JPH0446908B2 - - Google Patents
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- JPH0446908B2 JPH0446908B2 JP58230279A JP23027983A JPH0446908B2 JP H0446908 B2 JPH0446908 B2 JP H0446908B2 JP 58230279 A JP58230279 A JP 58230279A JP 23027983 A JP23027983 A JP 23027983A JP H0446908 B2 JPH0446908 B2 JP H0446908B2
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- JP
- Japan
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- glass
- temperature
- sio
- alkali
- viscosity
- Prior art date
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
本発明は連続製板可能な電子機材基板ガラスに
適したアルミノシリケートガラスに関する。 液晶用等の基板ガラスは0.3〜1.0mmの薄板が使
用されているが、これらの厚味の板ガラスをガラ
ス溶解室から連続的に生産性よく製造するには、
コルバーン法、フルコール法、フロート法による
製板方式が採用されている。上記方式による製板
法に最も適したガラス組成は、従来から建築用、
車輌用等に用いられてきたソーダライムシリカガ
ラスであるが、この組成のガラスはアルカリ含有
量が大きいために、液晶基板等電子、電気製品部
材の基板ガラスとして用いる時には、基板ガラス
からのアルカリの溶出が性能を劣化させるという
欠点があつた。この欠点を改善するためにソーダ
ライムシリカガラス基板表面にエチルシリケート
を用いてSiO2の膜を生成させて、基板ガラスか
らのアルカリ溶出を防止する方法がとられてい
る。一方アルカリ含有量が少なく、アルカリ溶出
の少ないSiO2膜のコーテイングが不要なガラス
組成もあるが、前記３方式による製板は困難であ
り、ロールアウト法で製板した後、表面を研磨し
て基板ガラスとなすか、ロールアウト法で製板し
た後研磨した厚板ガラスを再加熱して引伸ばし、
0.3〜１mm厚のガラスを作り基板ガラスとなすか、
或いは非常に特殊な、しかも大量生産向きでない
製板法（例えば特公昭46−24909の流下法）を採
用して0.3〜1.0mm厚のガラスを作るとかしてい
る。しかしこれらの場合、SiO2膜のコーテイン
グが不要であるにしても、基板ガラスの生産性の
低さによりそのメリツトは半減する。 本発明はかかる不都合を解消してフルコール
法、コルバーン法、フロート法による大量連続生
産が可能で、かつアルカリ溶出防止コーテイング
を不要とするアルミノシリケートガラスを提供す
るものである。 本発明に係るアルミノシリケートガラスは重量
％で表示して SiO2 50〜62％ B2O3 ２〜５％ Al2O3 10.5〜18％ MgO 0.5〜７％ CaO ４〜13％ BaO ０〜７％ ZnO ３〜10％ Li2O ０〜２％ Na2O ０〜10％ K2O ０〜10％ 但し、Li2O＋Na2O＋K2O＝3.8〜11％を基本成
分として有し、TW−TL＞−30℃であるものであ
る。 本発明に於ける組成限定理由は次の通りであ
る。 SiO2は本発明のガラスに於て主たるガラス形
成酸化物であるが、62％をこえるとガラスの粘度
が高くなり、溶解性が悪くなる。又、50％より少
ない場合はガラスの化学的耐久性を著しくそこな
うので50％を下限とする。好ましい範囲は54〜58
％である。 B2O3はガラスの高温粘度を下げて溶解を容易
にするが、B2O3単独で、或いはアルカリ成分と
結合してガラス素地から容易に揮発してガラスを
成形した時に脈理、フシなどの欠点を生じること
がある。B2O3の含有量が増大する程、ガラス素
地からの揮発も激しくなるので、B2O3の上限は
５％とする。B2O3が２％未満ではガラスの溶解
が困難となるので、２％を下限とする。好ましい
範囲は４〜５％である。 Al2O3はアルミノシリケートガラスの場合、ガ
ラスの安定性と化学的耐久性を良化する。18％を
こえると、ガラスの粘度が高くなり溶解性が悪く
なり、10.5％未満では化学的耐久性が悪くなる。
ガラスが安定化するためのAl2O3の好ましい範囲
は13〜15％である。MgOはガラスの化学的耐久
性を向上させ、熱膨張率を低下させるが、MgO
が７％をこえるとガラスの失透温度が上昇し、か
つ溶解性が悪くなる。 又、0.5％未満ではガラスの化学的耐久性が低
下する。好ましくは0.5〜４％である。CaOはガ
ラスの高温粘度を低下させ、ガラスの溶解を容易
にするが、CaOが13％をこえるとガラスの失透温
度が上昇し、４％未満ではガラスの溶解が困難に
なる。BaOは必須成分ではないが、BaOを５％
程度入れるとガラスの失透温度が著しく低下し、
成形を容易にする。但し７％をこえるとガラスの
化学的耐久性を悪くする。ZnOはガラスの高温粘
度を低下させ、ガラスの溶解を容易にするが、10
％をこえるとガラスの温粘曲線勾配がきつくな
り、微小温度変化で大きく粘度が変り、成形を困
難にする。又、３％未満では高温粘度の低下が十
分でなく、溶解が困難になる。好ましく範囲は５
〜７％である。Li2O，Na2O，K2Oはいずれもガ
ラスの溶解を促進するが、Li2Oは原料が高価で
あることも考え合せ、２％を上限とする。Na2O
とK2Oはそれぞれ10％をこえるとガラスの化学的
耐久性を低下させ、かつアルカリ溶出量が増える
ので各々10％を上限とする。但し、Li2O＋Na2O
＋K2Oが3.8％未満ではガラスの溶解が悪くなる
ので3.8％を下限とする。又、３者の合計量が11
％をこえると化学的耐久性を悪くし、アルカリ溶
出量が多くなるので、11％を上限とする。3.8〜
９％が好ましい。 以上の基本成分の他に、ガラス原料から不可避
的に混入してくる不純物、例えばTiO2，Fe2O3な
どは0.5以下含まれていても差しつかえない。又
通常の清澄剤としてSb2O3，As2O3，So3，F2，
Cl2などが各々１％以下入つても良い。更にガラ
スを着色する目的で通常使用される酸化物、例え
ばMnO2，Cr2O3，CoO，NiO，CuOなどが少量
入つていても良い。 以上各成分の限定理由について述べたが、本発
明によるアルミノシリケートガラスは、フルコー
ル法、コルバーン法、フロート法による連続製板
に適したガラスであり、そのためには失透温度
（TL）と作業温度（TW）関係がTW×TL＞−30℃
が必要で、TW≧TLであることが好ましい。 次に実施例にもとづいて本発明の効果を説明す
る。第１表に示すNo.１ないしNo.12及び比較例１，
２の各目標組成のガラスを得るに必要な調合割合
のバツチを造り、白金ルツボで1450℃で溶解し、
ステンレス鋳型に流し込み、成型した後徐冷し
た。上記各種ガラスの失透温度（TL）、作業温度
（TW）及びTW−TLの値は表に示した通りであり、
本発明による実施例はいずれも耐アルカリ溶出性
に優れ、かつ温度特性としてもTW−TL＞−30℃
であるのに対し、従来の代表的な耐アルカリ溶出
ガラスは比較例１，２に示されるようにTW−TL
＜−30℃であり、大量連続製板には不向きな温度
特性であり、比較例３の市販のフロートガラス組
成はアルカリ溶出量が約10倍に達する。よつて本
発明のガラスが大量に連続製板されうるもので、
かつ耐アルカリ溶出性に優れたものであり、電子
機材の基板用ガラスとして優れたものであること
が明らかとなつた。 尚、以上の説明に用いた失透温度TLは次のよ
うにして求めた。 ガラスを粉砕して1680μmのフルイを通り
1190μmのフルイ上にとどまつたガラス粒を、白
金ボード上に１列にあけた１mm径の多数の穴の上
におき、ボート長さ方向に適当な温度勾配をもつ
ように温度設定された炉中で１時間保持する。炉
から取出した白金ボートを、自然放冷させた後、
顕微鏡によつて白金ボート上のガラス粒を観察
し、失透が発生している最高温度をもつて失透温
度とした。又、作業温度（TW）はガラスの粘度
が104ポイズになる温度である。 アルカリ溶出量の測定はJISR−3502に準じて
行い試料ガラス１mlを粒径250〜420μmに粉砕し、
100℃、50mlの水中でも60分煮沸して、水中に溶
出したアルカリ量を分析した値である。
適したアルミノシリケートガラスに関する。 液晶用等の基板ガラスは0.3〜1.0mmの薄板が使
用されているが、これらの厚味の板ガラスをガラ
ス溶解室から連続的に生産性よく製造するには、
コルバーン法、フルコール法、フロート法による
製板方式が採用されている。上記方式による製板
法に最も適したガラス組成は、従来から建築用、
車輌用等に用いられてきたソーダライムシリカガ
ラスであるが、この組成のガラスはアルカリ含有
量が大きいために、液晶基板等電子、電気製品部
材の基板ガラスとして用いる時には、基板ガラス
からのアルカリの溶出が性能を劣化させるという
欠点があつた。この欠点を改善するためにソーダ
ライムシリカガラス基板表面にエチルシリケート
を用いてSiO2の膜を生成させて、基板ガラスか
らのアルカリ溶出を防止する方法がとられてい
る。一方アルカリ含有量が少なく、アルカリ溶出
の少ないSiO2膜のコーテイングが不要なガラス
組成もあるが、前記３方式による製板は困難であ
り、ロールアウト法で製板した後、表面を研磨し
て基板ガラスとなすか、ロールアウト法で製板し
た後研磨した厚板ガラスを再加熱して引伸ばし、
0.3〜１mm厚のガラスを作り基板ガラスとなすか、
或いは非常に特殊な、しかも大量生産向きでない
製板法（例えば特公昭46−24909の流下法）を採
用して0.3〜1.0mm厚のガラスを作るとかしてい
る。しかしこれらの場合、SiO2膜のコーテイン
グが不要であるにしても、基板ガラスの生産性の
低さによりそのメリツトは半減する。 本発明はかかる不都合を解消してフルコール
法、コルバーン法、フロート法による大量連続生
産が可能で、かつアルカリ溶出防止コーテイング
を不要とするアルミノシリケートガラスを提供す
るものである。 本発明に係るアルミノシリケートガラスは重量
％で表示して SiO2 50〜62％ B2O3 ２〜５％ Al2O3 10.5〜18％ MgO 0.5〜７％ CaO ４〜13％ BaO ０〜７％ ZnO ３〜10％ Li2O ０〜２％ Na2O ０〜10％ K2O ０〜10％ 但し、Li2O＋Na2O＋K2O＝3.8〜11％を基本成
分として有し、TW−TL＞−30℃であるものであ
る。 本発明に於ける組成限定理由は次の通りであ
る。 SiO2は本発明のガラスに於て主たるガラス形
成酸化物であるが、62％をこえるとガラスの粘度
が高くなり、溶解性が悪くなる。又、50％より少
ない場合はガラスの化学的耐久性を著しくそこな
うので50％を下限とする。好ましい範囲は54〜58
％である。 B2O3はガラスの高温粘度を下げて溶解を容易
にするが、B2O3単独で、或いはアルカリ成分と
結合してガラス素地から容易に揮発してガラスを
成形した時に脈理、フシなどの欠点を生じること
がある。B2O3の含有量が増大する程、ガラス素
地からの揮発も激しくなるので、B2O3の上限は
５％とする。B2O3が２％未満ではガラスの溶解
が困難となるので、２％を下限とする。好ましい
範囲は４〜５％である。 Al2O3はアルミノシリケートガラスの場合、ガ
ラスの安定性と化学的耐久性を良化する。18％を
こえると、ガラスの粘度が高くなり溶解性が悪く
なり、10.5％未満では化学的耐久性が悪くなる。
ガラスが安定化するためのAl2O3の好ましい範囲
は13〜15％である。MgOはガラスの化学的耐久
性を向上させ、熱膨張率を低下させるが、MgO
が７％をこえるとガラスの失透温度が上昇し、か
つ溶解性が悪くなる。 又、0.5％未満ではガラスの化学的耐久性が低
下する。好ましくは0.5〜４％である。CaOはガ
ラスの高温粘度を低下させ、ガラスの溶解を容易
にするが、CaOが13％をこえるとガラスの失透温
度が上昇し、４％未満ではガラスの溶解が困難に
なる。BaOは必須成分ではないが、BaOを５％
程度入れるとガラスの失透温度が著しく低下し、
成形を容易にする。但し７％をこえるとガラスの
化学的耐久性を悪くする。ZnOはガラスの高温粘
度を低下させ、ガラスの溶解を容易にするが、10
％をこえるとガラスの温粘曲線勾配がきつくな
り、微小温度変化で大きく粘度が変り、成形を困
難にする。又、３％未満では高温粘度の低下が十
分でなく、溶解が困難になる。好ましく範囲は５
〜７％である。Li2O，Na2O，K2Oはいずれもガ
ラスの溶解を促進するが、Li2Oは原料が高価で
あることも考え合せ、２％を上限とする。Na2O
とK2Oはそれぞれ10％をこえるとガラスの化学的
耐久性を低下させ、かつアルカリ溶出量が増える
ので各々10％を上限とする。但し、Li2O＋Na2O
＋K2Oが3.8％未満ではガラスの溶解が悪くなる
ので3.8％を下限とする。又、３者の合計量が11
％をこえると化学的耐久性を悪くし、アルカリ溶
出量が多くなるので、11％を上限とする。3.8〜
９％が好ましい。 以上の基本成分の他に、ガラス原料から不可避
的に混入してくる不純物、例えばTiO2，Fe2O3な
どは0.5以下含まれていても差しつかえない。又
通常の清澄剤としてSb2O3，As2O3，So3，F2，
Cl2などが各々１％以下入つても良い。更にガラ
スを着色する目的で通常使用される酸化物、例え
ばMnO2，Cr2O3，CoO，NiO，CuOなどが少量
入つていても良い。 以上各成分の限定理由について述べたが、本発
明によるアルミノシリケートガラスは、フルコー
ル法、コルバーン法、フロート法による連続製板
に適したガラスであり、そのためには失透温度
（TL）と作業温度（TW）関係がTW×TL＞−30℃
が必要で、TW≧TLであることが好ましい。 次に実施例にもとづいて本発明の効果を説明す
る。第１表に示すNo.１ないしNo.12及び比較例１，
２の各目標組成のガラスを得るに必要な調合割合
のバツチを造り、白金ルツボで1450℃で溶解し、
ステンレス鋳型に流し込み、成型した後徐冷し
た。上記各種ガラスの失透温度（TL）、作業温度
（TW）及びTW−TLの値は表に示した通りであり、
本発明による実施例はいずれも耐アルカリ溶出性
に優れ、かつ温度特性としてもTW−TL＞−30℃
であるのに対し、従来の代表的な耐アルカリ溶出
ガラスは比較例１，２に示されるようにTW−TL
＜−30℃であり、大量連続製板には不向きな温度
特性であり、比較例３の市販のフロートガラス組
成はアルカリ溶出量が約10倍に達する。よつて本
発明のガラスが大量に連続製板されうるもので、
かつ耐アルカリ溶出性に優れたものであり、電子
機材の基板用ガラスとして優れたものであること
が明らかとなつた。 尚、以上の説明に用いた失透温度TLは次のよ
うにして求めた。 ガラスを粉砕して1680μmのフルイを通り
1190μmのフルイ上にとどまつたガラス粒を、白
金ボード上に１列にあけた１mm径の多数の穴の上
におき、ボート長さ方向に適当な温度勾配をもつ
ように温度設定された炉中で１時間保持する。炉
から取出した白金ボートを、自然放冷させた後、
顕微鏡によつて白金ボート上のガラス粒を観察
し、失透が発生している最高温度をもつて失透温
度とした。又、作業温度（TW）はガラスの粘度
が104ポイズになる温度である。 アルカリ溶出量の測定はJISR−3502に準じて
行い試料ガラス１mlを粒径250〜420μmに粉砕し、
100℃、50mlの水中でも60分煮沸して、水中に溶
出したアルカリ量を分析した値である。
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 重量％で表示して SiO250〜62％、B2O32〜５％、Al2O310.5〜18
％、MgO0.5〜７％、CaO4〜13％、BaO0〜７
％、ZnO3〜10％、Li2O0〜２％、Na2O0〜10％、
K2O0〜10％、Li2O＋Na2O＋K2O＝3.8〜11％ の基本的成分を有し、TW−TL＞−30℃（但し、
TWは作業温度を、TLは失透温度を示す。）であ
ることを特徴とするアルミノシリケートガラス。 ２ 重量％で表示して SiO254〜58％、B2O34〜５％、Al2O313〜15
％、MgO0.5〜４％、CaO7〜11％、BaO0〜５
％、ZnO5〜７％、Li2O0〜１％、Na2O3〜９％、
K2O0〜３％、およびLi2O＋Na2O＋K2O3.8〜９
％の基本的成分を有する特許請求の範囲第１項に
記載のアルミノシリケートガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23027983A JPS60122748A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | アルミノシリケ−トガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23027983A JPS60122748A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | アルミノシリケ−トガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60122748A JPS60122748A (ja) | 1985-07-01 |
| JPH0446908B2 true JPH0446908B2 (ja) | 1992-07-31 |
Family
ID=16905310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23027983A Granted JPS60122748A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | アルミノシリケ−トガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60122748A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62128944A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-11 | Sharp Corp | 光メモリ素子 |
| FR2678604B1 (fr) * | 1991-07-02 | 1993-11-12 | Saint Gobain Vitrage Internal | Composition de verre trouvant application dans le domaine de l'electronique. |
| US5578103A (en) * | 1994-08-17 | 1996-11-26 | Corning Incorporated | Alkali metal ion migration control |
| JP3831957B2 (ja) * | 1994-09-14 | 2006-10-11 | 旭硝子株式会社 | ガラス組成物及びプラズマディスプレー用基板 |
| JP2001172042A (ja) | 1999-10-08 | 2001-06-26 | Ohara Inc | 透明性ガラスとその製造方法 |
| JP2011141568A (ja) * | 2005-10-03 | 2011-07-21 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 携帯機器表示装置用保護板 |
| JP4793756B2 (ja) * | 2005-10-03 | 2011-10-12 | 日本電気硝子株式会社 | 携帯機器表示装置用保護板 |
| WO2008050500A1 (en) * | 2006-09-29 | 2008-05-02 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Protective plate for portable equipment display device |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS496012A (ja) * | 1972-05-10 | 1974-01-19 | ||
| JPS6042247A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-06 | Asahi Glass Co Ltd | 低膨張性ガラス |
-
1983
- 1983-12-06 JP JP23027983A patent/JPS60122748A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60122748A (ja) | 1985-07-01 |
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