JPH0448540A - 四極電磁石装置 - Google Patents
四極電磁石装置Info
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- JPH0448540A JPH0448540A JP2155356A JP15535690A JPH0448540A JP H0448540 A JPH0448540 A JP H0448540A JP 2155356 A JP2155356 A JP 2155356A JP 15535690 A JP15535690 A JP 15535690A JP H0448540 A JPH0448540 A JP H0448540A
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- magnetic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、例えば荷電粒子ビームの輸送路などに設け
られ、荷電粒子ビームの収束や発散を行う四極電磁石装
置に関するものである。
られ、荷電粒子ビームの収束や発散を行う四極電磁石装
置に関するものである。
［従来の技術］
第７図は従来の荷電粒子ビーム装置用の四極電磁石装置
の一例を示す断面構成図である。
の一例を示す断面構成図である。
図において、符号（１）は円環状のヨーク、（２）はそ
れぞれヨーク（１）の内周面上に設けられ、かつ２本の
直交する直線上に２個ずつが該２直線の交点を挟んで互
いに対向するように配置されている４個の磁極部、（３
）は各磁極部（２）に設けられているコイルであり、こ
のコイル（３）により、互いに対向する２個の＆ｉｌ！
極部（２）の先端部がＮ極に、残りの２個の磁極部（２
）の先端部が８％になるように各磁極部（２）が磁化さ
れている。
れぞれヨーク（１）の内周面上に設けられ、かつ２本の
直交する直線上に２個ずつが該２直線の交点を挟んで互
いに対向するように配置されている４個の磁極部、（３
）は各磁極部（２）に設けられているコイルであり、こ
のコイル（３）により、互いに対向する２個の＆ｉｌ！
極部（２）の先端部がＮ極に、残りの２個の磁極部（２
）の先端部が８％になるように各磁極部（２）が磁化さ
れている。
次に、第８図は例えば“ＰｒｏｃｅｅｄｉｎＦｌｓ
ｏｆ ｔｈｅ９ｔｈ ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ
Ｃ０ＮＦＥＲＥＮＣＥ ＯＮ Ｍ＾（：ＮＥＴ
ＴＥＣＨＮＯＬＯ（：Ｙ”「プロシーデインゲス・オブ
・ザ・ナインス・インターナショナル・コンフェレンス
・オン・マグネット・テクノロジーＪ （Ｚｕｒｉｅｈ
Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ９−１３．１９８５）１１４〜１
１７ページに示された従来の四極ｔＷｉ石装置の磁極部
（２ンの先端部の拡大図である。
ｏｆ ｔｈｅ９ｔｈ ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ
Ｃ０ＮＦＥＲＥＮＣＥ ＯＮ Ｍ＾（：ＮＥＴ
ＴＥＣＨＮＯＬＯ（：Ｙ”「プロシーデインゲス・オブ
・ザ・ナインス・インターナショナル・コンフェレンス
・オン・マグネット・テクノロジーＪ （Ｚｕｒｉｅｈ
Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ９−１３．１９８５）１１４〜１
１７ページに示された従来の四極ｔＷｉ石装置の磁極部
（２ンの先端部の拡大図である。
この図のように、磁極部（２）の先端部は全体的には双
曲線形状となっているが、その一部が双曲線から外れた
形状となっており、この部分はシム（２ａ）と呼ばれて
いる。
曲線形状となっているが、その一部が双曲線から外れた
形状となっており、この部分はシム（２ａ）と呼ばれて
いる。
上記のように構成された従来の四極電磁石装置において
は、第７図の破線の範囲内を荷電粒子ビームが輸送され
る。このとき、各磁極の間には、図中矢印の磁力線に示
すような磁界が発生しており、これにより荷電粒子ビー
ムが集束・発散される。
は、第７図の破線の範囲内を荷電粒子ビームが輸送され
る。このとき、各磁極の間には、図中矢印の磁力線に示
すような磁界が発生しており、これにより荷電粒子ビー
ムが集束・発散される。
このような荷電粒子ビームに対する集束・発散のレンズ
作用を持たせるため、各磁極間の磁界の磁場強度は、中
心点ＯでＯになり、かつこの中心点Ｏからの距離に比例
した大きさになるように設計されている６例えば、第８
図のＸ軸上では、磁場強度Ｂ、＝ｋＸ（ｋ：比例定数）
となっている。
作用を持たせるため、各磁極間の磁界の磁場強度は、中
心点ＯでＯになり、かつこの中心点Ｏからの距離に比例
した大きさになるように設計されている６例えば、第８
図のＸ軸上では、磁場強度Ｂ、＝ｋＸ（ｋ：比例定数）
となっている。
第９図はこのようなＸ軸上の磁場分布を示す中心点Ｏか
らの距離と磁場強度との関係図である。
らの距離と磁場強度との関係図である。
図において、実ｌＩＡは磁極面にシム〈２ａ）を設けた
磁極部（２〉を用いた場合の磁場分布、−点鎖ＩＩＢは
シム（２ａ）を設けていない双曲線形状の磁極面の磁極
部を用いた場合の磁場分布である。この図のように、シ
ム（２ａ）を設けることにより、磁場分布が補正され、
磁場勾配が一定となる領域、即ち良磁場領域が広くなっ
ている。
磁極部（２〉を用いた場合の磁場分布、−点鎖ＩＩＢは
シム（２ａ）を設けていない双曲線形状の磁極面の磁極
部を用いた場合の磁場分布である。この図のように、シ
ム（２ａ）を設けることにより、磁場分布が補正され、
磁場勾配が一定となる領域、即ち良磁場領域が広くなっ
ている。
［発明が解決しようとする課題］
上記のように構成された従来の四極電磁石装置において
は、双曲線状の磁極面にシム（２ａ）を設けることによ
り良磁場領域を広げているので、磁極部（２）の形状を
決定するために計算機を使用した大掛かりな磁場解析を
必要とするという問題点があった。また、磁場分布は磁
極部（２）の工作精度に依存しており、工作誤差による
磁場分布の誤差を補正することができないという問題点
もあった。さらに、磁場強度が高くなると磁気飽和して
磁場分布が変化するので、励磁の程度により艮磁場領域
が変化するが、このような磁場分布の変化を補正できな
いという問題点もあった。
は、双曲線状の磁極面にシム（２ａ）を設けることによ
り良磁場領域を広げているので、磁極部（２）の形状を
決定するために計算機を使用した大掛かりな磁場解析を
必要とするという問題点があった。また、磁場分布は磁
極部（２）の工作精度に依存しており、工作誤差による
磁場分布の誤差を補正することができないという問題点
もあった。さらに、磁場強度が高くなると磁気飽和して
磁場分布が変化するので、励磁の程度により艮磁場領域
が変化するが、このような磁場分布の変化を補正できな
いという問題点もあった。
この発明は、上記のような問題点を解決することを課題
としてなされたものであり、工作誤差や励磁程度による
磁場分布の変化を補正することができ、また磁極部の形
状を容易に決定できる四極電磁石装置を得ることを目的
とする。
としてなされたものであり、工作誤差や励磁程度による
磁場分布の変化を補正することができ、また磁極部の形
状を容易に決定できる四極電磁石装置を得ることを目的
とする。
［課題を解決するための手段］
請求項（１）に係る発明の四極電磁石装置は、磁極部の
先端部近傍に穴を設けるとともに、磁気的特性がａｔ掻
部と興なる磁場補正部材をその穴に挿入したものである
。
先端部近傍に穴を設けるとともに、磁気的特性がａｔ掻
部と興なる磁場補正部材をその穴に挿入したものである
。
請求項（２）に係る発明の四極を磁石装！は、磁極部の
先端部に、磁場補正用のシムコイルを取り付けたもので
ある。
先端部に、磁場補正用のシムコイルを取り付けたもので
ある。
請求項（３）に係る発明の四極電磁石装置は、磁場を補
正するための磁場調整片を、隣合う磁極部間に位置調整
可能に設けたものである。
正するための磁場調整片を、隣合う磁極部間に位置調整
可能に設けたものである。
［作用〕
請求項（１）に係る発明においては、磁場補正部材を交
換したり磁場補正部材の向きを変えたりすることにより
、磁場分布を特徴する 請求項（２）に係る発明においては、シムコイルに流す
電流を調整してシムコイルに生じる磁場を調整すること
により、磁場分布を特徴する請求項（３）に係る発明に
おいては、磁場調整片の位置を調整することにより、磁
場分布を補正する。
換したり磁場補正部材の向きを変えたりすることにより
、磁場分布を特徴する 請求項（２）に係る発明においては、シムコイルに流す
電流を調整してシムコイルに生じる磁場を調整すること
により、磁場分布を特徴する請求項（３）に係る発明に
おいては、磁場調整片の位置を調整することにより、磁
場分布を補正する。
［実施例］
以下、請求項（１）に係る発明（以下、第１発明と略称
する。）の実施例を図について説明する。
する。）の実施例を図について説明する。
第１図は第１発明の第１実施例による四極電磁石装置の
要部を拡大して示す構成図であり、第７図と同−又は相
当部分には同一符号を付し、その説明を省略する。
要部を拡大して示す構成図であり、第７図と同−又は相
当部分には同一符号を付し、その説明を省略する。
図において、符号（２ｂ）は磁極部（２）の先端部の近
傍に２個ずつ設けられている穴、（４）は穴（２ｂ）に
挿入されている磁場補正部材であり、この磁場補正部材
（４）は、それぞれ磁性体と非磁性体とを交互に積層し
てなっており、これにより全体として磁気的に異方性と
なっている。
傍に２個ずつ設けられている穴、（４）は穴（２ｂ）に
挿入されている磁場補正部材であり、この磁場補正部材
（４）は、それぞれ磁性体と非磁性体とを交互に積層し
てなっており、これにより全体として磁気的に異方性と
なっている。
上記のように構成された四極電磁石装置においては、磁
気異方性を有する磁場補正部材（４）を穴（２ｂ）内で
回転することにより、穴（２ｂ）の部分における磁気抵
抗を変化させ、全体の磁場分布を変化させることができ
る。即ち、第１図に示すように、磁場補正部材（４）を
その各層が磁力線（５）に沿うようにセットすれば、磁
力線（５）は磁場補正部材（４）内を通過しやすく、こ
の部分の磁束密度は大きくなる。また、第１図の状態か
ら磁場補正部材（４）を９０°回転させ、磁力線（５）
が磁場補正部材（４）の各層を貫くようにすれば、磁力
線（５）は磁場補正部材（４）内を通過しにくくなり、
この部分の磁束密度が小さくなる。
気異方性を有する磁場補正部材（４）を穴（２ｂ）内で
回転することにより、穴（２ｂ）の部分における磁気抵
抗を変化させ、全体の磁場分布を変化させることができ
る。即ち、第１図に示すように、磁場補正部材（４）を
その各層が磁力線（５）に沿うようにセットすれば、磁
力線（５）は磁場補正部材（４）内を通過しやすく、こ
の部分の磁束密度は大きくなる。また、第１図の状態か
ら磁場補正部材（４）を９０°回転させ、磁力線（５）
が磁場補正部材（４）の各層を貫くようにすれば、磁力
線（５）は磁場補正部材（４）内を通過しにくくなり、
この部分の磁束密度が小さくなる。
このように、磁場補正部材（４）の向きを変えることに
より、部分的な磁束の増減を行うことができるため、磁
極部（２）の工作誤差などによる磁場分布の補正をする
ことができ、良磁場領域を容易に広げることができる。
より、部分的な磁束の増減を行うことができるため、磁
極部（２）の工作誤差などによる磁場分布の補正をする
ことができ、良磁場領域を容易に広げることができる。
また、磁場測定を行うことにより、励磁強度に応じた磁
場補正部材（４）の最適な向きを調べておけば、励磁程
度による磁場分布の変化に対しても補正をすることがで
き、良磁場領域を容易に広げることができる。
場補正部材（４）の最適な向きを調べておけば、励磁程
度による磁場分布の変化に対しても補正をすることがで
き、良磁場領域を容易に広げることができる。
これらにより、磁極部（２）の形状を容易に決定できる
。
。
なお、上記実施例では磁場補正部材（４）として磁性体
と非磁性体とを交互に積層することにより磁気的に異方
性を持たせたものを示したが、磁気的特性として異方性
を持つ１つの材料からなるものを用いてもよく、このよ
うな部材の向きを変えたり、部材そのものを他の材料か
らなるものに交換したりすることにより、上記実施例と
同様の効果が得られる。
と非磁性体とを交互に積層することにより磁気的に異方
性を持たせたものを示したが、磁気的特性として異方性
を持つ１つの材料からなるものを用いてもよく、このよ
うな部材の向きを変えたり、部材そのものを他の材料か
らなるものに交換したりすることにより、上記実施例と
同様の効果が得られる。
また、磁場補正部材（４）は、磁極部（２）と磁気特性
が異なるものであれば、必ずしも磁気異方性を示すもの
でなくてもよく、磁極部（２）と磁気特性が異なる材料
からなるものや、そのような複数の材料を組み合わせた
ものを用いてもよい。
が異なるものであれば、必ずしも磁気異方性を示すもの
でなくてもよく、磁極部（２）と磁気特性が異なる材料
からなるものや、そのような複数の材料を組み合わせた
ものを用いてもよい。
例えば、第２図に示すように、材ＨＡからなる円柱状の
部材に断面扇形状の切欠を設け、この切欠部分に材ｉＢ
からなる部材を取り付けてなる磁場補正部材（４）を用
いてもよい、また、第２図の材料Ｂの部分をエアギャッ
プにするなどしてもよく、かつＡ、Ｂ部分の形状は図の
形状に限定されない、また、材料Ａ、Ｈのいずれか一方
が、磁極部（２）の材料と同じであってもよく、磁場補
正部材（４）全体として磁極部（２）と磁気的特性が異
なっていれば、上記実施例のような効果が得られる。
部材に断面扇形状の切欠を設け、この切欠部分に材ｉＢ
からなる部材を取り付けてなる磁場補正部材（４）を用
いてもよい、また、第２図の材料Ｂの部分をエアギャッ
プにするなどしてもよく、かつＡ、Ｂ部分の形状は図の
形状に限定されない、また、材料Ａ、Ｈのいずれか一方
が、磁極部（２）の材料と同じであってもよく、磁場補
正部材（４）全体として磁極部（２）と磁気的特性が異
なっていれば、上記実施例のような効果が得られる。
さらに、穴（２ｂ）及び磁場補正部材（４）の形状や個
数、及び位置なども上記実施例に限定されるものではな
く、種々の変更が可能である。
数、及び位置なども上記実施例に限定されるものではな
く、種々の変更が可能である。
次に、請求項（２）に係る発明（以下、第２発明と略称
する。）の実施例を図について説明する。
する。）の実施例を図について説明する。
第３図は第２発明の第１実施例による四極電磁石装置の
要部を拡大して示す構成図であり、第７図と同−又は相
当部分には同一符号を付し、その説明を省略する。
要部を拡大して示す構成図であり、第７図と同−又は相
当部分には同一符号を付し、その説明を省略する。
図において、符号（６）は各磁極部（２）の先端部の両
角部にそれぞれ取り付けられているシムコイルである。
角部にそれぞれ取り付けられているシムコイルである。
上記のように精成された四極電磁石装置においては、シ
ムコイル（６）に電流を流すことにより、部分的に磁場
の増減を行うことができる。このため、磁極部（２）の
工作誤差などによる磁場分布の補正をすることができ、
磁場勾配の直線性の良い良磁場領域を容易に広げること
ができる。また、磁場測定を行うことにより、シムコイ
ル（６）に流す最適電流値を、励磁強度に応じて求めて
おけば、励磁程度による磁場分布の変化に対しても補正
をすることができる。これらにより、磁極部（２）の形
状を容易に決定できる。
ムコイル（６）に電流を流すことにより、部分的に磁場
の増減を行うことができる。このため、磁極部（２）の
工作誤差などによる磁場分布の補正をすることができ、
磁場勾配の直線性の良い良磁場領域を容易に広げること
ができる。また、磁場測定を行うことにより、シムコイ
ル（６）に流す最適電流値を、励磁強度に応じて求めて
おけば、励磁程度による磁場分布の変化に対しても補正
をすることができる。これらにより、磁極部（２）の形
状を容易に決定できる。
なお、シムコイル（６）の個数や配置は上記実施例に限
定されるものではなく１例えば第４図に示すように、シ
ムコイル（６）のターン数を増して、シムコイル（６）
を分散させても同様の効果が得られる。
定されるものではなく１例えば第４図に示すように、シ
ムコイル（６）のターン数を増して、シムコイル（６）
を分散させても同様の効果が得られる。
次に、請求項（３）に係る発明（以下、第３発明と略称
する。）の実施例を図について説明する。
する。）の実施例を図について説明する。
第５図は第３発明の一実施例による四極電磁石装置を示
す構成図、第６図は第５図の要部を拡大して示す構成図
であり、第７図と同−又は相当部分には同一符号を付し
、その説明を省略する。
す構成図、第６図は第５図の要部を拡大して示す構成図
であり、第７図と同−又は相当部分には同一符号を付し
、その説明を省略する。
図において、符号（１１）はヨーク（１）を貫通して各
磁極部（２）間に挿入されているロッドであり、このロ
ッド（１１）は、ヨーク（１）の外周部に設けられた位
！！ＩＩ整機構（１２）によりヨーク（１）の内側への
挿入量を調整可能になっている。
磁極部（２）間に挿入されているロッドであり、このロ
ッド（１１）は、ヨーク（１）の外周部に設けられた位
！！ＩＩ整機構（１２）によりヨーク（１）の内側への
挿入量を調整可能になっている。
（１３）はロッド（１１）の先端部に取り付けられてい
る非磁性体製のホルダ、（１４）はホルダ（１３）に保
持されている磁性体製の磁場調整片、（１５）は各磁極
部（２）の先端部の両角部に設けられているスライド台
であり、このスライド台（１５）に沿ってホルダ（１３
）が摺動する。
る非磁性体製のホルダ、（１４）はホルダ（１３）に保
持されている磁性体製の磁場調整片、（１５）は各磁極
部（２）の先端部の両角部に設けられているスライド台
であり、このスライド台（１５）に沿ってホルダ（１３
）が摺動する。
上記のように構成された四極電磁石装置においては、磁
極部（２）間に挿入された磁場調整片（１４）が、通過
する磁力線の磁路の磁気抵抗を減らすように働く、この
ため、位置調整機構（１２）によりロッド（１１）の挿
入量を調整して、磁場調整片（１４）の位置を中心に近
付けたり遠ざけたりすることにより、第９図に示した磁
場分布の補正を行うことができる。つまり、磁場調整片
（１４）の移動は、第８図のシム（２ａ）の作用を可変
にする効果がある。
極部（２）間に挿入された磁場調整片（１４）が、通過
する磁力線の磁路の磁気抵抗を減らすように働く、この
ため、位置調整機構（１２）によりロッド（１１）の挿
入量を調整して、磁場調整片（１４）の位置を中心に近
付けたり遠ざけたりすることにより、第９図に示した磁
場分布の補正を行うことができる。つまり、磁場調整片
（１４）の移動は、第８図のシム（２ａ）の作用を可変
にする効果がある。
このように、磁場調整片（１４）の位置を調整すること
により、部分的に磁場の増減を行うことができ、磁極部
（２）の工作誤差などによる磁場分布の補正をすること
ができ、従って良磁場領域を容易に広げることができる
。また、磁場測定を行うことにより、磁場調整片（１４
）の最適位置を、励磁強度に応じて求めておけば、励磁
程度による磁場分布の変化に対しても補正をすることが
でき、これらにより磁極部（２）の形状決定が簡単にな
る。
により、部分的に磁場の増減を行うことができ、磁極部
（２）の工作誤差などによる磁場分布の補正をすること
ができ、従って良磁場領域を容易に広げることができる
。また、磁場測定を行うことにより、磁場調整片（１４
）の最適位置を、励磁強度に応じて求めておけば、励磁
程度による磁場分布の変化に対しても補正をすることが
でき、これらにより磁極部（２）の形状決定が簡単にな
る。
なお、上記実施例では磁場調整片（１４）として磁性体
製のものを示したが、例えば磁気的に異方性を持つもの
を利用するなどしてもよい。
製のものを示したが、例えば磁気的に異方性を持つもの
を利用するなどしてもよい。
［発明の効果］
以上説明したように、請求項（１）に係る発明の四極電
磁石装置は、磁極部の先端部近傍に穴を設けるとともに
、磁気的特性が磁極部と異なる磁場補正部材をその穴に
挿入したので、磁場補正部材を交換したり、磁場補正部
材の向きを変えたりすることにより、工作誤差や励磁程
度による磁場分布の変化を補正することができ、良磁場
領域を容易に広げることができ、また磁極部の形状を容
易に決定できるなどの効果を奏する。
磁石装置は、磁極部の先端部近傍に穴を設けるとともに
、磁気的特性が磁極部と異なる磁場補正部材をその穴に
挿入したので、磁場補正部材を交換したり、磁場補正部
材の向きを変えたりすることにより、工作誤差や励磁程
度による磁場分布の変化を補正することができ、良磁場
領域を容易に広げることができ、また磁極部の形状を容
易に決定できるなどの効果を奏する。
また、ｉ＊請求項２）に係る発明の四極電磁石装置は、
磁極部の先端部に、磁場補正用のシムコイルを取り付け
たので、シムコイルに流す電流を調整してシムコイルに
生じる磁場を調整することにより全体の磁場分布を補正
することができ、請求項（１）に係る発明と同様の効果
を奏する。
磁極部の先端部に、磁場補正用のシムコイルを取り付け
たので、シムコイルに流す電流を調整してシムコイルに
生じる磁場を調整することにより全体の磁場分布を補正
することができ、請求項（１）に係る発明と同様の効果
を奏する。
さらに、請求項（３）に係る発明の四極を磁石装置は、
磁場を補正するための磁場！ｌｌｌｌ音片隣合う磁極部
間に位置調整可能に設けたので２磁場調整片の位置を調
整することにより磁場分布を調整る。
磁場を補正するための磁場！ｌｌｌｌ音片隣合う磁極部
間に位置調整可能に設けたので２磁場調整片の位置を調
整することにより磁場分布を調整る。
第１図は第１発明の第１実施例を示す構成図、第２図は
第１発明の第２実施例を示ず構成図、第３図は第２発明
の第１実施例を示す構成図、第４図は第２発明の第２実
施例を示す構成図、第５図は第３発明の一実施例を示す
構成図、第６図は第５図の要部を拡大して示す構成図、
第７図は従来例を示す構成図、第８図は従来装置の要部
を拡大して示す構成図、第９図は第８Ｉ２！のＸ軸上の
磁場分布を示す中心点Ｏからの距離と磁場強度との関係
図である。 図において、（２）は磁極部、（２ｂ）は穴、（４）は
磁場補正部材、（６）はシムコイル、（１４）は磁場調
整片である。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
第１発明の第２実施例を示ず構成図、第３図は第２発明
の第１実施例を示す構成図、第４図は第２発明の第２実
施例を示す構成図、第５図は第３発明の一実施例を示す
構成図、第６図は第５図の要部を拡大して示す構成図、
第７図は従来例を示す構成図、第８図は従来装置の要部
を拡大して示す構成図、第９図は第８Ｉ２！のＸ軸上の
磁場分布を示す中心点Ｏからの距離と磁場強度との関係
図である。 図において、（２）は磁極部、（２ｂ）は穴、（４）は
磁場補正部材、（６）はシムコイル、（１４）は磁場調
整片である。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (3)
- （１）４個の磁極部を有し、荷電粒子ビームの集束・発
散を行う四極電磁石装置において、前記磁極部の先端部
近傍に穴が設けられているとともに、磁気的特性が前記
磁極部と異なっている磁場補正部材が前記穴に挿入され
ていることを特徴とする四極電磁石装置。 - （２）４個の磁極部を有し、荷電粒子ビームの集束・発
散を行う四極電磁石装置において、前記磁極部の先端部
に磁場補正用のシムコイルが取り付けられていることを
特徴とする四極電磁石装置。 - （３）４個の磁極部を有し、荷電粒子ビームの集束・発
散を行う四極電磁石装置において、磁場を補正するため
の磁場調整片が、隣合う前記磁極部の間に位置調整可能
に設けられていることを特徴とする四極電磁石装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2155356A JP3068630B2 (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 四極電磁石装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2155356A JP3068630B2 (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 四極電磁石装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0448540A true JPH0448540A (ja) | 1992-02-18 |
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| JP (1) | JP3068630B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116417216A (zh) * | 2021-12-31 | 2023-07-11 | 上海三环磁性材料有限公司 | 一种穿过不同界面的磁场方向修正装置及方法 |
-
1990
- 1990-06-15 JP JP2155356A patent/JP3068630B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116417216A (zh) * | 2021-12-31 | 2023-07-11 | 上海三环磁性材料有限公司 | 一种穿过不同界面的磁场方向修正装置及方法 |
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| Publication number | Publication date |
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| JP3068630B2 (ja) | 2000-07-24 |
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