JPH0448516B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0448516B2 JPH0448516B2 JP63033942A JP3394288A JPH0448516B2 JP H0448516 B2 JPH0448516 B2 JP H0448516B2 JP 63033942 A JP63033942 A JP 63033942A JP 3394288 A JP3394288 A JP 3394288A JP H0448516 B2 JPH0448516 B2 JP H0448516B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- processing
- precision
- tank
- treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
<産業上の利用分野>
開示技術は、精密機器の光学機械等に用いるプ
ラスチツク製のレンズやガラス等精密機器の仕上
げ洗浄や精密機器を硬化処理するコーテイングを
付与する等の液処理技術分野に属する。
ラスチツク製のレンズやガラス等精密機器の仕上
げ洗浄や精密機器を硬化処理するコーテイングを
付与する等の液処理技術分野に属する。
<要旨の概要>
而して、この発明は光学装置等に用いるガラス
やプラスチツクのレンズ等を硬化処理するに液処
理槽に浸漬させた後上部の温暖ガス中に引き上げ
して速やかに乾燥させ、所定の次段処理工程に搬
送したり、純水による仕上げ洗浄を行うようにす
る精密機器の液処理方法に関する発明であり、特
に、上記液処理槽内に於ける処理液を液処理槽の
一側側から他側側へかけて上下部の流速を同速度
にして側方で複段に整流して層流状に側流させ、
加温状態で循環濾過したりするようにした精密機
器の液処理方法に係る発明である。
やプラスチツクのレンズ等を硬化処理するに液処
理槽に浸漬させた後上部の温暖ガス中に引き上げ
して速やかに乾燥させ、所定の次段処理工程に搬
送したり、純水による仕上げ洗浄を行うようにす
る精密機器の液処理方法に関する発明であり、特
に、上記液処理槽内に於ける処理液を液処理槽の
一側側から他側側へかけて上下部の流速を同速度
にして側方で複段に整流して層流状に側流させ、
加温状態で循環濾過したりするようにした精密機
器の液処理方法に係る発明である。
<従来の技術>
周知の如く、市民生活や産業社会が隆盛になつ
てくる近時においては近代科学に負うところが極
めて大であり、特に、各種の情報機器によるとこ
ろが甚だしく大である。
てくる近時においては近代科学に負うところが極
めて大であり、特に、各種の情報機器によるとこ
ろが甚だしく大である。
而して、当然のことながら、かかる情報機器は
所謂IC部品や電子光学機器の組合せによつて高
度に精密にされており、したがつて、該種IC部
品や光学部品等の精密機器は超精密の仕上がり精
度が厳しく要求され、ミクロン単位は勿論のこ
と、近時はサブミクロン単位の清浄度が要求され
るようになつてきている。
所謂IC部品や電子光学機器の組合せによつて高
度に精密にされており、したがつて、該種IC部
品や光学部品等の精密機器は超精密の仕上がり精
度が厳しく要求され、ミクロン単位は勿論のこ
と、近時はサブミクロン単位の清浄度が要求され
るようになつてきている。
したがつて、かかる精密機器の製造工程にあつ
ては、最終仕上がり工程において各種の薬液によ
る洗浄後に純水による仕上げ洗浄を行つたり、プ
ラスチツクスやガラス等の光学製品には使用やメ
ンテナンス時の傷付きを防止し光透過性を良好に
するべく硬化処理のためのコーテイング付与工程
等があり、これらはほとんどの場合液処理による
浸漬、及び、該浸漬後の温暖ガス中での乾燥を経
てなされる。
ては、最終仕上がり工程において各種の薬液によ
る洗浄後に純水による仕上げ洗浄を行つたり、プ
ラスチツクスやガラス等の光学製品には使用やメ
ンテナンス時の傷付きを防止し光透過性を良好に
するべく硬化処理のためのコーテイング付与工程
等があり、これらはほとんどの場合液処理による
浸漬、及び、該浸漬後の温暖ガス中での乾燥を経
てなされる。
而して、旧来態様の液処理方法を第2図によつ
て略説すれば、次の通りである。
て略説すれば、次の通りである。
即ち、プラスチツク製のレンズ1の精密機器の
純水による仕上げ洗浄後におけるコーテイング処
理において、コーテイング処理液2を貯留するコ
ーテイング槽3に対し、循環ポンプ4、及び、フ
イルタ5を介してサークル状に循環させ、処理籠
6によりレンズ1をコーテイング処理液2内にど
ぶ浸け状に浸漬して所定時間後に温暖ガス中に引
き上げするようにされているが、液処理槽3内に
於けるコーテイング処理液2はサークル状に循環
されるために一部の塵埃等はフイルタ5により除
去されはするものの、経時的にサブミクロン単位
の塵埃や比重の重い前工程の薬液等が停滞浮遊す
る等し、しばしばコーテイング処理液2中に遊散
して引き上げされる籠6内のレンズ1の表面に付
着する場合が多かつた。
純水による仕上げ洗浄後におけるコーテイング処
理において、コーテイング処理液2を貯留するコ
ーテイング槽3に対し、循環ポンプ4、及び、フ
イルタ5を介してサークル状に循環させ、処理籠
6によりレンズ1をコーテイング処理液2内にど
ぶ浸け状に浸漬して所定時間後に温暖ガス中に引
き上げするようにされているが、液処理槽3内に
於けるコーテイング処理液2はサークル状に循環
されるために一部の塵埃等はフイルタ5により除
去されはするものの、経時的にサブミクロン単位
の塵埃や比重の重い前工程の薬液等が停滞浮遊す
る等し、しばしばコーテイング処理液2中に遊散
して引き上げされる籠6内のレンズ1の表面に付
着する場合が多かつた。
しかしながら、かかる精密機器においてはサブ
ミクロン単位の清浄度が要求されるために、最終
工程純水による仕上げ洗浄や薬液によるコーテイ
ング処理の液処理において、サブミクロン単位の
塵埃や、微粒子に対してはフイルタ等による完全
濾過を図つているが、不測にして処理液中に浮遊
して捕捉し切れずに滞留している該サブミクロン
単位の塵埃等が侵入している場合も無くはなく、
したがつて、所定の処理液に浸漬して温暖ガス中
に引き上げする工程での処理液の濃縮や、該温暖
ガス中に於ける乾燥プロスでのサブミクロン単位
の塵埃や微粒子の付着による所謂シミが除去出来
ない場合には不合格品となり、該種製品の精密機
器に電気的なシヨートや傷が付き易くなるという
不測の事態が生じかねず、製品精度に対する信頼
度を下落するという不都合さがあつた。
ミクロン単位の清浄度が要求されるために、最終
工程純水による仕上げ洗浄や薬液によるコーテイ
ング処理の液処理において、サブミクロン単位の
塵埃や、微粒子に対してはフイルタ等による完全
濾過を図つているが、不測にして処理液中に浮遊
して捕捉し切れずに滞留している該サブミクロン
単位の塵埃等が侵入している場合も無くはなく、
したがつて、所定の処理液に浸漬して温暖ガス中
に引き上げする工程での処理液の濃縮や、該温暖
ガス中に於ける乾燥プロスでのサブミクロン単位
の塵埃や微粒子の付着による所謂シミが除去出来
ない場合には不合格品となり、該種製品の精密機
器に電気的なシヨートや傷が付き易くなるという
不測の事態が生じかねず、製品精度に対する信頼
度を下落するという不都合さがあつた。
特に、従来技術による純水やコーテイング液等
の処理液に対する精密機器のどぶ浸け状態の浸漬
後の温暖ガス中への引き上げに際しては、精密機
器の処理面にスポツト状やブロツク状の液が付着
して、乾燥工程において該処理液が濃縮されるプ
ロセスでシミが生ずるという欠点があつた。
の処理液に対する精密機器のどぶ浸け状態の浸漬
後の温暖ガス中への引き上げに際しては、精密機
器の処理面にスポツト状やブロツク状の液が付着
して、乾燥工程において該処理液が濃縮されるプ
ロセスでシミが生ずるという欠点があつた。
したがつて、これまでは処理の度ごとに洗浄液
を洗浄の度ごと排出して入れ換えており、そのた
め、タクトが短縮出来ないという不具合があつた
り、高価な洗浄液の交換による多量使用を介して
のコストアツプにつながる不利点があつた。
を洗浄の度ごと排出して入れ換えており、そのた
め、タクトが短縮出来ないという不具合があつた
り、高価な洗浄液の交換による多量使用を介して
のコストアツプにつながる不利点があつた。
これに対処するに、特開昭62−277734号公報発
明や実開昭61−130389号公報考案等もあつて、処
理液を処理槽の側方へ層流化して側流させる技術
があるが、処理槽内での側流の整流が単段である
ことから層流が確実に生ぜず、処理槽内にミクロ
ン単位の不純物が残留し易い難点があつた。
明や実開昭61−130389号公報考案等もあつて、処
理液を処理槽の側方へ層流化して側流させる技術
があるが、処理槽内での側流の整流が単段である
ことから層流が確実に生ぜず、処理槽内にミクロ
ン単位の不純物が残留し易い難点があつた。
<発明の目的>
この発明の目的は上述従来技術に基づく精密機
器に対する仕上げ洗浄や後工程のコーテイング処
理における精密機器の処理液中への浸漬の処理の
問題点を解決すべき技術的課題とし、液処理槽内
に於ける処理液の静穏な貯留状態への精密機器の
浸漬、及び、上部の温暖ガス中への引き上げによ
る乾燥プロセスでの濃縮工程を介してのシミ発生
の問題に着目し、浸漬から引き上げにかけての液
処理において、液処理槽内に於ける塵埃や前工程
での微粒子の浮遊や不純物の滞留を阻止し、これ
らを完全に循環工程において除去し、浸漬して温
暖ガス中に引き上げする精密機器の面に塵埃の付
着が絶対に生じないようにし、又、処理液の使用
量を少くし、コストダウンを進め、タクトの短縮
が図れるようにして精密機器製造産業における清
浄化技術利用分野に益する優れた精密機器の液処
理方法を提供せんとするものである。
器に対する仕上げ洗浄や後工程のコーテイング処
理における精密機器の処理液中への浸漬の処理の
問題点を解決すべき技術的課題とし、液処理槽内
に於ける処理液の静穏な貯留状態への精密機器の
浸漬、及び、上部の温暖ガス中への引き上げによ
る乾燥プロセスでの濃縮工程を介してのシミ発生
の問題に着目し、浸漬から引き上げにかけての液
処理において、液処理槽内に於ける塵埃や前工程
での微粒子の浮遊や不純物の滞留を阻止し、これ
らを完全に循環工程において除去し、浸漬して温
暖ガス中に引き上げする精密機器の面に塵埃の付
着が絶対に生じないようにし、又、処理液の使用
量を少くし、コストダウンを進め、タクトの短縮
が図れるようにして精密機器製造産業における清
浄化技術利用分野に益する優れた精密機器の液処
理方法を提供せんとするものである。
<課題を解決するための手段・作用>
上述目的に沿い先述特許請求の範囲を要旨とす
るこの発明の構成は前述課題を解決するために、
液処理槽により仕上げ洗浄やコーテイングを精密
機器に対して施す処理液の循環を介してのサブミ
クロン単位の塵埃等のフイルタ等による濾過除去
は液処理槽外のサイクル回路で行い、該液処理槽
内に於いては上下部の流速が同一である層流状の
側流を横方向複段の整流化によつて行い、サブミ
クロン単位の塵埃微粒子や不純物の浮遊や滞留の
ない処理液による速やかに排出し、高精度の液処
理を行うようにし、処理液の使用量を経済的に抑
制し、タクトの短縮が行えるようにした技術的手
段を講じたものである。
るこの発明の構成は前述課題を解決するために、
液処理槽により仕上げ洗浄やコーテイングを精密
機器に対して施す処理液の循環を介してのサブミ
クロン単位の塵埃等のフイルタ等による濾過除去
は液処理槽外のサイクル回路で行い、該液処理槽
内に於いては上下部の流速が同一である層流状の
側流を横方向複段の整流化によつて行い、サブミ
クロン単位の塵埃微粒子や不純物の浮遊や滞留の
ない処理液による速やかに排出し、高精度の液処
理を行うようにし、処理液の使用量を経済的に抑
制し、タクトの短縮が行えるようにした技術的手
段を講じたものである。
<実施例>
次に、この発明の1実施例を第1図に従つて説
明すれば以下の通りである。
明すれば以下の通りである。
尚、第2図と同一態様部分は同一符号を用いて
説明するものとする。
説明するものとする。
図示実施例は精密機器としての光学レンズの表
面に対する硬化コーテイングの処理液の様であ
り、液処理槽3の内部にはプラスチツク製のレン
ズ1を収納した籠6が浸漬、引き上げ自在にされ
ており、所定のコーテイング処理液2が所定量貯
留されて、液処理槽3の一側部と他側部には第一
段の整流機構7,7′が設けられて、バルブ8、
補助タンク9、循環ポンプ10、フイルタ11、
ヒータ12、バルブ13を直列に介装した循環回
路14がサークル状に接続されており、該液処理
槽3の内部には所定サイズの微細な孔を多数穿設
された上下方向の多孔板15,15,15,15
が横4段に第2,3段の整流機構として設置され
ている。
面に対する硬化コーテイングの処理液の様であ
り、液処理槽3の内部にはプラスチツク製のレン
ズ1を収納した籠6が浸漬、引き上げ自在にされ
ており、所定のコーテイング処理液2が所定量貯
留されて、液処理槽3の一側部と他側部には第一
段の整流機構7,7′が設けられて、バルブ8、
補助タンク9、循環ポンプ10、フイルタ11、
ヒータ12、バルブ13を直列に介装した循環回
路14がサークル状に接続されており、該液処理
槽3の内部には所定サイズの微細な孔を多数穿設
された上下方向の多孔板15,15,15,15
が横4段に第2,3段の整流機構として設置され
ている。
尚、液処理槽3の外部、特に、上部には所定の
乾燥ガスが図示しない超精密フイルタによりサブ
ミクロン単位の塵埃を捕捉し、可及的に緩い速度
で加熱循環するようにされている。
乾燥ガスが図示しない超精密フイルタによりサブ
ミクロン単位の塵埃を捕捉し、可及的に緩い速度
で加熱循環するようにされている。
上述システムにおいて、前工程で所定に成形製
造されたプラスチツク製のレンズ1を前段の純水
による仕上げ洗浄を経て籠6により移動し、所定
に乾燥した後、液処理槽3に於いて所定のコーテ
イング処理をその表面に施すに際し、予め液処理
槽3に対し、コーテイング処理液2を循環回路1
4を介し補助タンク9、循環ポンプ10により循
環圧送し、フイルタ11によりサブミクロン単位
の塵埃を捕捉しヒータ12により設定温度の適温
に加温し、整流機構7,7′により一方側から他
方側へ拡散して液処理槽3内に圧入して可及的に
上下での側流を整流にし、続いて第2,3段の整
流機構の多孔板15,15,15…を流過するプ
ロセスで上下部の流速は同一速度に調整されて一
種の層流状の均一な整流の側流として流動し、し
たがつて、ミクロン単位の混入している塵埃も何
ら液処理槽3内に浮遊滞留することなく側方に確
実に低速で流動して循環し、フイルタ11により
完全に捕捉され、レンズ1の表面はサブミクロン
単位の塵埃のない処理液2によりコーテイング作
用を受ける。
造されたプラスチツク製のレンズ1を前段の純水
による仕上げ洗浄を経て籠6により移動し、所定
に乾燥した後、液処理槽3に於いて所定のコーテ
イング処理をその表面に施すに際し、予め液処理
槽3に対し、コーテイング処理液2を循環回路1
4を介し補助タンク9、循環ポンプ10により循
環圧送し、フイルタ11によりサブミクロン単位
の塵埃を捕捉しヒータ12により設定温度の適温
に加温し、整流機構7,7′により一方側から他
方側へ拡散して液処理槽3内に圧入して可及的に
上下での側流を整流にし、続いて第2,3段の整
流機構の多孔板15,15,15…を流過するプ
ロセスで上下部の流速は同一速度に調整されて一
種の層流状の均一な整流の側流として流動し、し
たがつて、ミクロン単位の混入している塵埃も何
ら液処理槽3内に浮遊滞留することなく側方に確
実に低速で流動して循環し、フイルタ11により
完全に捕捉され、レンズ1の表面はサブミクロン
単位の塵埃のない処理液2によりコーテイング作
用を受ける。
そして、所定時間後に籠6を処理液2により上
部の温暖ガス中に引き上げして乾燥され、ミクロ
ン単位の塵埃のない該温暖ガス中より次段処理に
移送されていき、所謂シミ等が生ぜず、均一なコ
ーテイング乾燥が施されて設計通りのコーテイン
グがなされたレンズ1が得られる。
部の温暖ガス中に引き上げして乾燥され、ミクロ
ン単位の塵埃のない該温暖ガス中より次段処理に
移送されていき、所謂シミ等が生ぜず、均一なコ
ーテイング乾燥が施されて設計通りのコーテイン
グがなされたレンズ1が得られる。
そして、この間、処理液の全量入れ換え等がな
く、したがつて、経済的でタクトの短縮化が図れ
る。
く、したがつて、経済的でタクトの短縮化が図れ
る。
尚、この発明の実施態様は上述実施例に限るも
のでないことは勿論であり、例えば、液処理槽の
循環回路に流量計を設けて循環ポンプの循環速度
や循環圧力を調整するようにし、液処理槽内の層
流状の整流の側流の速度を可及的に低速にするよ
うにする等種々の態様が採用可能である。
のでないことは勿論であり、例えば、液処理槽の
循環回路に流量計を設けて循環ポンプの循環速度
や循環圧力を調整するようにし、液処理槽内の層
流状の整流の側流の速度を可及的に低速にするよ
うにする等種々の態様が採用可能である。
又、適用対象はプラスチツク製のレンズ等に対
するコーテイング処理ばかりでなく、洗浄工程に
おける各洗浄段階や純水による仕上げ洗浄につい
ても適用出来ること等も勿論のことである。
するコーテイング処理ばかりでなく、洗浄工程に
おける各洗浄段階や純水による仕上げ洗浄につい
ても適用出来ること等も勿論のことである。
<発明の効果>
以上、この発明によれば、電子部品や光学レン
ズやガラス等の精密機器の洗浄やコーテイング等
の精密液処理において、処理液を貯留して洗浄
し、浸漬後温暖ガス中に引き上げするに処理液を
液処理槽の一側側から他側側に複数段の整流処理
をして層流状の側流にして、上下部の流速が等速
度になるような整流状の横移動を行うようにした
ことにより、液処理槽内に於ける処理液は液処理
槽内にて特定のサークル状の循環を行うことな
く、全体的に層流状の整流とつて均一速度で横移
動するために、不測にして混在するサブミクロン
単位の塵埃や前工程からの微粒子等が液処理槽内
部に浮遊して滞留したりせず、したがつて、浸漬
した精密機器の表面にこれらのサブミクロン単位
の塵埃や粒子等が上部の温暖ガス中への引き上げ
に際して付着することなく、したがつて、コーテ
イングや洗浄の仕上げに際し、混入するサブミク
ロン単位の塵埃や重い前工程の薬液によるシミ等
が生ぜず、設計通りの精度の高い均一な完全洗浄
やコーテイング等が行えるという優れた効果が奏
される。
ズやガラス等の精密機器の洗浄やコーテイング等
の精密液処理において、処理液を貯留して洗浄
し、浸漬後温暖ガス中に引き上げするに処理液を
液処理槽の一側側から他側側に複数段の整流処理
をして層流状の側流にして、上下部の流速が等速
度になるような整流状の横移動を行うようにした
ことにより、液処理槽内に於ける処理液は液処理
槽内にて特定のサークル状の循環を行うことな
く、全体的に層流状の整流とつて均一速度で横移
動するために、不測にして混在するサブミクロン
単位の塵埃や前工程からの微粒子等が液処理槽内
部に浮遊して滞留したりせず、したがつて、浸漬
した精密機器の表面にこれらのサブミクロン単位
の塵埃や粒子等が上部の温暖ガス中への引き上げ
に際して付着することなく、したがつて、コーテ
イングや洗浄の仕上げに際し、混入するサブミク
ロン単位の塵埃や重い前工程の薬液によるシミ等
が生ぜず、設計通りの精度の高い均一な完全洗浄
やコーテイング等が行えるという優れた効果が奏
される。
したがつて、最終製品として得られる精密機器
に対する信頼度も高く、歩留り向上にも役立ち、
製品品質度を高めることが出来るという優れた効
果が奏される。
に対する信頼度も高く、歩留り向上にも役立ち、
製品品質度を高めることが出来るという優れた効
果が奏される。
そして、貴重な処理液については処理の度ごと
に総入れ換えする必要がなく、液処理槽内のコー
テイング処理液の清浄度がより一層高められコス
トダンを図れ、タクトの短縮化が図られるという
効果も奏される。
に総入れ換えする必要がなく、液処理槽内のコー
テイング処理液の清浄度がより一層高められコス
トダンを図れ、タクトの短縮化が図られるという
効果も奏される。
第1図はこの発明の1実施例の縦断面図、第2
図は在来態様の精密機器に対する液処理方法の縦
断面図である。 1…精密機器、2…処理液、3…液処理槽、1
0…循環ポンプ、11…フイルタ、12…ヒー
タ、14…循環回路。
図は在来態様の精密機器に対する液処理方法の縦
断面図である。 1…精密機器、2…処理液、3…液処理槽、1
0…循環ポンプ、11…フイルタ、12…ヒー
タ、14…循環回路。
Claims (1)
- 1 精密機器を液処理槽に浸漬させた後引き上げ
て次段処理に搬送するようにした液処理方法にお
いて、上記液処理槽内にて処理液を一側から他側
へ該液処理槽の上下部に亘る全ての部分の流速を
同速にして層流状に側流させて循環させるに際し
横方向複段の整流作用を行わせて上記精密機器に
対する所定の液処理をするようにすることを特徴
とする精密機器の液処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63033942A JPH01210091A (ja) | 1988-02-18 | 1988-02-18 | 精密機器の液処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63033942A JPH01210091A (ja) | 1988-02-18 | 1988-02-18 | 精密機器の液処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01210091A JPH01210091A (ja) | 1989-08-23 |
| JPH0448516B2 true JPH0448516B2 (ja) | 1992-08-06 |
Family
ID=12400562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63033942A Granted JPH01210091A (ja) | 1988-02-18 | 1988-02-18 | 精密機器の液処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01210091A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0360776A (ja) * | 1989-07-27 | 1991-03-15 | Mita Ind Co Ltd | 洗浄液循環装置 |
| JPH0426082U (ja) * | 1990-06-26 | 1992-03-02 | ||
| JPH0736399B2 (ja) * | 1991-12-12 | 1995-04-19 | 孝夫 中澤 | 半導体ウエハ用洗浄リンス槽 |
-
1988
- 1988-02-18 JP JP63033942A patent/JPH01210091A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01210091A (ja) | 1989-08-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4722752A (en) | Apparatus and method for rinsing and drying silicon wafers | |
| US4902350A (en) | Method for rinsing, cleaning and drying silicon wafers | |
| US5327921A (en) | Processing vessel for a wafer washing system | |
| US4092176A (en) | Apparatus for washing semiconductor wafers | |
| EP0022528B1 (en) | Dip-coating method and apparatus | |
| CN110813888A (zh) | 一种掩模版清洗装置和掩模版清洗方法 | |
| BRPI0803743B1 (pt) | Aparelho para umedecer e cobrir lentes oftálmicas, e, método de submersão de lentes óticas em um banho líquido | |
| US5236515A (en) | Cleaning device | |
| US4902608A (en) | Immersion development and rinse machine and process | |
| US4131483A (en) | Methods for cleaning articles with upward flowing liquids | |
| JPH0448516B2 (ja) | ||
| JPH0448515B2 (ja) | ||
| US4361605A (en) | Apparatus used in surface treatment and a method of surface treatment using said apparatus | |
| CN218394973U (zh) | 一种晶圆清洗设备工艺腔体及晶圆清洗设备 | |
| US5025280A (en) | Immersion development and rinse machine and process | |
| KR102785703B1 (ko) | 복수의 재생 웨이퍼들을 세정 및 건조하는 장치 | |
| JP3386892B2 (ja) | 洗浄槽 | |
| JPS63110731A (ja) | 半導体基板処理装置 | |
| KR100952121B1 (ko) | 수지제품의 표면 폴리싱 방법 및 표면 폴리싱 장치 | |
| JPS5990667A (ja) | 塗布方法 | |
| US20030041877A1 (en) | State of the art constant flow device | |
| JPS63128186A (ja) | 湿式エツチング装置 | |
| TWI611473B (zh) | 液位控制系統及方法 | |
| GB1558648A (en) | Cleaning articles | |
| JPH02288334A (ja) | 純水引き上げ乾燥装置 |