JPH0445326B2 - - Google Patents
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- JPH0445326B2 JPH0445326B2 JP59056383A JP5638384A JPH0445326B2 JP H0445326 B2 JPH0445326 B2 JP H0445326B2 JP 59056383 A JP59056383 A JP 59056383A JP 5638384 A JP5638384 A JP 5638384A JP H0445326 B2 JPH0445326 B2 JP H0445326B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- matrix
- synthetic resin
- layer
- mercaptan
- metal
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/56—Coatings, e.g. enameled or galvanised; Releasing, lubricating or separating agents
- B29C33/60—Releasing, lubricating or separating agents
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、母型（matrix）とくに合成樹脂
製品または合成樹脂の被覆層を含む製品の製造に
適する母型であつて使用中合成樹脂と接触する母
型表面が金属製で、かつ離型剤を具える母型に関
する。
製品または合成樹脂の被覆層を含む製品の製造に
適する母型であつて使用中合成樹脂と接触する母
型表面が金属製で、かつ離型剤を具える母型に関
する。
さらに、この発明は前記母型を用いる合成樹脂
製品、または合成樹脂の被覆層を含む製品の製造
方法に関する。
製品、または合成樹脂の被覆層を含む製品の製造
方法に関する。
このような母型は、例えば、米国特許第
4251277号明細書で知られている。この知られて
いる母型において使用される離型剤は、オルガノ
ポリシロキサンおよびチオ−官能基を有するポリ
シロキサン液を含んで成る重合体組成物である。
重合体組成物は透明な液体であり、その動粘度
は、例えば、75〜100cS（75×10-6〜100×10-6
m2／ｓ）である。上記米国特許明細書の実施例に
よれば、離型剤は比較的厚い層で、金属基板、例
えば金属パネル上に施される。層厚さ0.125mm〜
2.5mmの使用が好ましいとされる。この米国特許
明細書の第７欄第61行から、数オングストローム
単位のきわめて小さい層厚さも使用し得るという
ことが述べられている。これは明らかに誤解に基
ずくものである。使用物質の分子の大きさは数オ
ングストロームよりはるかに大きい。重合体組成
物の粘土が高いことも、きわめて薄い層を設ける
ことを困難にする。この既知の離型剤を用いる場
合、並びに多くの他の既知ポリシロキサン離型剤
を使用する場合、基板の金属表面は、SiO表面を
備える。このようなSiO表面は若干の極性を示
し、その結果合成樹脂、例えばわずかに極性の合
成樹脂、例えばポリアクリラート、ポリメタクリ
ラート、ポリカーボネート等でさえ、前記表面と
何らかの相互作用を示す。良好な程度のために、
合成樹脂をこのような改良面から容易にまたはか
なり容易に離型し得ることが注目される。それに
も拘らず、上記相互作用の結果として、若干の合
成樹脂物質が母型面に長期運転中残存する。この
ため、多数の合成樹脂製品を１個の母型を用いて
製造しなければならない場合の複製方法におい
て、問題が起こる。また、精巧な構造または表面
組織を備えるか、超平滑面を備える表面を有する
母型を使用する場合、問題が起こる。母型上に残
存する合成樹脂物質は、それがいかほど小量であ
ろうとも、母型の表面組織をぼんやりさせ、その
結果それ以後は良好な品質の製品を製造すること
ができない。母型の取り換えを早過ぎて行なわね
ばならなくなる。
4251277号明細書で知られている。この知られて
いる母型において使用される離型剤は、オルガノ
ポリシロキサンおよびチオ−官能基を有するポリ
シロキサン液を含んで成る重合体組成物である。
重合体組成物は透明な液体であり、その動粘度
は、例えば、75〜100cS（75×10-6〜100×10-6
m2／ｓ）である。上記米国特許明細書の実施例に
よれば、離型剤は比較的厚い層で、金属基板、例
えば金属パネル上に施される。層厚さ0.125mm〜
2.5mmの使用が好ましいとされる。この米国特許
明細書の第７欄第61行から、数オングストローム
単位のきわめて小さい層厚さも使用し得るという
ことが述べられている。これは明らかに誤解に基
ずくものである。使用物質の分子の大きさは数オ
ングストロームよりはるかに大きい。重合体組成
物の粘土が高いことも、きわめて薄い層を設ける
ことを困難にする。この既知の離型剤を用いる場
合、並びに多くの他の既知ポリシロキサン離型剤
を使用する場合、基板の金属表面は、SiO表面を
備える。このようなSiO表面は若干の極性を示
し、その結果合成樹脂、例えばわずかに極性の合
成樹脂、例えばポリアクリラート、ポリメタクリ
ラート、ポリカーボネート等でさえ、前記表面と
何らかの相互作用を示す。良好な程度のために、
合成樹脂をこのような改良面から容易にまたはか
なり容易に離型し得ることが注目される。それに
も拘らず、上記相互作用の結果として、若干の合
成樹脂物質が母型面に長期運転中残存する。この
ため、多数の合成樹脂製品を１個の母型を用いて
製造しなければならない場合の複製方法におい
て、問題が起こる。また、精巧な構造または表面
組織を備えるか、超平滑面を備える表面を有する
母型を使用する場合、問題が起こる。母型上に残
存する合成樹脂物質は、それがいかほど小量であ
ろうとも、母型の表面組織をぼんやりさせ、その
結果それ以後は良好な品質の製品を製造すること
ができない。母型の取り換えを早過ぎて行なわね
ばならなくなる。
この発明の目的は、上記の不利益を示さない母
型を提供することである。
型を提供することである。
この目的は、最初の節で述べた形の母型におい
てアルキルメルカプタンまたはフルオロアルキル
メルカプタンの単分子層（monolayer）を離型剤
として使用する母型を用いて達成する。
てアルキルメルカプタンまたはフルオロアルキル
メルカプタンの単分子層（monolayer）を離型剤
として使用する母型を用いて達成する。
アルキルメルカプタンまたはフルオロアルキル
メルカプタン分子は、母型の金属表面に固定さ
れ、且つ化合物のＳ−原子が金属表面に結合さ
れ、アルキル基またはフルオロアルキル基が金属
表面から外方に延びるように配向される。その結
果、母型の金属表面は改良されて、アルキルまた
はフルオロアルキル基の動かない、全く不活性な
表面となる。極性基または他の反応性成分は、得
られるアルキルまたはフルオロアルキル基の被覆
層に存在しないので、第２のまたは引き続く層
を、結合する仕方で、アルキルメルカプタンまた
はフルオロアルキルメルカプタン層上に設けるこ
とはできない。従つて、アルキルメルカプタンま
たはフルオロアルキルメルカプタンの層は真の単
分子層であり、その厚さは分子の大きさに一致す
る。例えば、ヘキサデシルメルカプタンを用いる
場合、層の厚さは約3nm（16C−原子の厚さ）で
ある。
メルカプタン分子は、母型の金属表面に固定さ
れ、且つ化合物のＳ−原子が金属表面に結合さ
れ、アルキル基またはフルオロアルキル基が金属
表面から外方に延びるように配向される。その結
果、母型の金属表面は改良されて、アルキルまた
はフルオロアルキル基の動かない、全く不活性な
表面となる。極性基または他の反応性成分は、得
られるアルキルまたはフルオロアルキル基の被覆
層に存在しないので、第２のまたは引き続く層
を、結合する仕方で、アルキルメルカプタンまた
はフルオロアルキルメルカプタン層上に設けるこ
とはできない。従つて、アルキルメルカプタンま
たはフルオロアルキルメルカプタンの層は真の単
分子層であり、その厚さは分子の大きさに一致す
る。例えば、ヘキサデシルメルカプタンを用いる
場合、層の厚さは約3nm（16C−原子の厚さ）で
ある。
アルキルメルカプタンまたはフルオロアルキル
メルカプタンの単分子層を、化合物の適当な有機
溶媒溶液、例えばクロロホルムを用いることによ
り設ける。溶液中のメルカプタン化合物の濃度は
小さいことが好ましく、例えば、溶媒リツトル当
り２〜20gである。溶液の粘度は低い。例えば、
動粘度が約0.4cS（0.4×10-6m2／ｓ）である。動
力学粘度は６×10-4Pa.sである。母型を溶液に浸
漬する。もちろん、溶液を母型の表面上に吹付け
ることもできる。ついで、母型または母型の表面
を溶媒でゆすぎ、溶液の残留部および非結合アル
キルメルカプタンまたはフルオロアルキルメルカ
プタン分子を除くようにする。また、高分子物質
に比較して、用いるメルカプタン化合物の移動度
が比較的大で、分子の大きさが比較的小さい結
果、単分子層は密な分子の充てんを有し、従つ
て、母型の金属表面は最適に改良され、そのため
遮蔽される。
メルカプタンの単分子層を、化合物の適当な有機
溶媒溶液、例えばクロロホルムを用いることによ
り設ける。溶液中のメルカプタン化合物の濃度は
小さいことが好ましく、例えば、溶媒リツトル当
り２〜20gである。溶液の粘度は低い。例えば、
動粘度が約0.4cS（0.4×10-6m2／ｓ）である。動
力学粘度は６×10-4Pa.sである。母型を溶液に浸
漬する。もちろん、溶液を母型の表面上に吹付け
ることもできる。ついで、母型または母型の表面
を溶媒でゆすぎ、溶液の残留部および非結合アル
キルメルカプタンまたはフルオロアルキルメルカ
プタン分子を除くようにする。また、高分子物質
に比較して、用いるメルカプタン化合物の移動度
が比較的大で、分子の大きさが比較的小さい結
果、単分子層は密な分子の充てんを有し、従つ
て、母型の金属表面は最適に改良され、そのため
遮蔽される。
この発明の母型において、少なくとも12個の炭
素原子を有するアルキル基を有するアルキルメル
カプタンを用いることが好ましい。概して、アル
キル基は20個を越える炭素原子を有しない。アル
キルまたはアルキル基という用語は、分枝アルキ
ルまたは分枝アルキル基をも含むという意味であ
る。きわめて適当な化合物はオクタデシルメルカ
プタンである。この発明の母型において用いる化
合物の他の例はドデシルメルカプタンおよびヘキ
サデシルメルカプタンである。フルオロアルキル
メルカプタン化合物は、概して12個未満の炭素原
子を含み、その例はペルフルオロペンチルメルカ
プタン（C5F11SH）およびペルフルオロオクチル
メルカプタン（C8F17SH）である。
素原子を有するアルキル基を有するアルキルメル
カプタンを用いることが好ましい。概して、アル
キル基は20個を越える炭素原子を有しない。アル
キルまたはアルキル基という用語は、分枝アルキ
ルまたは分枝アルキル基をも含むという意味であ
る。きわめて適当な化合物はオクタデシルメルカ
プタンである。この発明の母型において用いる化
合物の他の例はドデシルメルカプタンおよびヘキ
サデシルメルカプタンである。フルオロアルキル
メルカプタン化合物は、概して12個未満の炭素原
子を含み、その例はペルフルオロペンチルメルカ
プタン（C5F11SH）およびペルフルオロオクチル
メルカプタン（C8F17SH）である。
金属母型の表面は、例えばNiまたはCuから製
造することができる。とくに、母型の表面がAg
の場合、好結果が得られる。
造することができる。とくに、母型の表面がAg
の場合、好結果が得られる。
この発明の母型は、合成樹脂の光学的に読み出
し可能な情報デイスクの製造に適するのできわめ
て興味がある。その母型は、使用中合成樹脂と接
触する母型の表面が金属製であり、且つ、該表面
に光学的に読み出し可能な、交互に高準位と低準
位を占める情報部の情報トラツクを具え、この母
型の表面にアルキルメルカプタンまたはフルオロ
アルキルメルカプタンの単分子層が固定される。
し可能な情報デイスクの製造に適するのできわめ
て興味がある。その母型は、使用中合成樹脂と接
触する母型の表面が金属製であり、且つ、該表面
に光学的に読み出し可能な、交互に高準位と低準
位を占める情報部の情報トラツクを具え、この母
型の表面にアルキルメルカプタンまたはフルオロ
アルキルメルカプタンの単分子層が固定される。
情報部の大きさはきわめて小さい。縦の大きさ
は記憶される情報に従つて、例えば、0.3〜3μm
で変化する。上記の準位間の高さの差は0.1〜
0.2μmである。合成樹脂の残留物の結果として
の、母型の表面のきわめて小さい汚染は、汚染さ
れた母型を用いてつくつた情報デイスク中の情報
トラツクの品質に大きな影響を有する。上記の、
アルキルメルカプタンまたはフルオロアルキルメ
ルカプタンの単分子層を用いることにより、情報
トラツクの品質が単分子層の僅かな厚さにより悪
影響を受けることはない。さらに、母型表面の上
記汚染の可能性は最小となり、従つて母型の長期
使用が可能となる。
は記憶される情報に従つて、例えば、0.3〜3μm
で変化する。上記の準位間の高さの差は0.1〜
0.2μmである。合成樹脂の残留物の結果として
の、母型の表面のきわめて小さい汚染は、汚染さ
れた母型を用いてつくつた情報デイスク中の情報
トラツクの品質に大きな影響を有する。上記の、
アルキルメルカプタンまたはフルオロアルキルメ
ルカプタンの単分子層を用いることにより、情報
トラツクの品質が単分子層の僅かな厚さにより悪
影響を受けることはない。さらに、母型表面の上
記汚染の可能性は最小となり、従つて母型の長期
使用が可能となる。
母型は通常全体を金属、例えばNiでつくる。
所要に応じて、母型表面に最初にAgの層を設け、
ついでアルキルメルカプタンまたはフルオロアル
キルメルカプタンの単分子層を設けることができ
る。母型は金属からつくられる必要はなくて、例
えば、合成樹脂プレートより成るか合成樹脂層を
備え、合成樹脂層または合成樹脂プレートの表面
が所要に応じて情報トラツクを備え、その層また
はプレートを金属の層、とくにAgの層でおおい、
その上にアルキルメルカプタンまたはフルオロア
ルキルメルカプタンの単分子層を設けることがで
きる。この発明の好ましい形態として、母型がガ
ラスまたは石英からつくつた母型部材を含み、部
材の表面、これが使用中合成樹脂と接触する、を
金属の層でおおい、その上にアルキルメルカプタ
ンまたはフルオロアルキルメルカプタンの単分子
層を設ける。
所要に応じて、母型表面に最初にAgの層を設け、
ついでアルキルメルカプタンまたはフルオロアル
キルメルカプタンの単分子層を設けることができ
る。母型は金属からつくられる必要はなくて、例
えば、合成樹脂プレートより成るか合成樹脂層を
備え、合成樹脂層または合成樹脂プレートの表面
が所要に応じて情報トラツクを備え、その層また
はプレートを金属の層、とくにAgの層でおおい、
その上にアルキルメルカプタンまたはフルオロア
ルキルメルカプタンの単分子層を設けることがで
きる。この発明の好ましい形態として、母型がガ
ラスまたは石英からつくつた母型部材を含み、部
材の表面、これが使用中合成樹脂と接触する、を
金属の層でおおい、その上にアルキルメルカプタ
ンまたはフルオロアルキルメルカプタンの単分子
層を設ける。
このような母型は、とくに光学的部材、例えば
レンズおよび鏡の製造に好適であり、これらの部
材はすべて合成樹脂から製造するか、合成樹脂の
層を含んでおり、この場合、合成樹脂または合成
樹脂の層の表面をきわめて正確に画成する必要が
あり、また、例えば、超平滑である。母型の本体
は石英製にすることが好ましい。石英は金属より
著しく有利な温度挙動を有しているので、製造す
る合成樹脂製品の表面の品質が高度に要求される
場合は石英粉末の母型を使用する。この発明の母
型のガラス表面上に用いる金属層は単分子の銀層
であるのが好ましい。このような層を設けるに
は、ガラスの表面をSnCl2で処理し、次いでこの
ようにして増感した表面上にアンモニア性銀塩溶
液を噴霧する。銀原子がガラス表面上に反応
Sn2+＋2Ag+→2Ag＋Sn4+によつて析出する。
レンズおよび鏡の製造に好適であり、これらの部
材はすべて合成樹脂から製造するか、合成樹脂の
層を含んでおり、この場合、合成樹脂または合成
樹脂の層の表面をきわめて正確に画成する必要が
あり、また、例えば、超平滑である。母型の本体
は石英製にすることが好ましい。石英は金属より
著しく有利な温度挙動を有しているので、製造す
る合成樹脂製品の表面の品質が高度に要求される
場合は石英粉末の母型を使用する。この発明の母
型のガラス表面上に用いる金属層は単分子の銀層
であるのが好ましい。このような層を設けるに
は、ガラスの表面をSnCl2で処理し、次いでこの
ようにして増感した表面上にアンモニア性銀塩溶
液を噴霧する。銀原子がガラス表面上に反応
Sn2+＋2Ag+→2Ag＋Sn4+によつて析出する。
この発明はさらに合成樹脂製品または合成樹脂
の被覆層を含む製品の製造方法に関し、この方法
は、液状合成樹脂組成物を母型の表面上に供給
し、所要に応じて支持部材を合成樹脂組成物上に
乗せ、液状合成樹脂組成物を固体合成樹脂層に転
化させ、該層に母型表面のネガテイブがつくられ
ている合成樹脂層または支持部材の場合は支持部
材および付着樹脂層の集成体を母型から取出す方
法において、アルキルメルカプタンまたはフルオ
ロアルキルメルカプタンの単分子層を有する金属
表面を具える母型を用いるものである。適当な方
法は圧縮法、射出成形法または圧縮成形法であ
る。射出成形法または圧縮成形法により、液状プ
ラスチツク合成樹脂を高温高圧下、１個またはそ
れより多い母型を具える金型中で圧縮する。圧力
を除き冷却後、固体合成樹脂製品が得られ、その
表面は母型のそれのコピーである。圧縮法におい
て、金型を用いないが、可塑性の合成樹脂が高温
高圧下母型を具える成形機の加圧板
（pressureplate）の間を流れる。他の興味ある方
法は、橋かけ結合した合成樹脂のコピーが得られ
る重合方法である。この方法によれば、液状で熱
または光で硬化可能な単量体組成物を母型表面上
に供給する。所要に応じて、この層の上に支持部
材、例えば、ガラスプレートまたは好ましくは透
明な合成樹脂、例えば、ポリメチルメタクリラー
トまたはポリカーボネートのプレートを設けるこ
とができる。単量体組成物の層を、例えば紫外線
照射により硬化させる。硬化層または、支持部材
がある場合、これとこれに付着した硬化層の集成
体、この硬化層に母型の表面がコピーされてい
る、を母型表面から取り出す。適当な単量体組成
物はアクリラートと光開始剤、例えば、イソブチ
ルベンゾインエーテルの混合物より成る。
の被覆層を含む製品の製造方法に関し、この方法
は、液状合成樹脂組成物を母型の表面上に供給
し、所要に応じて支持部材を合成樹脂組成物上に
乗せ、液状合成樹脂組成物を固体合成樹脂層に転
化させ、該層に母型表面のネガテイブがつくられ
ている合成樹脂層または支持部材の場合は支持部
材および付着樹脂層の集成体を母型から取出す方
法において、アルキルメルカプタンまたはフルオ
ロアルキルメルカプタンの単分子層を有する金属
表面を具える母型を用いるものである。適当な方
法は圧縮法、射出成形法または圧縮成形法であ
る。射出成形法または圧縮成形法により、液状プ
ラスチツク合成樹脂を高温高圧下、１個またはそ
れより多い母型を具える金型中で圧縮する。圧力
を除き冷却後、固体合成樹脂製品が得られ、その
表面は母型のそれのコピーである。圧縮法におい
て、金型を用いないが、可塑性の合成樹脂が高温
高圧下母型を具える成形機の加圧板
（pressureplate）の間を流れる。他の興味ある方
法は、橋かけ結合した合成樹脂のコピーが得られ
る重合方法である。この方法によれば、液状で熱
または光で硬化可能な単量体組成物を母型表面上
に供給する。所要に応じて、この層の上に支持部
材、例えば、ガラスプレートまたは好ましくは透
明な合成樹脂、例えば、ポリメチルメタクリラー
トまたはポリカーボネートのプレートを設けるこ
とができる。単量体組成物の層を、例えば紫外線
照射により硬化させる。硬化層または、支持部材
がある場合、これとこれに付着した硬化層の集成
体、この硬化層に母型の表面がコピーされてい
る、を母型表面から取り出す。適当な単量体組成
物はアクリラートと光開始剤、例えば、イソブチ
ルベンゾインエーテルの混合物より成る。
合成樹脂情報デイスクは、射出成形法、圧縮成
形法または重合法を用いて製造するのが好まし
い。
形法または重合法を用いて製造するのが好まし
い。
合成樹脂製または合成樹脂の被覆層を備える光
学部材は重合法を用いて製造するのが好ましい。
学部材は重合法を用いて製造するのが好ましい。
光学部材の製造において、母型アルキルメルカ
プタンまたはフルオロアルキルメルカプタンの単
分子層の側に、例えば、光硬化性単量体組成物の
層を設ける。支持部材、例えばガラスレンズ、を
その上に設ける。単量体組成物を、例えば、母型
を経て露光させる。母型上にあるAgの単分子層
が十分光に透明であることに注目すべきである。
単量体硬化後、レンズとこれに固着した硬化合成
樹脂層をともに、この層の表面が母型のそれのネ
ガテイブである、母型から取り出す。このように
して、きわめて正確に画成した合成樹脂表面を有
するガラスレンズを製造することができる。同じ
ことが容易に画成された表面を有する鏡および他
の製品にあてはまる。この発明の母型を用いて製
造する製品全体が合成樹脂から成る必要はないこ
とをとくに指摘する。少なくとも母型表面と接す
る製品の部分が合成樹脂から成ることで十分であ
る。
プタンまたはフルオロアルキルメルカプタンの単
分子層の側に、例えば、光硬化性単量体組成物の
層を設ける。支持部材、例えばガラスレンズ、を
その上に設ける。単量体組成物を、例えば、母型
を経て露光させる。母型上にあるAgの単分子層
が十分光に透明であることに注目すべきである。
単量体硬化後、レンズとこれに固着した硬化合成
樹脂層をともに、この層の表面が母型のそれのネ
ガテイブである、母型から取り出す。このように
して、きわめて正確に画成した合成樹脂表面を有
するガラスレンズを製造することができる。同じ
ことが容易に画成された表面を有する鏡および他
の製品にあてはまる。この発明の母型を用いて製
造する製品全体が合成樹脂から成る必要はないこ
とをとくに指摘する。少なくとも母型表面と接す
る製品の部分が合成樹脂から成ることで十分であ
る。
次に、この発明を、図面を用いて一層詳細に説
明する。
明する。
第１図は、この発明に従う母型の断面図で、符
号１はNi製デイスクであり、一面に光学的に読
み出し可能な情報トラツク２を有する。トラツク
２は情報部３の銃眼模様を有し、それらは交互に
それぞれ高準位低準位を占める。情報部の大きさ
はきわめて小さく、例えば、0.1μm2の面積であ
る。デイスク１の情報トラツクの側を、オクタデ
シルメルカプタン単分子層５で被覆する。この単
分子層の厚さは約３〜4nmである。はつきりさせ
るため、第１図の単分子層の厚さを実際より著し
く大きく画いてある。層５を設けるには、デイス
クを7gのオクタデシルメルカプタンの１リツト
ルのクロロホルムへの溶液に数分間浸漬する。つ
いで、デイスクを５回クロロホルムでゆすぐ。乾
燥後オクタデシルメルカプタンの単分子層が得ら
れ、その分子はそのＳ−原子によりNi表面に結
合する。母型は、合成樹脂、とくに熱可塑性プラ
ステイツク合成樹脂、例えば、ポリアクリラー
ト、ポリメタクリラート、ポリカーボネートの複
数の製造に有利に使用することができる。射出成
形法または圧縮成形法の使用が好ましい。合成樹
脂は母型表面と何らの相互作用を示さないので、
複製の離型が最適に起こる。
号１はNi製デイスクであり、一面に光学的に読
み出し可能な情報トラツク２を有する。トラツク
２は情報部３の銃眼模様を有し、それらは交互に
それぞれ高準位低準位を占める。情報部の大きさ
はきわめて小さく、例えば、0.1μm2の面積であ
る。デイスク１の情報トラツクの側を、オクタデ
シルメルカプタン単分子層５で被覆する。この単
分子層の厚さは約３〜4nmである。はつきりさせ
るため、第１図の単分子層の厚さを実際より著し
く大きく画いてある。層５を設けるには、デイス
クを7gのオクタデシルメルカプタンの１リツト
ルのクロロホルムへの溶液に数分間浸漬する。つ
いで、デイスクを５回クロロホルムでゆすぐ。乾
燥後オクタデシルメルカプタンの単分子層が得ら
れ、その分子はそのＳ−原子によりNi表面に結
合する。母型は、合成樹脂、とくに熱可塑性プラ
ステイツク合成樹脂、例えば、ポリアクリラー
ト、ポリメタクリラート、ポリカーボネートの複
数の製造に有利に使用することができる。射出成
形法または圧縮成形法の使用が好ましい。合成樹
脂は母型表面と何らの相互作用を示さないので、
複製の離型が最適に起こる。
第２図の符号６はガラス製支持プレートであ
り、その一方の側に合成樹脂層、例えば、ポジ型
フオトレジスト層７を有する。交互にそれぞれ高
準位と低準位を占める情報部９および１０を有す
る光学的に読み出し可能な情報トラツク８を、合
成樹脂層に設ける。情報トラツク８の側の合成情
報層７の表面を、0.5nmの厚さを有するきわめて
薄い銀層１１で、次いでヘキサデシルメルカプタ
ンの単分子層１２でおおう。単分子層１２の厚さ
は約3nmである。単分子層１２の供給は、第１図
に関して前述したのと同様に行なう。母型の合成
樹脂複製は、上記重合法を用いて製造するのが好
ましい。この目的のため、アクリラートを基礎に
する光硬化性ラツカーを単分子層１２の上に供給
する。例えば、ガラスまたは透明合成樹脂の支持
プレートをその上に乗せる。ラツカー層を支持プ
レートを経て露光し、支持プレートと硬化ラツカ
ー層からなり、且つ後者が前者に固着し、後者に
母型の表面がコピーされている得られる複製を母
型の表面から取り出す。母型の表面と硬化ラツカ
ー層間には相互作用がないので、複製を母型から
最適に離型させることができる。
り、その一方の側に合成樹脂層、例えば、ポジ型
フオトレジスト層７を有する。交互にそれぞれ高
準位と低準位を占める情報部９および１０を有す
る光学的に読み出し可能な情報トラツク８を、合
成樹脂層に設ける。情報トラツク８の側の合成情
報層７の表面を、0.5nmの厚さを有するきわめて
薄い銀層１１で、次いでヘキサデシルメルカプタ
ンの単分子層１２でおおう。単分子層１２の厚さ
は約3nmである。単分子層１２の供給は、第１図
に関して前述したのと同様に行なう。母型の合成
樹脂複製は、上記重合法を用いて製造するのが好
ましい。この目的のため、アクリラートを基礎に
する光硬化性ラツカーを単分子層１２の上に供給
する。例えば、ガラスまたは透明合成樹脂の支持
プレートをその上に乗せる。ラツカー層を支持プ
レートを経て露光し、支持プレートと硬化ラツカ
ー層からなり、且つ後者が前者に固着し、後者に
母型の表面がコピーされている得られる複製を母
型の表面から取り出す。母型の表面と硬化ラツカ
ー層間には相互作用がないので、複製を母型から
最適に離型させることができる。
第３図の符号１３は石英製で、光学的プロフイ
ール１４（シユミツト‐コレクタープロフイール
（schmidtcorrector profile）を有する超平滑磨
きの表面を備える本体である。プロフイール１４
の側に本体１３は銀の単分子層１５を具える。単
分子層１５上にヘキサデシルメルカプタンの単分
子層１６を、第１図に関して述べたのと同様にし
て設ける。得られる母型の合成樹脂複製は、重合
法を用いてつくるのが好ましい。光硬化性液状ラ
ツカーを単分子層１６の上に供給し、支持部材を
その上に乗せる。支持部材は、例えば、ガラスで
つくり、プロフイール１４のほぼネガテイブであ
るプロフイールを有する。ラツカー層を、支持部
材を経て、または母型を経て露光する。支持部材
とそれに固着した硬化ラツカー層とをともに母型
表面から取り出す。このようにして表面が母型の
丁度ネガテイブであり、硬化合成樹脂からなる複
製を製造する。
ール１４（シユミツト‐コレクタープロフイール
（schmidtcorrector profile）を有する超平滑磨
きの表面を備える本体である。プロフイール１４
の側に本体１３は銀の単分子層１５を具える。単
分子層１５上にヘキサデシルメルカプタンの単分
子層１６を、第１図に関して述べたのと同様にし
て設ける。得られる母型の合成樹脂複製は、重合
法を用いてつくるのが好ましい。光硬化性液状ラ
ツカーを単分子層１６の上に供給し、支持部材を
その上に乗せる。支持部材は、例えば、ガラスで
つくり、プロフイール１４のほぼネガテイブであ
るプロフイールを有する。ラツカー層を、支持部
材を経て、または母型を経て露光する。支持部材
とそれに固着した硬化ラツカー層とをともに母型
表面から取り出す。このようにして表面が母型の
丁度ネガテイブであり、硬化合成樹脂からなる複
製を製造する。
第１図はこの発明の母型の断面図、第２図はこ
の発明の母型の他の例の断面図、第３図はこの発
明の母型のさらに別の例の断面図である。 １……デイスク、２……情報トラツク、３……
情報部、５……単分子層、６……支持プレート、
７……合成樹脂層、８……情報トラツク、９，１
０……情報部、１１……銀層、１２……単分子
層、１３……本体、１４……光学的プロフイー
ル、１５……銀層、１６……単分子層。
の発明の母型の他の例の断面図、第３図はこの発
明の母型のさらに別の例の断面図である。 １……デイスク、２……情報トラツク、３……
情報部、５……単分子層、６……支持プレート、
７……合成樹脂層、８……情報トラツク、９，１
０……情報部、１１……銀層、１２……単分子
層、１３……本体、１４……光学的プロフイー
ル、１５……銀層、１６……単分子層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 合成樹脂製品または合成樹脂の被覆層を含む
製品の製造に適する母型であつて使用中合成樹脂
と接触する母型表面が金属製で、かつ離型剤を具
える母型において、離型剤としてアルキルメルカ
プタンまたはフルオロアルキルメルカプタンの単
分子層を用いることを特徴とする母型。 ２ アルキルメルカプタンのアルキル基が少なく
とも12個の炭素原子を有する特許請求の範囲第１
項記載の母型。 ３ アルキルメルカプタンがオクタデシルメルカ
プタンである特許請求の範囲第２項記載の母型。 ４ 合成樹脂の光学的に読み出し可能な情報デイ
スクの製造に適し、使用中合成樹脂と接触する母
型の表面が金属製であり、且つ、該表面に光学的
に読み出し可能な、交互に高準位と低準位を占め
る情報部の情報トラツクを具え、この母型の表面
上にアルキルメルカプタンまたはフルオロアルキ
ルメルカプタンの単分子層を固定する特許請求の
範囲第１項記載の母型。 ５ ガラスまたは石英でつくつた母型部材を具
え、かつ母型の使用中合成樹脂と接触する該母型
部材の表面を、金属層およびアルキルメルカプタ
ンまたはフルオロアルキルメルカプタンの単分子
層で順次おおつた特許請求の範囲第１項記載の母
型。 ６ 液状合成樹脂組成物を母型の表面上に供給
し、所要に応じて支持部材を合成樹脂組成物上に
乗せ、液状合成樹脂組成物を固体合成樹脂層に転
化させ、該層に母型表面のネガテイブがつくられ
ている合成樹脂層または支持部材の場合は支持部
材および付着した合成樹脂層の集成体を母型から
取り出す合成樹脂製品または合成樹脂の被覆層を
含む製品の製造方法において、アルキルメルカプ
タンまたはフルオロアルキルメルカプタンの単分
子層を有する金属表面を具える母型を用いること
を特徴とする合成樹脂製品または合成樹脂の被覆
層を含む製品の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8301070 | 1983-03-28 | ||
| NL8301070A NL8301070A (nl) | 1983-03-28 | 1983-03-28 | Matrijs en methode voor de vervaardiging van voorwerpen uit kunststof door toepassing van de matrijs. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59194806A JPS59194806A (ja) | 1984-11-05 |
| JPH0445326B2 true JPH0445326B2 (ja) | 1992-07-24 |
Family
ID=19841606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59056383A Granted JPS59194806A (ja) | 1983-03-28 | 1984-03-26 | 母型および母型を用いる合成樹脂製品の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4536416A (ja) |
| EP (1) | EP0123334B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59194806A (ja) |
| AT (1) | ATE28994T1 (ja) |
| DE (1) | DE3465438D1 (ja) |
| NL (1) | NL8301070A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8401922A (nl) * | 1984-06-18 | 1986-01-16 | Philips Nv | Matrijs en werkwijze voor de vervaardiging van producten uit polyurethaan en verlichtingsarmatuur vervaardigd volgens de werkwijze. |
| JP2001260139A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-25 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 成形用型及び成形装置及び光学素子成形方法及び光学素子 |
| EP2822745A1 (en) | 2012-03-08 | 2015-01-14 | Danmarks Tekniske Universitet | Silane based coating of aluminium mold |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2888354A (en) * | 1954-09-23 | 1959-05-26 | Vickers Electrical Co Ltd | Compositions suitable for making refractory articles |
| US2841501A (en) * | 1957-04-17 | 1958-07-01 | James G Murphy | Silver polish |
| BE622957A (ja) * | 1961-09-28 | |||
| US3088849A (en) * | 1961-12-11 | 1963-05-07 | Minnesota Mining & Mfg | Fluorocarbon-substituted mercaptans |
| GB1130540A (en) * | 1966-02-18 | 1968-10-16 | Goddard & Sons Ltd J | Protecting silver against tarnish |
| GB1376669A (en) * | 1966-06-01 | 1974-12-11 | Amchem Prod | Lubricant compositions for application to metal surfaces and processes for applying such compositions to metal surfaces |
| US3498800A (en) * | 1967-09-11 | 1970-03-03 | Phillips Petroleum Co | Tarnish preventive agent |
| US3861951A (en) * | 1970-12-22 | 1975-01-21 | Ici Ltd | Cookware coated with aromatic polysulfones |
| US4239828A (en) * | 1976-03-29 | 1980-12-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Self-lubricating magnetic recording diskette |
| NL7804036A (nl) * | 1978-04-17 | 1979-10-19 | Philips Nv | Optisch uitleesbare informatieschijf. |
| US4251277A (en) * | 1978-04-24 | 1981-02-17 | Sws Silicones Corporation | Compositions containing thiofunctional polysiloxanes |
| US4188434A (en) * | 1978-05-15 | 1980-02-12 | Storage Technology Corporation | Lubricant for a magnetic member |
| NL7904113A (nl) * | 1979-05-25 | 1980-11-27 | Philips Nv | Optisch uitleesbare informatieschijf, werkwijze voor de vervaardiging ervan alsmede een inrichting voor het uitvoeren van deze werkwijze. |
-
1983
- 1983-03-28 NL NL8301070A patent/NL8301070A/nl not_active Application Discontinuation
- 1983-06-16 US US06/505,003 patent/US4536416A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-03-21 AT AT84200404T patent/ATE28994T1/de active
- 1984-03-21 EP EP84200404A patent/EP0123334B1/en not_active Expired
- 1984-03-21 DE DE8484200404T patent/DE3465438D1/de not_active Expired
- 1984-03-26 JP JP59056383A patent/JPS59194806A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0123334A1 (en) | 1984-10-31 |
| DE3465438D1 (en) | 1987-09-24 |
| ATE28994T1 (de) | 1987-09-15 |
| EP0123334B1 (en) | 1987-08-19 |
| JPS59194806A (ja) | 1984-11-05 |
| US4536416A (en) | 1985-08-20 |
| NL8301070A (nl) | 1984-10-16 |
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