the carbon film. The results are also shown in Table 1.
(以下、余白)
[発明の効果]
上記説明したように、この発明の製造方法は、光ファイ
バ裸線の表面温度と反応管の壁温度とを適宜温度に調整
するものであるので、原料ガスが熱分解して発生する炭
素粒子を微細化すると共に、この炭素微粒子の光ファイ
バ裸線表面への析出効率およびその速度を格段に向上で
きる。(Hereinafter, blank space) [Effects of the Invention] As explained above, the manufacturing method of the present invention adjusts the surface temperature of the bare optical fiber and the wall temperature of the reaction tube to appropriate temperatures, so that the raw material gas The carbon particles generated by the thermal decomposition of carbon particles can be made finer, and the efficiency and rate of precipitation of these fine carbon particles onto the surface of the bare optical fiber can be significantly improved.
よって光ファイバの線引き速度を大きくしても、緻密な
炭素被膜を十分な膜厚で析出させることができるので、
耐水素特性に優れた光ファイバを高速で得ることができ
る。Therefore, even if the drawing speed of the optical fiber is increased, a dense carbon film can be deposited with sufficient thickness.
Optical fibers with excellent hydrogen resistance can be obtained at high speed.
第1図はこの発明の製造方法に好適に用いられる光ファ
イバの製造装置の一例を示した概略構成図である。
l・・・光ファイバ裸線、 5・・・反応管、6・・
・調温装置。FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of an optical fiber manufacturing apparatus suitably used in the manufacturing method of the present invention. l... Bare optical fiber, 5... Reaction tube, 6...
・Temperature control device.
Claims (2)
れた光ファイバ裸線と原料ガスとを反応管内において、
反応管の壁温度を400℃以下として接触させ、原料ガ
スを熱分解して光ファイバ裸線表面に炭素被膜を形成す
ることを特徴とする光ファイバの製造方法(1) A bare optical fiber heated to a surface temperature of 700°C or more and less than 1100°C and a raw material gas are placed in a reaction tube,
A method for manufacturing an optical fiber, characterized by forming a carbon film on the surface of the bare optical fiber by thermally decomposing the raw material gas by contacting the reaction tube at a wall temperature of 400° C. or less.
する請求項1記載の光ファイバの製造方法(2) The method for manufacturing an optical fiber according to claim 1, characterized in that the wall temperature of the reaction tube is 50° C. or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2146783A JP3039961B2 (en) | 1990-06-05 | 1990-06-05 | Optical fiber manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2146783A JP3039961B2 (en) | 1990-06-05 | 1990-06-05 | Optical fiber manufacturing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0442841A true JPH0442841A (en) | 1992-02-13 |
| JP3039961B2 JP3039961B2 (en) | 2000-05-08 |
Family
ID=15415437
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2146783A Expired - Fee Related JP3039961B2 (en) | 1990-06-05 | 1990-06-05 | Optical fiber manufacturing method |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP3039961B2 (en) |
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1990
- 1990-06-05 JP JP2146783A patent/JP3039961B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JP3039961B2 (en) | 2000-05-08 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090303 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090303 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100303 Year of fee payment: 10 |
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