JPH044376B2 - - Google Patents

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JPH044376B2
JPH044376B2 JP2591184A JP2591184A JPH044376B2 JP H044376 B2 JPH044376 B2 JP H044376B2 JP 2591184 A JP2591184 A JP 2591184A JP 2591184 A JP2591184 A JP 2591184A JP H044376 B2 JPH044376 B2 JP H044376B2
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heated
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sensor
temperature
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JP2591184A
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D11/00Process control or regulation for heat treatments

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Control Of Heat Treatment Processes (AREA)
  • Heat Treatment Of Articles (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、長い被加熱物を連続的に加熱して
いる加熱部の位置と、加熱さされた温度を測定す
るセンサの位置がずれて配置されている連続的加
熱装置の制御装置に関する。
たとえば、電縫管のような溶接部分を有する管
は、溶接部分の材質が硬化しているために、焼鈍
処理を行なうことが常温加工を容易ならしめるた
め必要である。
このような焼鈍処理は、第1図に示すように、
高周波電源3より高周波電力が印加されているコ
イル2中に電縫管1を連続的に通過させながら高
周波加熱することによつて行なつている。
しかし、このような焼鈍処理工程においては、
最適な温度で焼屯しなければ、良い品質のものを
得ることができない。しかも、焼鈍時の温度を測
定しようとしても、高周波コイル2が邪魔になつ
て、高周波コイル2直下における焼鈍温度を測定
することは極めて困難であり、高周波コイル2の
出口付近にセンサ14を設けて、出口における温
度しか測定することができない。
このように、高周波コイル2の出口にセンサ1
4を設け、このセンサ14の温度出力が一定値を
保つように高周波電源3を制御する自動制御系を
設けても、高周波コイル2直下の加熱部とセンサ
14の温度測定部とが距離だけずれているいるた
めに、この距離Dを進行するのに要する時間tを
周期として、自動制御系がハンチングを起こすと
いう問題があつた。
このようなハンチングを防ぐために、自動制御
系の帰還ループの時定数を大きくすることも考え
られるが、時定数を大きくするとレスポンスが悪
化するので好ましくない。
そこで、この発明の制御装置は、このような問
題点を解決するために考えられたものであり、次
に、図面に基づいて詳細に説明する。
第2図に示すように、電縫管1のように被加熱
物と、高周波電源3およびコイル2よりなる加熱
部と、光学的温度計4のようなセンサを具備した
焼鈍装置に適用した実施例について説明する。
高周波コイル2の出口付近に設けられた光学的
温度計4のアナログ出力Tは、温度設定器6のア
ナログ出力Sとともに比較回路5に導かれてお
り、比較回路5で得た2つのアナログ出力の偏差
S〜Tは、A/D変換器7に導かれてデジタル値
SD〜TDに変換される。さらに、N個のシフトレ
ジスタ8と、このシフトレジスタ8から出力する
Nビツトのデジタル値RDとA/D変換器7のデ
ジタル出力(SD〜TD)とを加減算するデジタル
加減算回路9と、このデジタル加減算回路9で得
たNビツトのデジタル出力(RD±SD〜TD)をN
個のシフトレジスタ8の各入力端子へ印加する回
路11と、デジタル加減算回路9のNビツトのデ
ジタル出力をアナログ出力Pに変換して高周波電
源3の制御入力に導くD/A変換器10とを備え
ている。
一方、電縫管1が一定距離だけ進行するごとに
パルス出力を発生し、シフトレジスタ8のシフ
ト・パルス信号源として利用されるパルス発生器
12が設けられている。
このパルス発生器12のパルス繰返し周波数お
よびシフトレジスタ8のステージ数は、電縫管1
が、高周波コイル2で囲まれた部分Aより光学的
温度計4の視野Bまで距離Dを進行する間にシフ
トレジスタ8の入力端子へ印加されたデジタル値
が、その出力端子までシフトされるように選ばれ
ている。
次に、以上のように構成されたこの発明の制御
装置の動作を説明する。
運転開始時には、シフトレジスタ8の記憶内容
はすべて零であり、光学的温度計4の視野B内に
ある電縫管1の表面温度は低いので、光学的温度
計4の出力電圧Tは低く、焼鈍温度に設定された
温度設定器6の出力電圧Sと相違しており、比較
回路5で比較して両者の差電圧S〜Tを得る。こ
の差電圧は、A/D変換器7でデジタル値SD
TDに変換され、デジタル加減算回路9において
シフトレジスタ8のデジタル出力RDと加減算さ
れる。
このとき、光学的温度計4を出力電圧Tは、ほ
ほ零であり、シフトレジスタ8のデジタル出力
RDもほぼ零であるから、A/D変換器7の出力
SD〜TDは、ほぼSDであつて、デジタル加減算回
路9においては、何も加減算されることなく、そ
のままD/A変換器10へ導かれ、アナログ出力
(P、このときP=S)に変換されたのち高周波
電源3に印加され、そのアナログ出力に基づいて
高周波電源3の出力を制御し、制御された高周波
出力により電縫管1のコイル2で囲まれた部分A
が加熱される。
一方、デジタル加減算回路9のデジタル出力
(RD±SD〜TD)は、シフトレジスタ8の入力端子
へ帰還され、パルス発生器12からのシフト・パ
ルス信号によつて順次にシフトされ、コイル2で
囲まれた位置において加熱された部分Aが距離D
だけ進行して光学的温度計4の視野Bまで到達し
たとき、シフトレジスタ8の出力端子に現れる。
コイル2で囲まれた位置において加熱された部
分Aが、光学的温度計4の視野Bまで到達する
と、光学的温度計4の出力電圧Tが上昇する。
この光学的温度計4の出力電圧Tと温度設定器
6の出力電圧Sとの偏差S〜TをA/D変換器7
でデジタル値SD〜TDに変換したのち、シフトレ
ジスタ8の出力RDとともに加減算回路9へ導き、
シフトレジスタ8に記憶されていた加熱時の制御
量RDにA/D変換器7の出力SD〜TDを加減算す
るこによつて制御量PDにSD〜TDなる補正を加え、
この補正された制御量(RD±SD〜TD)をシフト
レジスタ8の入力端子へ帰還するとともに、D/
A変換器10でアナログ値Pに変換したのち高周
波電源3を印加され、この補正されたアナログ量
に基づいて高周波電源3の出力を制御し、制御さ
れたこの高周波出力によりコイル2で囲まれた部
分Aが加熱される。
このようにして加熱された部分Aが距離Dだけ
進行して光学温度計4の視野Bに到達するごと
に、加熱時の制御量をシフトレジスタ8の出力端
子へ出力させ、光学的温度計4の視野Bに到達し
たときの温度と設定温度との偏差S〜Tを求め、
偏差が生じたときには、この偏差によつてシフト
レジスタ8の出力を補正した値(RD±SD〜TD
により高周波電源3の出力を制御するのである。
電縫管1がコイル2で囲まれた部分Aより光学
的温度計4の視野Bまで進行する期間を1周期と
すれば、シフトレジスタ8によつて各位相ごとの
加熱時の各制御量を順序に1周期づつずらせて出
力させ、光学的温度計4の視野Bにおける温度と
その加熱時の制御量とを対応させて制御を行なう
のである。
なお、光学的温度計4の視野Bで測定される温
度は、高周波コイル2で囲まれた部分Bの温度よ
りも多少低下するが、この低下分は経験的に得て
予め補正すればよいのである。
以上で説明した実施例においては、N個のシフ
トレンジスタ8を用いてNビツトのデジタル値を
並列的にシフトさせているが、デジタル信号を直
並列変換する手段を併用することにより単一のシ
フトレジスタを用いてNビツトのデジタル値を直
列的にシフトさせてもよいのである。
電縫管1の焼鈍を例にあげてこの発明の制御装
置を説明したが、このほかに、綿材、管材、棒材
などの各種の長い材料の連続的加熱のように、加
熱部の位置と温度を測定するセンサの位置がずれ
て配置されている各種の加熱装置に適用すること
により、優れた効果を発揮することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来の連続的加熱装置を示す概略
図、第2図は、この発明の連続的加熱装置の制御
装置の一実施例を示すブロツク図である。 1……被加熱物、2……高周波コイル、3……
高周波電源、4……センサ(光学的温度計)、5
……比較回路、6……設定器、7……A/D変換
器、8……シフトレジスタ、9……加減算回路、
10……D/A変換器、12……パルス発生器。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 長い被加熱物を連続的に加熱する加熱部と、
    該加熱部より離れた位置にあつて上記被加熱物の
    温度を測定するセンサと、該センサの出力に基づ
    いて上記加熱部の出力を自動制御する制御手段と
    を備えた長い被加熱物を連続的に加熱する連続的
    加熱装置において、 上記長い被加熱物が一定距離だけ進行するごと
    にパルス出力を発生するパルス発生器と、 上記長い被加熱物を加熱したときの各部分に対
    する各制御量が順次に入力され、加熱された各部
    分が上記センサに到達するごとに、対応する上記
    制御量を順次に出力するように、上記パルス発生
    器のパルス出力により上記各制御量がシフトされ
    るシフトレジスタと、 上記センサによつて得た温度と設定値との偏差
    に基づいて上記シフトレジスタの出力を補正する
    補正手段と、 該補正された制御量を上記シフトレジスタの入
    力および上記制御手段の入力に導く回路と、 を具備することを特徴とする連続的加熱装置の制
    御装置。
JP2591184A 1984-02-14 1984-02-14 連続的加工装置の制御装置 Granted JPS60169522A (ja)

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JP2591184A JPS60169522A (ja) 1984-02-14 1984-02-14 連続的加工装置の制御装置

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JP2591184A JPS60169522A (ja) 1984-02-14 1984-02-14 連続的加工装置の制御装置

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JPS60169522A JPS60169522A (ja) 1985-09-03
JPH044376B2 true JPH044376B2 (ja) 1992-01-28

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JP2591184A Granted JPS60169522A (ja) 1984-02-14 1984-02-14 連続的加工装置の制御装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS60230936A (ja) * 1984-04-28 1985-11-16 Seiichi Okuhara 連続的加熱装置の制御装置
JPH0413812A (ja) * 1990-04-28 1992-01-17 Fuji Denshi Kogyo Kk ボールネジの高周波移動焼入焼もどし方法および装置
CN104131148B (zh) * 2014-08-15 2016-06-08 苏州热工研究院有限公司 一种三通主管对接接头局部焊后热处理方法

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JPS60169522A (ja) 1985-09-03

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