JPH04501584A - 有価金属の電解溶液から不純物元素を除去する方法 - Google Patents
有価金属の電解溶液から不純物元素を除去する方法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 126
- 239000012535 impurity Substances 0.000 title claims description 88
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 43
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 43
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 title claims description 30
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 title claims description 25
- 229940021013 electrolyte solution Drugs 0.000 title description 11
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 119
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 claims description 117
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 64
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 63
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 58
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 49
- NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3,3-dimethyl-7-nitro-4h-isoquinolin-1-one Chemical class C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(O)C(C)(C)CC2=C1 NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 38
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 36
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 35
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 claims description 34
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 31
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 30
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 28
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 26
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 25
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 22
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 21
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 19
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 18
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 12
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 11
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 claims description 10
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 claims description 10
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 7
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims description 7
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 7
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000004698 iron complex Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 4
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 claims description 4
- 238000005486 sulfidation Methods 0.000 claims description 4
- HJTAZXHBEBIQQX-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis(chloromethyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(CCl)=CC=CC2=C1CCl HJTAZXHBEBIQQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N arsenic trioxide Inorganic materials O1[As]2O[As]1O2 GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 2
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 claims description 2
- 238000009854 hydrometallurgy Methods 0.000 claims description 2
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 claims description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 claims description 2
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M sodium hydrosulfide Chemical compound [Na+].[SH-] HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonoethylphosphonic acid Chemical group OP(O)(=O)CCP(O)(O)=O XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 claims 1
- AQLMHYSWFMLWBS-UHFFFAOYSA-N arsenite(1-) Chemical compound O[As](O)[O-] AQLMHYSWFMLWBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VDQVEACBQKUUSU-UHFFFAOYSA-M disodium;sulfanide Chemical compound [Na+].[Na+].[SH-] VDQVEACBQKUUSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 claims 1
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 claims 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 11
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 10
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- UKUVVAMSXXBMRX-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trithia-1,3-diarsabicyclo[1.1.1]pentane Chemical compound S1[As]2S[As]1S2 UKUVVAMSXXBMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- -1 nickel metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N Etidronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)(C)P(O)(O)=O DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000012958 reprocessing Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- ZMBHCYHQLYEYDV-UHFFFAOYSA-N trioctylphosphine oxide Chemical compound CCCCCCCCP(=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZMBHCYHQLYEYDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N (3S)-octan-3-ol Natural products CCCCCC(O)CC NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1-hexanol Natural products CCCCC(O)CCC WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAOABCKPVCUNKO-UHFFFAOYSA-N 8-methyl Nonanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCC(O)=O OAOABCKPVCUNKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000566113 Branta sandvicensis Species 0.000 description 1
- 241000282994 Cervidae Species 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Chemical group CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical class [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001334 alicyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical class 0.000 description 1
- 229940058905 antimony compound for treatment of leishmaniasis and trypanosomiasis Drugs 0.000 description 1
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229940052288 arsenic trisulfide Drugs 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- NNLOHLDVJGPUFR-UHFFFAOYSA-L calcium;3,4,5,6-tetrahydroxy-2-oxohexanoate Chemical compound [Ca+2].OCC(O)C(O)C(O)C(=O)C([O-])=O.OCC(O)C(O)C(O)C(=O)C([O-])=O NNLOHLDVJGPUFR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 150000003841 chloride salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- WAXZYRRSEXJVLH-UHFFFAOYSA-N ethanol;phosphono dihydrogen phosphate Chemical compound CCO.OP(O)(=O)OP(O)(O)=O WAXZYRRSEXJVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000755 henicosyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001196 nonadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002895 organic esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Substances ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N phosphonous acid Chemical compound OPO XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000009853 pyrometallurgy Methods 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- YPMOSINXXHVZIL-UHFFFAOYSA-N sulfanylideneantimony Chemical compound [Sb]=S YPMOSINXXHVZIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G28/00—Compounds of arsenic
- C01G28/001—Preparation involving a solvent-solvent extraction, an adsorption or an ion-exchange
-
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- C01G30/00—Compounds of antimony
- C01G30/001—Preparation involving a solvent-solvent extraction, an adsorption or an ion-exchange
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G49/00—Compounds of iron
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
- C22B3/26—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds
- C22B3/28—Amines
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
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- C22B3/32—Carboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
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- C22B3/32—Carboxylic acids
- C22B3/322—Oxalic acids
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- C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
- C22B3/26—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds
- C22B3/38—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds containing phosphorus
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-
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- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
6価金属の電解溶液から不純物元素を除去する方法本発明は、液相抽出を行ない
、次いで不純物元素を再利用のために回収することにより、有価金属の電解溶液
から、ヒ素、アンチモン、ビスマスおよび/または鉄から選択される不純物元素
を除去するための改良された方法に関する。
以下の記述および請求の範囲においても使用するこの「有価金属」なる用語は、
その天然源、とりわけその鉱石から工業的な工程を経て得られ、金属の形態で、
所望により他の金属との合金の形態で使用される元素を意味すると理解される。
有価金属の回収において、乾式冶金法に加えて、湿式冶金法が重要な役割を果た
劃。鉱石中に含まれる金属または金属塩は、しばしば水系により溶解または浸出
され、有価金属は、そのような金属塩溶液から電解によって回収される。しかし
、鉱石中の有価金属の多くは他の金属と「連合」しているということにより、水
溶液の電解の効率は大きく損なわれる。すなわち、有価金属の回収のための電解
溶液は、有価金属の電解回収に悪影響を及ぼすか、または有価金属と共に妨害不
純物として沈積する不純物元素を、殆んど必ず多少含有する。従って、電解によ
り沈積させる有価金属の純度を高めるためには、有価金属の電解溶液から、不純
物元素をできるだけ多く除去することが望ましい。
銅、亜鉛、コバルトまたはニッケルの金属の単離は、例えば電解的方法によっζ
行なうことができる。しかし、そのような金属を含有する鉱石の浸出によって得
る水溶液は通例、不純物元素を多少含有する。そのような不純物元素を除去し、
および望ましくは回収するための満足できる方法は、それによって沈積する有価
金属の品質および量を改良できるためばかりでなく、不純物元素の回収および再
利用は経済的および生態学的な面で意味があることからも望まれている。
例えば乾式冶金精錬による超純粋な銅の製造は、別個に進行する2つの工程にに
って特徴付けられる。第1の工程である溶融冶金精錬においては、銅鉱石の溶鉱
により誘導した比較的不純な銅を溶融沈積する(「陽極炉」)。次の電解精錬に
おいては、不純物元素を分離し、一部は陽極スラッジ中に沈積させ、導電性の高
いいわゆる電気゛ 銅(銅99.99%まで)を陰極に沈積させる。このように
超純粋な銅で形成された陰極ブロックを、塑性変形(圧延、線引、プレスなど)
によって更に加工することができる。
銅の電解精錬の多くの妨害因子のうち、第一に、工程中に電解溶液中に増加する
ヒ素、アンチモン、ビスマスおよび鉄の量が非常に重要である。とりわけ、(行
なわれる度合が高まっているよう(:)そのような不純物元素含量のより高い粗
鉱を溶鉱、および後の精錬工程における加工に付すほど、不純物元素は、強硫酸
酸性電解溶液中にますます蓄積するであろう。その結果、銅精錬の電解溶液中に
、不純物元素であるヒ素、アンチモン、ビスマスおよび鉄がより高い濃度で存在
することになると考えなければならない。不純物元素の蓄積は、陰極に沈積する
銅の品質を低下して、ヒ素、アンチモンおよびビスマス不純物の含量を高めるだ
けでなく、(Fe”→Fe針の電位の躍ね上がりにより)電流効率を低下し、そ
れにより工程のエネルギーコストを高める。
沈積用の溶液からヒ素、および稀にはアンチモンを除去することができる多くの
方法が、従来技術により知られている。そのような方法のいずれにも共通するの
は、電解溶液中の不純物元素が限界濃度に達したら、とりわけヒ素10g/(!
の限度に達したら、電解溶液の部分流を精錬容器から出し、次いでいわゆる銅回
収電解に付すということである。その間に、残留する銅が溶液から電解により沈
積するだけでなく、前記不純物元素も除去される(いわゆる「分離セル」中)。
それによって得られる比較的不純な銅は、更に使用する前に、再溶融して所望の
純度にし7なければならない。前記元素を沈積後、強硫酸酸性溶液中には比較的
多量のニッケルのみが残り、これは蒸発により粗研酸ニッケルとして沈澱し、こ
れを更に精製して鉄、ヒ素および要すればアンチモン不純物を除去する。残る濃
硫酸は、最大限に工程に再循環する。
銅精錬電解液からヒ素を除去するために、電解水溶液を、トリブチルホスフェー
ト含有する有機相と接触させ、それによって、溶液中に含まれるヒ素を有機相中
に抽出する方法が、西独公開特許第2603874号に記載されている。米国特
許明細書第4115512号の方法においては、4級アンモニウム化合物と混合
したトリブチルホスフェートを含有する有機溶液をやはり抽出剤として使用する
。西独公開特許第2614341号および西独公開特許第2615638号の方
法においては、トリブチルホスフェート並びにホスホン酸、亜ホスホン酸、ホス
フィン酸および亜ホスフィン酸の有機エステルを有機溶媒と組み合わせて抽出剤
として使用して、銅電解溶液からヒ素またはアンチモンを除去する。欧州公開特
許第0106118号の方法においては、ケロシンのような有機溶媒中の有機リ
ン化合物、例えばトリオクチルホスフィンオキシト(T OP O)によっても
、ヒ素が銅精錬用の電解液から除去される。
西独公開特許第3423713号においては、硫酸含有電解液からヒ素を除去す
る他の方法が開示されており、該方法においては、有機相中の炭素原子数6〜1
3の脂肪族アルコール、好ましくは2−エチル−1−ヘキサノールを抽出剤とし
て使用する。6回の抽出の間に、全部ではないとしても大部分のヒ素を、電解溶
液から除去することができる。
しかし、前記方法のいずれもが、次のような欠点を有する:電解溶液からの不純
物元素の効果的な抽出を達成するためには、試薬を高濃度の状態で使用しなけれ
ばならない。このことは、例えば西独公開特許第2615638号(第4頁の最
後から2番目の段落と関連した請求項4参照)にそのまま記載されている。更に
、多くの方法において、抽出溶液中の酸濃度が高くなければならず、こねは実際
には、電解液の濃縮によって、電解液中のHf5OJ度を100〜250 g/
Qから約500g/(!に高めることによって達成される。
硫酸濃度がそのように高いと、有機リン化合物が溶液から不純物元素を抽出する
だI十でなく、硫酸も多量に有機相に移る。このことから、数回の洗浄工程が必
要となり、それにより、抽出された硫酸を回収し、工程に再循環1.なければな
らない。その北、有機リン抽出剤(とりわけT E3 P )は、そのような強
酸下には充分に安定ではなく、それ故、その効率は低下する。更に、前記方法の
いずれにおいても、無機相からの有機相の分離を改良するために、通例イソデカ
ノールであるいわゆる改質剤を抽出剤に加えな13ればならず、その改質剤゛は
、抽出剤の分解を促進することもあり得る。
更に、いずれの方法も、有機相からの不純物元素の実際の抽出工程の後に再抽出
を行なうという点で不利である。すなわち、西独公開特許第2614341号お
よq西独公開特許第2615638号によると、ヒ素を、有機相からアルカリ水
溶液により除去する3、しかし5、それによって、ヒ素は、(D’I)および(
V)の酸化状態゛ご得られる。所望の最終生成物としてAむOlが得られるよう
にするためには、5価のヒ素を、再抽出の前または再抽出の間に、通例Soyを
用いることによって更に還元しなければならない。これにより、他の装置および
化学薬品を含む追加の工程が必要となる。欧州公開特許第01061184によ
ると、ヒ素の再抽出のために、塩酸および他の鉱酸を使用する。再抽出における
クロリド含量を厳重に調節することによっでのみ、不都合にCQ−が精錬電解液
中に入って銅の精錬に悪影響を及ぼすのを防止することができる。この目的のた
めに、実際には、多段階循環システムが必要である。
銅電解溶液からの不純物元素の除去の例によって示される問題点は、他の有価金
属、例えば亜鉛またはニッケルの水溶液中の不純物元素による汚染にも当然同様
に当てはまる。個々の場合において、特に重要なのは、特定の不純物元素または
そのような元素群の分離であると考えられる。
この方向への第一歩は、西独特許出願P3725611.4号に記されている。
該特許出願は、溶媒抽出およびその後の不純物元素の回収により、有価金属の電
解溶液から、ヒ素、アンチモン、ビスマスおよび鉄を組み合わせて同時に除去す
る方法であって、有価金属の鉱酸電解水溶液を、1種またはそれ以上のヒドロキ
サム酸を含有する難水溶性有機溶媒と混合し、2相をよく混合し、不純物元素の
ヒ素、アンチモンおよびビスマスをスルフィド沈澱によって有機相から沈澱させ
、スルフィドを分離し、次いで、有機相中に残った鉄を、鉄に対する錯化剤によ
って水相中に再抽出し、そこから回収することを特徴とする方法に関する。
この従来の方法においては、不純物元素を、それを含む有機相からスルフィド沈
澱によって再抽出し、それにより不純物元素は、スルフィドのケーキとして得ら
11る。このケーキは通例、硫化ヒ素、硫化アンチモンおよび硫化ビスマスの成
分から成り、経済的に更に使用するために分離および再加工するのは困難である
ことが知られている。
前記の従来技術を考慮1. ′ic、本発明の目的は、有価金属の電解溶液から
不純物元素を除去し、次いで、該不純物元素を更に利用するために回収する方法
であって、不純物元素のヒ素(As)、アンチモン(Sb)、ビスマス(B i
)および/または鉄(Fe)、とりわけ主成分のヒ素を除去することができ、沈
澱剤の硫化水素を少ない量で使用する方法を提供することである。更に、本発明
の方法によって、不純物元素の個々の種類のイオンを選択的に除去し得るが、ヒ
素イオンの場合は、As(In)イオンまたはA s(V )イオンを選択的に
得ることもできる。最終的に、不純物元素のそのような選択的分離により、不純
物元素の、イオンを、例えば容易に更に加]ニジ得る形態で沈澱させることがで
きる。
驚くべきことに、温度、滞留時間、有機相/水相の体積比およびpH値のような
工程パラメータを一定のレベルに厳密に保持すれば、不純物元素のヒ素および/
またはアンチモンの有機相からの選択的再抽出を、水の使用によって達成し得る
ことがわかった。
有機溶媒中に溶解したヒドロキサム酸によって、水溶液から金属イオンを選択的
に抽出する方法は、従来技術により知られている。
西独特許第2210106号においどは、一般式(A)R’ 0
R’−C−C−NHOH(A)
R″″。
[式中、基Rはアルキル基を表わす。コで示されるヒドロキサム酸を用いること
により、再処理設備からの部分的に放射性の水溶液から遷移金属を抽出する。米
国特許第3464784号明細書によると、一般式(B)R−C−NHOH(B
)
[式中、Rは炭素原子数7〜44のアルキル、シクロアルキルまたはアリール基
、および好ましくは、カルボニル基に隣接して4級炭素原子を有するいわゆる「
ネオアルキル基」を表わす。コで示される有機可溶性ヒドロキサム酸によって、
4価のバナジウムを含有する水溶液からバナジウムを抽出する。「ジャーナル・
オブ・ケミカル・リサーチ(J 、 Chem、 Re5ereh)j (S)
1982.90以降においても、一般式(B)[式中、Rは炭素原子数10−1
5の分枝状アルキル基を表わす。コで示されるいわゆるベルサト(V ersa
to)−ヒドロキサム酸による遷移金属の溶媒抽出が記載されている。放射性残
留物質用の再処理設備から誘導される水溶液から、トリアルキルアセトヒドロキ
サム酸を用いることによって、種々の金属同位体を溶媒抽出することは、「リプ
リンッ・オブ・ジ l5EC’ 86(Reprints of the I
SEC’ 86)、1986年9月11−16日、ミュンヘン、355〜362
頁」に記載されている。
本発明は、ヒ素、アンチモン、ビスマスおよび/または鉄から選択される元素を
、有価金属の電解溶液がら液相抽出によって除去し、次いで不純物元素を回収す
る方法であって、−有価金属の鉱酸性電解水溶液を、一般式CI)I
R−C−NHOH(1)
[式中、Rは、炭素原子数6〜22の直鎖または分枝状の飽和または不飽和アル
キル基、炭素原子数19までのシクロアルキルまたはアリール基を表わす。]
で示される1種またはそれ以上のヒドロキサム酸を含有する難溶性有機溶媒と混
合し、
一水相と有機相とを、充分な接触時間の間、よく混合し、−相分離後、有機相を
除去し、
一有機相を硫化剤と混合し、
ヒ素、アンチモンおよびビスマスのスルフィド沈澱を、既知の方法で有機相から
分離し、
−次いで、所望により、または要すれば、有機相を、鉄に対する水溶性錯化剤ま
たはそのような錯化剤の水溶液と混合し、−生成した鉄錯体を水で再抽出し、
−並びに、残留有機相を既知の方法で再処理し、および/または後処理し、およ
び再循環する
ことから成る方法であり、有機相の除去後、すなわちスルフィド沈澱の前に、
一不純物元素を含有する有機相を、充分な接触時間の間、水で再抽出し、および
一水相中に再抽出された不純物金属を、所望により、または要すれば、既知の方
法で還元的に沈澱させ、副生成物として処理することを特徴とする方法に関する
。
本発明の方法は、一般的な用語のいわゆる「溶媒抽出」に該当する。
この用語は一般に、多少相互に不混和性または相互に不溶性の2種の液相を互い
に密に接触させ、それによって1種またはそれ以上の成分を、一方の相から他方
の相へ移動させる方法を意味すると理解される。その間に、種々の外部のパラメ
ータに応じて、通例、平衡に達する。そのようなパラメータを、個々の工程に対
して以下に説明する。
本発明の記載および請求の範囲において用いる「不純物元素」なる用語は、(用
いた原料および採用した溶鉱方法に応じて)多かれ少なかれ、いずれにせよ望ま
しくない不純物の濃度で、本発明に従ってそのような元素を除去し得る電解溶液
、とりわけ銅精錬電解用の電解溶液の中に溶解したヒ素、アンチモン、ビスマス
および鉄の元素を意味すると理解される。本発明の方法の範囲において、前記元
素の1種またはそれ以上が、異なる酸化数で存在し得る。すなわし、例えば不純
物元素ヒ素は、その水溶液中に、酸化数(III)または酸化数(V)で存在し
得る。
本発明によると、銅精錬電解方法により誘導される、ヒ素が通例不純物元素混合
物の主成分である水溶液から、前記不純物元素を除去することが好ましい。しか
17、本発明の方法は、そのような溶液からの不純物元素の除去に限定されるも
のではない。1種もしくは複数の前記不純物元素またはそれら4種全てを、他の
原料から誘導されるか、または他の方法において得られる、銅、亜鉛、ニッケル
または他の有価金属を含有する水溶液から除去することも可能である。
本発明の方法の第1の工程は、有価金属の鉱酸性電解水溶液を、一般式(1)
%式%(1)
C式中、Rは、炭素原子数6〜22の直鎖または分枝状の飽和または不飽和アル
キル基、または炭素原子数I9ま下・のシクロアルギルもしくはアリール基を表
わす。]
で示される1種またはそれ以北のヒドロキサム酸を含有ケる難溶性有機溶媒また
は抽出剤と混合することから成る。水に難混和性またit難溶性の不活性有機溶
媒には、例えば以下の化合物が包含される・沸点の高い脂肪族、脂環式もシ、<
は芳香族炭化水素またはその混合物、沸点の高い塩素化炭化水素、ケトンまたは
エーテル、またはそのような化合物の混合物。水に難溶性または水に難混和性の
有機溶媒として、従来技術により知られているように、ケロシンまたはその混合
物を使用することが好ましい。
有機溶媒の疎水性は、前記溶媒または抽出媒中に含まれる抽出剤の性質をも主に
決定する。そのような抽出剤は、一般式(I)で示されるヒドロキサム酸または
一般式(Dで示される複数のヒドロキサム酸の混合物である。前記一般式中の基
Rは、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル
、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オ
クタデシル、ノナデシル、エイコシル、ヘンエイコシルまたはドコンルの群から
選択する直鎖状アルキル基を表わし得る。しかし、前記一般式中のRは、前記直
鎖状アルキル基の分枝状異性体であることも可能である。同様に、直鎖または分
枝状であってもよい不飽和アルキル基が、飽和基の代わりに存在し得る。
抽出剤として使用するのが好ましいのは、Rが炭素原子数6〜22の分枝状飽和
アルキル基、好ましくは炭素原子数7〜19の分枝状飽和アルキル基である一般
式(1)で示されるヒドロキサム酸である。
抽出剤として使用するヒドロキサム酸は、有機溶媒にできるだけよく溶解しなけ
ればならC1その溶媒中で必要な安定性を有するという前記条件により、Rが一
般式(1)%式%()
[式中、基R’、R’および)(3の炭素原子数の合計は、6〜18の範囲内に
ある。]
で示されるネオアルキル基である一般式(I)で示される1種またはそれ以上の
ヒドロキサム酸を使用することが特に存利である。その上−)を水オアルキル基
は、ネオヘプチル、ネオヘプチル、ネオノニル、オオデノル、ネオウンデシル、
ネオドデシル、ネオトリデシル、ネイーナトーンデンル、ネオペンタデンル、ネ
オトリデシル、ネオヘブタデンル、ネオオクタデシルおよびネオノ士fシルの群
から選択される種々の異性体堝であり得る。ここで、基R1、nRおよびR3の
個々の意義は、該基の各々が炭素原子を少なくとも1個有する限り、あまり重要
ではiよい。一般式(I)で示さね、抽出剤として用いられるヒドロキサム酸の
、有機溶媒中ての最適な溶解性および安定性は、前記のようなネオアルキル基に
より確実なものとなる。
本発明の方法において使用し得る一般式(I)で示されるヒドロキサム酸は、当
分野で周知の方法に従って製造し得る。すなわち、例えば西独特許第22101
06号に従って、過剰の5OvCQtによってカルボン酸を対応する酸クロリド
に変換することができ、それをヒドロキシルアミンと反応させて、一般式(1)
のヒドロキサム酸を形成することができる。従って(ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・リサーチ(S)1982,90参照)、カルボン酸の反応およびその後のヒ
ドロキシルアミンとの反応により、一般式(1)の対応するヒドロキサム酸を形
成ケることも可能である。しかし、そのような化合物(1)の製造のための従来
技術により知られている他の方法も、同様に適用し得る。
有価金属の電解溶液から、ヒ素、アンチモン、ビスマスおよび鉄を除去するため
の本発明の方法において、特に有用な一般式(I)のヒドロキサム酸は、Rが、
一般式(II)で示され、一般式(Ii)中、基RI、R″およびR3の炭素原
子数の合計が8、または7〜17の範凹円であるネオアルキル基であるものであ
ることがわかった。そのようなヒドロキサム酸(1)は、シェル・ケミカル・コ
ーポレイション(Shell Chemical Corporation)か
らベルサティック゛アシッド(V ersatic acidX商標)の商標名
で得られる製品から、前記方法に従って製造する。そのようなヒドロキサム酸(
I)は、ある場合には、一般式(I)の分子中のRで示される部分に、基RIS
R1およびR3の炭素原子数の合計が8である一般式(II)のネオアルキル基
を有し、他の場合には、Rが、基R1、R″およびR3の炭素原子数の合計が7
〜17の範囲内である一般式(n)のネオアルキル基である一般式(1)の化合
物から成る。そのような生成物は、異なる鎖長を有するヒドロキサム酸の工業用
混合物から成る。それらは、所期の適用に対して最適の性質を有する、すなわち
有機相中の溶解性および安定性が高いだけでなく、前記不純物元素を最適の程度
に可逆的に積載する抽出試薬として使用できる。更に、そのようなヒドロキサム
酸は、有価金属の電解溶液の通常のpH範囲において非常に安定であり、室温で
も高温でも、遊離の鉱酸を抽出せず、特に、銅電解溶液から硫酸を抽出しない。
更に、そのようなヒドロキサム酸を含有する有機相は、後述の混合工程の後の相
の最適な分離が確実となる範囲の濃度を有する。すなわち、水相からの有機相の
分離における問題の発生は回避される。
本発明の方法の第2の工程は、水相と有機相とを充分な接触時間の間、よく混合
することから成る。2相の接触時間は、不純物元素の抽出量、特にヒ素の抽出量
を左右するパラメータの−っである。
所定の試薬濃度(詳細は後述)で、不純物元素のアンチモン、ビスマスおよび鉄
の大部分が、短い接触時間(3〜5分間)の後に実質的に抽出される。しかし、
ヒ素の場合は、有機相に吸収される量は非常に少ない。この現象は、通常の電解
溶液、特に、組成が粗銅陽極の品質および製造による影響を受け易い、銅精錬の
ための電解溶液において、アンチモン、ビスマスおよび鉄は比較的少量(約0.
1−0゜6g/+2)Lか含まれていないが、ヒ素の量は明らかにより多い(約
8〜20g/12以上)という事実によるものである。ヒ素をできるだけ多く抽
出することは望ましく、そのようにするには、接触時間を適当に延長し、および
/または有機相中の抽出剤濃度を適当に高めなければならない。一般式(I)の
ヒドロキサム酸の積載能を最大限に利用するために、水相と有機相とを、好まし
くは1〜60分間にわたって、特に好ましくは10〜20分間の間、よく混合す
る。この時間内に、銅電解溶液中に含まれるヒ素も、大量に有機相中に移動する
。
不純物元素の抽出量に関する他の重要なパラメータは、一般式(1)のヒドロキ
サム酸またはその混合物の濃度である。有機相中のヒドロキサム酸(I)の濃度
が高いと、不純物元素を積載する間に粘度が非常に高くなり、連続的な作業方式
において、2相の相互の混合がもはや確実ではなくなり得ることから、有機相中
の抽出剤の量は制限される。更に、前記のように、有機相からの水相の分離も、
粘度が高くなると、実質的により困難になる。従って、本発明によるど、本発明
の方法において、一般式(1)の1種またはそれ以上のヒドロキサム酸を、有機
相中の濃度0.1〜2.0モル/g、好ましくは有機相中の濃度0.5〜1.0
モル/Qで含有する何機溶媒、例えばケロシンまたはその混合物を使用すること
が好ましい。
2相を互いに接触させる温度は、通例20〜70℃の範囲内、好ましくは30〜
60℃の範囲内である。工程から取り出した電解溶液は、工程の操作により50
〜70℃の範囲の温度を有する。従って、連続的な作業方式において、混合器中
の混合物を別に加熱する必要は無い。前記の範囲の温度で、両方の相を互いに激
しく混合する。このことは、例えば、連続的な作業方式において、2相をいわゆ
る「ミギサセトう」に供給15、その中で、前記温度で面記時間互いに混合し、
次いで相をセトラ内で分離させるように行ない得る。
次の第3の工程においては、一般式(I)の1種またはそれ以上のビトロキサム
酸並びに抽出し7た不純物元素のヒ素、アンチモン、ビスマスおよび鉄を含有す
る角゛様相を、水相から取り去る。
第4の工程においては、不純物元素を含有する有機相を、充分な接触時間の間、
水で再抽出する。不純物元素ヒ素の水相・\の再抽出は、この工程を1回行なえ
ばもう達成される。この工程のパラメータは、有機相中に存在するヒ素の種類(
酸化数)および量に応じて変わる。例えば、As(II[)イオンは、As(V
)イオンよりも比較的速く水相中に再抽出される。このことは、下記の実施例に
よっテ説明する。
接触時間は、不純物金属の、有機相および水相の間の分布に影響する。本発明に
おい°ζ、2相を互いに混合する充分な接触時間は、1〜20分間、好ましべは
1O−=15分間の時間であることがわかった。2相の接触を保つ際の温度は通
例、20〜80℃、好ましくは50〜70℃の範囲内である。有機相と加える水
相との体積比は、可能ならば、再抽出後の相分離が基本的にまだ可能であり、そ
れによって、水相の濃縮とい・う前工程無し7に処理し得るような、不純物金属
含量のできるだけ高い水相が得られるような量の水と、有機相は接触するように
調節すべきである。
有機相100体積部当たり、5〜2000体積部の水を加えることが好ましい。
結局、pi(を弱酸性ないし強酸性の値に調節することにより、アンチモンと共
に、不純物金属ヒ素から成る主成分の部分を水相に移すごとが可能である。
0〜G、好ましくは1.5〜4の[)H値で、再抽出により、殆んど専らヒ素イ
オンを含有する水溶液を得る。ヒ素(II[)イオンの場合、要すれば溶液の濃
縮という前工程の後、直接沈澱により三酸化ヒ素を形成し得る。しかし、As(
V)イオンが水相中に再抽出されていれば、沈澱の前に還元を行なう必要がある
。
3〜6、好ましくは4〜6のp)(値では、再抽出により、水相中に、ヒ素を主
成分とし、アンチモンを小成分として含有する金属イオン混合物を得る。
第5の工程においては、水相中に再抽出した不純物金属を、所望により、または
要すれば、既知の方法で還元的に沈澱させ、副生成物として処理する。前記のよ
うなヒ素(V)イオンを含有する強酸性溶液の場合は、還元剤、例えば二酸化イ
オウまたは硫化水素を加えることによってそれを行なう。それによって得られる
、三酸化ヒ素または三硫化ヒ素を含有する純粋な沈澱を、既知の方法で更に加工
し得る。
ヒ素を主成分とし7、アンチモンを小成分として含有する酸性水溶液の場合は、
まず化合物を既知の方法でそれぞれに分離し、次いで更に加工して、それぞれヒ
素およびアンチモン化合物を形成しなければならない。ヒ素およびアンチモンの
元素は、特殊な工業的用途、例えばエレクトロニクス産業のために特に重要であ
る。
本発明の方法の第6の工程は、有機相を硫化剤と混合させることから成る。この
工程は、有偽金属の電蝕溶液からの不純物元素の抽出を非常ニ高イ鉱酸濃度(例
えばH,60,150〜250g、、/’C)テ行な・う本発明の方法において
は、重要である。すなわら、不純物元素の再抽出のために通例行ない得るような
酸濃度の上昇は、前記のような強酸性溶液からの不純物元素の除去には適用でき
ない。また、アルカリ性′Ltj液で有機相を処理4ることによって不純物元素
を再抽出することもできない。これは、一般式(I)で示されるヒドロキサム酸
は、とりわ(Jより高いアルカリ性域では、充分に安定ではないからである。不
純物元素のスルフィド沈澱は、簡単かつ驚くべき方法で、本発明の方法による不
純物元素含有有機相に直接適用し得るものであり、それにより、強酸性または強
アルカリ性の水溶液で処理することによる、有機相からの不純物元素の再抽出の
必要は無くなる。
本発明の方法において、適当な硫化剤は、硫化水素(H,S)ガスおよび/また
は無水硫化ナトリウムまたは硫化水素ナトリウムである。硫化水素を使用するこ
とが好ましい。これは、同時に2つの役割を果たすので、沈澱工程に特に適当で
ある:l4tSは、一方では、有機相からのヒ素、アンチモンおよびビスマスの
沈澱剤とし、て作用12、他方では(その「酸の」性質により)、一般式(I)
で示される抽出剤(ヒドロキサム酸)を再生する。
硫化水素を使用する、有機相からの直接スルフィド沈澱の適用において、言及す
べき重要な調節工程パラメータは、硫化水素圧、沈澱工程中の温度および反応時
間である。そのようなパラメータは、広範に変化し得る。不純物元素のスルフィ
ドの沈澱には、気体状の硫化水素を化学量論量で、または化学量論量を少し上回
る量で加えれば充分である。沈澱は、電解液中に存在する不純物元素の量から゛
予め計算した量のH2Sを導入し、不活性ガス、例えばN、を反応系に満たす
ごとによって行なう。しかし、沈澱工程の間に、I4□S圧を0.1〜50バー
ルの値、好ましくは0.5〜1バールの範囲内の値に調節することも可能である
。とりわけ、硫化ヒ素の沈澱には、高い14 t S圧が好ましい。少し高い圧
力(1〜3バール)を適用する場合には、沈澱反応を適当なガラス器内で行ない
得る;tなわら、高価な金属オートクレーブを使用する必要が無い。1.かじ、
より高い圧力(4バールおよびそれ以上)で行なうことを意図する場合には通例
、オートクレーブを使用する必要がある。しかし、抗腐食性の高い、すなわち高
価なオートクレーブ材料(例えばハステロイスチール)を使用する必要の無いこ
とは有利である;通常のスチール(例えばV4Aスチール)のオートクレーブを
使用(7得る。
沈澱の完全さは、他の工程パラメータ、すなわち温度によっても影響される。好
ましくは40〜90℃の範囲、特に好ましくは60〜80℃の範囲のより高い反
応温度で、有機相において、不純物元素ヒ素、アンチモンおよびビスマスのスル
フィドの完全な沈澱が達成される。
第:3の、・(ラメータである反応時間も、沈澱の超全さのために重要であり、
H1Sの導入中の有機相の反応器内滞留1寺肝1,1−実質的(こ一致する。反
応時間は、他の前記パラメータに応じて調節すべきであり、本発明の方法の好ま
しい態様に4、)い“ζは、1〜60分間、妊よj、7<は5〜20分間である
。
相互に影響し合う硫化反応のバラメーク全体の調節は、少数の簡単な試験も−よ
って行ない得る。本発明の方法の実施において、不純物元素含有i′機様相温度
80℃で、H、S圧0.5バ・−ルで硫化水素を導入12、反応時間15分間で
反応を行なう2二とが特に有用であることがわかった。そのような反応条件下に
、不純物元素アンチモンおよびビスマスは100%の量で沈澱(2、ヒ素も大部
分(80%およびそれ以上)が沈澱4゛る。ヒ素の完全な沈澱を達成するために
は、前記の特に好ましい範囲を越えて圧力を更に高めろか、または反応時間を延
長することが必要であり得る。
H、Sを有機相中に導入すると、不純物元素ヒ素、アンチモンおよびビスマスが
スルフィドとして沈澱する。沈澱の完了後、第7の工程において、沈澱を有機相
から既知の方法で分離1.得る。これは通例、適当なサイズのフィルターで有機
相を濾過するか、まには遠心分離することによって達成する。しかし、ヒ素、ア
ンチモンおよびビスマスから生成したスルフィド沈澱を反応媒体中で沈降させ、
上清有機相をデカントすることも可能である。いずれの方法を選択炙るかは、生
成するスルフィド沈澱のコンシスチンシー、および他の工程パラメータに応にて
、不純物元素の回収の完了に重大な影響無ぐ決める。沈R1,たスルフィドから
有機成分の残留物を除去するt−めに、スルフィドを、任意の有機溶媒、例えば
前記のような種類の炭化水素、または洗浄目的に適1.た他の溶媒(例えばアセ
トン、揮発性エステルなど)で洗浄することが可能である。それによって、ケー
・キからの有機成分の完全な除去が達成される。
水1:よる再抽出およびスルフィド沈澱の工程を交換1.でもよいことは、当業
者には明白であろう。
更に、その後の有機相からの鉄の除去に関連し、て、その有機相から、その中に
溶解したH 2 Sの全量をできる/iけ多く除去することが望まし、い。従っ
て、沈澱し、たスルフィドの濾去後、有機溶媒による前記洗浄工程のυtに、濾
過ケーキを酸、好ましくは硫酸のような鉱酸て任意に処理することがi”利であ
ると考えらSする。好ま1.<は、スルフィド沈澱後に得られる有機相を、不活
性ガスの吹き込みによ・。
ご排気的にパージする。それにより、溶解し1、または過剰に残留1゜ていたH
、 Sが完全に取り除かれる。この処理は0、密閉分離器内で濾過ケーキと鉱
酸とをよく混合することによ−)r接触さ什る。、: l:(、−:よって行な
ってもよい。用いた鉱酸を循環t1そイ1を後のバッチの精製工程における使用
のために提供ケるごどしより、この洗浄工程を連続的な作業方式1.−おいて実
現することが可能、?ある。
前記のよ・うに、1種またはそれ以上のヒドロキサム酸(1)によって、有価金
属の電解溶液から有機相に移動!7た後は2.既、1.“詳細に定義した条件の
下では沈澱しない。h一様相を塩基水溶液ご処理丈るごとによる鉄の再抽出は、
抽出剤(ヒドロキサム酸)の低い安定性の故に、大部分の損失無しには実行でき
ない。
有機相からの鉄の分離が望ましければ、これは、本発明の第8の工程において、
他の不純物元素のスルフィドとしての除去および過剰の硫化水素の除去の後に、
有機相を、鉄に対する水溶性錯化剤またはそのような錯化剤の水溶液ど直接混合
することによって達成する。鉄に対する水溶性の錯体形成剤として好ましいもの
は、塩化水素、ンユウ酸またはP−有機酸、とりわけヒドロキシエタンジホスホ
ン酸(HEDP)の群から選択する化合物、すなわち鉄に対して高い親和性を存
することが知られている錯化剤である。これらのうち、シュウ酸または塩化水素
が特に好ましい。
無機クロロ錯体またはオキサレートもしくはホスホネートとしての鉄の分離は、
有機相または(錯化剤の水溶液を加える場合には)水相中の錯化剤の濃度、錯化
剤またはその水溶液による有機相の処理時間および反応温度によって影響される
。前記のように、そのような工程パラメータも相互に関連している。実際に、鉄
に対する水溶性の錯体形成剤の有機相または水相中の濃度は、錯化剤0.1〜2
モル/Qの値、好ましくは錯化剤0.5〜1モル/Qの濃度であることが有利で
あり得るとわかった。鉄錯化工程の連続的作業方式(ミキサセトラ内で行なうこ
とが好ましい)において、前記錯化剤濃度では、1〜20分間、好ましくは5〜
15分間の接触時間が必要である。そのような処理時間は、室温での錯化工程の
実施に適用され、温度をとげる場合には、適当に短縮し得る。有機相を、有機相
または水相IQ当たり1モルのシュウ酸またはHEDPで、ミキサセトラ内で1
5分間の接触時間の間処理することが特に好ましい。そのような処理により、ス
ルフィド沈澱の工程を経、その後に鉄を0゜6g/Q含有していた有機相におい
て、鉄含量は0.07g/I2、すなわち約10分の1に低下し得る。
錯化剤を有機相中に直接加える場合、前記のような経路で生成した鉄錯体を、第
9の工程において、既知の方法により有機相から水で抽出する。この目的のため
に、有機相を充分量の水と密に接触させ、それにより、鉄錯体の水溶性は良好で
ある故に、水相への完全な移動が見られる。錯化剤の水溶液を加えた場合は、有
機相と密に混合し、次いで有機相から分離すると、水溶液は、電解溶液から抽出
された鉄を殆んど全部含有している。要すれば、この水相から、既知の方法で鉄
を回収し得る。
鉄に対する水溶性錯化剤として塩化水素を使用する場合、有機相中に含まれる鉄
は、完全に無機クロロ錯体に変換される。何機溶媒およびその中に含まれるヒド
ロキサム酸を再循環し、それによってそれらを新し、い抽出サイクルに供給する
ために、塩化水素および/または遊離塩素イオンを、完全ではなくても大部分、
有機相から除去しなければtζらない。この目的のために、充分量の塩化水素の
添加により、有機相中に溶解した鉄をアニオン性錯体の形態に変換した後、液体
イオン交換体としての2級アミン、例λば商標名「アンバーうイト(A mbe
rlite)(商標)LA2Jとして人手し得るイオン交換体゛こ、fr機様相
再度抽出する。このようにして抽出した鉄を、次いで水で再抽出し、得る。次い
で、有機相を、クロリドを含まなくなるまで水洗1.で、有機相およびその中に
含まれるヒドロキサム酸を、抽出サイクルにおいて更に使用可能にする。1回ま
たは2回の水洗工程の結果、有機相中のクロリド含量は50ppmに低下し、塩
化水素を調節的に導入した場合には30ppmにまで低下する。有機相中のクロ
リド含量は、数ppmまで低下することが好ましい。得られるヒドロキサム酸含
有有機相は、その後、不純物元素の抽出のために直接再使用し得る。
鉄の沈澱は、気体状の塩化水素の添加による以外に、水性塩化水素(塩酸)で有
機相を処理することによっても行なうことができ、その場合、1−12モルのH
Cl2、好ましくは3〜8モルのHCf2を使用することが実際に有用であるこ
とがわかった。塩化水素の濃度に関して、全体的に、水溶性錯体形成剤と見なす
べき塩素イオンの9は、前記範囲、すなわち0,1〜2モル/Q有機相としなけ
ればならない。それにより、全部の鉄が、無機クロロ錯体の形態に確実に変換さ
れる。次いて、後者を、水の添加後に、水性無機用と共にa様相から分H17、
それは、先に有機相で抽出1−た鉄の全部を含有する。
この場合も、一般式(1)のヒドロキサム酸が、(H,So、に関して上述した
のと同様に、)遊離の塩酸をあまり多量に抽出しないことが特に重要であること
がわかった。更に、クロロ錯体の形態で鉄゛ を再抽出する故に、有機相を水で
処理することによって除去できない水難溶性クロリド塩は生成しない。
基本的に、鉄を錯化する]工程は、不純物元素へ有有様相から不純物元素ヒ素、
アンチモンおよびビスマスをスルフィドとしご沈澱させる工程に含まれてよい。
この場合、再抽出剤を有機相と共に沈澱容器(高圧下に行な・う場合には、同様
にオートクレ・−ブであり得る)に人ねなければならない。次いで、ヒ素、アン
チモンおよびビスマスの元素の沈澱反応を、分離のみのための前記方法と全く同
様に行なう。ヒ素、アンチモンおよびビスマスの元素は、難溶性スルフィドとし
、て沈澱し、その場合、鉄は、用いた再抽出媒体(水性錯体形成相)中に同時に
移行する。しかし、再抽出媒体として塩化水素を使用しようとするならば、塩化
水素は耐腐食性の低いスチールを侵オので、鉄錯体の分離処理に関する前記記載
以外に、抗腐食性オートクレーブ材料を使用する必要がある。
同様に、鉄の再抽出工程を、スルフィド沈澱の前に行なってもよい。例えば、水
性HCQを鉄の錯化剤として使用する場合、再抽出lまた鉄の相は、ア゛7千モ
ンおよび少量のヒ素をも告口“オる。このことは、回収1.た水性クロリド相か
ら、鉄を容易薔こは再抽出できない、二と、tなわちア゛/ % %ンおよびヒ
素を先に除去しな0ればならないことを意味ずろ。この理由のために、最初に記
載し、た操作方式、オなわちスルフィド沈澱−スルフィド除去−その後ま六−は
ぞ゛れと同時の鉄の抽出および77友たは鉄の再抽出の順序か好ましい1、本発
明の工程の最後の工程においぜは、前記不純物元素を除去1−7た後の水相を、
既知の方法ご処理する3、この処理は、例えば銅電解溶液の場合、および銅溶鉱
に用いた鉱石に応じて、例λば二・!ゲルのような他の不純物元素を除去するご
とから成り得る。更に、結果として得られる有機相は実質的に、用いた溶媒また
は抽出剤および一般式(1)で示されるtWもしくはそれ以上の前記ヒドロキサ
ム酸である抽出剤のみから成るということに、厳密な注意を払うべきである。そ
の後、有機相は、抽出サイクルにおいて直接使用ケるのに適当である。所望によ
り、または要すれば、有機相に必要量の抽出剤、すなわち一般式(1)で示され
る1種またはそれ以上の前記ヒドロキサム酸を加えてよく、次いで、抽出工程に
すぐ再循環する。常に一定量の銅精錬電解溶液を電解装置から取り出し、それを
前記の部分的な工程に付すことによって、前記方法を連続的に行ない得る。
し5かし、方法を不連続的に行ない、銅精錬電解溶液を小部分量ずつ取り出+−
1不純物元素を含有する有機相をタンクに集めることも、同様に可能である。次
いで、集まった量の不純物元素含有有機相を合わせて、前記の沈澱および再抽出
の工程に付す。
本発明を以下の実施例によって更に説明する。
実施例1
本発明の方法により、実際の電解溶液(銅精錬電解法に由来するもの)からの不
純物元素の抽出を、ミキサセトラ内で連続的に行なうことができる。最初に用い
る電解溶液の組成C9/Q: + 2.0As; 0.030 Bi; 0.5
2 Sb; 0.30 Fe: 45 Cu; 1ONiおよび160 H,S
o、)によっては、および方法の部分的な工程に関して記載した関連するパラメ
ータによっては、わずか1工程の抽出が必要である。
有機溶媒または抽出溶媒として、エラ・バE 5so)社から[ニスカイト(E
seaidX商標)100jの名称で市販されているケロシンを使用した。
用いたヒドロキサム酸は、式
%式%
[式中、置換基R’、R’およびR3の炭素原子数の合計は、′7〜17の範囲
内にある。]
で示されるカルボン酸の混合物[シェル(Shell)社の製品ヴグーサテイン
ク(V ersaticX商標)1019]から調製したものであ−、・ノ″−
0有機相中の抽出剤の濃度は、0.5モル2/′Qであ、つた。
有機相は、以下の濃度の不純物金属を含有し、でいた(y、Q)・6゜5 As
; 0.52 Sb; 0.03 Biおよび0.30Fe01工程浸とう実験
(0/A比1 :1)において、4種の不純物元素A8、Sb、BiおよびFe
の再抽出を、第1表に示す種々の温度、滞留時間およびpl(値で行なった。
有−相を水相から分離後、前2者の元素を、水相による有機相の抽出(Jよ−・
て部分的に水相に移した:この方法において、強酸性の媒体(phi t 、
g〜・40)にfat、主成分元素ヒ素の45重量%までが再抽出され、塩基で
調節1.た弱酸性媒体(pH4〜6)には、主不純物元素ヒ素の一部に加えて、
アンチモン37重量%までが再抽出される。1工程浸とう実験の結果を、温度、
滞留時間およびpI−i値に対して第1表に示す。
第1表
20 60 2.3 +、0 3 0 060 60 2.0 32 3 0
080 5 2.0 234 0 0
80 10 1.9 35 3 0 080 20 +、9 40 3 0 0
80 30 1.9 40 3 0 0NaOHで調節
80 10 3.0 43 5 0 080 10 4゜0453200
80 10 5.0 3632 0 080 to 6.0 2137 0 0
不純物元素ヒ素、アンチモン、ビスマスおよび鉄を含有する実施例1の実際の電
解溶液を、前記ニスカイト(商標)100中のヴアーサティック(商標)101
9由来の0.5モルのヒドロキサム酸で最初に抽出1.た。次いで、抽出後に得
られた有機相を、同体積の新鮮な水で80℃の温度で多工程再抽出に付した。各
工程は15分間であった。得られた結果を第2表に示す。
As Sb Bi Fe
1 1.9 35 2 0 0
2 2.0 49 2 0 0
3 2.1 60 6 0 0
4 2、.4 63 6 0 0
5 2.6 66 4 0 0
実施例3
実施例1の実際の電解溶液を、前記ニスカイト(商標)100中のヴ、g+ティ
ック(商標)1019由来の05モルのヒドロキサム酸で最初に抽出した。次い
で、80℃で、滞留時間15分間で、有機相:水相の種々の体積比で水で再抽出
することによ−、て、再抽出等温式を測定1.た。
第3表
1:5 3.1 0.51 0.029 0゜30 ≦0.2 0.0077
<0.002 <0.0011:3 3.5 0.51 0.029 0.31
0゜7 0.017 <0.002 <Q、0O11:l 4.1 0.52
0.030 0.3+、3.0 0.019 <0.002 <0.0013
:1 4.9 0.51 0.030 0.30 6.0 0.033 <0.
002 <0.0015:1 5.4 0,52 0.030 0.30 7.
9 0.058 <0.002 <0.0011O:1 5.6 0.51 0
.030 0.30 12.0 0.087 <O,OQ2 <0.00120
:1 5.9 0,51 0.030 0.30 1g、Q Q、1880 <
0.002 <0.001実施例目こよる不純物元素を含有6″る有機相を水で
再抽出し、その後、Ht Sによるスルフィド沈殿に付した。
a)不純物含有有機相
抽出剤濃度は0.5モル/Qであった。
S b: 0 、3 g、Q
T3r: 0.1g/Q
As: 7.39/Q
b)水による再抽出
前記不純物含有有機相1100xi7を、蒸留水1100xCと共に、60℃で
15分間撹拌した(比0./Al:I:I工程法)、相分離後、2相を分析した
。
As: 5.Of?/& As: 2.39/Q。
水相のpi−i値は1.9であった。
c)HtSによるスルフィド沈殿
水による再抽出後の有機相を密閉容器に入れた。不活性ガスとして窒素を使用し
た。反応条件は次の通りであった・温度60°C; H,S圧0.5バール:反
応時間5分間、導入中に激しく混合。その後、反応混合物を窒素で約30分間パ
ージして、残留する溶解したH t Sを除去した。
スルフィド沈殿後の有機相中の含量:
Sb: 0.049/Q
Bi: <0.1 g/Q
As: 4.5 9/Q
時間を延長(15分間)するか、または同じ反応時間で温度を高める(80℃)
と、ヒ素を、有機相中の残量が1゜5g/12となるまで除去することができた
。所望により、または要すれば、西独特許第3725611.4号に記載のよう
に高圧を適用して、その残量を完全に沈殿し得る。
X貴男j
以下の実験は、As(II[)の水による再抽出は、As(v)の再抽出よりも
好ましいことを示す。
抽出剤として、実施例1に記載のようなヒドロキサム酸の0.5モルの溶液を使
用した。用いた電解水溶液は、硫酸(1509/ QIX 5S04)中の合成
H3ASO4溶液であった。As(V)濃度は101/12であった。抽出(比
0/A:1:1:室温で60分間)後、As(V)を6゜8g/12含宵する有
機相が得られた。
以下の抽出実験は、比0/Ai:1で、60℃で撹拌して行なり10 5.8
15
30 5.1 25
60 5.1 25
こわと比較して、As(III)の水による再抽出について調べた。
抽出後の有機相(抽出剤は前記の通り): As(III)6.49/(!。
用いた電解水溶液は、硫酸(15091C1中のAs、O,の溶液であった。A
s(III)濃度は、同様に1O910,であった。
再抽出実験は、前記と同様の条件下に行なった。
10 3.6 44
30 3.5 45
60 3.5 45
この実験は、As(TIE)は、10分後に既に高率で再抽出されることを示す
。A s (V )も再抽出されるが、そのためにはより長い接触時間が必要で
ある。
この挙動は、実施例6および7に記載のよ;)に、As(1m)およびAs(V
)を含有する有機相の2つの再抽出等温式からも明らかである。
実験条件:前記実験にお;3る記載と同様。
抽出後の何機相8合成溶液からA11(+1) 6 、4 q/(!6再抽出条
件: 10分間:60℃:蒸留水;0/A比を変化。
線数
xQ As(III)含量
O:A O:A O−相 A−相
5:l 50 ・ 10 5.3 6.93 : 1 30: io 4.7
5.62+1 20 ・ 10 4.1 4.81 ・ 1 20:20 3.
6 3.11: 2 10: 20 2.5 2,31:310 ・ 30 2
.2 2.11・51〇二501.61゜0
1:10 10:100 1.2 0.57実験条件=11q記の通り。
抽出後の有機相1合成溶液から、へS(V ) 6 、817/ Q0再抽出条
件:前記参照。
結果
zQ As(V)含量
0 :A O:A O−相 A−相
5: 1 50: io 6.5 2.13: 1 30: io 6.3 1
.62: 1 20: )0 5.9 1.71: 1 20: 20 5.8
1.01: 2 10: 20 5.8 0.571: 3 10: 30
5.4 0.611: 5 to: 50 5.4 0.321 : 10 1
0 : 100 4.7 0..20国際調査報告
11−一一吻−ムーー陣−−−串PC丁/EP 89/(11250国際調査報
告
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.ヒ素、アンチモン、ビスマスおよび/または鉄から選択される元素を、有価 金属の電解溶液から液相抽出によって除去し、次いで不純物元素を回収する方法 であって、−有価金属の鉱酸性電解水溶液を、一般式(I)▲数式、化学式、表 等があります▼(I)[式中、Rは、炭素原子数6〜22の直鎖または分枝状の 飽和または不飽和アルキル基、炭素原子数19までのシクロアルキルまたはアリ ール基を表わす。] で示される1種またはそれ以上のヒドロキサム酸を含有する水難溶性有機溶媒と 混合し、 −水相と有機相とを、充分な接触時間の間、よく混合し、−相分離後、有機相を 除去し、 −有機相を硫化剤と混合し、 −ヒ素、アンチモンおよびビスマスのスルフィド沈殿を、既知の方法で有機相か ら分離し、 −次いで、所望により、または要すれば、有機相を、鉄に対する水溶性錯化剤ま たはそのような錯化剤の水溶液と混合し、−生成した鉄錯体を水で再抽出し、 −並びに、残留有機相を既知の方法で再処理し、および/または後処理し、およ び再循環する ことから成る方法であり、有機相の除去後、すなわちスルフィド沈殿の前に、 −不純物元素を含有する有機相を、充分な接触時間の間、水で再抽出し、および −水相中に再抽出された不純物金属を、所望により、または要すれば、既知の方 法で環元的に沈殿させ、副生成物として処理することを特徴とする方法。 2.ヒ素、アンチモン、ビスマスおよび/または鉄の元素を鉱酸性銅精錬電解水 溶液から除去することを特徴とする請求項1記載の方法。 3.ヒ素、アンチモン、ビスマスおよび/または鉄の元素を、硫酸酸性銅精錬電 解水溶液から除去することを特徴とする請求項2記載の方法。 4.不活性有機溶媒として、炭化水素またはその混合物、塩素化炭化水素、ケト ンまたはエーテル、および好ましくはケロシンまたはその混合物を使用すること を特徴とする請求項1〜3記載の方法。 5.Rが前記と同意義である一般式(I)の1種もしくはそれ以上のヒドロキサ ム酸を含有するケロシンまたはその混合物を使用することを特徴とする請求項1 〜4記載の方法。 6.Rが炭素原子数6〜22、好ましくは炭素原子数7〜19の分枝状飽和アル キル基である一般式(I)の1種もしくはそれ以上のヒドロキサム酸を含有する ケロシンまたはその混合物を使用することを特徴とする請求項1〜5記載の方法 。 7.Rが一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II)[式中、基R1、R2およびR3の 炭素原子数の合計は、6〜18の範囲内にある。] で示されるネオアルキル基である一般式(I)の1種もしくはそれ以上のヒドロ キサム酸を含有するケロシンまたはその混合物を使用することを特徴とする請求 項6記載の方法。 8.一般式(I)の1種もしくはそれ以上のヒドロキサム酸を、有機相中の濃度 0.1〜2.0モル/lで、好ましくは有機相中の濃度0.5〜1.0モル/l で含有するケロシンまたはその混合物を使用することを特徴とする請求項1〜7 記載の方法。 9.水相とヒドロキサム酸含有有機相とを、1〜60分間、好ましくは10〜2 0分間の間よく混合することを特徴とする請求項1〜8記載の方法。 10.水相とヒドロキサム酸含有有機相とを、20〜70℃、好ましくは30〜 60℃の温度でよく混合することを特徴とする請求項1〜8記載の方法。 11.水相とヒドロキサム酸含有有機相とを、ミキサセトラ内でよく混合するこ とを特徴とする請求項1〜8記載の方法。 12.有機相の再抽出を、水を用いて、存在するヒ素の種類および量に応じて、 1回または複数回の再抽出によりAs(V)イオンよりもAs(III)イオン の方が比較的速く水中に再抽出されるように行ない、再抽出されたAs(V)イ オンが存在すれば、それを還元し、全部のヒ素をAs(III)イオンとして沈 殿させることを特徴とする請求項1〜11記載の方法。 13.水による有機相の再抽出を、相をよく混合することによって、1〜20分 間、好ましくは10〜15分間の間行なうことを特徴とする請求項1〜12記載 の方法。 14.水による有機相の再抽出を、相をよく混合することによって、20〜80 ℃、好ましくは50〜70℃の温度で行なうことを特徴とする請求項1〜12記 載の方法。 15.水による有機相の再抽出を、有機相100体積部に対して5〜2000体 積部の水を加えることによって行なうことを特徴とする請求項1〜12記載の方 法。 16.水による有機相の再抽出を、0〜6、好ましくはは1.5〜4のpH範囲 で行ない、それにより、ヒ素の一部を選択的に水相に移し、次いで、As(II I)の場合、亜ヒ酸および/または三酸化ヒ素を生成することを特徴とする請求 項1〜12記載の方法。 17.水による有機相の再抽出を、3〜6.0、好ましくは4〜6のpH範囲で 行ない、それにより、主成分ヒ素に加えて、小成分アンチモンを水相に移すこと を特徴とする請求項1〜12記載の方法。 18.硫化剤として、H2S、無水Na2SまたはNaHS、好ましくはH2S を使用することを特徴とする請求項1記載の方法。 19.H2Sを、化学量論量たは化学量論量を少し越える量で反応系に導入し、 次いで反応系に不活性ガスを導入することを特徴とする請求項1〜18記載の方 法。 20.スルフィド化を、0.1〜50パールのH2S圧下、好ましくは0.5〜 1バールの圧力下に行なうことを特徴とする請求項1〜18記載の方法。 21.スルフィド化を、40〜90℃、好ましくは60〜80℃の温度で行なう ことを特徴とする請求項1〜18記載の方法。 22.スルフィド化を、1〜60分間、好ましくは5〜20分間の反応時間の間 行なうことを特徴とする請求項1〜18記載の方法。 23.スルフィド沈殿の後に得られる有機相から、過剰の、および/または溶解 した硫化水素を、不活性ガスの吹き込み、または不活性ガスによるパージによっ て完全に除去することを特徴とする請求項1および18〜22記載の方法。 24.沈殿したスルフィドを有機相から濾去し、濾過ケーキを、所望により、ま たは要すれば、鉱酸、および次いで有機溶媒で洗うことを特徴とする請求項1お よび18〜22記載の方法。 25.鉄に対する水溶性錯体形成剤として、HCl、シュウ酸およびヒドロキシ エタンジホスホン酸の群の化合物を使用することを特徴とする請求項1記載の方 法。 26.鉄に対する水溶性錯体形成剤を、0.1〜2モル/lの濃度、好ましくは 0.5〜1モル/4の濃度で使用することを特徴とする請求項1〜25記載の方 法。 27.鉄に対する水溶性錯体形成剤との反応を、1〜20分間の間、好ましくは 5〜15分間の間行なうことを特徴とする請求項1〜25記載の方法。 28.鉄に対する水溶性錯体形成剤との反応を、ミキサセトラ内で行なうことを 特徴とする請求項1〜25記載の方法。 29.鉄に対する水溶性錯体形成剤として塩化水素または水性塩酸を使用する場 合、塩化水素または塩酸を加えた後、鉄含有相を、2級アミンの形態の液体イオ ン交換体と混合し、次いで、そのようにして抽出した鉄を水で再抽出することを 特徴とする請求項1および25〜28記載の方法。 30.除去した不純物元素を更に利用するために、該不純物元素を、スルフィド 沈殿および/または再抽出溶液から、溶融冶金または湿式冶金法によって回収す ることを特徴とする請求項1〜29記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3836731.9 | 1988-10-28 | ||
| DE3836731A DE3836731A1 (de) | 1988-10-28 | 1988-10-28 | Verfahren zur abtrennung von stoerelementen aus wertmetall-elektrolytloesungen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04501584A true JPH04501584A (ja) | 1992-03-19 |
Family
ID=6366095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1511498A Pending JPH04501584A (ja) | 1988-10-28 | 1989-10-19 | 有価金属の電解溶液から不純物元素を除去する方法 |
Country Status (18)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5039496A (ja) |
| EP (2) | EP0370233B1 (ja) |
| JP (1) | JPH04501584A (ja) |
| KR (1) | KR900702060A (ja) |
| AU (1) | AU621163B2 (ja) |
| CA (1) | CA2001564A1 (ja) |
| DE (2) | DE3836731A1 (ja) |
| ES (1) | ES2059673T3 (ja) |
| FI (1) | FI93972C (ja) |
| IL (1) | IL92137A0 (ja) |
| MX (1) | MX172722B (ja) |
| PT (1) | PT92127B (ja) |
| TR (1) | TR24036A (ja) |
| WO (1) | WO1990004654A1 (ja) |
| YU (1) | YU207889A (ja) |
| ZA (1) | ZA898202B (ja) |
| ZM (1) | ZM3689A1 (ja) |
| ZW (1) | ZW13489A1 (ja) |
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| US7491036B2 (en) | 2004-11-12 | 2009-02-17 | Tokyo Electron Limited | Method and system for cooling a pump |
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| US7291565B2 (en) | 2005-02-15 | 2007-11-06 | Tokyo Electron Limited | Method and system for treating a substrate with a high pressure fluid using fluorosilicic acid |
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Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| FR2128426B1 (ja) * | 1971-03-02 | 1980-03-07 | Cnen | |
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| LU72319A1 (ja) * | 1975-04-18 | 1977-02-10 | ||
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-
1988
- 1988-10-28 DE DE3836731A patent/DE3836731A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-10-04 TR TR89/0884A patent/TR24036A/xx unknown
- 1989-10-04 ZM ZM36/89A patent/ZM3689A1/xx unknown
- 1989-10-19 AU AU45077/89A patent/AU621163B2/en not_active Ceased
- 1989-10-19 EP EP89119428A patent/EP0370233B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-19 DE DE89119428T patent/DE58906257D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-19 ES ES89119428T patent/ES2059673T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-19 JP JP1511498A patent/JPH04501584A/ja active Pending
- 1989-10-19 EP EP89912423A patent/EP0490893A1/de active Pending
- 1989-10-19 KR KR1019900701283A patent/KR900702060A/ko not_active Withdrawn
- 1989-10-19 WO PCT/EP1989/001250 patent/WO1990004654A1/de not_active Ceased
- 1989-10-25 ZW ZW134/89A patent/ZW13489A1/xx unknown
- 1989-10-26 CA CA002001564A patent/CA2001564A1/en not_active Abandoned
- 1989-10-27 PT PT92127A patent/PT92127B/pt not_active IP Right Cessation
- 1989-10-27 ZA ZA898202A patent/ZA898202B/xx unknown
- 1989-10-27 US US07/428,275 patent/US5039496A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-27 MX MX018133A patent/MX172722B/es unknown
- 1989-10-27 YU YU02078/89A patent/YU207889A/xx unknown
- 1989-10-27 IL IL92137A patent/IL92137A0/xx unknown
-
1991
- 1991-04-25 FI FI911998A patent/FI93972C/fi not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FI911998A0 (fi) | 1991-04-25 |
| ZW13489A1 (en) | 1990-09-05 |
| ZA898202B (en) | 1990-07-25 |
| EP0370233B1 (de) | 1993-11-24 |
| MX172722B (es) | 1994-01-10 |
| PT92127B (pt) | 1995-06-30 |
| EP0370233A1 (de) | 1990-05-30 |
| DE58906257D1 (de) | 1994-01-05 |
| AU4507789A (en) | 1990-05-14 |
| FI93972C (fi) | 1995-06-26 |
| AU621163B2 (en) | 1992-03-05 |
| ES2059673T3 (es) | 1994-11-16 |
| DE3836731A1 (de) | 1990-05-03 |
| EP0490893A1 (de) | 1992-06-24 |
| ZM3689A1 (en) | 1990-05-28 |
| US5039496A (en) | 1991-08-13 |
| IL92137A0 (en) | 1990-07-12 |
| CA2001564A1 (en) | 1990-04-28 |
| KR900702060A (ko) | 1990-12-05 |
| TR24036A (tr) | 1991-02-06 |
| FI93972B (fi) | 1995-03-15 |
| WO1990004654A1 (de) | 1990-05-03 |
| YU207889A (en) | 1991-02-28 |
| PT92127A (pt) | 1990-04-30 |
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