JPH0448871Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本考案は、洗浄液を用いてプリント基板等を洗
浄する洗浄装置に関する。

「従来の技術」 この種の洗浄液を用いた洗浄装置では、複数の
洗浄槽を備えた多槽式洗浄装置がよく用いられ
る。特に、溶剤を用いた洗浄装置では、浸漬洗浄
と蒸気洗浄とを併用することが有効であり、多槽
式のものが多く用いられる。これら多槽式洗浄装
置では、洗浄液を所定の比率で第１および第２の
洗浄槽に分配したい場合がある。

従来の装置では、第１１図に示す様に、洗浄液
の分配槽１０１内に堰１０２と仕切板１０３とを
設け、仕切板１０３により区分けされる堰１０２
の開口比率により洗浄液を二つの洗浄槽１０４，
１０５に分配していた。しかし、洗浄装置が床面
に対し正確に水平に据付られないと、分配槽１０
１が傾いてしまい、堰１０２の開口比率に比例し
て洗浄液が落下しないため、洗浄液が流入する洗
浄槽が一方に偏つてしまうという問題点があつ
た。

「考案が解決しようとする問題点」 本考案は上記の問題点を解決するためなされた
ものであり、洗浄装置の据付状態が水平でなくて
も、洗浄液を２個の洗浄槽に所定の比率で精度良
く分配することができる洗浄装置を提供すること
を目的とする。

「問題点を解決するための手段」 このため本考案では、分配槽に貯溜する洗浄液
をその分配槽より液面が低い第１洗浄槽および該
第１洗浄槽より更に液面が低い第２洗浄槽へ分配
するために、前記分配槽から第１洗浄槽に向けて
設けられた第１流路および該流路から第２洗浄槽
に分岐する第２流路と、前記第２流路に設けられ
た弁と、前記第２洗浄槽に設けられ、その第２洗
浄槽内における洗浄液の低液面および高液面を検
出する検出手段と、前記検出手段の検出に基づい
て、前記第２洗浄槽内の洗浄液の液面が前記低液
面よりも低下したときに前記弁を開弁して第２洗
浄槽に洗浄液を供給すると共に、その第２洗浄槽
内の洗浄液の液面が高液面よりも上昇したのち低
液面よりも低下するまでは前記第１洗浄槽へ洗浄
液を供給するように前記弁を閉弁する制御手段
と、を備えたことを特徴とする洗浄装置が提供さ
れる。

「作用」 そして、本考案の上記構成によれば、第２洗浄
槽内の洗浄液の液面が低液面より低下したときに
は弁が開弁することにより分配槽内の洗浄液が第
２洗浄槽に供給開始される。それに伴つて第２洗
浄槽内の液面が上昇し、その液面が高液面より上
昇すると弁が閉弁することにより分配槽内の洗浄
液は第１洗浄槽へ切換供給される。そして、前記
第２洗浄槽の洗浄液が蒸発等することにより液面
が再び低液面より低下すると弁が再び開弁する。
このようにして、分配槽内の洗浄液が１個の弁の
開閉による簡単な構成で第１洗浄槽と第２洗浄槽
とに切換え供給されるとともに両槽の液面が一定
に制御される。また、分配槽から導出される第１
の流路が１本であるので分配槽が傾いて据付けら
れている場合にも第１洗浄槽および第２洗浄槽へ
流入する洗浄液の量が一方の洗浄槽に偏ることが
なく、洗浄液が所定の比率で精度良く分配され
る。

「実施例」 本考案の実施例について図面に従つて具体的に
説明する。

第１図は本考案に係る洗浄装置を示す正面図、
第２図は平面図、第３図は側面図である。

洗浄装置１は、下部に加熱器２を備えた蒸留槽
３、超音波振動子４を備えた超音波槽５、下部に
冷却コイル６を備えたすすぎ槽７、下部に加熱器
８を備えた蒸気槽９の４つの洗浄槽が順次隣接し
て設けられている。フロンを基剤とする溶剤液１
０が満される４つの洗浄槽３，５，７，９の上部
は共通の側壁１１で囲われ、上方が開放された共
通の洗浄室１２を構成している。その側壁１１の
内周面に沿つて、凝縮用冷却コイル１３が配設さ
れている。冷却コイル６及び凝縮用冷却コイル１
３内には冷凍機１４で冷却された冷却水が通され
る。凝縮用冷却コイル１３の下方には、凝縮して
滴下する溶剤液を受けるための受樋１５が配設さ
れている。受樋１５で集められた凝縮溶剤液は水
分離器１６に送られ、溶剤液中に混入した水分を
分離除去された後、分配槽１７に送られ、分配槽
１７からすすぎ槽７及び蒸気槽９に分配して送ら
れる。そして、すすぎ槽７を溢流した溶剤は隣接
する超音波槽５に、超音波槽５を溢流した溶剤は
蒸留槽３にそれぞれ流入するように、溶剤流路が
設けられている。

隣接する蒸留槽３と超音波槽５との間に、間仕
切板２１が直立して設けられている。間仕切板２
１は、凝縮用冷却コイル１３の中程の高さまで達
し、その両側方には凝縮用冷却コイル１３及び受
樋１５が挿通できるように切欠きが設けられてい
る。間仕切板２１により洗浄室１２は、凝縮用冷
却コイル１３の中程より下方において、蒸留槽３
の部分と他の三槽５，７，９の部分との二つに分
離されることになる。間仕切板２１により分離さ
れた結果、蒸留槽３で発生した蒸気と、超音波槽
５、すすぎ槽７及び蒸気槽９で発生した蒸気と
で、それぞれ別個に蒸気ゾーンを有することにな
る。

被洗浄物は、最初に蒸留槽３に搬入され、蒸気
洗浄を受ける。次いで、超音波槽５に浸漬されて
超音波洗浄され、大部分の汚れを除去される。次
に、すすぎ槽７に浸漬され、すすぎ洗浄をされる
と共に、冷たいきれいな溶剤液１０で冷却され
る。これは、次の蒸気洗浄の効果を高めるためで
ある。そして、最後に、蒸気槽９で蒸気洗浄によ
る洗浄仕上げのリンスと乾燥が行なわれ、洗浄作
業を完了する。すすぎ槽７及び超音波槽５の溶剤
液１０は蒸気留糟３に集められ、蒸留されて循環
し、汚れを蒸留槽３の溶剤液１０に集めるように
される。

汚れが集められ、また、被洗浄物が最初に搬入
される蒸留槽３では、汚れた溶剤液１０が加熱さ
れるため溶剤ばかりではなく、汚れの成分も一緒
に気化され溶剤蒸気に混入する。蒸留槽３で発生
する汚れた蒸気は、間仕切板２１により阻止さ
れ、隣接する超音波槽５の方に流れ込むことがな
い。このため、蒸気槽９、すすぎ槽７の溶剤蒸気
の汚染を防止し、すすぎ槽７、蒸気槽９の溶剤液
１０を清澄に維持することができる。

蒸気洗浄が行なわれる蒸留槽３及び蒸気槽９に
は、それぞれ溶剤液１０の液面より上方に飛沫防
止板２２，２３が設けられ、被洗浄物から滴下す
る溶剤液が直接洗浄槽３，９内の溶剤液１０に当
り飛散しないようにされている。また、浸漬洗浄
の行なわれる超音波槽５及びすすぎ槽７にはそれ
ぞれ溶剤液１０中の底付近にバスケツト受台２
４，２５が設けられ、被洗浄物を載置できるよう
にされている。

第４図は分配槽１７に集められた凝縮溶剤液を
すすぎ槽７または蒸気槽９に分配する溶剤流路を
示す模式図である。

分配槽１７からすすぎ槽７に傾斜した第１の配
管３１が設けられ、分配槽１７を溢流した溶剤液
１０がすすぎ槽７に流入するようにされている。
第１の配管３１の途中には分岐管３２により第２
の配管３３が下方に向けて接続されている。第２
の配管３３は途中に電磁弁３４を介して溶剤液面
の低い蒸気槽９に連通している。蒸気槽９には２
つのフロートスイツチ３５，３６が設けられ、蒸
気槽９内の溶剤液１０の液面を検出する。各フロ
ートスイツチ３５，３６は電磁弁３４を開閉する
制御回路３７に接続されている。制御回路３７
は、より低い液面を検出する第１のフロートスイ
ツチ３５からの信号により電磁弁３４を開き、よ
り高い液面を検出する第２のフロートスイツチ３
６からの信号により電磁弁３４を閉じるように回
路構成されている。

蒸気槽９の溶剤液面が第１のフロートスイツチ
３５より低下すると電磁弁３４が開かれ、分配槽
１７を溢流した溶剤液はすべて液面の低い蒸気槽
９に流入する。蒸気槽９の液面が第２ののフロー
トスイツチ３６まで上昇すると、電磁弁３４が閉
じられ、次に蒸気槽９の液面が第１のフロートス
イツチ３５まで低下するまでの間、分配槽１７を
溢流した溶剤液はすべてすすぎ槽７に流入する。
このように、蒸気槽９内の溶剤液１０の量に応じ
て溶剤流路が選択され、分配槽１７を溢流した溶
剤液が間欠的に２つの洗浄槽７，９に分配され
る。このため、洗浄装置本体１の据付状態が水平
でなくても、分配槽１７からの溶剤液を２つの洗
浄槽７，９に適確に分配することができるという
利点がある。

第２図及び第３図に示す様に、洗浄装置本体１
の前面カバー４１と洗浄槽５，７，９との間に
は、溶剤液１０を過するするフイルタ４２，４
３，４４が配設され、洗浄槽５，７，９と裏面カ
バー４９との間にはポンプ４５，４６，４７が配
設されている。

各洗浄槽３，５，７，９の溶剤液１０は、それ
ぞれポンプ４５，４６，４７でもつてフイルタ４
２，４３，４４を経由して循環過され、各溶剤
液１０中の固形物及び混濁物が除去される。フイ
ルタ４２，４３，４４は円筒形の使い捨てカート
リツヂタイプのフイルタエレメントが使用され
る。

第５図はフイルタ４２，４３，４４の支持構造
を示す断面図である。円筒状のフイルタエレメン
ト５１が収容されるフイルタハウジング５２は略
四角柱形状をなし、その底部の一辺が蝶番５３に
より下方の本体フレーム５４に取付られ、揺動自
在である。本体フレーム５４には板材を折曲した
傾斜ストツパ５５が固定され、フイルタハウジン
グ５２の底部に当接してフイルタハウジング５２
が所定角度以上に傾斜することを防止している。
フイルタハウジング５２は固定金具５６により直
立した姿勢で上方の本体フレーム５７に固定され
る。フイルタハウジング５２内に装着される円筒
状のフイルタエレメント５１は、蝶ねじ５８，５
９より締着される蓋６０によるパツキング６１を
介して軸方向に押圧され密着される。フイルタハ
ウジング５２側面の液入口６３及び底面の液出口
６４は、それぞれ図示しないフレキシブル配管に
より固定配管に接続され、配管した状態のままで
フイルタハウジング５２を傾斜させることが可能
である。そして、フイルタハウジング５２をスト
ツパ５５に当接するまで傾斜させたときに、フイ
ルタハウジング５２の頭部が各洗浄槽５，７，９
の溶剤液１０の液面より上になるようにフイルタ
ハウジング５２の取付高さが定められている。

フイルタハウジング５２の支持構造が上記のよ
うに構成されているから、フイルタエレメント５
１を交換する際には、前面カバー４１を開き、固
定金具５６を緩めてフイルタハウジング５２を前
方に傾斜させるだけで、上方の配管６５等の障害
物に邪魔されることなく、蓋６０を外しフイルタ
エレメント５１の交換作業を行うことができる。
また、各フイルタハウジング５２の頭部が各洗浄
槽５，７，９の溶剤液面より上にあるから、溶剤
１０を抜くことなく、フイルタ交換作業を行うこ
とができるという利点がある。

洗浄装置本体１の前面カバー４１右方には、第
１図に示す様に、主操作パネル７１が設けられ、
メインスイツチなど各種の操作スイツチ類及び警
報ランプ類が配設されている。一方、前面カバー
４１の中央部で超音波洗浄槽５の近くには、小さ
な補助操作パネル７２が設けられ、超音波洗浄ス
イツチ７３と超音波洗浄タイマ７４が配設されて
いる。超音波洗浄スイツチ７３及び超音波洗浄タ
イマ７４は、超音波洗浄の開始を指示したり、超
音波洗浄時間の設定をするのに用いられるもので
あり、洗浄作業中に頻繁に操作されるものであ
る。

第６図は第１図のＡ−Ａ線断面図である。補助
操作パネル７２は前面カバー４１から奥に斜めに
入り込むように設けられ、補助操作パネル７２の
面が斜め上方を向くと共に、補助操作パネル７２
に取付られた超音波洗浄スイツチ７３及び超音波
洗浄タイマ７４が装置本体１の前面カバー４から
突出しないようにされている。このため、前面カ
バー４１に面して洗浄作業を行う作業者にとつて
超音波洗浄スイツチ７３及び超音波洗浄タイマ７
４の視認性および操作性が非常によくなり、ま
た、洗浄作業中に身体の一部がスイツチ７３，タ
イマ７４等に触れ誤操作をしてしまう虞れがない
という利点がある。

第７図は、洗浄槽蓋を閉じた状態を示す洗浄装
置１の平面図、第８図は第７図のＢ−Ｂ線断面
図、第９図は洗浄槽蓋を開いた状態を示す断面図
である。

洗浄槽蓋８１は、４つの洗浄槽３，５，７，９
上方の共通の開口を覆うものであり、洗浄作業を
行なわないときに気化した溶剤１０が流出した
り、異物が洗浄槽内に混入するのを防止するため
用いられる。

洗浄槽蓋８１は、前面カバー４１側のやや幅広
な前方蓋材８２と、裏面カバー４９側のやや幅狭
な後方蓋材８３との２枚の部材からなり、２枚の
蓋材８２，８３は連結蝶番８４により中折れ可能
に連結されている。後方蓋材８３は、洗浄槽５，
７，９側縁の奥側テーブル部８５上に設けられた
支持部材８６に、支持蝶番８７により揺動自在に
取付られている。そして、前方蓋材８２には２枚
の蓋材８２，８３からなる洗浄槽蓋８１を開閉す
るための把手８８が取付られている。

洗浄槽蓋８１を閉じたときは、第８図に示す様
に、支持蝶番８７が閉じ、連結蝶番８４が開いた
状態で２枚の蓋材８２，８３は一枚の板の如くに
なり、前方蓋材８２の端部が洗浄槽側縁の前側テ
ーブル部８９に支持されて洗浄槽３，５，７，９
の開口を閉じる。洗浄槽蓋８１の開閉は作業者が
把手８８を持ち上げることにより行う。開閉途中
の状態を第８図に想像線で示す。

洗浄槽蓋８１を開いたときは、第９図に示す様
に、支持蝶番８７が約180°開き、連結蝶番８４が
閉じられた状態になり、２枚の蓋材８２，８３は
中折れして折りたたまれ、奥側テーブル部８５上
に載置される。このとき、前方蓋部材８２が後方
蓋部材８３よりやや幅広に形成されているため、
前方蓋部材８２が後方蓋部材８３及び支持部材８
７を覆い隠す。

本実施例は、洗浄槽蓋８１が上記の様に中折れ
式に構成されているため、洗浄槽蓋８１の開閉が
極く容易になるという利点がある。従来の洗浄装
置は単体の蓋を用いており、洗浄作業を行う際は
蓋を取り外して装置本体の近くに置いていたが、
本実施例によれば蓋を置く場所が不要なため省ス
ペースが実現でき、また、重い蓋を持ち運ぶ必要
がないため労力が削減できる。また、洗浄槽蓋８
１を開いたときに前方蓋部材８２が後方蓋部材８
３を覆い隠すため、蓋部材８２，８３の裏面にご
み、ほこり等が付着することがなく、清浄に維持
することができ、洗浄槽蓋８１を閉じる際にごみ
等が洗浄槽３，５，９内に落下するおそれがない
という利点がある。また、開いた際に前方蓋部材
８２が取付蝶番８７を隠すため美観上好ましいと
いう利点もある。

本実施例では、操作に必要な部品、日常点検に
必要な部品が洗浄装置本体１の前面カバー４１側
に集められている。すなわち、第１図乃至第３図
に示す様に、メインスイツチ、ポンプスイツチ等
が配置される主操作パネル７１、超音波洗浄スイ
ツチ７３、超音波洗浄タイマ７４が配置される補
助操作パネル７２は、前面カバー４１に配設さ
れ、各種のフイルタ４２，４３，４４及び図示し
ないストレーナは前面カバー４１と洗浄槽５，
７，９の間に配設され前面カバー４１を開くだけ
で、フイルタエレメント５１の取換え等の保守点
検が行なえる。また、蒸留槽３蒸気槽９の加熱器
２，８は、前面カバー４１側から交換できるよう
に配置されている。この他にも、フロートスイツ
チ３５，３６、及び洗浄槽内の溶剤液１０排出用
の図示しないドレンバルブ等も前面カバー４１側
に配置され集められている。

このように、保守点検を要する部品、操作を要
するスイツチ類が洗浄装置１の前面に集められて
いるため、日常の保守点検が容易になるという利
点がある。

以上説明した実施例では、分配槽１７に集めら
れた凝縮溶剤液１０を２つの洗浄槽７，９に分配
するのに、電磁弁３４を用い、一方の洗浄槽９の
溶剤液面をフロート３５，３６により検出し電磁
弁３４を制御しているが、機械的な制御弁を用い
ることも可能である。たとえば、第１０図に示す
ものは、分配槽９１から溶剤液が分配される二つ
の洗浄槽９２，９３のうち、より低い液面に制御
される洗浄槽９２に連通する配管９４にフロート
弁９５を設け、該洗浄槽９２の溶剤液面９６の上
下動に従つて球状のフロートスイツチ弁体９７を
上下させフロート弁９５を開閉するものである。

なお、前記実施例においては、洗浄液としてフ
ロン等の溶剤を用いることとしたが、溶剤の代り
に中性洗剤等の洗剤を用いてもよい。

「考案の効果」 以上説明したように本考案は上記の構成を有
し、より低い液面の第２洗浄槽内の洗浄液の液面
が低液面より低下したときには弁が開弁すること
により分配槽内の洗浄液が第２洗浄槽内の液面が
上昇し、その液面が高液面より上昇したときに弁
が開弁することにより分配槽内の洗浄液は第１洗
浄槽に切換供給される。それにより、分配槽の洗
浄液は１個の弁の開閉による簡単な構成で第１お
よび第２洗浄槽に分配することができると共に、
分配槽が床面に水平に据付けられておらず傾斜し
ている場合でも分配槽から導出される第１流路が
１本であることにより第１洗浄槽および第２洗浄
槽へ流入する洗浄液の量が一方の洗浄槽に偏よる
ことがなく、洗浄液を２個の洗浄槽に所定の比率
で精度よく分配することができるなどの優れた効
果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第１０図は本考案の実施例を示し、
第１図は洗浄装置の正面図、第２図は平面図、第
３図は側面図、第４図は分配槽からの溶剤流路を
示す模式図、第５図はフイルタの取付構造を示す
断面図、第６図は補助操作パネルを示す断面図、
第７図は洗浄槽蓋を示す平面図、第８図は洗浄槽
蓋を閉じた状態を示す断面図、第９図は開いた状
態を示す断面図、第１０図は第２の実施例を示す
模式図であり、第１１図は従来の装置を示す斜視
図である。 １……洗浄装置、３，５，７，９……洗浄槽、
１７……分配槽、３１，３３……配管（溶剤流
路）、３４……電磁弁、３５，３６……フロート
スイツチ、３７……制御回路、４２，４３，４４
……フイルタ、７２……補助操作パネル、７３…
…超音波洗浄スイツチ、８１……洗浄槽蓋、９１
……分配槽、９２，９３……洗浄槽、９４……配
管、９５……フロート弁、９６……溶剤液面、９
７……フロート弁体。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 分配槽に貯溜する洗浄液をその分配槽より液面
   が低い第１洗浄槽および該第１洗浄槽より更に液
   面が低い第２洗浄槽へ分配するために、前記分配
   槽から第１洗浄槽に向けて設けられた第１流路お
   よび該第１流路から第２洗浄槽に分岐する第２流
   路と、 前記第２流路に設けられた弁と、 前記第２洗浄槽に設けられ、その第２洗浄槽内
   における洗浄液の低液面および高液面を検出する
   検出手段と、 前記検出手段の検出に基づいて、前記第２洗浄
   槽内の洗浄液の液面が前記低液面よりも低下した
   ときに前記弁を開弁して第２洗浄槽に洗浄液を供
   給すると共に、その第２洗浄槽内の洗浄液の液面
   が高液面よりも上昇したのち低液面よりも低下す
   るまでは前記第１洗浄槽へ洗浄液を供給するよう
   に前記弁を閉弁する制御手段と、 を備えたことを特徴とする洗浄装置。