JPH0444209A

JPH0444209A - 露光方法

Info

Publication number: JPH0444209A
Application number: JP2149434A
Authority: JP
Inventors: Shinichi Mizuguchi; 水口　信一; Hiroyuki Nagano; 寛之長野; Takeo Sato; 佐藤　健夫
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1990-06-07
Filing date: 1990-06-07
Publication date: 1992-02-14

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕この発明は、露光方法に関し、詳しくは、集積回路の製
造分野等で利用され、いわゆるステッパ等と呼ばれてい
る露光装置を用いる高精度な露光方法に関するものであ
る。

〔従来の技術〕

超ＬＳＩの高集積化に伴って、現在ではハーフミクロン
級のパターン形成が要求されるようになってきており、
このようなパターン形成を能率的に行うには、露光方法
において、高速で行える超精密位置決め技術の実現が大
きな鍵を握っている現在の露光装置で主に用いられてい
る位置決め方法としては、ウェハ上のアライメントマー
クを計測して、この計測データをもとにショット中心位
置を算出し、レーザ干渉計等でウェハステージの位置決
めを行い、ウェハステージが目標の位置に停止した状態
で露光を行うようにしている。すなわち、目標位置と現
在位置との差を算出し、それに応じて適切な速度指令を
フィードバンクシステムを持つステージ駆動サーボ系に
出力する。そして、目標位置からの誤差量が所定の条件
を満たしたならば、ステージを停止させて露光を行うの
である。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、上記した従来の位置決め方法では、ステージ
が停止するまでの時間が長くかかるために作業の高速化
が阻害されていると同時に、微視的にはステージを完全
に停止させることが困難であるためにウェハとレチクル
との重ね合わせ精度向上に限界があった。

第９図は、従来の位置決め方法において、位置決めに要
する時間とステージの移動速度との関係を示している（
超精密位置決め技術専門委員会前刷集、研究例会７１ｍ
８９−０３：精密工学会）。ウェハステージは、移動開
始後約０．１秒で最高速度１００　ｍ／ｓｅｃに達し、
目標位置の手前的５Ｉ１ｍで急激な減速に入る。この際
、機械要素の非線形性を考慮してウェハステージを最適
に移動させたとしても、位置決めの最終段階で残留振動
が励起されてしまう。位置決めに要する時間の中で、こ
の残留振動を含めてウェハステージが停止するまでの時
間が非常に大きな割合を占めていることが判るつぎに、
第１０図は、ステージの停止状態における微視的なステ
ージ位置を、横軸に時間、縦軸にステージ位置をとって
示している。図から明らかなように、ステージをサーボ
により停止させたとしても、微視的に見ると、位置決め
を行うレーザ測長値のゆらぎ、あるいは、外部振動から
励起される振動等で数１０ｎ閣のオーダーでステージは
揺らいでおり、完全な停止状態とは言えない。

以上のことから、従来の位置決め方法では、ウェハとレ
チクルの重ね合わせ精度は、前記揺らぎ量に相当する誤
差を含んでおり、この誤差以下の精度向上は不可能であ
った。また、ステージすなわちウェハが停止するまでの
時間が長くかかるためスループントの向上にも限界があ
った。そのため、次世代の半導体製造に要求される位置
決め精度およびスループントには充分に対応することが
出来ないという問題を有していた。

そこで、この発明の課題は、ウェハとレチクルの位置決
め精度を向上させるとともに位置決めに要する時間を短
縮させて、高精度かつ高スルーブツトを実現することの
できる露光方法を提供することにある−０〔課題を解決するための手段〕上記課題を解決するこの発明のうち、請求項１記載の露
光方法は、アライメントマークおよび露光パターンが描
かれたレチクルに複数のパルス発光を照射し、アライメ
ントマークが設けられたウェハにレチクルを投影して所
定の露光量を与える露光方法であり、ウェハとレチクル
を相対的に、水平面内で直交する２方向に周期的に微動
させ、かつ、両方向の微動の位相差を周期的に変化させ
ながら、露光位置におけるウェハとレチクルの重ね合わ
せ状態を前記アライメントマークをもとにアライメント
手段で検出し、ウェハとレチクルのアライメントマーク
が合致した瞬間に前記パルス発光を照射する。

また、請求項２記載の露光方法は、アライメントマーク
および露光パターンが描かれたレチクルに複数のパルス
発光を照射し、アライメントマークが設けられたウェハ
にレチクルを投影して所定の露光量を与える露光方法で
あり、ウェハとレチクルを相対的にζ水平面内で直交す
る２方向に周期的に微動させ、かつ、両方向の微動の位
相差を周期的に変化させながら、露光位置におけるウェ
ハとレチクルの重ね合わせ状態を前記アライメントマー
クをもとにアライメント手段で検出してウェハとレチク
ルのアライメントマークが合致したときの微動原点から
の距離を求め、ついで、この微動原点からの距離を振幅
とし、かつ、位相差を一定にして、前記直交する２方向
に周期的にウェハを微動させながら、ウェハとレチクル
のアライメントマークが合致した瞬間に前記パルス発光
を照射する。

〔作　　用〕

この発明では、ウェハを目標位置に停止させてから露光
を行うのでなく、ウェハがレチクルに対して相対的に目
標位置付近まで移動した段階で、ウェハまたはレチクル
を目標位置付近で周期的に微動させながら、ウェハのア
ライメントマークとレチクルのアライメントマークが合
致した瞬間にパルス発光を照射して露光を行わせる。こ
のようなパルス発光による露光をウェハまたはレチクル
の周期的な微動に合わせて複数回繰り返せば、ウェハに
所定の露光光量を与えることができる。このときの個々
の露光時間が、ウェハまたはレチクルの微動速度に比べ
て充分に短ければ、露光中ウェハは常に目標位置で静止
していると見なすことができる。

その結果、この方法では、ウェハが目標位置に停止する
前の、従来は残留振動が生じていた状態の段階から露光
を開始することができるので、その分だけ位置決めに要
する時間が短縮できる。また、ウェハに外部振動やレー
ザ測定値の揺らぎによる停止位置の微動があっても、ウ
ェハが目標位置にある瞬間のみに露光が行われるので、
ウェハの位置決め精度は極めて正確になり、高精度な露
光が可能になる。

なお、ウェハのアライメントマークとレチクルのアライ
メントマークが合致した瞬間にパルス発光させるには、
ウェハのアライメントマークがレチクルのアライメント
マークを横切る瞬間、すなわちウェハとレチクルの重ね
合わせ誤差がゼロになるタイミングをアライメント手段
で検出し、この検出信号をパルス発光光源のトリガー信
号に用いてパルス発光させればよく、アライメント手段
による検出からパルス発光までの遅延時間は、ウェハま
たはレチクルの微動速度に比べれば充分に短いので、ウ
ェハが確実に目標位置にある間にパルス発光による露光
が行える。また、アライメント手段で検出されたウェハ
とレチクルの位置誤差から、一定時間のちのウェハの位
置を予測すれば、前記の遅延時間も全く関係なくなり、
ウェハが正確に目標位置に存在する瞬間に確実にパルス
発光を行わせることも可能である。

特に、第１段階として、直交する２方向の微動の位相差
を周期的に変化させながら、ウェハとレチクルのアライ
メントマークが合致したときの微動原点からの距離を求
め、ついで、第２段階として、この微動原点からの距離
を振幅とし、かつ、位相差を一定にしてウェハまたはレ
チクルを微動させながら、ウェハとレチクルのアライメ
ントマークが合致した瞬間に前記パルス発光を照射すれ
ば、ウェハまたはレチクルの無駄な動きが少なくなるの
で、パルス発光の間隔を短くでき、露光作業が能率的に
行える。

〔実　施　例〕

第１図は露光装置の全体構造を示し、第２図は主要部分
の分解状態を示している。

エキシマレーザ１０は、外部からのトリガー信号により
パルス発光のタイミングが制御可能であり、エキシマレ
ーザ１０からの発光は、集光光学系１１、光路変換ミラ
ー１２、コンデンサーレンズ１３等の照明光学系を経て
、レチクル２０に照射される。レチクル２０には、直線
回折格子からなるアライメントマークと、ウェハに転写
しようとする露光パターンが描かれている。露光パター
ンは目的に応じて任意のパターンで実施でき、アライメ
ントマークは、従来の通常の露光方法と同様のものが用
いられる。レチクル２０の下方には投影レンズ１５があ
り、レチクル２０は、投影レンズ１５の物像面上に配置
されている。投影レンズ１５の下方には、ウェハステー
ジ４０が設けられ、ウェハステージ４０の上に露光され
るウエハ３０１Ｊ＜載せられる。

ウェハステージ４０は、基本的には、従来の通常の露光
装置におけるウェハステージと同様の構造でよいが、ウ
ェハステージ４０の上に微動ステージ５０が設けられ、
この微動ステージ５０の上にウェハ３０を載せるように
なっている点が、従来のウェハステージと異なる。

ウェハステージ４０の具体的構造は、例えば、第２図に
示すものが用いられる。微動ステージ５０を載置する合
板部４１がＤＣサーボモータ４２およびボールネジ４３
等からなる駆動手段で直線的に移動可能に取り付けられ
ているとともに、このＤＣサーボモータ４２が固定され
た移動台４４が、基台４７に固定された別のＤＣサーボ
モータ４５およびボールネジ４６で、前記と直交する方
向に直線的に移動可能に取り付けられている。その結果
、前記台板部４１は、ＸＹ両方向に自由に移動できるよ
うになっている０合板部４１の移動は、ウェハ３０表面
をステップ露光するためにＸＹ方向に大きく移動させる
。

ウェハステージ４０は、レーザ干渉計６０で合板部４１
の現在位置を測定できるようになっている。レーザ干渉
計６０で検出された合板部４１すなわち微動ステージ５
０およびウェハ３０の位置と目標位置の差をもとにして
、前記ＤＣサーボモータ４２．４５を作動させて、微動
ステージ５０およびウェハ３０を目標位置付近まで移動
させる、レーザ干渉計６０の代わりに、リニアスケール
等の各種精密計測手段を用いることもできる。前記ＤＣ
サーボモータ４２．４５やボールネジ４３．４６だけで
も、ある程度は合板部４１の位置決めを行えるが、モー
タ４２．４５の発熱等によるボールネジ４３．４６の熱
膨張その他の影響で数１以上の誤差が発生する可能性が
あるので、位置決め精度をより高め長時間の安定性を図
るには、レーザ干渉計６０やリニアスケール等により正
確な位置合わせを行うのが好ましい。但し、この段階に
おける微動ステージ５０およびウェハ３０の位置決め精
度は、最終的な露光精度には直接は影響しないので、そ
れほど高精度にしておく必要はない、具体的には、レー
ザ干渉計６０やリニアスケールを使った場合の位置決め
精度は、約±２ｆｌ以下にすることが可能である。

第２図に詳しく示すように、微動ステージ５゜は、ウェ
ハ３０を保持する保持板部５６が枠状本体部５５に取り
付けられ、この枠状本体部５５が、傾斜調整機構４８を
介してウェハステージ４゜の合板部４１に取り付けられ
ている。傾斜調整機構４８は、上下方向に伸縮自在なピ
エゾ素子がらなり、棒状本体部５５を３個所で支持する
ようになっている。この３個所の傾斜調整機構４８の高
さを調整することによって、枠状本体部５５すなわちウ
ェハ３０表面の傾きを任意の方向に微調整して正確な水
平状態に設置することが可能になる、枠状本体部５５の
ＸＹ両方向に、アクチュエータ５１．５２と復帰スプリ
ング５３．５４とからなる駆動手段を備えている。アク
チュエータ５１５２は微動ステージ５０全体を水平面内
でコンマ数ｎ〜数Ｉｏｎ程度の範囲で強制的に揺動させ
ることができる。微動手段としては、前記した程度の微
動が可能であれば、各種の駆動機構が採用できるが、例
えば、電歪素子、いわゆるピエゾ素子を利用した微動手
段が好ましいものとなる。ピエゾ素子は、印加電圧や周
波数を変えることによって、作動ストロークや作動周波
数を自由に制御できる。

微動ステージ５０の動きは、単純な直線方向への揺動の
ほか、円弧や楕円を描くような曲線的な揺動、その他、
いわゆるリサージュ運動と呼ばれる複雑な動きを行わせ
てもよい、特に、微動ステージ５０が、一定の平面範囲
内をくまなく動き回るようにしておけば、ウェハ３ｏと
レチクル２゜の位置合わせが確実に行える。

上記実施例では、レーザ干渉計６０で、ウェハステージ
４０の合板部４１の位置を測定して位置合わせを行うよ
うにしているが、第３図に示すように、微動ステージ５
０の位置を測定するようになっているものを使用するこ
ともできる。

ツキニ、前記ｘＹ方向のアクチュエータ５１゜５２で微
動ステージ５０を揺動させる場合、以下に説明するよう
な動きをさせるのが好ましい。

まず、前記第２図に示した装置を用いる方法について説
明する。ＸＹ力方向アクチュエータ５１５２により微動
ステージ５０もしくはウェハ３０に与えるＸＹ力方向微
動をそれぞれＸ、Ｙとして、Ｘ＝ＡｓｉｎωｔＹ＝Ａ　　ｓｉｎ　（（１）　ｔ＋δ）０　≦δ≦３６
０　“ ここで、Ａは振幅、ωは振動周波数、ｔは時間を示し、
δを時間とともに連続的にスイープさせることによって
、微動ステージ５０もしくはウェハ３０の中心が描くリ
サージュ図形が、第４図に示すように、直線から楕円、
円弧へと連続的に変化しながら、第５図に示すように、
半径への円形範囲を（まな（動き回ることになる。

上記のようにしてウェハ３０を微動させながら、レーザ
干渉計６０で、ウェハ３０とレチクル２０のアライメン
トマークの重ね合わせ状態を測定する。前記半径Ａ内に
ウェハ３０とレチクル２０の合致点があれば、微動ステ
ージ５０の微動によりウェハ３０とレチクル２０が正確
に重ね合わされる状態が必ずできる。すなわち、ウェハ
３０がＸＹ力方向一定の位置精度で位置決めされていて
、第５図の点線四角範囲内にウェハ３０とレチクル２０
のアライメントマークが合致する点があるとすれば、微
動範囲の外周円を、上記四角範囲に外接する大きさ以上
の半径Ａに設定すればよい。

言い換えれば、微動の振幅Ａを、前記ウェハステージ４
０の合板部４１の位置合わせ精度よりも少し広くなる程
度に設定しておけばよい。具体的には、例えば、位置決
め精度が±２μの場合には、Ａ　＝　２．８　ｎ程度に
設定すればよい。

前記δのスイープ速度が高いほど、ウェハ３０とレチク
ル２０の位置合わせが迅速に行え、パルス発光による露
光の間隔を短くできる。但し、微動手段の作動特性その
他の機構的制限もあるので、それらを考慮して出来るだ
け高速でスイープすればよい、具体的には、スイープ速
度を２００Ｈｚに設定すれば、１秒間に２００回のパル
ス発光が行える。

微動ステージ５０上のウェハ３０ならびにレチクル２０
のアライメントマークの位置は、アライメント手段７０
で測定される。アライメント手段７０としては、従来の
露光装置で採用されている各種のアライメント機構を用
いることができるが、例えば、ＴＴＬホログラフィ−式
のアライメント機構が好ましいものである。アライメン
ト手段７０では、投影レンズ１５の露光エリア内のアラ
イメントマークとレチクル２０上のアライメントマーク
のズレをオンアクシスにて検出する。そして、ウェハ３
０とレチクル２０のアライメントマークが合致した瞬間
をアライメント信号により判断して、前記エキシマレー
ザ１０にトリガー信号を送るようになっている。第１図
に示すアライメント手段７０の構造は、ゼーマンレーザ
７１を用いた光ヘテロダイン検出によるウェハ３０とレ
チクル２０の位置ズレ検出方式を採用している。

第７図は、アライメント手段７０から得られる１軸方向
の位置検出信号の具体例を示しており、横軸にステージ
移動量すなわち位置ズレ量をとり、縦軸には、レチクル
２０からのビート信号とディテクタ７２で得られるウェ
ハ３０からのビート信号との位相差をとっている。検出
信号は、レチクル２０およびウェハ３０上に形成されて
いる直線回折格子からなるアライメントマークの格子ピ
ッチの１／２の周期で変化している。そして、位相差ゼ
ロの時点が、レチクル２０とウェハ３０の重ね合わせ誤
差がゼロのときであり、この瞬間にパルス光源であるエ
キシマレーザ１０にトリガー信号を送り、エキシマレー
ザ１０を発光させて露光を行う。

つぎに、露光手順について詳しく説明する。

予め機械的精度でプリアライメントされたウェハステー
ジ４０上にウェハ３０を載置し、このウェハ３０内に設
けられた複数のアライメントマークを計測して各露光シ
ョットの中心座標を算出する。算出された座標から、露
光ショットが投影レンズ１５の正規の露光位置にくるよ
うに、レーザ干渉計６０の計測値を基にしてウェハステ
ージ４０の合板部４１を移動させる０合板部４１すなわ
ちウェハ３０の停止位置が目標位置に対して、前記回折
格子ピッチの１／４以下（約±２ｎ）に入った段階で、
微動ステージ５０のアクチュエータ５１．５２を作動さ
せ、約２００８２のスイープ速度で微動ステージ５０を
周期的に微動させる。

アライメント手段７０では、ウェハ３０上の７ライメン
トマークとレチクル２０上のアライメントマークの重ね
合わせ状態に応じて、第８図に示すような検出信号が得
られる。この検出信号のゼロクロス点Ｐで、レチクル２
０とウェハ３０が完全に重ね合わされた状態になる。こ
のゼロクロス点Ｐで、アライメント手段７０からトリガ
ー信号が発せられ、エキシマレーザ１０から２０ｎｓｅ
ｃのパルス発光が行われる。微動ステージ５０の揺動に
伴って、周期的に表れるゼロクロス点Ｐで、つぎつぎに
パルス発光が繰り返される。なお、エキシマレーザ１０
等のパルス発光光源がトリガー信号を受けてパルス光を
発光するまでの遅延時間は数μｓｅｃであるので、パル
ス光の発光時間は、微動ステージ５０の移動速度に比べ
てはるかに短く、パルス光の発光時間中はウェハ３０が
正規の位置で静止していると見なせる。

使用するレジストの感度によっても異なるが、通常は約
１秒（レーザ発光２００回）で１個所の露光エリアに対
する露光が完了する。露光が完了すれば、微動ステージ
５０の微動を止め、次ぎの露光エリアが露光位置にくる
ようにウェハステージ４０を作動させてウェハ３０を移
動する。このような作業を繰り返して、ウェハ３０全体
の露光が行われる。

上記方法では、各露光シッット毎にウェハステージ４０
の合板部４１を移動させる際に、合板部４１が停止する
前の段階から、微動ステージ５０の周期的な微動を開始
し、パルス発光による露光を行う。その結果、合板部４
１が停止してから露光を開始する従来の方法に比べて、
１チツプ当たり０．１秒の作動時間が短縮でき、１枚の
ウェハ３０に２５６回の露光を繰り返すとすれば、露光
作業時間が２５．６秒も低減される。

なお、前記実施例では、発光時間が２０ｎｓｅｃのエキ
シマレーザ１０を用いたが、発光時間はウェハ３０の移
動速度に比較して短いほどボケの少ない明瞭な露光が行
えるが、露光光量やパルス発光光源の能力により、適当
な発光時間に設定すればよい０通常、露光位置近傍にお
けるウェハ３０の移動速度は１０　ｍ／ｓｅｅ以下であ
るので、パルス発光光源の発光時間が１０μｓｅｃ以下
のものであれば、ウェハ３０移動に伴う露光パターンの
ボケは０．１μ以下に抑えられ、充分な解像性能が得ら
れる。

つぎに、上記実施例とは異なる露光方法について説明す
る。この方法では、第３図に示す構造の露光装置を用い
る。すなわち、レーザ干渉計６０が微動ステージ５０の
位置を直接検出するようになっているのである。上記以
外の露光装置の構造および基本的な露光方法は前記実施
例と同様であるので、相違点を主にして説明する。

まず、第６図（ａｌに示すように、微動ステージ５０を
振幅Ａ、で位相差を変化させて微動させながら、レーザ
干渉計６０等の計測手段で、ウェハ３０とレチクル２０
が合致するアライメント信号のゼロクロス点の座標Ｘ＋
＋）’＋を検出する。つぎに、このゼロクロス点の座標
Ｘ＋＋　　ｙ’をもとに、微動原点からの距離ＡＩを下
式で求める。

Ａ、＝　　ｘ、”＋ｙ。

つぎに、第６図（ｂｌに示すように、振幅を上記ＡＩ、
位相差を９０°に切り換えて微動ステージ５０をＸ７両
方向に周期的に揺動させれば、微動ステージ５０は円運
動を行う、前記ゼロクロス点Ｘ＋＋Ｖ＋　は円運動軌跡
上に必ず存在するので、このゼロクロス点Ｘ１ｌ）’ｌ
でパルス発光を照射する。なお、前記位相差が９０°ま
たは２７０°であれば円運動になるが、それ以外の一定
の位相差でも、楕円運動その他の一定のり号−ジュ図形
を描く０円以外のりサージュ図形の場合には、運動軌跡
上に前記ゼロクロス点が存在するように、前記座標ｘｌ
、ｙｌをもとにしてＸＹ方向の振幅を調整すればよい。

上記のような方法であれば、第６図（ｂｌに示した段階
で、ウェハとレチクルのアライメントマークが合致する
ゼロクロス点を必ず通過する一定のりサージュ図形のみ
を描くように運動させるので、微動ステージ５０の微動
範囲が狭くなって無駄な動きが少なくなり、パルス発光
の間隔を短くすることができる結果、より効率的に露光
することができる。

なお、以上に説明した実施例は、何れもウェハ３０を微
動させることによって、レチクル２０とウェハ３０のア
ライメントマークを合致させるようにしていたが、ウェ
ハ３０は微動させずにレチクル２０を微動させても、全
く同様の作用が果たせる。すなわち、ウェハ３０とレチ
クル２０は相対的に微動させればよいのである。レチク
ル２゜を微動させるには、前記したアクチュエータ５１
５２等の微動手段をレチクル２０の保持部材等に設置し
ておけばよい。

〔発明の効果〕

以上に述べたように、この発明にががる露光方法によれ
ば、ウェハとレチクルに相対的に周期的な微動を行わせ
、ウェハとレチクルの重ね合わせ誤差がゼロとなる瞬間
にパルス発光による露光を行うので、露光ショット毎に
ウェハを移動させて、ウェハが停止するまでの残留振動
がある状態でも、露光を開始することができる。したが
って、ウェハが停止してから露光を開始する従来の方法
に比べて、効率的に露光作業を行え、高スループ７ト化
を図ることができる。また、レーザ干渉計の揺らぎや外
部振動があっても、ウェハが正しい位置にある瞬間のみ
に露光が行われるので、露光精度が極めて正確になり、
露光作業の高精度化を図ることができる。さらに、ウェ
ハ自体の位置決め精度がそれほど高精度でなくても、実
際の露光は充分高精度に行えるので、ウェハステージの
駆動機構や位置決め機構の構造を簡単にして、装置コス
トを低減させることができる。

特に、ウェハまたはレチクルの微動を２段階に分け、第
１段階では、位相差を周期的に変化させることにより、
一定の面内をくまなく微動させて、ウェハとレチクルの
重ね合わせ誤差がゼロとなる座標点の微動原点からの距
離を求め、ついで、第２段階では、上記微動原点からの
距離を振幅とし、かつ、位相差を一定にしてウェハまた
はレチクルを微動させながら、パルス発光を行うように
すれば、ウェハまたはレチクルの運動に無駄が無くなり
、パルス発光の間隔を短くすることができるので、より
効率的に露光を行うことが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施例に用いる露光装置の全体構成
図、第２図はウェハステージ部分の要部分解斜視図、第
３図は別の実施例に用いる露光装置の全体構成図、第４
図はｘｙ両方向の微動の位相差を変えた場合のウェハの
運動軌跡線図、第５図はウェハの運動範囲と位置合わせ
誤差の関係を示す説明図、第６図ｆａ）　（ｂｌは別の
実施例におけるウェハの微動方法を示す説明図、第７図
はアライメント手段から得られる検出信号線図、第８図
はウェハを周期的に微動させた状態における検出信号と
時間の関係線図、第９図は従来におけるウェハステージ
の速度と位置決めに要する時間の関係線図、第１０図は
ウェハステージの位置決め時におけるステージ位置と時
間の関係線図である。１０・・・エキシマレーザ　２０・・・レチクル　３０
・・・ウェハ　４０・・・ウェハステージ　５０・・・
微動ステージ　５１．５２・・・アクチュエータ　６０
・・・レーザ干渉計　７０・・・アライメント手段代理
人の氏名　弁理士　粟野重孝　はか１名第図第３図第２図第４図第図第６図（Ｇ）（ｂ）第７図第８図

Claims

【特許請求の範囲】１　アライメントマークおよび露光パターンが描かれた
レチクルに複数のパルス発光を照射し、アライメントマ
ークが設けられたウェハにレチクルを投影して所定の露
光量を与える露光方法であり、ウェハとレチクルを相対
的に、水平面内で直交する２方向に周期的に微動させ、
かつ、両方向の微動の位相差を周期的に変化させながら
、露光位置におけるウェハとレチクルの重ね合わせ状態
を前記アライメントマークをもとにアライメント手段で
検出し、ウェハとレチクルのアライメントマークが合致
した瞬間に前記パルス発光を照射する露光方法。２　アライメントマークおよび露光パターンが描かれた
レチクルに複数のパルス発光を照射し、アライメントマ
ークが設けられたウェハにレチクルを投影して所定の露
光量を与える露光方法であり、ウェハとレチクルを相対
的に、水平面内で直交する２方向に周期的に微動させ、
かつ、両方向の微動の位相差を周期的に変化させながら
、露光位置におけるウェハとレチクルの重ね合わせ状態
を前記アライメントマークをもとにアライメント手段で
検出してウェハとレチクルのアライメントマークが合致
したときの微動原点からの距離を求め、ついで、この微
動原点からの距離を振幅とし、かつ、位相差を一定にし
て、前記直交する２方向に周期的にウェハを微動させな
がら、ウェハとレチクルのアライメントマークが合致し
た瞬間に前記パルス発光を照射する露光方法。