JPH0449281B2 - - Google Patents

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JPH0449281B2
JPH0449281B2 JP56166536A JP16653681A JPH0449281B2 JP H0449281 B2 JPH0449281 B2 JP H0449281B2 JP 56166536 A JP56166536 A JP 56166536A JP 16653681 A JP16653681 A JP 16653681A JP H0449281 B2 JPH0449281 B2 JP H0449281B2
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phase
network
integrated
integrated circuit
antenna elements
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Jei Sutotsukuton Ronarudo
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Ball Corp
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    • H01Q1/38—Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith formed by a conductive layer on an insulating support
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/01—Manufacture or treatment
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    • H10D84/05—Manufacture or treatment characterised by using material-based technologies using Group III-V technology

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  • Junction Field-Effect Transistors (AREA)
  • Waveguide Aerials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Support Of Aerials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はマイクロ波のアンテナ装置に関する。
［従来の技術］ ミリ波及びサブミリ波のマイクロ波アンテナ装
置は、従来から、導波部品を組み立てて（或いは
結合して）製造されている。即ち、個々の回路或
いは部品を開発した後、これらを結合して所望の
システムを構成する。つまり、個々に開発したシ
ステム・ブロツクを組み立ててマイクロ波アンテ
ナ装置を得るのが従来の手段であつた。
しかし、上記の“組立て”によるマイクロ波シ
ステムには種々の問題及び欠点がある。欠点の一
例は、個々の部品を組み立てることによつて生ず
る高周波制限である。個々の部品の寸法及び部品
間隔は、極めて短い波長に対しては比例しないの
で、動作効率を制限する制御不可能な寄生リアク
タンスの発生原因となる。導波管等を用いる従来
のマイクロ波システムの他の問題点は、大型で重
量があり且つ製作費が高いことである。更に、設
計上では簡単な変更であつても、装置の変更に費
用がかかるという問題もある。
ところで、電子回路技術の発達によつて、プリ
ント・ボード（印刷基板）上に設けたダイオー
ド、トランジスタ、コンデンサ及び抵抗器等の所
謂デイスクリート部品の利用から、現在ではモノ
リシツクの線形及びデジタル集積回路の利用に至
つている。この傾向は、特定機能を目的とした集
積回路を、電子カリキユレータ、時計、マイクロ
コンピユータ等の多目的或いは多機能を有する規
模の大きい集積回路に組み込むことによつて更に
発展し続けている。
電子回路技術に於ける上記の発展と並行して、
マイクロ波回路技術の分野でも同様の傾向が見ら
れる。ガリウムひ素（GaAs）電界効果型トラン
ジスタ（FET）が開発され、同様に、モノリシ
ツク及びハイブリツド回路技術を用い、発振器、
混合器（ミキサ）、増幅器、検波器、フイルター
等のマイクロ波集積回路部品が開発されている。
マイクロ・ストリツプ放射器（或いは放射体、ラ
ジエータ）の開発によつて、高効率のモノリシツ
ク・マイクロ・ストリツプ・フエーズドアレイが
開発された。
アンテナ・システムをマイクロコンピユータで
制御することによつて得られる動作効率及び多用
途化に関する利点は、これまでも認識され、種々
のマルチ・モード・システムが提案されている。
これらのシステムでは、プリント回路基板上に設
けた集積回路からなる複数の回路ブロツクを個別
にパツケージし、多心ケーブルを用いてアンテナ
に接続している。この構成が、従来のマイクロ波
用アンテナ装置の技術水準と言うことができる。
［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、ミリ波及びサブミリ波のマイクロ波
用アンテナ装置の構成に関して、従来の「組立
て」技術に付随する問題及び欠点に鑑みてなされ
たものであり、本発明の目的は、能動及び受動
（或いは何れか一方の）RF回路素子、マイクロプ
ロセツサ制御器、デジタル制御回路を含むシステ
ム構成素子の総てを、１個のモノリシツク基板に
設けた光領域外（non−optical）のマイクロ波シ
ステム、即ちＸバンド周波数及びこれ以上の周波
数で使用するマイクロストリツプアンテナ装置を
提供することである。
本明細書で説明するアンテナ装置においては、
能動マイクロ波回路及びデジタル回路を共通基板
上に集積することが可能である。このような回路
が共通基板上に集積されて回路網を構成している
アンテナ装置を、本明細書においては集積回路ネ
ツトワークアンテナ装置という。
マイクロ波アンテナをモノリシツク技術で構成
することによつて、小型、軽量、高信頼性という
利点がある。更に、製法プロセスを自動化でき且
つ大量生産が可能なので、複雑な設計を必要とし
ても、従来の製法及び組立て技術と比較して再現
性が良好でコスト効率を高くすることができる。
本発明のアンテナ装置においては、構成素子の寸
法及び分離間隔を周波数に比例させることが可能
なので、寄生リアクタンスを減ずることができ、
したがつて動作効率を向上させることが可能であ
る。又、再現性が良好なので、所望の動作特性に
合わせるための回路調整も少なくて済むという利
点がある。
要するに、本発明に係るアンテナ装置は、マイ
クロ波以下の周波数で用いられる半導体技術及び
集積回路製法技術を、集積化されたモノリシツク
電磁システム技術と巧みに融合したものである。
本発明は、デジタル及び線形集積回路、能動及
び受動マイクロ波半導体装置、マイクロ波集積回
路及びモノリシツク・アンテナ・システムに関連
する物質及び処理工程等の共通性を認識してなさ
れ、更に、これらの回路及び装置等のモノリシツ
ク・システムへの集積化は、技術的利点があり且
つ斬新であるという認識の上になされたものであ
る。
［課題を解決するための手段］ 本発明のアンテナ装置は、基本的な手段とし
て、約108オーム・センチメートルの抵抗率と約
12.6の誘電率を有するガリウムひ素の基板と、こ
の基板上に集積されて電磁波を送信または受信す
るように配置された金属層からなるマイクロスト
リツプアンテナ素子とを備えたものである。
［実施例］ 以下、添付の図面を参照して本発明の好適実施
例を説明する。第１図は、本発明に係るアンテナ
装置の第１実施例のブロツク図である。第１図に
示す実施例は、４素子のマイクロコンピユータ制
御のフエーズドアレイを有し、このフエーズドア
レイは受信アレイとして形成されている。尚、こ
の受信アレイに対応する送信アレイは第２図に示
す第２実施例で説明する。第１図に於いて、全素
子は共通基板３０に集積されている。フエーズド
アレイは、リードオンリーメモリ（ROM）３４
に収納されているプログラムに従つて動作するマ
イクロコンピユータ（或いはマイクロプロセツ
サ）３２によつて制御される。ROM３４内のプ
ログラムは、フエーズドアレイによつて受信され
るビームパターンを決定する。ランダムアクセス
メモリ（RAM）３６は、プログラム実行期間中
のマイクロコンピユータの演算用揮発性メモリと
して作用する。マイクロコンピユータ３２は、
ROM３４内のプログラムに基づいて、４個の移
相素子（或いは移相器）３８，４０，４２及び４
４の夫々に適した位相設定を演算して所望の走査
パターンを決定する。尚、上記の移相素子３８〜
４４は、夫々４個のアレイ素子４６，４８，５
０，５２の移相を制御する。
上述したように、第１図の実施例は受信機とし
て構成されている。アレイ素子４６，４８，５
０，５２の出力信号は、アレイ素子４６〜５２に
夫々接続した移相器３８〜４４を介して夫々低雑
音増幅器５４，５６，５８，６０に印加されて増
幅される。増幅器５４，５６，５８，６０の出力
はフイードライン６２によつて加算されて受信部
或いは検出器６４に入力される。受信部或いは検
出器６４からの出力ベース・バンド信号は、マイ
クロコンピユータ３２によつて制御される信号プ
ロセツサ６８に印加される。
マイクロコンピユータ３２は、アドレス・デコ
ーダ７０及びラツチ回路７２，７４，７６，７８
を介して、夫々移相器３８，４０，４２，４４を
制御する。マイクロコンピユータ３２から出力さ
れるデータは、アドレス・デコーダ７０に接続し
たアドレス・バス８０に直列に送出される。この
直列データはラツチ回路７２，７４，７６，７８
でラツチされ、１個のクロツク・パルスによつて
夫々駆動回路（ドライバ）８２，８４，８６，８
８に転送される。このように、移相器３８，４
０，４２，４４の夫々の位相は同時にシフトされ
る。
同様に、低雑音増幅器５４，５６，５８，６０
の利得は、夫々、アドレス・デコーダ７０、ラツ
チ回路９０，９２，９４，９６、及びデジタル・
アナログ変換器（DAC）１００，１０２，１０
４，１０６を介し、マイクロコンピユータ３２に
よつて制御される。マイクロコンピユータ３２か
らの直列データはアドレス・デコーダ７０でデコ
ードされる。ラツチ回路９０，９２，９４，９６
はアドレス・デコーダ７０からの直列データをラ
ツチし、ラツチされたデータは、１個のクロツ
ク・パルスにより、上記のラツチ回路からDAC
１００〜１０６に同時に転送される。このように
して、低雑音増幅器５４〜６０の利得は同時に変
化する。尚、破線で示した直流電源ライン１１０
を介して、所定の電源エネルギーを能動素子の総
てに印加する。データ出力ライン１１２は、外部
センサ或いは他のマイクロコンピユータとの接続
用であり、命令入力ライン１１４はオペレータ或
いは他のマイクロコンピユータ等の外部情報源か
らの入力伝達ラインである。アレイ素子４６，４
８，５０，５２は、それ自体としては当業者で公
知であるが、完全に集積化されたマイクロ波シス
テムの一部としては従来知られていない。アレイ
素子４６，４８，５０，５２の公知例としては、
共に出願人に係る米国特許第3811128号「電子的
に走査されるマイクロストリツプ・アンテナ」及
び米国特許第3921177号「マイクロストリツプ・
アンテナの構造及びアレイ」がある。
第２図は本発明に係るアンテナ装置の第２実施
例のブロツク図であり、上述したように、第１図
に示した受信アレイに相当する送信アレイを示
す。第２図の送信アレイは、第１図に示した位相
ネツトワーク及び増幅器の配置位置を入れ換え、
更に、第１図の増幅器５４，５６，５８，６０を
夫々電圧制御電力増幅器１２０，１２２，１２
４，１２６で置換し、第１図の受信部或いは検出
器６４を信号源１２８で置換したものである。第
２図の他の部分は、第１図の他の部分と同一であ
る。
第３図は、本発明の他の実施例を示す。受信ア
レイ素子１５０が受信した電磁波は、ダイオード
回路網１５２で直流電流に変換される。夫々のダ
イオード回路網１５２からの直流電流は、直流電
流を集めるライン網１５４で合算されて出力端子
１５６に供給される。全素子は共通基板１６０上
に集積され、アース１５８は連続体（例えば、金
属皮膜された基板裏面）である。尚、第３図の実
施例に於いて、利得即ち補集されるエネルギーは
4π（面積）／２に比例するので、受信アレイ１５
０の面積を大きくして利得を高めるようにしても
よい。
半導体材料 第１図及び第２図に示したモノリシツク・マイ
クロ波集積回路の好適な実施例においては、半絶
縁性ガリウムひ素基板上に構成されるが、この物
質は、107〜109オーム・センチメートルの抵抗率
を有する物質として知られている。
半導体基板の材料としては、シリコンも実用化
されている。シリコンは、抵抗率が200〜300オー
ム・センチメートルであつて、その誘電正接は、
標準的なマイクロ波基板材料として使用されてい
る水晶、アルミナ、サフアイヤ等の材料の誘電正
接に比べて桁違いに大きい。したがつて、シリコ
ン上にマイクロストリツプ放射器を設けた場合に
は、開口効率が大幅に減少し、実用に供し得な
い。
以上の理由により、本発明のアンテナ装置にお
いては、その基板の材料として半絶縁性のガリウ
ムひ素が採用された。
マイクロストリツプ放射器（マイクロストリツ
プアンテナ素子） マイクロストリツプ放射器４６，４８，５０，
５２は、半導体基板に隣接した金属層として設け
られる。チタニウム−プラチナ−金（Ti−Pt−
Au）の各層を順次半導体基板上に設けるが、最
後のAuの金属層は、マイクロ波導電体での大き
いオーム損を防止するために、動作周波数で少な
くとも４表皮厚（或いは、浸透厚）（skin
depthsthick）でなくてはならない。
比較のために、標準的なマイクロ波基板材料で
ある水晶、アルミナ、サフアイア基板を用いた他
のマイクロストリツプ放射器を、放射器４６，４
８，５０，５２として製作し試験した結果、サフ
アイア基板を用いた場合に最良の動作効率が得ら
れた。サフアイア基板の放射器のＥ面半電力ビー
ム幅は、実験測定データをコンピユータ・プロツ
トした第４図に示すように、126°であつた。エレ
メント・フアクタは大きな走査角度では急激に低
下しないので、上記の半電力ビーム幅は、フエー
ズドアレイに応用した場合望ましいと言える。こ
のような広いビーム幅は、高誘電率材料上に設け
たマイクロストリツプ素子に特有のものであり、
第５図及び第６図に示す例に基づいて説明する。
第５図及び第６図は、半電力ビーム幅が夫々
90°及び126°を示すマイクロストリツプ放射器の
断面図である。第５図及び第６図に示すマイクロ
ストリツプ素子は２スロツト放射器であり、パツ
チ（patch）の下の誘電体はスロツトＡ及びＢを
接続するλ／２長の低インピーダンス伝送ライン
として取り扱うことができる。この伝送ラインの
半波長特性は物質の誘電率によつて決まるが、放
射電磁界は自由空間波長で表わしたスロツト間隔
の関数である。テフロン・フアイバーガラス誘電
体（比誘電率εr＝2.2）上に設けた典型的な素子
を第５図に示すが、この素子は90°の半電力ビー
ム幅を有する。第６図はサフアイア（εr＝9.39）
上に設けた素子を示す。共振寸法即ちスロツト間
隔は、基板材料の誘電率が高くなると減少するの
で、開口面積が狭くなり、したがつてビーム幅が
広くなる。遠距離電磁界（フラウンホーフアー領
域）のパターン積分によつて決定される上記と同
一のサフアイア素子の開口効率が93％以上である
ことは注目に値する。
このサフアイア素子は9.5％の２：１電圧定在
波比（VSWR）のバンド幅を有し、この値は、
誘電率の低い材料を用いた素子の通常のバンド幅
（１〜３％）よりも大きい。
上記と同様の動作特性は、本発明の実施例に用
いられる半絶縁性のGaAs（比誘電率εr＝12.6）の
ように、サフアイア（εr＝9.39）より僅かに高い
比誘電率をもつ材料によつても得られる。
半絶縁性のGaAsは、108オーム・センチメート
ルの抵抗率をもち誘電正接は、99.6％のAl2O3、
或いはアルミナの誘電正接にほぼ等しい、１×
10-4をもつ。一方サフアイアの誘電正接は２×
10-5であつて、サフアイアの方がより小さな誘電
正接をもつ。
しかしながら、この誘電正接の値の差に起因す
る開口効率の低減は、1.5％程度にとどまるもの
と考えられるので、以上の要因を総合すると、半
絶縁性GaAs上に設けたマイクロストリツプ放射
器の開口効率は、90％以上となる。
移相器スイツチング素子 第７図及び第８図は、夫々シングルゲート
FETスイツチの物理的構造及びその等価回路を
示す。このシングルゲートFETスイツチは、４
ビツト移相器３８，４０，４２，４４のスイツチ
ング素子として用いられる。FETスイツチは電
力消費が少なく、イオン打込みのプレーナGaAs
の製造技術を用いて製造される。
第７図に示すシングルゲートFETスイツチは、
ゲートに適当な電圧を印加することによつてオ
ン・オフする。即ち、スイツチ端子に対してゲー
トを零或いは僅かだけ順方向にバイアスすればオ
ン状態となり、一方、ゲートをチヤンネルのピン
チオフ電圧（通常のＮ型デプレツシヨン・モード
GaAs・FETでは負）以上にバイアスすればオフ
状態となる。尚、FETスイツチのスイツチ端子
にはバイアス電圧を印加しない。
したがつて、通常の意味でのソース及びドレー
ンの区別は存在しない。更に、代替可能のバラク
タ・スイツチの場合のように、FETスイツチを
オン或いはオフ状態に保持する電圧も必要でな
い。スイツチング用に３端子（デユアルゲート
FETの場合には４端子）素子を使用することは、
直流阻止コンデンサが不要なのでスイツチング・
バイアス回路を非常に簡単化できる。
シングルゲートFETのオン状態の抵抗は、チ
ヤンネル抵抗とスイツチ端子でのオーム抵抗の和
であり、その値は小さい。例えば、N+イオンの
打込みのオーム接点を有しピンチオフ電圧約７ボ
ルトの500μｍ幅のFETでは、オン抵抗は、シン
グルゲート・スイツチの場合約5Ω或いはこれ以
下、デユアルゲート・スイツチの場合約7Ω或い
はこれ以下まで減少させることができる。尚、
FETスイツチの幅を更に広げて抵抗を下げるこ
とによつてオン抵抗を下げることが可能である
が、オフ状態での分路静電容量が増大する。デユ
アルゲートFETスイツチは、第２番目のゲート
に対応するチヤンネルに基づく抵抗を有する。オ
ン状態での直列寄生インダクタンスは、FETス
イツチを伝送線内に集積することによつて無視で
きるようにすることが可能である。或る応用例で
は、FETスイツチをアース板から離れた伝送線
内に設けることによつて、意図的にインダクタン
スを導入することが望ましい場合もある。
オン状態でのFETスイツチの電流制御器能は、
零ゲートバイアスと仮定した場合の上記500μｍ
幅のFETのドレイン飽和電流（150ｍＡのオー
ダ）によつて制限される。したがつて、FETス
イツチを50Ωの伝送線を効果的に短絡するのに使
用する場合には、オン状態での電力制御能力は約
63〜100ｍＷである。この電力制御能力は、低電
力の移相器でのスイツチングに対して充分であ
る。
オフ状態では、FETスイツチは略完全非導通
状態であり、マイクロ波インピーダンスはスイツ
チ端子間の分路静電容量によつて決まる。この分
路静電容量は、ゲートが完全にピントオフした場
合に、半絶縁性GaAs基板を介したギヤツプ・コ
ンデンサの端部静電容量が主なものである。
500μｍ幅のスイツチングFETでは、上記の分路
静電容量は0.07〜0.1pFのオーダであり、10GHz
では、オフ状態のFETスイツチの抵抗は約160〜
230Ωである。FETスイツチのオフ状態での抵抗
は非常に高いので、オフ状態での誘電正接は非常
に小さい。即ち、略１に近い反射係数が得られ
る。このように、オン・オフのスイツチング状態
間の振幅特性を平衡化するために、安定化或いは
ローデイングが必要である。オフ状態に於ける
FETスイツチの電力制御能力は、FETスイツチ
を何れの方向にもオンしないでFETスイツチ間
に印加し得るRF電圧スイングの振幅によつて決
まる。シングルゲートFETスイツチは、ゲート
と何れかのスイツチ端子（オーム接触している）
間のバイアス電圧がピンチオフ電圧以下になると
オン状態となる。したがつて、FETスイツチ間
の最大許容電圧スイングは、ピンチオフ電圧を越
えたゲートバイアス電圧分以上にはならない。例
えば、ピンチオフ電圧が−7V、ゲートが−10V
でバイアスされているとすると、シングルゲート
FETスイツチの出力端のでRF電圧スイングは3V
或いは6Vピーク・ピーク値を越えてはならず、
越えた場合には、FETスイツチはRF電圧の負の
期間にオン状態となる。この例では、オフ状態の
シングルゲートFETスイツチの電力制御能力は
50Ωラインに対して約23ｍＷであり、低電圧移相
器に対して非常に好適である。
本発明の好適実施例に用いられるシングルゲー
トFETスイツチは、バイアスを簡単にかけるこ
とができ、電力制御能力が充分であり、既存の製
造プロセス技術と両立性があるという利点を有す
る。更に、シングルゲートFETスイツチには回
路パラメータ制御の点からも利点がある。即ち、
シングルゲートFETスイツチの回路パラメータ
は、ホトリソグラフイ（写真食刻）工程で決定さ
れる構造によつて略完全に特定されるからであ
る。しかし、バラクタ・スイツチでは、オン及び
オフ状態での静電容量は、ドーピング・プロフイ
ール（profile）、バイアス電圧、接合面積によつ
て決定される。バラクタ・スイツチではイオン打
込み処理を行うことによつてドーピング・プロフ
イールの良好な制御が期待できるが、シングルゲ
ートFETスイツチは、回路パラメータの制御よ
る秀れた回路再現性という利点を有することが期
待される。
移相器の回路 ４ビツト移相器は、位相とは無関係に入出力
VSWR及び振幅を略一定に維持しつつ、移相器
の挿入位相を倍増（22.5°、45°、90°及び180°）で
きる回路にスイツチング素子（本発明の好適実施
例ではFETスイツチ）を組み入れたものである。
第９図は、４ビツト移相器３８〜４４の内の１
個のブロツク図である。この移相器は、スイツ
チ・ラインおよびハイブリツド接続技術の両方を
用いた回路内に、上述したFETスイツチを設け
たものである。22.5°ビツト及び45°ビツトは占有
面積を減少させるためにスイツチ・ラインを利用
し、一方、90°ビツト及び180°ビツトはハイブリ
ツド接続を用いている。
尚、他の実施例に適当な他の代替可能な移相器
があり、以下、これらの移相器及びその設計に役
立つ基準を概説する。
第１０図は、移相器の他の例であるブランチ・
ライン（分岐線）形態の90°移相（quadrature）
ハイブリツド・カプラの概略図である。このブラ
ンチ・ライン・カプラは、トランスミツシヨン・
マツチ、即ち3dBパワースプリツト（power
split）及び90°位相が、総てのライン長を1/4波長
とした場合の周波数に対してのみ実現されるの
で、バンド幅が約10〜15％に制限される。
第１１図に示した後進波くし形カプラは最も広
範囲のバンド幅を有する移相器であり、小型化が
容易である。というのは、3dBパワースプリツト
は中心周波数に於いてのみ実現されるが、カプラ
出力アーム間の90°移相、入力整合、指向性は理
論的に周波数と無関係だからである。第１１図の
後進波くし形カプラは、装置の小型化の外に、単
一面上に製作できるという利点を有する。このカ
プラは、ストリツプラインとして設計された場合
にはオクターブのバンド幅を有するが、マイクロ
ストリツプラインでの異なつた偶数及び奇数モー
ドのため、バンド幅は約35〜40％に減ずる。この
バンド幅は素子の互換性には充分である。
45°ビツト及び22.5°ビツトの好適構造を第１２
図に示す。装荷線路移相器は、小型化が可能とい
う点から特に考慮に値する移相器である。装荷線
路移相器のVSWRは良好であり、バンド幅の20
％まで一定した移相が可能であるが、実際にはこ
のバンド幅に対しては最大45°の移相に限定され
る。装荷線路移相器は、次の点に基づいて設計さ
れる。即ち、1/4波長間隔の分路サセプタンス
（或いは直列リアクタンス）は、正規化サセプタ
ンスが小さい場合には相互に反射を消し合うとい
う点である。したがつて、サセプタンスの符号或
いは値に拘らず良好な整合性が得られる。
製造手段 製造プロセスは、先ず、半絶縁性GaAs基板
を、マイクロストリツプ伝播特性（通常、10GHz
で0.6mm）に合うような厚さの平行平面にラツピ
ング及び研磨する。数回の表面クリーニング処理
により、シリコン酸化膜（SiO2）及びその後の
イオン打込みの際のマスキングに必要とされる金
属層の付着が確実となる。次に、第１３図に示す
処理ステツプを行う。
第１３図は、複数のプレーナGaAsFET移相器
の内の１個を製造する処理ステツプを示す図であ
る。半絶縁性GaAs基板をSiO2及び適当な金属膜
で覆い、ドライエツチングにより窓あけを行い
SiO2を選択除去した後、N+イオン打込みを行な
う（第１３図ａ）。N+イオン打込み後、第１３図
ｂに示すようにソースから金属膜と酸化物マスク
を除去し、次に、第１３図ｃに示すようにイオ
ン・ミリング（ion milling）によつてアライメ
ントマークを付ける。アライメントマーク設定
後、レジスト及び金属膜を除去し、窒化物（ナイ
トライド、Si3N4）及び酸化物（SiO2）で被覆し
て打込みアニールを行う（第１３図ｄ）。打込み
アニール後、絶縁物を除去し、従来のホトリソグ
ラフイ技術を用いてオーム接触用の窓あけを行
う。次に、AuGe−Ptの金属層を設ける。第１３
図ｅは、AuGe−Ptを設けた後の様子を示す。第
１３図ｆに示すように、SiO2層を被覆する。ゲ
ート及びオーム接触用の窓あけを行ない、露出し
たSiO2をプラズマエツチングによつて除去し、
Ti−Pt−Au層を設け、ゲート及び回路接続領域
を従来のホトレジスト技術を用いて設ける（第１
３図ｇ）。次に、露出した金属層をイオン・ミリ
ングによつて除去する（第１３図ｈ）。
第１３図ｈに示す処理ステツプにおいて、マイ
クロストリツプ伝送線、放射素子及び直流バイア
スを接続する金属層の被覆はホトリソグラフイ技
術によつて行なわれる。この際、RFブロツキン
グ・チユーク或いは集中素子部品を同時に設け
る。
高品質の半絶縁性GaAsにイオンを打込み、プ
レーナFETのアクテイブ・レーヤ（能動層）を
形成する方法は、絶縁特性を得るのに用いられる
補償方法の特性にいくらかの制限を加える。次
に、イオン打込みによつて良好な能動層を形成す
るための条件を挙げる。
(1) キヤリヤ濃度、キヤリヤ移動度、キヤリヤ寿
命等が、打込まれた不純物及び量にのみ関係す
るように、基板内の補償不純物及び欠陥はイオ
ン打込み層の電気的特性に影響を及ぼしてはな
らない。この条件を満足することによつて、イ
オン打込み層の電気的特性は基板の物理的特性
と独立し、イオン打込み層を良好な再現性で得
ることが可能である。
(2) ドープされたポケツト間の電気的絶縁性を維
持するために、半絶縁性基板の非イオン打込み
部分は、イオン打込み部分の損傷を除去する目
的のために、ウエーハをキヤツプ（cap）して
アニールした後も高抵抗率を保持しなければな
らない。
(3) 半絶縁性基板は均質でなくてはならない。こ
のことは、条件(1)及び(2)を、最小の不均質性或
いは最小の欠陥に対しても満足するようにしな
ければならないことを意味する。均質性の要求
の外に、高密度で寸法の小さい素子に対しては
ウエーハの平坦性は厳しく要求される。
上述したように、本発明の好適実施例に用いた
半導体材料は半絶縁性GaAsであり、水平ブリツ
ジマン（Bridgman）技術によつてクロム（Cr）
を補償（或いはドープ）成長させている。水平ブ
リツジマン成長インゴツトの結晶品質は、低凝結
密度、転位密度、及びひずみに関して秀れてい
る。電気的補償は、通常、低クロム濃度（５×
1015cm-3）でなされる。最初の補償なしのバツク
グラウンド・ドービングは普通は８×1014cm-3で
ある。
良好な再現性を得るために、GaAsは米国特許
第4157494号に述べられている手順で処理される。
このように、集積アレイ・アンテナを有するモ
ノリシツク・マイクロ波システムを得た。勿論、
当業者が本発明の実施例の変形変更を行なうこと
は容易であり、これらの変形変更は本発明の技術
的範囲に入ることは当然である。
［発明の効果］ 本発明は以上のように、半絶縁性（抵抗率108
オーム・センチメートル）のガリウムひ素の基板
上に、アンテナ素子を集積して形成することによ
つてアンテナ装置を構成したものである。
この構成をすることによつて、各要素を組立て
る必要がなく、効率のよいアンテナを得ることが
できる。
アンテナ素子は、半絶縁性ガリウムひ素の基板
上に被覆された金属層をエツチングすることによ
り形成され、金属層としてチタニウム、プラチ
ナ、金の層が使用される。
半絶縁性のガリウムひ素の基板を得るために、
クロムのドーピング手段が利用される。
本発明は、以上の基本的なアンテナ構造を基
に、アンテナ素子をアレイに構成したり、給電線
を集積するこで、種々のアンテナ装置を得ること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係るモノリシツク・マイクロ
波集積回路の受信機のブロツク図、第２図は本発
明に係るモノリシツク・マイクロ波集積回路の送
信機のブロツク図、第３図は電磁波を受けて直流
電流を発生するための本発明のモノリシツク・マ
イクロ波集積回路を示す図、第４図は実験結果に
基づいてプロツトしたサフアイア素子放射器のＥ
面半電力ビーム幅を示す図、第５図は90°E面半電
力ビーム幅を示すマイクロストリツプ放射素子の
断面図、第６図は126°E面半電力ビーム幅を示す
マイクロストリツプ放射素子の断面図、第７図は
移相器内に用いられるシングルゲートFETスイ
ツチの構造を示す図、第８図は第７図に示したシ
ングルゲートFETスイツチの等価回路、第９図
はハイブリツド設計を利用した４ビツト移相器の
内の１個の好適実施例を示す図、第１０図はブラ
ンチ・ライン・ハイブリツド・カプラの説明図、
第１１図は後進波90°移相ハイブリツド・カプラ
の説明図、第１２図は装荷線路移相器の説明図、
第１３図はプレーナGaAsFET移相器の製造方法
を説明するための図である。 ３０……基板、３２……マイクロプロセツサ、
３８，４０，４２，４４……移相器、４６，４
８，５０，５２……受信及び送信アレイ素子、５
４，５６，５８，６０……増幅器、６４……受信
部、１２０，１２２，１２４，１２６……電力増
幅器、１２８……信号源。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 電磁波を送信または受信するようにアレイに
    配置された金属層からなる複数個のマイクロスト
    リツプアンテナ素子と、 マイクロストリツプアンテナ素子間に流れる電
    流の位相を制御するために電気的に接続された複
    数の電界効果型トランジスタの集積回路構造体を
    含む位相制御および高周波給電回路ネツトワーク
    とを備え、 前記アンテナ素子およびネツトワークは約108
    オーム・センチメートルの抵抗率を有する半絶縁
    性のガリウムひ素の単一基板上に集積されてなる
    集積回路ネツトワークアンテナ装置。 ２ 上記位相制御および高周波給電回路ネツトワ
    ークは、位相ネツトワークの移相のために位相シ
    フトを同時にする複数のラツチ手段を備えるとと
    もに、該ラツチ手段を上記単一基板上に集積して
    なる特許請求の範囲第１項に記載の集積回路ネツ
    トワークアンテナ装置。 ３ 上記位相制御および高周波給電回路ネツトワ
    ークは、自らの入出力高周波給電電流を増幅する
    前記マイクロストリツプアンテナ素子に接続され
    た少なくとも１個の低雑音増幅回路を備えるとと
    もに、該増幅回路を上記単一基板上に集積してな
    る特許請求の範囲第１項に記載の集積回路ネツト
    ワークアンテナ装置。 ４ 電磁波を送信または受信するようにアレイに
    配置された金属層からなる複数個のマイクロスト
    リツプアンテナ素子と、 マイクロストリツプアンテナ素子間に流れる電
    流の位相を制御するために電気的に接続された複
    数の電界効果型トランジスタと、この電界効果型
    トランジスタに接続されるネツトワークを制御す
    るための制御手段とからなる集積回路構造体を含
    む位相制御および高周波給電回路ネツトワークと
    を備え、 前記アンテナ素子およびネツトワークは約108
    オーム・センチメートルの抵抗率を有する半絶縁
    性のガリウムひ素の単一基板上に集積されてなる
    集積回路ネツトワークアンテナ装置。
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