JPH0445246Y2 - - Google Patents
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- JPH0445246Y2 JPH0445246Y2 JP16955787U JP16955787U JPH0445246Y2 JP H0445246 Y2 JPH0445246 Y2 JP H0445246Y2 JP 16955787 U JP16955787 U JP 16955787U JP 16955787 U JP16955787 U JP 16955787U JP H0445246 Y2 JPH0445246 Y2 JP H0445246Y2
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Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案はパワトランジスタのような電力用ハー
メチツクシール型半導体装置、特にその電極引出
し構造に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a hermetically sealed power semiconductor device such as a power transistor, and particularly to an electrode lead-out structure thereof.
第3図により従来のハーメチツク型半導体装置
について説明すると、電力用半導体素子1は容器
2内に収納されている。容器2は銅のような熱電
導度の良好な金属材料からなる金属ベース部2
A、この金属ベース部2Aに溶接される金属性キ
ヤツプ部2B、及びキヤツプの一部分をなすパイ
プシール用の絶縁材料2Cからなる。半導体素子
1はモリブデン板のような比較的熱膨張率が半導
体に近い金属材料からなる金属片3及び半田層4
を介して金属ベース2Aに接着される。そして絶
縁材料2Cにより支持されたパイプ5に挿入され
た内部リード6が半導体素子1の他面に半田7で
接着されている。
A conventional hermetic semiconductor device will be explained with reference to FIG. 3. A power semiconductor element 1 is housed in a container 2. As shown in FIG. The container 2 has a metal base portion 2 made of a metal material with good thermal conductivity such as copper.
A, a metal cap part 2B welded to this metal base part 2A, and an insulating material 2C for a pipe seal forming a part of the cap. The semiconductor element 1 includes a metal piece 3 made of a metal material having a coefficient of thermal expansion relatively close to that of a semiconductor, such as a molybdenum plate, and a solder layer 4.
It is bonded to the metal base 2A via. An internal lead 6 inserted into the pipe 5 supported by the insulating material 2C is bonded to the other surface of the semiconductor element 1 with solder 7.
従来の斯かる種の半導体装置は、内部リード6
が半導体素子1に直接接続される構造であつたた
め、内部リード6の先端部が外部応力をある程度
吸収する構造になつているものの、キヤツプ部2
B或いはパイプ5に金属ベース部2A方向への力
が加わつた場合、インナーリード6を通して半導
体素子1に圧力が加わつて悪影響を与えるという
問題があつた。特にシール工程において、金属ベ
ース2Aとキヤツプ部2Bとの抵抗溶接時にかな
りの応力が内部リード5及び半導体素子1に加わ
り、半導体素子1が破損する場合があつた。
A conventional semiconductor device of this type has an internal lead 6
Since the tip of the internal lead 6 has a structure in which it is directly connected to the semiconductor element 1, the tip of the internal lead 6 is structured to absorb external stress to some extent.
When a force is applied to B or the pipe 5 in the direction of the metal base portion 2A, there is a problem in that pressure is applied to the semiconductor element 1 through the inner lead 6 and has an adverse effect. Particularly in the sealing process, considerable stress was applied to the internal leads 5 and the semiconductor element 1 during resistance welding between the metal base 2A and the cap part 2B, and the semiconductor element 1 was sometimes damaged.
従つてこの考案では、金属ベースに植設された
支柱に支持され、かつ実質的に力学的影響を相互
に与えることがないよう支点から夫々延びる2つ
以上の金属電極片部分を備え、これら金属電極片
部分の1つの先端部分又はその近傍にインナーリ
ードを接続し、他の金属電極片部分に半導体素子
と接続された内部リードを結合している。
Therefore, in this invention, two or more metal electrode pieces are supported by a support installed in a metal base and each extends from the supporting point so that there is no substantial mechanical influence on each other. An inner lead is connected to or near the tip of one of the electrode pieces, and an inner lead connected to a semiconductor element is connected to the other metal electrode piece.
このような構造であるので、インナーリードに
加わる応力は金属電極片により吸収され、実質的
にインナーリードに加えられる応力が内部リード
及び半導体素子に伝達されないから、外力により
内部リードの接続状態が悪化したり半導体素子が
損傷或いは破損することを防止できる。
With this structure, the stress applied to the inner lead is absorbed by the metal electrode piece, and the stress applied to the inner lead is not substantially transmitted to the inner lead and the semiconductor element, so the connection state of the inner lead is deteriorated due to external force. It is possible to prevent damage or breakage of semiconductor elements.
第1図及び第2図により本考案の一実施例につ
いて説明すると、8は金属ベース部2Aに植設さ
れた支柱であり、ガラス材料のような絶縁材料2
A1により金属ベース部2Aに固定されている。
支柱8の先端部にはナツト9により金属電極10
が取り付けられている。この金属電極片10の一
例としては、第2図Aに示すように共通部10A
とこれら夫々延びる接続アーム10B,10C,
10D,10Eとからなり、共通部10Aには支
柱8の径より若干大きな径をもつ孔10Fが設け
られている。接続アーム10B,10C,10D
には夫々の半導体素子1に接続された内部リード
11Aと11B,11Cと11D,11Eと11
Fが半田付けされる。また接続アーム10Eの先
端部10eは内部リード11A〜11Fとは逆方
向から延びるインナーリード6の先端を受け、こ
れとろう付けされる。このとき紙面の上方からイ
ンナーリード6を加圧した状態でろう付けする
が、その接続アーム10Eの弾性により先端部1
0eが支点となる孔10Fを中心に紙面下方向に
押し下げられた形となり、インナーリード6に対
する加圧力は実質的に接続リード10B,10
C,10Dには伝達されない。従つて、インナー
リード6に矢印方向の力が加わつても、実質的に
半導体素子1には応力が加わらない。
An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. Reference numeral 8 denotes a column implanted in the metal base portion 2A, and an insulating material 2 such as a glass material is used.
A1 is fixed to the metal base portion 2A.
A metal electrode 10 is attached to the tip of the pillar 8 by a nut 9.
is installed. As an example of this metal electrode piece 10, as shown in FIG.
and connection arms 10B, 10C, which extend respectively.
10D and 10E, and a hole 10F having a diameter slightly larger than the diameter of the support column 8 is provided in the common portion 10A. Connection arm 10B, 10C, 10D
have internal leads 11A and 11B, 11C and 11D, 11E and 11 connected to the respective semiconductor elements 1.
F is soldered. Further, the distal end portion 10e of the connecting arm 10E receives the distal end of the inner lead 6 extending from the direction opposite to that of the internal leads 11A to 11F, and is brazed thereto. At this time, the inner lead 6 is brazed while being pressurized from above, but due to the elasticity of the connecting arm 10E, the tip end 1
0e is pressed down in the plane of the paper with the hole 10F serving as the fulcrum, and the pressing force on the inner lead 6 is substantially applied to the connection leads 10B and 10.
It is not transmitted to C and 10D. Therefore, even if a force is applied to the inner lead 6 in the direction of the arrow, substantially no stress is applied to the semiconductor element 1.
次に第2図Bは金属電極片の他の一例を示し、
インナーリード6の接続される接続アーム片10
E′は金属電極片10′とは別体になつており、イ
ンナーリード6接続用の先端部分10′eとは逆
側の端部に孔を有する。この孔は支柱8の径より
若干大きな径をもつ。このように接続アーム片1
0″Eだけを別体としているので、支柱8にこれ
らを取り付けたとき、インナーリード6の先端部
と接続アーム片10′Eの先端部10′eとが一致
するよう、支点を中心に接続アーム片10′Eを
偏位させることが出来る。なお、第1図におい
て、第3図で示した記号と同一の記号は同一性の
ある部材を示す。 Next, FIG. 2B shows another example of a metal electrode piece,
Connection arm piece 10 to which the inner lead 6 is connected
E' is separate from the metal electrode piece 10', and has a hole at the end opposite to the tip part 10'e for connecting the inner lead 6. This hole has a diameter slightly larger than the diameter of the support column 8. Connecting arm piece 1 like this
Since only 0''E is separate, when these are attached to the support 8, connect them around the fulcrum so that the tip of the inner lead 6 and the tip 10'e of the connecting arm piece 10'E are aligned. The arm piece 10'E can be deflected.In FIG. 1, the same symbols as those shown in FIG. 3 indicate the same members.
以上述べたように本考案によれば、インナーリ
ードを介して外部より半導体装置の内部に加えら
れる力は、金属電極片により実質的にすべて吸収
され、半導体素子に応力が加えられることがな
い。従つて、外部からの力に起因する半導体装置
の歩留まりの低下、故障、特性の低下などを解決
することが出来る。
As described above, according to the present invention, substantially all of the force applied from the outside to the inside of the semiconductor device via the inner lead is absorbed by the metal electrode piece, and no stress is applied to the semiconductor element. Therefore, it is possible to solve problems such as lower yields, failures, and lower characteristics of semiconductor devices caused by external forces.
またインナーリードと内部リードとの間に金属
電極片を介在させているので、特に内部リードの
本数が増えるに従つて内部リードとインナーリー
ド間の接続が確実、かつ容易に行える。 Further, since the metal electrode piece is interposed between the inner leads, the connection between the inner leads can be made reliably and easily, especially as the number of inner leads increases.
更にまた、内部リードと半導体素子或いは金属
電極片部分間の接続状態が外部からの力により悪
影響を受けることがない。 Furthermore, the connection state between the internal lead and the semiconductor element or metal electrode piece portion is not adversely affected by external force.
第1図は本考案に係るハーメチツク型半導体装
置の一実施例を示し、第2図A,Bは本考案に用
いられる金属電極片の別々の例を示し、第3図は
従来例を示す。
1……半導体素子、2……容器、2A……金属
ベース部、2B……キヤツプ部、5……パイプ、
6……インナーリード、8……支柱、10……金
属電極片、11A〜11F……内部リード。
FIG. 1 shows an embodiment of a hermetic type semiconductor device according to the present invention, FIGS. 2A and 2B show different examples of metal electrode pieces used in the present invention, and FIG. 3 shows a conventional example. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Semiconductor element, 2...Container, 2A...Metal base part, 2B...Cap part, 5...Pipe,
6... Inner lead, 8... Support column, 10... Metal electrode piece, 11A to 11F... Internal lead.
Claims (1)
子を気密封止してなるハーメチツクシール型半
導体装置において、 前記金属ベースに植設された支柱と、 前記支柱に支持され、かつ実質的に力学的影
響を相互に与えることがないよう支点から夫々
延びる2つ以上の金属電極片部分とを備え、前
記金属電極片部分の1つの先端部分又はその近
傍にインナーリードを接続し、他の前記金属電
極片部分に前記半導体素子と接続される内部リ
ードを結合したことを特徴とするハーメチツク
型半導体装置。 (2) 前記金属電極片部分が一体的に構成されてい
ることを特徴とする実用新案登録請求の範囲1
に記載のハーメチツク型半導体装置。 (3) 前記インナーリードの接続される前記金属電
極片部分が他の前記電極片部分の少なくとも1
つとは別体に構成されていることを特徴とする
ハーメチツク型半導体装置。[Claims for Utility Model Registration] (1) A hermetically sealed semiconductor device in which a semiconductor element is hermetically sealed between a metal base portion and a cap portion, comprising: a support installed in the metal base; and the support support. two or more metal electrode piece parts each extending from a fulcrum so as to be supported by the metal electrode piece parts and not to have a substantial mechanical influence on each other; A hermetic type semiconductor device, characterized in that a lead is connected to the metal electrode piece, and an internal lead to be connected to the semiconductor element is connected to another part of the metal electrode piece. (2) Claim 1 of the utility model registration characterized in that the metal electrode piece portion is integrally constructed.
The hermetic semiconductor device described in . (3) The metal electrode piece portion to which the inner lead is connected is at least one of the other electrode piece portions.
A hermetic semiconductor device characterized by being configured separately from the other.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16955787U JPH0445246Y2 (en) | 1987-11-05 | 1987-11-05 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16955787U JPH0445246Y2 (en) | 1987-11-05 | 1987-11-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0173933U JPH0173933U (en) | 1989-05-18 |
| JPH0445246Y2 true JPH0445246Y2 (en) | 1992-10-23 |
Family
ID=31459728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16955787U Expired JPH0445246Y2 (en) | 1987-11-05 | 1987-11-05 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0445246Y2 (en) |
-
1987
- 1987-11-05 JP JP16955787U patent/JPH0445246Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0173933U (en) | 1989-05-18 |
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