JPH04506430A

JPH04506430A - 光学部材複製用のマスター

Info

Publication number: JPH04506430A
Application number: JP2509590A
Authority: JP
Inventors: ティアン，ユアン―シェン; パン，キー―チュアン; オリン，ジョージ・ラッセル; メイヤー，トーマス
Original assignee: イーストマン・コダック・カンパニー
Priority date: 1989-06-23
Filing date: 1990-06-19
Publication date: 1992-11-05
Also published as: EP0478714A1; CA2057017A1; US5051340A; WO1991000598A1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】光学部材複製用のマスター発明の分野本発明は、光学部材の復製に用いられるマスターの製法及びマスターそれ自体に関するものである。また、本発明のマスターをスタンパ−として使用する復製法についても記載する。

従来技術の説明多量の情報を含む光学部材をつくることは、この技術分野において周知のことである。ビデオディスク及びデジタルオーディオディスクは一般的な光学部材である。これらの部材を容易にかつ安価に復製することができることが望まれていることは、明らかである。

一般に、光学ディスクは射出成型法又は２−Ｐ　（”　２−Ｐ”は光重合（２ｈａｔｏｐｏ１ｙ＋５ｅｒｉｚａｔｉｏｎ）を略記したものである）、法のいづれかを用いて復製される。これらの方法では、まずフォトレジストを被覆したガラスディスクの形のマスターディスクに変調レーザービームを照射し、フォトレジストの現像の後、好ましい情報をフォトレジスト層にビット及び／又は溝のレリーフパターンの形でコード化する。照射し、現像したフォトレジストは直接使用することができないので、このマスターディスクを金属化して、次のニッケル電気メツキ工程のために導電性の表面にしなければならない。ニッケルメッキ層をマスターディスクから剥がして、スタンパ−と呼ばれるものを形成する。次に、中心孔をあけ、外径を好ましい寸法にトリムし、そして裏面を磨いて、スタンパ −を射出成形機又は２−Ｐ機に取り付けて、複製プロセスを行うことができるようにする。

線にのみ敏感であることである。これには、情報パターンをフォトレジスト層に形成するために、気体ＵＶレーザーを用いる必要がある。これらめレーザーは高価で扱いにくく、制御するのが難しい。これらは、レーザーを集めるのに必要な諸表平４−５０６４３０　（２）光学素子とは別個に取り付けなければならず、調整に経費がかかりかつ難しい。

別の間点は、フォトレジスト層によるレーザービームの吸収が非常に非能率的であることである。その結果、レーザー照射工程は比較的遅い速度で行わなければならず、工程の処理量が限られてしまう。

別の間開は、フォトレジスト層がその後の現像工程中に膨潤する傾向があることである。このため、記録される情報の分解能及び有効な充填畜産が限定される。

これはまた、複製の特徴のある寸法の細い調整が必要なとき、復製プロセスを複雑にする。

別の問題は、スタンパ−の製造プロセスが複雑なことである。このプロセスには、金属化、電気メッキ、磨き、剥離、孔あけ及びトリミングが含まれる。その結果、装置は高価なものとなり、歩留まりは低くかつ時間のかかる方法となる。

光学部材のＴｌ！製法に関する技術は広５囲にわたっている。多数の特許の中のいくつかについてのみここで述べる。１９８８年２月９日発行の米国特許第４，７２４．０４３号には、マスター用のガラス支持体を初めに酸化物又は窒化物で被覆する方法が記載されている。さもなければ、方法は一般的なものとなり、上記の全ての難点を有することになる。１９８７年３月１７日発行の米国特許第４゜６５０．７５３号には、フォトレジストを用いてマスターを形成する別の新しい方法が記載されている。

米国特許第４．５６５．７７２号には、変調レーザービームを照射した後、スタンパ−として直接用いることができる、輻射線に敏感な材料が記載されている。

この輻射線に敏感な材料はＷａＳな多層構造体である。これは、レーザーエネルギーを照射すると気体を放出し、それによって上にある金属層が変形する、輻射線に敏感な層によるものである。

従って、マスターの製造にフォトレジストを用いる必要のない、光学部材の復製法がめられ続けてきた。この方法は単純かつ素早く行われて、信頼性及び処理量か増大するものでなければならない。

るものである。フォトレジストは用いない。その代わりに、相変化光学記録部材を初めに露光して、この種の部材に一般的なように、記録層にパターンを形成する。従って、例えば、結晶質領域のパターンは、非晶質とは別の状態の層に形成され、あるいは非晶質材料のパターンは、結晶質とは別の状態の層に形成される。

その後、非晶’ｊｉ［６Ｊｉ＠又は結晶質領域のいづれかを選択的にエツチングすることによって、マスターが形成される。

従って、本発明の１つの態様は、光学部材ｖＩ製用のマスターの製造法を提供するものであり、その方法は、ａ）　相変化光学記録層上に情報変調エネルギービームを集めて、上記の層に上記の情報に相当する２つの異なる相のパターンを形成し；そしてｂ）　上記の２つの異なる相のうちの１つを選択的にエツチング除去して、上記情報に相当するレリーフパターンを形成する、工程よりなる。

本発明の別の態様は、上記の方法によって製造したマスターを提供するものである。

本発明の別の態様は、上記レリーフパターンをメッキしてスタンパ一層を形成し、次に、上記スタンパ一層を上記マスターの表面から除去する追加の工程を含む、上記マスターからスタンパ−を製造する方法を提供するものである。

本発明のさらに別の態様は、スタンパ−として上記のマスターを用いる、光学部材の復製法を提供するものである。

本発明の他の態様については、以下の詳細な説明から明らかになるであろう。

図面の簡単な説明図１は、本発明によるマスターの製法を説明する図である。

図２は、本発明のマスターを用いて製造した復製ディスク表面の写真である。

発明の詳細な説明光学部材はディスクの形で製造されるのが最も一般的である。しかしながら、明らかなように、本発明の復製法は、この形の部材に限定されない。例えば、クレジットカード形の部材のような他の形も考えられる。他の形に適応させることは、当業者であれば容易に行うことができるのは無論のことであるので、都合上、本発明は、光学部材製造用のマスターを製造する改良法を提供するものである。

この方法では、従来のマスター法におけるフォトレジスト層の代わりに、相変化光学記録層を用いる。相変化層は一般に、ダイオードレーザ−線に敏感である。

従って、面倒な気体レーザーの使用を避けることができる。相変化を引き起こすエネルギーに対する層の感度は通常、非常に高い。照射工程の速度は従って、フォトレジスト及びＵＶレーザーを用いる方法に較べて大きく改良することができる。

マスターの製造に通常用いられるフォトレジストの膨潤性に伴う間開は、完全に解消される。

本発明の方法では、前の工程を確実にうまく終わらせるために、マスターをその製造における様々な工程で試験することができる。従って、本方法は、難しいスタンパ−のメッキ及び剥離工程を行う前に、再出発させることができ、無駄な努力が少なくなる。例えば、相変化層における情報は、エツチング工程の前後で確認することができる。

相変化記録材料の、これらを被覆する支持体への接着はすぐれている。さらに、相変化材料は金属合金であり、従って、非常に耐久性がある。例えば、露光及び現像したフォトレジストよりも、ずっと耐久性がある。従って、本発明のマスターはスタンパ−として直接用いることができ、例えばニッケルメッキによる、別のスタンパ−をつくる必要は全くなくなる。

本発明のマスターをスタンパ−として複製プロセスに用いうろことは、本発明の重要な利点である。この特徴によって、わずか数百の複製が初めて経済的に可能となる。従来の方法では、１つの復製当たりのコストを妥当なものにするために、極めて高いニッケルスタンバ−形成コストを、非常に多数の複製に振り分けなければならなかった。実際に、本発明のマスターを作る速度及び容易さから、数千以下の復製が必要な場合の簡単な追加のマスターの製造が経済的に可能になる。もちろん、本発明のマスターの製造し易さはまた、ニッケルスタンパ−が極めて長期の連続生産に必要とされる場合でも有利である。

本発明は、同じ合金の２つの異なる相のエツチング速度の差を利用するものである。２つの異なる相が形成される場合、はとんど常にエツチング速度が異なる。

従って、本発明ではどのような相変化光学記録材料も用いることができる。通常、相変化光学記録に用いる２つの相は非晶質相と結晶質相である。これらの材料に対して、結晶質相を選択的にエツチングし、非晶質相をエツチングしないかあるいは非晶質相をずっと遅い速度でエツチングするエツチング剤を見いだすことができる。

従って、非晶質の相変化光学記録層を準備し、情報を非晶質層中の結晶質のマーク及び／又は溝の形で記録することによって、本発明のマスターを形成するのが好ましい。次に、結晶質のマークを選択的にエツチングして、好ましいレリーフをマスター表面に残す。

本発明の方法を図１で説明する。図１ａは、照射する前の相変化光学記録部材を示す図である。この部材は、上に相変化光学記録層２０を有する支持体１０よりなる。図１ｂは記録後の図１８の部材である。層には非晶質材料２２の未記録部分及び結晶質材料２４の記録部分がある。図ＩＣは、エツチング後の部材を示す図である。図１ｂの結晶質部分２４はエツチング除去されて、非晶質部分２２が残っている。得られた部材はここにｆｃ’載のようなマスター又はスタンバ−として用いることができる。

本発明は、結晶質傾城をエツチングすることに限定されない。材料によっては、非晶質頭載を選択的にエツチングしてもよい。他の材料、例えばヨーロッパ特許出願第０１８４４５２号では、２つの異なる結晶質相の間の差として情報を記録している。従って、これらの相の１つを選択的にエツチングしてマスターを形成することは、本発明の範囲内のことである。

相変化記録材料の選択は限定されない。本発明で用いる有用な相変化光学記録材料については、例えば。

パン（Ｐａｎ）　、タイアン（Ｔｙａｎ）及びプロイス（Ｐｒｅｕｓｓ）の１９８＆年２月１５日付ヨーロッパ特許出願第３０１２４０．３号（アンチモン−錫そしてアンチモン−錫及びインジウム）。

パン、タイアン及びマリン（ｌｌａｒｉｎｏ）の１９８９年１月３日発行米国特許第４゜７９５．６９５号及び１９８９年３月１４日発行第４，８１２，３８６号（アンチモン−錫及びゲルマニウム）：パン、タイアン及びバザン（Ｖａｚａｎ）の１９８９年１月１７日発行米国特許第４．７９８．７８５号及び１９８９年９月１２日発行米国特許第４．　８６５．　９５５号（アンチモン−錫及びアルミニウム）。

パン、タイアン及びプロイスの１９８８年９月２７日発行米国特許第４．　７７４．１７０号及び１９８９年３月１４日発行米国特許第４．８１２．３８５号（アンチモン−錫及び亜鉛）；パン、タイアン、バザン及びプロイスの１９８９年８月８日付ヨーロッパ特許出Ｉｊ第１１４６３６．７号（アンチモン−錫及び様々な第３の元素）；タイアン、レイチョードリ（Ｒａｙｃｈａｕｄｈｕｒｉ　）及びバザンの１９８９年１１月１３日付ＰＣＴ出願第０４９７５号（アンチモン−錫−インジウム及び第４の元素）：そしてパン、タイアン及びバザンの１９８９年１２月７日付ＰＣＴ出願第０５４３５号。

他の有用な光学記録相変化材料にはゲルマニウム−テルル合金、特にアルミニウム、チタン、錫及びアンチモンを含有するこれらの合金がある。これらの相変化光学記録材料は、ダイオードレーザ−線に高い感度を有し、化学的に安定であり、そして境界が十分に明らかな結晶質マークを形成するので、特に適している。

これらの材料は、約１００オンゲスドームないし約２０００ミクロンの厚さの連続した薄いフィルムの形で用いられる。

個々のエツチング剤の選択も限定されない。エツチング剤は、相変化材料の相の１つを選択的にエツチングするように選ぶ。一般に、これらのエツチング剤溶液は、適当な溶媒に酸、塩基又は酸性もしくは塩基性酸化成分を含むものからなる。特に、これらのエツチング剤には濃塩駿及びこれを水で０．０１容量％まで希釈したちの：濃硫酸及びこれを水で約０．０容量％１まで希釈したもの；約０゜０１−１２重量％の濃度のシュウ酸水溶液：約０．０１−１２重量％の濃度の（ＮＨ４）ｚｓｚｏｓ水溶液：約０．０１−１２重量％の濃度のＮａ２Ｃｒ２０を水溶液：約０．０１−１２重量％の濃度（ＤＫｓＦｅ　（ＣＮ）＠水ｔｅａ：約０．０１−１２重量％の濃度の水酸化カリウム及びナトリウム水溶液；約０．０１−１２重量％の濃度の水酸化アンモニウム水溶液が含まれる。２種以上の上記エツチング剤のいづれの組み合わせも有用である。

相変化光学記録層のエツチング剤による湿潤性及び広い傾城のより均一なエツチング性を向上させるために、適当な表面活性剤を、有用な湿潤特性が得られるのに十分な量で加えてもよい。有用な表面活性剤には、トリトン（商ｔＭ）の名〔例えば、トリトンＸ−１００（商標）及びトリトン（商標）ＮＩＯＩ）］で又はノニデット（Ｎｏｎｉｄｅｔ）もしくはマリン（例えば、ノニデットＰ−４０及びマリン３５）の商標で販売されているポリオキンエチレンエーテル、トウィーンの商標（例えば、トウイーン２０又はトウィーン４０）で販売されているポリオキシエチレンソルビタン誘導体及びタージトールの商ｍ＜例えば、タージトールＮＰＸ及びＮＰ−７）で販売されているポリグリコールエーテルがあるが、これらに限定されない。他の有用な表面活性剤には、フルオラッド（簡標ンの名、例えばフルオラッドＦＣ−９９、で販売されているような弗素化表面活性剤がある。

非晶質フィルム及びレーザー結晶化マークの表面酸化の程度は、エツチング速度に影響を及ぼすことがＵ察された。その結果、最適なエツチング時間は、フィルムの貯蔵時間及び貯蔵環境によって決まる。新しく製造された合金フィルムの新しく書かれたマークをエツチングするのが、本発明の好ましい具体例である。

エツチング工程は一般的な方法で行う。照射した相変化光学記録層をエツチング浴に浸しても、あるいはエツチング浴を照射面に噴霧してもよい。層をエツチング浴に浸し、そして均一なエツチングを促すためにエツチングの間、層を回転させるのが好ましい。

上記の方法で形成されたマスターは、本発明の別の態様である。すなわち、復製光学部材製造用のマスターを提供するものであり、このマスターは、光学部材に移された情報に相当するレリーフパターンを有するエツチングした相変化光学ｉｃ！録層を上に有する支持体からなる。

選択した相変化層のガラスへの接着性がすぐれ、かつ材料の耐摩耗性が良好なため、ガラス支持体マスターは、２−Ｐ法におけるような適当な重合体との接触プレスによる情報再生用スタンパ−として直接用いることができる。これによってスタンバ−製造プロセスは非常に簡単になるこの具体例において有用な光重合性重合体組成物はこの技術分野で周知であり、例えば、米国特許第４．７２９．９３８号、第４．２９６．１５８号、第４．　３１２．８２３号及び第４，６６８．５５８号に記載されている。特に好ましい組成物は下記のものである；ヘキサンジオールジアクリレート（４０重量部）；ペンタエリトリトールトリアクリレート（２０重量部）：セルラッド（Ｃｅｌｒａｄ）　（商ｍ）３２００、インテレッツ社のジアクリレート化工ポ牛シオリゴマ−（４０重量部）及びプロキュア（Ｄａｒｏｃｕｔ）　（商標＞１１７３、ＥＭインダストリーズ社の芳香族ケトン光重合開始剤。これについては実施例９に記載があり、これは図２の複製の製造に用いられた材料である。

本発明のマスターはまた、光学ディスク復製及び／又は支持体製造用のニッケルスタンパ−の製造にも用いることができる。エツチングした相変化マスターは、熱による結晶化又はフラッシュ結晶化を行うことができる。これはまた導電性に被覆し、ニッケルでの電気メッキを行い、そしてニッケル複製物を磨き、剥がし、孔をあけそしてトリムして、一般的な方法でニッケルスタンパ−を得ることもできる。

上記のように、本発明のマスターは、２−Ｐ法におけるスタンバ−として直接用いることができる。これらはまた、射出成形法に直接用いることもできる。この具体例では、相変化光学記録材料を初めに耐久性の支持体上に被覆するのが好ましい。適した支持体には「ブランク」ニッケルスタンパ−１磨いたステンレス鋼及び構造用重合体等がある。

復製の射出成形に用いうる重合体は一般的なものである。有用な重合体には、ポリ（塩化ビニル）：塩化ビニル酢酸ビニル共重合体；ポリカーボネート樹脂：ポリ（メチルメタクリレート〕　；及びポリスチレンが含まれる。好ましい例にはモベイ　マークＯＯン（ｌ［ａｒｋｒｏｌｏｎ）　（商ａｍ）ＤＰ−１−１２− １８ポリ力−ボネート及びティン　パンライト（Ｔｅｙｉｎ　Ｐａｎ１ｉｔｅ）　（商標）ＡＤ５５０３ポリカーボネートがある。

光学記録層は、本発明の合金を用いた合金ターゲットからのＲＦＣ高周波）及びＤＣ（直流）スパッタリングのような従来の薄膜蒸着法によって製造することができる。磁界を加えることによってスパッタリングを高める（マグネトロンスパッタリング）こともできる。フィルムの厚さは、コントラスト、感度、製造速度、材料コスト、制御し易さ、データ比率等のようなファクター間の歩み寄りによって、数十ないし数百ナノメーターになる。

用い得る支持体にはポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート及びポリカーボネートのようなプラスチック板、ガラス板、紙、そしてアルミニウムのような金属等根がある。上記のように、射出成形プロセスにおいてマスターをスタンパ−として直接用いる場合、支持体は耐久性の材料が好ましい。

本発明の合金を用いて形成した薄いフィルム層上への情報の記録は、情報変調レーザービームを層上に集めて、層上に情報のパターンを他の非晶貫層の中の結晶化領域の形で形成することによって行われる。

記録の間、記録材料は一定の速度、例えば毎分１８００回転（ｒｐｍ）で、あるいは記録スポットの半径位置の関数として変化する速度で一般に回転させる。

情報の通った跡は、変調記録ビームの局部的な照射の結果として、選ばれた結晶化領域の形で光学記録層上に記録される。記録を続けるにつれて、記録ビームは記録材料を半径方向に移動して、情報をらせん形の又は同心的なトラックに沿って記録する。情報のコード化マークの大きさ及び間隔は、コード化レーザーを用いた信号の情報量によって変わる。

本発明をさらに説明するために以下に実施例を示す。

実施例ＩＲＦスパッタリングによって、ガラス支持体上に、約７０ｎｍの厚さの、原子組成が６０％−２５％−１５％の５ｂ−Ｓｎ−Ｉｎ合金の薄いフィルムをつくった。スパッタリングプロセスで用いたアルゴン圧は１３ミリトールであり、ＲＦ電力は約１．５ワット／Ｃ−１であった。次に、０．５５ＮＡ目標を通して集光し諸表千４−５０６４３０　（４）た８３０．ｎｍダイオードレーザ−ビームを用いて、ディスクをスピンドル上で回転させながら、結晶質スポット及びトラックをディスク上に書き込んだ。

１１重量％シュウ酸水溶液をエツチング剤として新しく製造した。ディスクを回転させながら、エツチング剤に５０秒間浸した。次に、ディスクを蒸留水中ですすいだ。その後、高速回転によってディスクを乾燥した。次いで、ディスクを光学顕微鏡及び走査電子ｉＪｌ微鏡（ＳＥＭ）によって検査した。レーザー結晶化スポット及びトラックは完全にエツチングされてなくなり、そして境界は十分にはっきりしていることが分かった。非晶質領域はほんのわずかエツチングされただけであった。次に、このエツチングを行ったディスクをマスターとして又はスタンパ−としてすぐ使用した。

実施例２実施例１のように、ガラス支持体上に、約７０ｎｍの厚さの、原子組成が６０％ −２５％−１５％の５ｂ−Ｓｎ−Ｉｎ合金の薄いフィルムをつくり、そしてレーザーを用いてマークを付けた。

０．１容量％塩酸水溶液をエツチング剤として新しく製造した。ディスクを回転させながら、エツチング剤に２４０秒間浸した。次に、ディスクを蒸留水中ですすいだ。その後、高速回転によってディスクを乾燥した。

次いで、ディスクを光学顕微鏡及びＳＥＭによって検査した。レーザー結晶化スポット及びトラックは完全にエツチングされてなくなり、そして境界は十分にはっきりしていることが分かった。非晶質領域はほんのわずかエツチングされただけであった。次に、このエツチングを行ったディスクをマスターとして又はスタンパ−としてすぐ使用した。

実施例３実施例１のように、ガラス支持体上に、約７０ｎｍの厚さの、原子組成が６０％ −２５％−１５％の５ｂ−Ｓｎ−Ｉｎ合金の薄いフィルムをつくり、そしてレーザーを用いてマークを付けた。

０．１重量％シュウ酸及び０，０５重量％トリトンＸ−１００表面活性剤の水溶液をエツチング剤として新しく製造した。ディスクを回転させながら、エツチング剤に５０秒間浸した。次に、ディスクを０．０５重量％のトリトンＸ−１００溶液及び蒸留水中で１０１次すすいだ。その後、高速回転によってディスクを乾燥した。

次いで、ディスクを光学顕微鏡及びＳＥＭによって検査した。レーザー結晶化スポット及びトラックは完全にエツチングされてなくなり、そして境界は十分にはっきりしていることが分かった。非晶Ｖｔａ域はほんのわずかエツチングされただけであった。次に、このエツチングを行ったディスクをマスターとして又はスタンパ−としてすぐ使用した。

実施例４実施例１のように、ガラス支持体上に、約７０ｎｍの厚さの、原子組成が６０％ −２５％−１５％の５ｂ−９ｎ−Ｉｎ合金の薄いフィルムをつくり、そしてレーザーを用いてマークを付けた。

１．０重量％塩酸及び０．０５重量％フルオラッドＦＣ−９９表面活性剤の水ｆｆ１Ｍをエツチング剤として新しく製造した。ディスクを回転させながら、エツチング剤に２４０秒間浸した。次に、ディスクを０．０５重量％のフルオラッドＦＣ−９９溶液及び蒸留水中で順次すすいだ。その後、高速回転によってディスクを乾燥した。　次いで、ディスクを光学顕微鏡及びＳＥＭによって検査した。

レーザー結晶化スポット及びトラックは完全にエツチングされてなくなり、そして境界は十分にはっきりしていることが分かった。非晶質領域はほんのわずかエツチングされただけであった１次に、このエツチングを行ったディスクをマスターとして又はスタンパ−としてすぐ使用した。

実施例５実施例１のように、ガラス支持体上に、約７０ｎｍの厚さの、原子組成が８０％ −２０％の５ｂ−Ｉｎ合金の薄いフィルムをつくり、そしてレーザーを用いてマークを付けた。

１．０重量％塩酸及び０．０５重量％フルオラツドＦＣ−９９表面活性剤の水溶液をエツチング剤として新しく製造した。ディスクを回転させながら、エツチング剤に２４０秒間浸した。次に、ディスクを０．０５重量％のフルオラツドＦＣ −９９溶液及び蒸留水中で順次すすいだ。その後、高速回転によってディスクを乾燥した。　次いで、ディスクを光学顕微鏡及びＳＥＭによって検査した。レーザー結晶化スポット及びトラックは完全にエツチングされてなくなり、そして境界は十分にはっきりしていることが分かった。非晶質領域はほんのわずかエツチングされただけであった。次に、このエツチングを行ったディスクをマスターとして又はスタンパ−としてすぐ使用した。

実施例６実施例１のように、ガラス支持体上に、約７０ｎｍの厚さの、原子組成が６３％ −２１％−１６％の５ｂ−Ｓｎ−Ｇｅ合金の薄いフィルムをつくり、そしてレーザーを用いてマークを付けた。

１．０重量％塩酸及び０．０５重量％フルオラッドＦＣ−９９表面活性剤の水溶液をエツチング剤として新しく製造した。ディスクを回転させながら、エツチング剤に３６０秒間浸した。次に、ディスクを０．０５重量％のフルオラッドＦＣ −９９溶液及び蒸留水中で順次すすいだ。その後、高速回転によってディスクザー結晶化スポット及びトラックは完全にエツチングされてなくなり、そして境界は十分にはっきりしていることが分かった。非晶質領域はほんのわずかエツチングされただけであった。次に、このエツチングを行ったディスクをマスターとして又はスタンパ−としてすぐ使用した。

実施例７実施例１のように、ガラス支持体上に、約７０ｎｍの厚さの、原子組成が６１％ −３４−５％の５ｂ−Ｓｎ−Ａ１合金の薄いフィルムをつ（す、そしてレーザーを用いてマークを付けた。

１．０重量％塩酸及び０．０５重量％フルオラッドＦＣ−９９表面活性剤の水溶液をエツチング剤として新しく製造した。ディスクを回転させながら、エツチング剤に５４０秒間浸した。次に、ディスクを０．０５重量％のフルオラツドＦＣ −９９溶液及び蒸留水中で順次すすいだ。その後、高速回転によってディスクを乾燥した。　次いで、ディスクを光学顕微鏡及びＳＥＭによって検査した。し− ザー結晶化スポット及びトラックは完全にエツチングされてなくなり、そして境界は十分にはっきりしていることが分かった。非晶質領域はほんのわずかエツチングされただけであった。次に、このエツチングを行ったディスクをマスターとして又はスタンパ−としてすぐ使用した。

実施例８実施例１のように、ガラス支持体上に、約７０ｎｍの厚さの、原子組成が６０％ −２５％−１５％の５ｂ−Ｓｎ−Ｚｎ合金の薄いフィルムをつくり、そしてレーザーを用いてマークを付けた。

１、　０重量％塩酸及び０．０５重量％フルオラッドＦＣ−９９表面活性剤の水溶液をエツチング剤として新しく製造した。ディスクを回転させながら、エツチング剤に６００秒間浸した。次に、ディスクを０．０５重量％のフルオラッドＦＣ−９９溶液及び蒸留水中で順次すすいだ。その後、高速回転によってディスクを乾燥した。

次いで、ディスクを光学顕微鏡及びＳＥＭによって検査した。レーザー結晶化スポット及びトラックは完全にエツチング交れでなくなり、そして境界は十分にはっきりしていることが分かった。非晶質領域はほんのわずかエツチングされただけであった。次に、このエツチングを行ったディスクをマスターとして又はスタンパ−としてすぐ使用した。

実施例９実施例１のように、ガラス支持体上に、約７０ｎｍの厚さの、原子組成が６０％ −２５％−１５％の５ｂ−３ｎ−Ｉｎ合金の薄いフィルムをつくり、そしてレーザーを用いてマークを付け、次いで実施例３のようにエツチングさせた。

次に、このエツチングしたディスクをスタンパ−として用い、上記のような架橋結合性重合体の薄いフィルムを被覆した別のディスク面にプレスした。重合体フィルムをＵＶ照射によって架橋し、ディスクを金属台金：重合体接触面で分離させた。これによって、重合体被覆ディスク複製は、この上にスパッターした５ｂ −５ｎ−Ｉｎ合金の薄いフィルムを有し、その後の光学顕微鏡及びＳＥＭ観察のための反射能及び導電率を提供する。

合金の薄いフィルムにおいて、まずレーザーで書き込み、次いでエツチングさせたマークが、複製ディスクの重合体層中に正確に再現されたことが、光学及び電子Ｂ微鏡から分かった。このことは、複製ディスク面の写真である図２に示されている。

実施例１０実施例１のように、ガラス支持体上に、約７０ｎｍの厚さの、原子組成が４５％ −５３％−２％のＧｅ−Ｔｅ−Ｔｉ合金の薄いフィルムをつくり、そしてレーザーを用いてマークを付けた。

１．０重量％ＫｓＦｅ　（ＣＮ）ｓ、０．２５容量％Ｈ！ＳＯ４及び０．０２５重量％フルオラッドＦＣ−９９表面活性剤の水溶液をエツチング剤として新しく製造した。ディスクを回転させながら、エツチング剤に１２０秒間浸した。次に、ディスクを°０．０２５重量％のフルオラッドＦＣ−９９溶液及び蒸留水中で順次すすいだ。その後、高速回転によってディスクを乾燥した。

実施例１１実施例１のように、ガラス支持体上に、約７０ｎｍの厚さの、原子組成が４５％ −５３％−２％のＧｅ−Ｔｅ−Ｔｉ合金の薄いフィルムをつくり、そしてレーザーを用いてマークを付けた。

３．０重量％（ＮＨ４）８１０１．３．０重量％ＮａＯＨ及び０．０２５重量％フルオラッドＦＣ−９９表面活性剤の水溶液をエツチング剤として新しく製造した。ディスクを回転させながら、エツチング剤に１８０秒間浸した。次に、ディスクを０．０２５重■％のフルオラッドＦＣ−９９溶液及び蒸留水中で順次すすいだ。その後、高速回転によってディスクを乾燥した。

実施例１２実施例１のように、ガラス支持体上に、約７０ｍｍの厚さの、原子組成が４５％ −５３％−２％のＧｅ−Ｔｅ−Ｔｉ合金の薄いフィルムをつくり、そしてレーザーを用いてマークを付けた。

３．０重量％Ｎａ、Ｃｒ、Ｏｙ、３．０重量％ＮａＯＨ及び０．０２５重量％フルオラッドＦＣ−９９表面活性剤の水溶液をエツチング剤として新しく製造した。

ディスクを回転させながら、エツチング剤に１８０秒間浸した。次に、ディスクを０．０２５重量％のフルオラγドＦＣ−９９溶液及び蒸留水中でｊ■次すすいだ。

その後、高速回転によってディスクを乾燥した。

ＦＩＧ、　２国際調査報告、、、、、−＋、、＝、、＋、、−，−ｐｒＴ／ＩＫ　ＱＯ／１ｌＩＱＩ’Ｉｎ国際調査報告

Claims

【特許請求の範囲】

１．複製光学部材製造用のマスターの製造方法であって、以下の工程：ａ）情報変調エネルギービームを相変化光学記録層上に集めて、該層中に該情報に相当する２つの異なる相のパターンを形成し；そしてｂ）該２つの異なる相の１つを選択的にエッチング除去して、該情報に相当するレリーフパターンを形成する、ことよりなる、上記の方法。
２．該２つの相が非晶質及び結晶質相であり、結晶質相を工程ｂ）で選択的にエッチング除去する、請求項１の方法。
３．該エネルギービームがレーザービームである、請求項１の方法。
４．該光学記録層がアンチモン−錫−インジウム合金からなる、請求項１の方法。
５．複製光学部材製造用のスタンパーの製造方法であって、以下の工程：ａ）情報変調エネルギービームを相変化光学記録層上に集めて、該層中に該情報に相当する２つの異なる相のパターンを形成し；そしてｂ）該２つの異なる相の１つを選択的にエッチング除去して、該情報に相当するレリーフパターンを形成し；ｃ）工程ｂ）で製造されたマスターを導電性に被覆し、そして該導電性被覆をニッケルで電気メッキし；そしてｄ）工程ｃ）で形成されたニッケル層を磨き、そして該マスター表面から該ニッケル層を剥がす、ことよりなる、上記の方法。
６．複製光学部材製造用のマスターであって、該光学部材に移す情報に相当するレリーフパターンを有する相変化光学記録層を上に有する支持体からなる、上記のマスター。
７．複製光学部材の製法であって、以下の工程：ａ）情報変調エネルギービームを相変化光学記録層上に集めて、該層中に該情報に相当する２つの異なる相のパターンを形成し；そしてｂ）該２つの異なる相の１つを選択的にエッチング除去して、該情報に相当するレリーフパターンを形成し；ｃ）工程ｂ）で形成されたマスターを重合体層にプレスし、そして該重合体層を光重合させて、該レリーフパターンの複製を形成する、ことよりなる、上記の方法。