JPH04501082A - 微量滴定プレート洗浄器 - Google Patents

微量滴定プレート洗浄器

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JPH04501082A JP1509552A JP50955289A JPH04501082A JP H04501082 A JPH04501082 A JP H04501082A JP 1509552 A JP1509552 A JP 1509552A JP 50955289 A JP50955289 A JP 50955289A JP H04501082 A JPH04501082 A JP H04501082A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 微量滴定プレート洗浄器 発明の分野 本発明は微量滴定プレートを操作するための自動化された設備、特に洗浄微量滴 定プレート用設備に関する。
発明の背景 多くの研究は複数の小さな試料を手作業で操作することを要求している。例えば 、免疫測定は試薬の添加または除去そして試料の連続希釈の実施等多くの操作を しながら、100μm以下量で行われる。連続希釈に必要とされるような関連試 料を含む複数の小さい試料を取り扱うために、微量滴定プレートとして既知の・ 一種の反応器が開発されてきた。かかるプレートはポリプロピレンまたは同様の プラスチックで形成されるのが典型であり、関連操作の組織化および実行を簡素 化する幾何学的模様に配置された複数の窪みを有する。通常使用されるプレート は約5x3.5インチ(約12.7x8゜89cm)であり、8x12矩形模様 の96窪みを有し、各窪みは1ml以下の全容量である。他に微量滴定プレート は異なる数の窪みおよび容量を有するものがある。
近年、多操作を行うために自動または半自動設備が開発された。例えば、自動的 に試薬を添加し、連続的に試料を希釈し、選択的に微量滴定プレートで分析され た結果を読み取ることのできる設備がある。自動化された他の操作に微量滴定プ レートの洗浄がある。複数の反応は反応過程で過剰試薬の除去を必要とする。例 えば、免疫学的測定では分析物に特に結合する抗体等の試薬が微量滴定プレート の窪みの壁に付着する。代表的測定では、試料が付加され、分析物が存在すると これが抗体に結合する。着色試薬を次いで添加して分析物が試料中に存在する場 合には特定色が窪みp旧こ生じる。分析物が添加されていない窪み内に色が発生 するのを防ぐために試薬を窪みから洗浄しなければならない。微量滴定プレート 洗浄器は洗浄操作を自動的に行うために開発された。その代表例はカリフォルニ ア州、リッチモンドのRio−Rad研究所で製造された装置である。@量滴定 プレー・トはホルダ内で直立位置にあり、咳ホルダは微量滴定プレートを適当場 所へ移動させる。一連の下方向き針状ノズルが洗浄溶液をプレー、ト内の各窪み (またはプレート内の窪み列)に添加し、次いで該洗浄液を該窪みへ挿入された 他の1セツトの針状ノズルを使用して吸引により洗浄液を除去する。他の同様の 洗浄器がカリフォルニア州、グラスバレイのTri−Cont、1nent 5 cientific;バージニア、チャチリ−のDynatech Labor atories、 Inc、 ;ノルウニ=−、ライアの5katron AS ;オーストリア、グレーディングの5LT−Lab instruments  ;コネチカット、オレンジのToa+tecおよびバージニア、マツクリーンの Flow Laboratories、 Inc。
により製造または市販されている。
上記設備は洗浄操作をするのに効率的であるが、その設備が複雑かつ高価である 。仮に吸引ピペットが微量滴定プレートの壁に付着した試薬を邪魔することなく 効率的な洗浄液を大量に除去するためのものであれば、周到な設計が必要である 。
上向きスプレィを用いてキュベツトといった個別備品を洗浄するための簡単な設 備が市販されている。しかし、かかる装置は洗浄液をキュベツトへ吸引する真空 管を使用して洗浄液を放出する。真空管は微量滴定プレートのような比較的大き く平らなものには適切でない。結果的に大きな力(大きな面積のプレート上に働 く真空管からの)が微量滴定プレートの操作を困難にするからである。
従って、低廉価、少制約の簡単な設備が望まれる。
発明の概要 本発明は複数の上向きノズル、各該ノズルは内腔と該内腔から該ノズルの外部に 延びるオリフィスを有する本体からなる、流体入口と複数の流体出口を有する各 該ノズルへ洗浄液を分配するための流体分配部材、および該ノズルを該流体分配 部材へ着脱自在にシールするためのクランプ手段から成る。
外容器を各該ノズルの内腔に分配手段により連結できる流体導管が設けられてい て、該導管は全ノズルの全オリフィス面積よりも大きい最小断面を有する。本発 明はノズルとして標準の使い捨てピペットチップを使用できるので本発明はクラ ンプ手段およびノズルを使用しない場合に上記した流体分配手段を有する。該ク ランプ手段は特に一度に全微量滴定プレートまたは微量滴定プレート列を洗浄で きるようにノズル列を隔置設定できるように設計されている。操作に際して、微 量滴定プレートは本発明の装置により上から下へ洗浄される。
本発明はまたここに記載の装置を用いて複数の微量滴定プレート窪みを複数のノ ズルから上方流の洗浄溶液で洗浄する方法に関する。
図面の簡単な説明 以下に、本発明の理解を容易にするために添付図面を参照して本発明の実施例を 詳述する。
第1図はノズルを付けない本発明の第1態様の拡大斜視図である。
第2図は第1図の装置に挟持した単一ノズルの説明縦断面図である。
第3図は第1図の装置の各種態様の縦断面図である。
第4図は洗浄用の複数ノズルの位置を示す挟持位置にある本発明の他の態様の縦 断面図である。
第5図は使い捨てノズルを除去するための開放位置の第4図の態様の縦断面図で ある。
第6図は使い捨てノズルを挿入するための開放位置の第4図の態様の縦断面図で ある。
第7図は本発明の1態様の液体連結路を示す説明概略図である。
第8図は本発明の好ましい態様の拡大端面図である。
第9図は組立てた状態の第8図の端面図である。
第10図は第8図の態様の液体分配プレートの平面図である。
第11図は第」0図の分配プレートの側面図である。
第12図は第8図の態様の分配プレートに取りつけられた洗浄液孔板の平面図で ある。
第13図は第8図の態様の先端位置決めプレートの平面図である。
第14図は第8図の態様の先端挟持プレートの平面図である。
第15図は第8図の態様の微量滴定プレート位置決めプレートの平面図である。
特定実施態様の説明 本発明の微量滴定プレート洗浄器は洗浄流を上方へ案内することにより、複数の 微量滴定プレート洗浄器を迅速に洗浄する。加圧駆動流体(典型的には加重駆動 または圧縮ガス駆動)により上記のごとく大きい表面上への真菅空使用による問 題を解消する。洗浄器は典型的には使い捨てまたはオートクレーブ材により形成 されるので洗浄器は使用後必要に応じて浄化できる。洗浄器の多くの利点は図面 または以下の詳細な説明により明らかにする。
第1図は必要な要素を提供する1方法を示す本発明の第1態様の拡大斜視図であ る。第1図(第4.6図の断面図と同様に)は単純化のための4ノズルを具備す る2x2プレートを示す。同様な設計が4x6,6x3.または8x12列のノ ズルに使用できる。分配箱10は容器壁12と1容器壁内の入口14とから成る 。分配箱10の内部は一連の隆起16と該隆起上に後述の装置を支持するための 隔置した溝18を有している。溝18は流体が開口部14を通過してノズルが該 装置の所定位置にあるとき各ノズルに分配されるように隔置されている。この第 1態様において、4ピン(11)は分配箱10の角部に設けられて上部材と下分 配箱とを正確に重合する。該ビンはねじ山を有していて上部材を分配箱10の上 部に圧力嵌入させる。または他の手段が該装置を保持するために使用される。
次に、弾性シール部材を設けて隆起16および溝18上に固定する。第4図のご とく、レジスタ装置21をシール部材20の各隅に設けてシール部材20を分配 箱10の上表面上に固定しかつ正確な間隔にし、該シール部材上に載るノズルに 近い開口部24を溝18に正確に重合して流体を分配する。
この態様において、弾性シール部材は、溝18が開放上部を有しかつ流体分配開 口部24の全面を保持しないので該ノズルを支持できるだけの硬度を有するもの でなければならない。
下記のごとく、開口部24は微量滴定プレートの窪みに合致する配列になってい る。
図示態様において、位置決め部材30は装置の次の外層5と6を形成する。位置 決め部材30はレジスタ開口部31を各隅に有し、その各々は分配箱10の対応 ボスト11上にフィツトする。シール部材20の開口部24と重合する一連の開 口部34が設けられている。位置決め部材30の開口部34はシール部材20の 対応開口部24より大きくかつそれと同心に配設されている。これは流体をシー ル部材20から位置決め部材30の各開口部34r’旧こ設置される中空ノズル の中央部へ分配させる。ノズルへ適性に位置決めするための位置決め部材30の 使用にっていは第2図に関して更に詳述する。
クランププレ〜 ト40はレジスタ開口部41とノズル開[」部44とを有する 。該1/ジスタ開口部はその隅にあり、該ノズル開口部はノズルにフィツトし、 かつビン11と位置決め孔4〕との相互作用により、34上にシール部材20と 位置決め部材30の対応開口部24乏34で同心、−・直線上になる。位置決め 開口部34がそこへ挿入されるノズルの下部よりも小さいので、クランププレー ト40は分配箱10の方向へ積極的に付勢されるとシール部材20にノズルを締 めつけて固定する。この挟持関係は第2図に関連しで後述する。
第1図の態様において、一連のナツト45はボスト11上れる。該クランププレ ートプレートを付勢する他の手段は所望により設置できる。その態様につCいは 図面を参照して下記する。
@量滴定プレート位置決め部材(プレート)50は第1図と同様に設けられる。
wi量滴定プレートを該位置決め部材上に正確に設置するだめの隆起56または 他の手段が設けられている。開口部54は対応クランプ開口部44とその中に挟 持されるノズル上に直接設置される。所望により、ノズルはプレート50とその 中の開口部54を通って延びる、または位置決めプレート50がノズル全体上に 設置されてよい。第1図の態様では、一連の4ボルト52はブI/−ト50の隅 のねじ切り開口部を介して回転自在に係合するのでプレート50はクランププレ ート40上で異なる高さで位置決めできる。
ボルト52はクランププレート40内の一直線に並んだ開L]部42のねじ山と 係合して回転し1、かつプレート50を該ボルトの所定高さでプレート40へ固 定する。
ノズル挟持配置は第2図にの詳細に示されおり、この図は所定位置の単一ノズル を示す微量滴定プレート洗浄器の部分断面図である。ノズル60は下部62と上 部64から成り、上部64はクランププレート40の開口部44を通過する大き さであり、開口部44の縁部のクランププレート40はノズルの下部62と係合 する。クランプ開口部44はノズル60の上部64が開口部44と係合しない大 きさであって該クランププレート40が上昇するときに該ノズルが該開口部に保 持される程度の大きさである。第2図から明らかなように、クランププレート4 0はシール手段20の相当に上方でノズル60と係合し、ノズル60の下部62 が開口部24のシール部材20に付勢される前にクランププレート40が位置決 めプレート30と接触するのを防止する。
第1および2図の態様は接種改良が可能である。例えば、部材20と30は結合 して単一シール部材/位置決めプレートにできる。また、付加プレートをクラン ププレート40に設けてもよく、その場合はシール手段と分配箱10との間に設 置してシール手段の支持としてよい。かかる支持部材は特に高可撓性のシール部 材が使用されるときに役立つ。他力、該シール部材が充分に弾力的であって良好 なシールを提供しかつ十分に強力であって該クランププレートの下方力に抵抗す るものであれば第2図の装置または位置決め部材とユニットとして結合された弾 性部材を用いた装置が使用できる。
第3図は本発明の装置の一連の部分断面図であり、各断面図は装置の異なる態様 の1以上の変形を示す。
第3A図は第1図のシール手段20とプレート30に代わるシール手段/位置決 めプレートのユニット25を具備する装置を示す。クランププレート/微量滴定 プレート位置決め器のユニット35は第1図の態様の分離したクランププレート 40と位置決めプレート50に代わる。部材25は分配箱10の隆起16上にあ るので溝18はノズル60の直下に位置決めされる。
第3B図は内溝18を有する分配箱10を示すがこれはノズル60下の中央に開 口部19を具備していて第1図の長い開放溝18に代わる。従って、分配箱10 の上面は内支持を必要とすることなく弾性部材20を支持する働きをする。位置 決め部材30は第1図と同様に存在するが、ノズル60はここでは部材30まで の高さの低部62を有する。従って、下突出リップ46がクランプ部材40の開 口部44の回りに設けられていて、クランププレート40が位置決め部材30と 接触する前にノズル60を弾性部材20に対して付勢する。
微量滴定プレート位置決めプレート50は第1図のように設けられている。
第3C図は異なるクランププレートおよび位置決め装置を使用した1態様を示す 。位置決めポスト100は基部10内に第1図のポストと同様に設置されている 。しかし、位置決めボス) ]、 OOは弾性部材20と位置決めプレート30 とのみ係合する。分離ボスト110は基部10内のねじ孔120とねじ係合する 。ポスト110のねじ山112が孔120のねじ山114と係合しかつポスト1 10が第1方向へ回転すとポスト110の係合部145はクランププレート40 と係合しかつクランブブL−−t−40を基部方向へ付勢する。反対方向への回 転はクランプ力を解放する。位置決めビン480は、位置決め部材50の下面内 の凹部580へ挿入されたとき、微量滴定プレート位置決め部材50を的確に設 置するためにプレート40内に設けられている。
第3D図はバア110の1端部内であっC基部材10内に設けられた凹部120 内に設置されたビン122の回りを縦面内で回転するバア110を有する。スプ リング148はスプリング保持器145上に上方向の圧力を加え、かつ操作を容 易にするだめの突起147を有するスプリング保持器146へ下方向の圧力を加 えることにより下方向の力をクランププレート40上に与える。クランププレー ト40を係合するとき、下スプリング保持器146の突起147上に加わる上方 向力を用いてスプリング48を圧縮しながらバア110は静止水平位置から(i aD図の矢印により示したように)移動する。バア110が回転してクランププ レート40の対応孔48と係合すると、下スプリング保持器146上の上方力は 解放されてスプリング148が下スプリング保持器146を介してクランププレ ート40と係合しかつクランププレート40と保持されたノズルとを基部10お よびシール部材20の方向へ付勢する。
第4図は本発明の他の態様であって、ノズル以外の全部材が操作を容易にするた めに装置の1側部でヒンジにより永久的または一時的に連結されている。シール 部材20は分配箱10の上面に永久的または一時的に固定されていて、該分配箱 10はシール部材20の開口部24と正確に一致する開口部19を上面内に有す る内腔を有する。ヒンジ15は基部材を該装置の他の部分に連結するために基部 10の1側部に設けられている。この態様では位置決め部材とクランプ部材35 の結合体が採用されている。微量滴定プレート位置決め部材50は部材35に固 定された第1図と同様に設置されている。部材35の形態は本発明の装置の操作 と共に後記する。
ノズル600基部をシール部材20にシールするための下方力を提供する装置部 はこの図には示されていないが、第3D図のばね負荷付勢手段または同様の迅速 に働く付勢手段が本発明のこの態様に特に有用である。
第5図は水平方向へ装置の上部を維持しながら垂直方向へ回転した分配箱10と 取りつけたシール手段20とを示す。
ノズル60は該クランププレートにより所定位置に緩く保持されているだけであ るので、脱落かつ放棄される。そこで、分配箱10を初期位置へ回転し、次いで 装置の上部を第6図の倒立水平位置へ回転する。位置決め部材/クランププレー ト35は段状開口部を有しているので、大きい基部を有するノズルを簡単に部材 35へ、手動または自動的に挿入できる。
次いで、分配箱10を、所定位置からのノズルの落下を防止する図示された位置 に部材35を維持しながら、第6図の位置から時計方向へ回転する。クランプ手 段を係合した後、該装置を操作正常位置へ設置する。
第4−6図の態様は操作を簡単にする上で特に有用であり、所望により使い捨て ノズル用として自動化できる。
更に、前記図面に示した分配箱、ノズル等に加えて、本発明の装置は容器、該容 器を該分配基部に連結する導管、および該容器から該分配箱へ液体の流れを制御 するバルブから成る代表的な流体分配系へ連結できる。代表的装置を第7図に示 した。この図では、容器70中の液体流は導管90から分配箱10へ流れるにつ れてバルブ80により制御される。流体流に必要な差圧は潜在的重力(即ち、分 配箱10よりも高いレベルで容器70を設置する)、容器70に連結された選択 的圧縮ガス容器75、ポンプ、または液体を容器70から分配箱10へ送るに必 要な差圧を提供する他の手段により与えられてよい。
上記容器、バルブ、および導管を圧迫する設計は殆どない。
該導管(または流体分配箱10内のような他の流路)断面全部はノズル先端部で 適性なスプレィ作用をするために該ノズルの全断面積によも大きい。該スプレィ の力および形状は、スプレィノズルを設計する業界の熟練者に既知のノズル設計 特性と同様に差圧、導管の断面直径、およびピペットの全断面直径により決定さ れる。複雑なスプレノズル設計は本発明に要求されず、市販の使い捨てピペット チップが使用できる。
例えば、Beckmman または Bppendorfの自動微量ピペットを 本発明の装置に使用できる。Biobeckロボットに使用されるBeckmm anチップは、クランププレートを収容できかつ解放が早いので、特に有用であ る。クランププレートによる挟持を容易にする他の市販のチップを各種プレート の穴の寸法および所定のタイプのチップを収容するに必要なプレート間の距離を 改良して使用するのが便利である。
ノズルとして使い捨ピペットチップを使用する代表的ピペット洗浄器には、上記 容器を該洗浄器上に18−36インチ(約45. 7−9. 14CD+)に設 定して上記導管(連結チューブ)の断面積を約1.25cm2にし、ピペットチ ップ(96ピペツトチツプ)の全面積を約0. 2cm”にする。
図中の各種装置において、ノズル列を保持する使い捨てシートはノズルを該装置 に設置するのに使用できる。また、使い捨てシートは位置決めプレート30をク ランププレート40の開口部44の大きさの開口部を有するシート状にすること によりこれを代用できるので該ノズルはノズルの大基部により使い捨てシート内 に保持される。そのようにしてクランププレート40は該ノズルの基部をシール 部材20に付勢する使い捨てシートと接触する。かかるプレートは、プレート3 5を第6図の倒立水平位置に挟持しながらクランププレート35内に挿入された ノズルと共に組み立てた全使い捨てシートを落下する(従って、段状開口部を必 要としない。)ことにより第6図の装置に簡単に使用できる。
上記装置の使用についてはすでに上記図面に関して説明したとおりである。使用 方法を変更する1方法は圧縮ガス供給器76(圧縮ガス供給器75は必要とされ ない)と第7図の第2制御バルブ82を使用する。開放バルブ80と閉鎮ノくル ブ82との間を反対にして開放バルブ82と閉鎖バルブ80とすることにより液 体を使用しないで効率的な洗浄ができる。
ソレノイド制御バルブがバルブ80と82に使用され、2位置トグルスイッチを 80開放/82閉鎮または82開放/80閉鎮位置に選択使用する。2位置間の トグルは効率的、迅速にプレートを洗浄する。
更に、他の洗浄器溶液を他のソレノイド制御バルブまたは他のタイプのバルブに 供給してよい。例えば、選択的容器72と第7図の制御バルブ84を使用して第 2液で洗浄器してよい。容器72の液体を重力圧下でまたは上記容器70のごと き圧縮ガス容器(図示せず)に連結させて流入できる。特定操作に必要な多くの 制御バルブは分配部材に連結され、かつマイクロプロセッサ制御タイマーまたは 他の手段はユーザーにより設定された時間の間口動的に適当な溶液を必要に応じ て中間空気、窒素、または他のガスフラッシュと共に洗浄器へ送る。ガスフラッ シュサイクルが使用されるときには、導管90、分配箱10および該ノズル内に 保有された液体に加わる圧縮ガスの力が微量滴定プレートを洗浄する力を提供で きるので、該液体に圧力を加えたり、液容器を高くしたりする必要はない。
本発明の装置は上記設訂上の性質に合致できる材料により形成できる。実際の装 置はスチール製クランププレート、ゴム製シール部材、ナイロン製分配箱、およ び各種ナイロン部、例えば、位置決めブレ・−ト、ねじ等を用いて組み立てる。
血液分析を行う微量滴定プレートの使用には、オートクレーブに耐える材料を選 択する。また、人体血漿または血清を試験する場合には、洗浄過程で生成される エーロゾルは作業員の安全のために近傍に収容する必要がある。ただし、エーロ ゾルの捕獲は本発明の装置の作業上必須でない。伝染性因子の汚染が潜在する場 合には、かかるエーロゾルはエーロゾルを収集するために負圧下で維持される本 発明の洗浄器を取り囲む室ピ引こ保留されるべきである。洗浄溶液はまた収集し て殺菌性にしなければならない。
第8−i5図は更に本発明の詳細な説明するものであり、特に本発明の好ましい 態様を示す。第8図はその態様の端面を示し、実線は可視特徴を示し、点線は見 えない内特徴を示す。一点鎖線は列の(例えば、ノズルと各種開口部の)軸を示 す。下分配箱10は上記流路上の0.i25インチ(1/8インチ)(0,32 cm)の位置決め孔を有する第2プレート15 (シール部材20を保持するた めに使用される)と結合される。該2のプレートはエポキシで接着されている。
エポキシはこの目的で設計されたプレート10内の外溝(この図では示されてい ない、第10図の溝19)を充填する。上面内の孔は、上記位置決め孔と対応す る場所内の0.125インチ(約0.32cm)の直径を有するシリコンゴト製 ガスケツ1−の設置を可能にする凹部内に設けられる。該位置決め孔周の四部の 高さは可変であり、基部10の方向ヘクランブプレート40を付勢するクランプ (後述)に隣接した側部上よりも中央で浅い。中央の2列用とし”C1該凹部は 0.133インク・(約0. 3.4c+n) 、次の外側2列用としては0. 141インチ(約0.36clT+)最端部用としては06149インチ(約0 .38cm)である。この層上凹部はクランプ中に生じるプレートの僅かな歪み を収容するのでチップ基部上にほぼ均一の圧力を与える。
更に、上記支持プレート】5は位置決めプレート30を設置するだめのレジスタ として働く2の0.50インチ(約1゜27cm)直径のボス)11を有してい て、上記チップ基部の全が該位置決め層上に設置される。位置決めプレート30 は0゜29フインチ(19/64インチ)(約0.754cm)の孔をチップ基 部用にかつ上記支持プレート内のポストと同じ相対位置に0.53インチ(約1 .35cm)直径の2のレジスタ孔を有する。クランププレート40はU字状の 11ゲージステンレススチールプレートからなり、これは0.129インチ(7 /32インチ)(約0.328cm)のチップ挟持孔を有する。チップ位置決め かつクランププレートの孔面積は特にBeckman Biomek ピペット チップを収容する設計になっているが市販(または特製)のチップ用として簡単 に改造できる。支持プレート15とガスケット20は他の製造業者のピペットチ ップを使用して改造することはできない。洗浄すべき微量滴定プレートを位置決 めするための上プレート50は位置決めねじ51を用いて所望の高さに調整する 。
全組立体は上記と同様に可撓性ステンレススチール線7からなる各側部上に即解 放の2のトグルクランプを有する下U字状プレート5で構成されている。この可 撓性ステンレススチール線は上iJ字状クランププレート40の縁部とステンレ ススチールトグルレバー8上に嵌合して鎖線をクランプ位置へ引っ張る。全ユニ ットは側部上で均一に挟持され、U字状フォーマットにより該プレートの側部の 歪みを最小にし、結果的に所定列の各チップ」−の緊張の変化を最小にする。緊 張は分配箱10の底部とU字状金属製クランププレート5との間に薄いシムスペ ーサを設置して調整できる。即解放特性が必要でない場合には上記ユニットをス テンレススチールねじとナツトで挟持する。上記U字状上プレートで得られる均 一な挟持利益を得ることができる。この態様の組立洗浄器は第9図に示した。開 始チューブ14 (洗浄液用)は第8ふよび9図に表されている。
第10−15図に個別プレートを示した。第10図では分配箱10の平面図を示 した。洗浄液の流通は11/64インチ<0.172インチ)(約0.437c +T+)の側分配通路18aと18bへ一度に2方向で生じる。この通路の各々 は交互にチップの1/2に達する。チップに達する通路18cの深さは全て0.  1インチ(約0. 254cm) 、幅は第1の3孔で1/8 (0,125 インチ)(約0. 31.8cm) 、次の3孔で3/32 (0,094)イ ンチ(約0. 239cm) 、そして最後の2孔で1/16 (0,063) インチ(約0.160 cm)へ変化させる。各列の幅を変化させることにより 、上記プレートの中間通路厚みを各位置決め層下で均一に維持し、かつ各出口孔 下の液流の速度を相対的に均一にする。各通路は三角形(即ち、連結側通路から 距離とともに幅を均一に減少させる)であるのが理想的であるが、この厚みの交 互変化は機械加工テンプレートの使用を可能にして狭い分配通路内の適度な流れ を均一にする。接着通路19と人口チュー・ブ14は第10図に示されている。
第11図において、分配箱10の側面図(縮小図)が示されている。aれは側分 配通路の流速制御に同様の系を有する。
入口チューブ14(この態様では雄ホース連結器)は分配箱1−0の1面へねじ 込まれ、流体入口通路として働く中心から5/16インチ(約0.794cm) 直径(断面積0.077平方インチ)孔j4°を有する。該入口チコ、−ブはD elNnまたはナイロン製であるのが好ま1.い。該連結ねじは1/2イン−f  (約L27cm)直径、1インチにつき13ねし山であり、5/8インチ(約 1.59cm)直径のシリコンゴムガスケットに固定され、このガスケットは入 口に滑合するので連結時に締結なシールを可能にする。
上記入口チューブは通路18へ螺入し、この通路は0.275インチxO,1, 875インチ(約0.699cmxO,4763cm)面積の2通路に分裂j、 2(深さX幅、0.052平方インチの面積)、底部は丸形または矩形であり、 通路18は側通路18aと18bへ接近している。側通路の始まりで、この2通 路は0.275インチ(約0.699crn)の深さ、終わりで0.1インチ( 約0.254cm)になっている。1側通路(18a)は図示されている。この 傾斜は過剰流量による人倫構造を防止しかつ重荷を最小にできる通路系を提供す るので洗浄バッファ景を減少させる。
第12図は流体分配孔を含む支持プレート15の平面図である。全孔は直径1/ 8 ((L 125)インチ(約0.313 cm)であり、その凹部は3.0 インチ幅x4.5インチ長(約7.6cmx 11. 4cm>である。2ペツ グ11は該凹部の縁部中央に設置されている。シリコンゴムガスケット(図示せ ず)は段状凹部内に嵌合している。
第13図はチップ位置決めプレート30の平面図である。
使い捨てチップ用の孔34は19/64 (0,297)インチ(約0.754 cm)直径であり、レジスタ孔31は17/32 (0,53)インチ(約1. 35cm)直径である。
第14図はチップクランププレート40の平面図である。
このプレートは該チップの基部と係合する7/32インチ(0,219インチ) (約0.755cm)孔44をもつ1〇−または11ゲージのステンレススチー ル製である。このプレート40は微量滴定プレート位置決めプレート50がU字 状プレートに簡単に適合するようにプラスチックプレートよりも僅かに広い。
第15図は微量滴定プレート位置決めプレート50の底面図である。ねじ切り1 /4インチ(0,25インチ)(約0.64cm)孔51は高さ調整用に設けら れ、チップ設置用の孔54の直径は1/8インチ(約(L32cm)、深さが0 ゜1インチ(約0−25cm)、勾配が60°であるので該チップは容易に該プ レートに嵌入する。
本明細書の全開示は関連発明の当該技術分野の熟練者のレベルで記載された。各 個別開示が参照として格別に記載されている場合には同程度に全開示が参照とし てここに含まれる。
ここに完全に記載された本発明は、多くの改良および変更が添付の請求の範囲ま たはその精神から逸脱することなくなされることは通常の当業者に明らかであろ う。
FIG、 1 FIG、 3CFIG、 3D FIG。9 FIG、 10 FIG、11 FIG、 13 FIG、 14 FIG、 15 国際調査報告

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.微量滴定プレート窪みの数に対応する間隔を置いて設置された複数の上向き ノズル、各上記ノズルは内腔とオリフィスを有する本体からなる, 各ノズルの上記内腔へ流体を分配するための手段、および上記ノズルを上記分配 手段へ着脱自在かつ同時に付勢するための手段であって、各上記ノズルの基部は 上記分配手段と係合して液体流を上記分配手段から上記ノズルの内腔を介して上 記ノズルのオリフィスへ導くもの、から成ることを特徴とする微量滴定プレート 洗浄器。
  2. 2.上記微量滴定プレート洗浄器内の全ノズルオリフィスはオリフィスの総面積 でありしかつ洗浄液に外容器と外容器を上記分配手段へ連結する流体導管を有し 、上記導管は上記オリフィス総面積よりも大きい最小断面を有する、請求項1の 微量滴定プレート洗浄器。
  3. 3.上記洗浄器は上記ノズル上に微量滴定プレートを合致させる手段を有する、 請求項1の微量滴定プレート洗浄器。
  4. 4.上記複数のノズルは個別ノズルの集合である、請求項1の微量滴定プレート 洗浄器。
  5. 5.上記複数のノズルの少なくとも2つは単一体部材である、請求項1の微量滴 定プレート洗浄器。
  6. 6.上記付勢手段は上記オリフィスを含む上記ノズルの1部の通過を可能にする 大きさであるが上記ノズルの基部を通過させない寸法の複数孔を有するプレート から成る、請求項1の微量滴定プレート洗浄器。
  7. 7.上記付勢手段は上記プレートを上記分配手段へ取りつける手段を有する、請 求項6の微量滴定プレート洗浄器。
  8. 8.上記孔は、上記プレートが上記分配手段から分離したときに上記ノズルの重 量より付加される力下で上記プレート全体から上記ノズルを分離できる大きさで ある、請求項5の微量滴定プレート洗浄器。
  9. 9.上記分配手段は上記分配手段の縁部と上記プレートに沿って回転自在に上記 プレートに取りつけられる、請求項6の微量滴定プレート洗浄器。
  10. 10.上記分配手段は圧縮ガス供給手段に連結されている、請求項1の微量滴定 プレート洗浄器。
  11. 11.上記分配手段に上記ノズルをシールする手段を有する、請求項1の微量滴 定プレート洗浄器。
  12. 12.上記シール手段は上記分配手段または上記ノズルの1部を形成またはそれ に取りつけられる弾性手段を有する、請求項11の微量滴定プレート洗浄器。
  13. 13.上記ノズルは使い捨て自動ピペットチップを有する、請求項1の微量滴定 プレート洗浄器。
  14. 14.流体入口と微量滴定プレートの窪みの全てまたは1部と一致する間隔で配 列された複数の流体出口からなる流体分配部材、 上記間隔で配列された上記複数の孔を有するクランププレート、上記孔は上記ノ ズルの1部を自由に通過させるが上記ノズルの基部の通過を妨げる大きさである 、および上記プレートを上記流体分配部材にクランプする手段、それにより上記 クランププレートの上記孔内に挿入された上記ノズルの基部は上記流体出口で上 記流体分配部材に付勢される、から成ることを特徴とする使い捨て流体誘導ノズ ルを用いた微量滴定プレートの複数の窪みを洗浄するための微量滴定プレート洗 浄器。
  15. 15.上記クランププレートの上記孔内に設置されたノズル上に倒立微量満定プ レートの窪みをレジスタするための手段を有する、請求項14の微量滴定プレー ト洗浄器。
  16. 16.微量滴定プレートを上向きの集合体上に倒立設置して洗浄溶液を上記微量 法定プレートの複数の窪みへ放出し、かつ 上記ノズルから上記窪みへ洗浄液を上方誘導する、ことを特徴とする微量滴定プ レートを洗浄する方法。
  17. 17.上記ノズルにバルブ制御された重力供給液体容器の液体が供給される、請 求項16の方法。
  18. 18.上記液体が圧縮ガスの圧力下で上記ノズルから上方へ誘導される、請求項 16の方法。
  19. 19.上記ノズル内の液体が上記ガスにより排出された後に上記圧縮ガスを上記 ノズルから更に誘導する、請求項18の方法。
  20. 20.上記ノズルは上記洗浄工程中に上記窪み内に設置されたオリフィスを有す る、請求項16の方法。
  21. 21.1微量滴定プレートを洗浄に使用後上記ノズルを浄化または放棄する、請 求項20の方法。
  22. 22.微量滴定プレート窪みの数に対応する間隔で設置された複数の上向きノズ ル、各上記ノズルは内腔とオリフィスを有する本体からなる, 各ノズルの上記内こうへ流体を分配するための手段、および 上記ノズルを上記分配手段へ着脱自在かつ同時に付勢するための手段であって、 各上記ノズルの基部は上記分配手段と係合して液体流を上記分配手段から上記ノ ズルの内腔を介して上記ノズルのオリフィスへ導くもの〜から成る装置に上記ノ ズルを設置する、請求項16の方法。
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