JPH0443814Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、レーザ光の反射率や透過率、あるい
は板厚など、光デイスクの物理的な諸特性を測定
する光デイスク検査装置において、これらの測定
系の校正に使用される基準板の改良に関するもの
である。

〔従来の技術〕

一般に、光デイスク検査装置においては、光デ
イスクの諸特性を測定する前に、その測定系の校
正が行なわれる。また、この校正には種々の方法
があるが、値のわかつている標準試料を使用して
校正を行なうのが、検出器や電気回路などを含め
た測定系全体を一度に校正することができ、便利
である。

〔考案が解決しようとする問題点〕

しかしながら、このような校正方法では、数点
の測定点から補間して校正曲線を求めるために、
数種類の標準試料を用意して、これらの標準試料
を順次光学ヘツドの上部（レーザ光の照射位置）
に正確にセツトしなければならず、標準試料の交
換操作が容易ではない。

本考案は、上記のような従来装置の欠点をなく
し、複数の標準試料を順次光学ヘツドの上部に正
確にセツトすることのできる光デイスク検査装置
校正用基準板を簡単な構成により実現することを
目的としたものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案の光デイスク検査装置校正用基準板は、
所定の基準値に値付けされた複数の標準試料片
と、光デイスクのクランプ機構により共通にクラ
ンプされるクランプ部を有し前記複数の標準試料
片を同一円周上に配置するとともにこれら複数の
標準試料片をその反射膜面または透過膜面の位置
およびクランプ面からの高さが前記クランプ機構
にクランプされる通常の光デイスクの記録膜面と
一致するように保持する基板部とを具備するよう
にしたものである。

〔作用〕

このように、複数の標準試料片を基板部の同一
円周上に配置するとともに、、この基板部に光デ
イスクと同様のクランプ部を設けるようにする
と、複数の標準試料片を特別の治具などを使用す
ることなく光デイスクと共通のクランプ機構によ
りクランプすることができるとともに、基板部を
回転させるだけで、任意の標準試料片を光学ヘツ
ドの上部にセツトすることができる。また、複数
の標準試料片をその反射膜面または透過膜面の位
置およびクランプ面からの高さが前記クランプ機
構にクランプされる通常の光デイスクの記録膜面
と一致するように保持すると、各標準試料片が常
に光デイスクと同じ高さに保持されるようにな
り、実際の測定状態により近い条件で校正を行な
うことができる。さらに、各標準試料片の面積は
小さいので、均一性に優れている。

〔実施例〕

以下、図面を用いて、本考案の光デイスク検査
装置校正用基準板を説明する。

第１図は本考案の光デイスク検査装置校正用基
準板の一実施例を示す平面図、第２図はその断面
図である。図において、Ｓ０〜Ｓ１１はそれぞれ
所定の基準値に値付けされた標準試料片、１は標
準試料片Ｓ０〜Ｓ１１を同一円周上に保持する基
板部、２は基板部１の中心に設けられたクランプ
部、２１はクランプ部２において光デイスクを回
転させるターンテーブルに当接するクランプ面で
ある。標準試料片Ｓ０〜Ｓ１１は例えばガラス基
板により形成されており、一方の面には反射膜ま
たは透過膜３が被着されている。また、この基準
板が反射率または透過率に対するものであれば、
その板厚ｔは通常の光デイスクと等しく選ばれて
おり、板厚に対するものであれば、その値付けに
応じた値となつている。さらに、図に示すよう
に、基板部１は標準試料片Ｓ０〜Ｓ１１をその反
射膜面または透過膜面３側を上にした状態で、し
かもその膜面のクランプ面２１からの高さが通常
の光デイスクにおけるクランプ時の記録膜面の高
さと一致するように保持している。例えば、光デ
イスクがその基板部分を直接クランプされる形式
のものであれば、記録膜面の高さはその板厚と等
しくなるので、標準試料片Ｓ０〜Ｓ１１は図に示
す如く、その底面がクランプ面２１と一致するよ
うに保持される。また、光デイスクがクランプ用
のハブを有するものであれば、標準試料片Ｓ０〜
Ｓ１１の高さも、そのハブの厚みを考慮して決定
される。

このように構成された基準板においては、基板
部１をクランプ部２を利用して光デイスク検査装
置のクランプ機構に装着するだけで、特別の治具
などを使用することなく、任意の標準試料片Ｓ０
〜Ｓ１１を光学ヘツドの上部にセツトすることが
できる。また、各標準試料片Ｓ０〜Ｓ１１の面積
は小さいので、均一性に優れている。なお、反射
率が０％の位置および透過率が100％の位置は、
試料片を設けず、素通しにしている。

第３図は本考案の基準板を光デイスク検査装置
に装着した状態を示す構成図である。図は光デイ
スクの反射率測定における校正動作時を例示した
ものである。図において、前記第１図および第２
図と同様のものは同一符号を付して示す。４は光
デイスク検査装置における光デイスクのクランプ
機構、４１はそのターンテーブル、５は光学ヘツ
ドである。光学ヘツド５は、一定光量のレーザ光
を出射するレーザ光源５１、光アイソレータ５
２、レーザ光源５１から出射されたレーザ光を収
束させ、標準試料片Ｓ０〜Ｓ１１の反射面３上に
焦点を結ばせる対物レンズ５３、標準試料片Ｓ０
〜Ｓ１１からの反射光を光アイソレータ５２を介
して検出するフオトセンサ５４、フオトセンサ５
４の出力を増幅するアンプ５５などにより構成さ
れている。

このような校正動作時においては、基板部１を
回転させるだけで、任意の標準試料片Ｓ０〜Ｓ１
１を光学ヘツド５の上部にセツトすることができ
る。したがつて、この時の標準試料片Ｓ０〜Ｓ１
１の値と測定出力S_Oとの関係をプロツトし、この
測定点間を補間すれば、対物レンズ５３などの光
学系やフオトセンサ５４、アンプ５５などの電気
回路系を含めた測定系全体の校正曲線を一度に得
ることができる。また、各標準試料片Ｓ０〜Ｓ１
１における反射面の高さが通常の光デイスクにお
ける記録膜面の高さと等しく形成されているの
で、光学ヘツド５と反射膜３との距離が光デイス
クの測定時と等しくなり、フオーカスサーボの状
態など、実際の測定時に近い条件で校正動作を行
なうことができる。

なお、上記の説明においては、光デイスクの反
射率測定時の校正動作を例示したが、測定項目が
変更された場合にも、基準板の装着方法は変ら
ず、所望の標準試料片Ｓ０〜Ｓ１１を容易にセツ
トすることができる。また、光学ヘツド５として
は、光デイスクの下側からレーザ光を照射する形
式のものを例示したが、反対に、光デイスクの上
側からレーザ光を照射するものも存在する。この
ような場合には、光デイスクの記録膜面の位置は
デイスクの下側となるので、基準板における反射
膜面または透過膜面の位置および高さもこれに応
じて変更される。

〔考案の効果〕

以上説明したように、本考案の光デイスク検査
装置校正用基準板では、所定の基準値に値付けさ
れた複数の標準試料片と、光デイスクのクランプ
機構により共通にクランプされるクランプ部を有
し前記複数の標準試料片を同一円周上に配置する
とともにこれら複数の標準試料片をその反射膜面
または透過膜面の位置およびクランプ面からの高
さが前記クランプ機構にクランプされる通常の光
デイスクの記録膜面と一致するように保持する基
板部とを具備するようにしているので、複数の標
準試料片を特別の治具などを使用することなく光
デイスクと共通のクランプ機構によりクランプす
ることができ、基板部を回転させるだけで、任意
の標準試料片を順次光学ヘツドの上部に正確にセ
ツトすることのできる光デイスク検査装置校正用
基準板を簡単な構成により実現することができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本考案の光デイスク検査
装置校正用基準板の一実施例を示す構成図、第３
図は本考案の光デイスク検査装置校正用基準板を
光デイスク検査装置に装着した状態の一例を示す
構成図である。 Ｓ０〜Ｓ１１……標準試料片、１……基板部、
２……クランプ部、３……反射膜、４……クラン
プ機構、５……光学ヘツド。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 所定の基準値に値付けされた複数の標準試料
   片と、光デイスクのクランプ機構により共通に
   クランプされるクランプ部を有し前記複数の標
   準試料片を同一円周上に配置するとともにこれ
   ら複数の標準試料片をその反射膜面または透過
   膜面の位置およびクランプ面からの高さが前記
   クランプ機構にクランプされる通常の光デイス
   クの記録膜面と一致するように保持する基板部
   とを具備してなる光デイスク検査装置校正用基
   準板。 (2) 前記複数の標準試料片はそれぞれ所定の値付
   けが行なわれているとともに、標準の光デイス
   クと同じ板厚を有してなる前記実用新案登録請
   求の範囲第１項記載の光デイスク検査装置校正
   用基準板。 (3) 前記複数の標準試料片は板厚測定時の校正に
   使用されるものであり、それぞれ所定の値付け
   に応じた板厚を有するとともに、標準の光デイ
   スクと同じ反射率を有してなる前記実用新案登
   録請求の範囲第１項記載の光デイスク検査装置
   校正用基準板。