JPH0451457B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はウエブの入口および出口とガス流の入
口および出口とを有する室を含む動いているウエ
ブの処理装置に関する。

例えば、包装工業においては、種々の方法で動
いているウエブを処理することが通常行われてい
る。ウエブから無菌の包装容器を製造する際にウ
エブは通常個々の包装容器に形成される前に殺菌
される。この殺菌作用は化学的な殺菌剤例えば過
酸化水素によつて行われ、この過酸化水素がウエ
ブに付与され、若干の処理期間の後で加熱空気に
よつて再び除去されるのである。この処理におい
て、ウエブは処理室に通され、この室内で加熱空
気を噴射するために１つまたはそれ以上のノズル
（いわゆる空気ナイフ）がウエブに向けられるよ
うになつている。この室はまた処理後の空気およ
びウエブから除去された殺菌剤を排出するための
出口を設けられている。

処理の前にウエブがノズルまたはその他の室内
の部分に接触しないようになすことが重要であ
る。何故ならば接触を生ずると、ウエブから損傷
を受け、無菌性が失われるからである。ウエブが
効果的に殺菌剤を除去するために空気の量および
空気の速度は比較的高いから、強い、容易には制
御できない空気の流れが室内に生じ、この空気の
流れが室内においてウエブの定常的な運動、特に
空気ナイフまたは室からの出口が配置されている
部分においてウエブの定常的な運動を与えるのを
困難にする。もしウエブが隣接する機械的な部分
に接触しないで室を通して静かな定常的に「浮
動」状態になされ得るならば理想的である。しか
し、従来このことを達成することは甚だ困難であ
つて、これを可能になす処理室を提供することが
望まれていた。

本発明の目的は、上述の点を考慮して、ウエブ
が室を通過する間にガス流によつて不均等な定常
的でない運動を行わず、また装置の何れの部分に
も接触しないようにしてウエブの処理を可能にな
すような、動いているウエブの処理装置を提供す
ることである。

本発明のさらに他の目的は、従来の装置の欠点
を有しないで、しかも設計および作動が簡単な上
述の型式の装置を提供することである。

本発明によれば、動いているウエブの入口およ
び出口と、ガス流の入口および出口とを有する室
を含む動いているウエブの処理装置において、 前記ガス流の出口が前記ガス流の入口に対して
ウエブの反対側に位置し、また前記ガス流の出口
の出口開口とウエブとの間にバツフルプレートが
配置されており、このバツフルプレートはウエブ
の運動方向に対して角度をなし、且つその両端に
ガス排出間〓を有し、これらの排出間〓は、ガス
流の大部分が、前記バツフルプレートとウエブと
の間の空間内において前記バツフルプレートを通
過するような相互の大きさの比を有することを特
徴とする動いているウエブの処理装置が提供され
る。

本発明による装置の望ましい実施例が以下に説
明され、その特徴が特許請求の範囲に限定されて
いる。

ウエブとガス流の出口の出口開口との間にウエ
ブの運動方向に対して角度をなしてバツフルプレ
ートを配置することによつて、部分的な真空がバ
ツフルプレートとウエブとの間に生じ、この部分
的な真空は、空気流によつてウエブの反対側に生
ずる部分的な真空と平衡して、ウエブが室の入口
および出口の間をバツフルプレートまたはその他
の室の部分に接触しないで静かな定常状態で通過
できるようになすのである。

本発明による装置の望ましい実施例が、本発明
の理解に必要な詳細部分のみを示す添付図面を参
照して以下に詳述される。

本発明による装置は例えば包装材料ウエブから
殺菌剤の表面被覆を除去するのに使用できる。こ
の場合この装置は包装機内の適当な位置に配置さ
れて包装機に設けられている加熱殺菌空気の供給
源に接続されるのが望ましい。しかし加熱殺菌空
気の供給源も包装機もこゝでは説明されない。何
故ならばこれらのものは包装工業の分野では公知
の任意の設計になし得るからである。

第１図に示された本発明による装置は、不銹鋼
によつて製造された細長い室１を含み、この室は
反対両端にウエブの入口２および出口３を含む。
包装ウエブ４は実質的に直線状に入口２から出口
３へ室１を通つて室の長手方向に通過し、その間
に室内に配置される処理部分を通る。ウエブの運
動方向は矢印４′によつて示されている。

室１の上側にガス流例えば加熱殺菌空気の入口
５が設けられ、この加熱殺菌空気がウエブに向つ
て角度をなして指向されるノズル（空気ナイフ）
６を介してウエブを掃拭できるようになつてい
る。ウエブに平行に伸長するガイドプレート７は
ノズル６の一方の壁部の延長部をなしていて、矢
印によつて示されるようにウエブに沿つてガス流
を導くのに役立つ。室１の下側には出口８が設け
られていて、これの出口開口が室１の内側にある
バツフルプレート９によつてウエブ４から遮断さ
れている。このようにバツフルプレート９は出口
８の出口開口とウエブ４との間でこの出口開口を
取巻く壁部１０の上方に、ウエブ４の縁部および
これに対面する室１の側壁（図面には示されてい
ない）の間を流れるガスがバツフルプレート９の
それぞれ前縁および後縁と壁部１０との間に形成
されるガス排出間隙１１，１２を経て出口８に到
達できるような間隔で配置されるのである。同時
に壁部１０は室１の底部を形成している。出口８
およびウエブ４に対するバツフルプレート９の配
置位置は第２図に詳しく示されている。

第２図には拡大尺度が第１図による室１の下部
の限られた範囲が示されていて、バツフルプレー
ト９が室１の下方の壁部１０およびウエブ４に対
して如何なる関係で配置されているかが明示され
ている。符号ａおよびｂはそれぞれ２つのガス排
出間隙１１および１２の大きさを示す。これらの
２つのガス排出間隙１１および１２の適当な値は
それぞれ５および2.5mmであることが判つていて、
これらの値がバツフルプレート９に対してバツフ
ルプレートの長さに関係して１−3°のウエブ４
（および壁部１０）に対する傾斜角度を与えてい
る。バツフルプレート９の長さは或る程度流過す
る空気の量に適応されなければならないが、通常
の作動条件では適当な値は約200mmであることが
見出されている。

本発明による装置が包装機内に定位置に取付け
られた時にはウエブ４が作動の間それぞれ入口２
および出口３を経て室１を通過する。通常加熱可
塑性の外層を含む積層材料より形成されるウエブ
は、室１に達する前に例えば過酸化水素のような
殺菌剤の外側被覆を設けられている。この殺菌剤
は公知の方法例えばスプレーによるか、またはウ
エブを殺菌剤の浴を通すことによつて付与され
る。殺菌剤がその機能を果たした後で殺菌剤はウ
エブから除去されなければならないが、このこと
は本発明によつて室１の中で行われる。この目的
のために通常のようにいわゆる空気ナイフすなわ
ちウエブの表面に向つて鋭角をなして導かれる加
熱された殺菌空気の強いジエツトが利用される。
高い速度で流れる空気はウエブ４の表面に吹付け
られてこれを清掃し、比較的薄い殺菌剤例えば過
酸化水素の層を蒸発させ、しかる後に蒸発された
殺菌剤と混合された空気が第１図および第２図に
矢印によつて示されるように出口８を経て室１か
ら排出されるのである。

ノズル６の後方に配置されるガイドプレート７
はノズル６から流れる加熱空気が若干の距離の間
をウエブ４に接触して通過し、これによつて残留
する殺菌剤の完全な加熱および蒸発が行われるの
を確実になす。しかし、ウエブに沿う強い空気流
はいわゆるコアンダ効果（Coanda effect）を生
じ、すなわち部分的な真空がガイドプレート７と
ウエブ４との間に形成されて、ウエブ４が浮上が
り、ガイドプレート７に接近する傾向を生ずる。
同時に、ウエブ４は出口８を通る空気によつて作
用されて、従来の設計ではウエブ４に対してはた
めき作用を与え、不具合な場合にはウエブが室１
の壁の一部または取付けられている部品に接触し
て付着し、ウエブを損傷させる恐れがあつた。こ
れを阻止してウエブが室１の如何なる部分にも接
触せずに適当な状態で浮動して室１を通過するの
を確実になすためにバツフルプレート９が設けら
れ、ウエブ４および出口８に対する特別な配置が
与えられるのである。バツフルプレート９が備え
られているために、ウエブ４の長手方向に延びて
いる両側の縁と室１の側壁（図では見えない、手
前にあるべき側部と、ウエブの向うにあるべき側
壁）との間の空間を通つてウエブ４の上側からウ
エブ４の下側に流れる空気は、大部分がバツフル
プレート９とウエブ４との間を右から左に向かつ
て流れるようになり、室１の左側の側壁（これは
図で見える）の近くにあるガス排出間〓１１を通
つてバツフルプレート９の下側に流れ込み、更に
出口８を通つて室１から排出される。ウエブ４の
上側から下側に流れる空気の大部分の流れは、上
述した経路をたどるのであつて、いきなりガス排
出間〓１２を通つてバツフルプレート９の下側に
流れ込む空気の流れは、通常は、わずかである。
その理由は、排出間〓１２の大きさが排出間〓１
１の大きさよりかなり小さいからである。また、
ノズル６の方向が第１図に示したごとき向きであ
ることも、空気の流れを左方の排出間〓１１に向
わせることを促進する。

かくて、バツフルプレート９とウエブ４との間
に大きな空気の流れがもたらされることになる
が、バツフルプレート９とウエビ４との間は狭い
（バツフルプレート９が存在しなくて、ウエブ４
の壁部１０とである場合の間〓よりも狭い）か
ら、ここを通過する空気の流れの速度は増大され
る。それ故に、コアンダ効果によつてここに部分
的な真空が発生され、この部分的な真空がウエブ
４とガイドプレート７との間に発生される部分的
な真空と対抗するようになる。そして、ガイドプ
レート７とバツフルプレート９との間のウエブ４
が、比較的静かな浮動状態となつて運動し得るよ
うになるのである。

上述した静かな浮動状態について詳述すると次
の通りである。すなわち、いま、何らかの過度現
象によつて、ウエブ４がバツフルプレート９の方
にたれ下がつて接近し過ぎたとすると、当然に、
ウエブ４とバツフルプレート９との間の間〓が狭
くなつてしまつて空気が通りにくなり、空気はよ
り多量にガス排出間〓１２を通つてバツフルプレ
ート９の下側へ逃げてしまう。そうすれば、ウエ
ブ４とバツフルプレート９との間を流れる空気の
量が減少して、そこにおける部分的な真空が低減
され、ウエブ４は、ウエブ４の上側における部分
的な真空によつて引かれて、バツフルプレート９
から離れるようになる。

反対に、ウエブ４がバツフルプレート９から大
きく離れてしまうと、ウエブ４とバツフプレート
９との間を通り、それからガス排出間〓１１を通
る空気の量は増大するとともに、ガイドプレート
７とウエブ４との間を通る空気の量は減少する。
そうすれば、上述したことと逆のことが生じて、
今度はウエブ４がバツフルプレート９の方に引き
寄せられることになる。かようにして、ウエブ４
は静かな浮動状態をともなつてほぼ水平な状態で
室１を通過することができるようになるわけであ
る。

バツフルプレート９の傾斜、ガス排出間隙の長
さおよび幅（第２図においてａおよびｂ）は本発
明の目的に応じた乾燥すなわち蒸発作用を得るの
に望ましい特定の空気の流れに適応するように定
められなければならない。しかし、適当な「標準
値」は100m³／hourの空気の流れおよび130℃の
空気の温度にて間隙の幅はそれぞれ５および2.5
mmである。このような値はバツフルプレート９は
１−3°の傾斜を与える。ガス排出間隙１１ａは、
もしこの装置の機能が所望のように得られなけれ
ばならない場合には何れの場合にもガス排出間隙
１２ｂの幅よりも広くなければならない。すなわ
ちバツフルプレート９とウエブ４との間の距離が
ウエブ４の運動方向に見て増大するようにされな
ければならない。

【図面の簡単な説明】

第１図は作動の間の本発明による装置の概略的
側面断面図。第２図は第１図による装置の一部分
の拡大側面断面図。 １……処理室、２……ウエブの入口、３……ウ
エブの出口、４……ウエブ、５……加熱殺菌空気
の入口、６……ノズル、７……ガイドプレート、
８……加熱殺菌空気の出口、９……バツフルプレ
ート、１０……壁部、１１，１２……ガス排出間
隙。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 動いているウエブ４の入口２および出口３
   と、ガス流の入口５および出口８とを有する室１
   を含む動いているウエブの処理装置において、 前記ガス流の出口８が前記ガス流の入口５に対
   してウエブ４の反対側に位置し、また前記ガスの
   出口開口とウエブ４との間にバツフルプレート９
   が配置されており、このバツフルプレート９はウ
   エブ４の運動方向に対して角度をなし、且つその
   両端にガス排出間〓１１，１２を有し、これらの
   排出間〓１１，１２は、ガス流の大部分が、前記
   バツフルプレート９とウエブ４との間の空間内に
   おいて前記バツフルプレート９を通過するような
   相互の大きさの比を有することを特徴とする動い
   ているウエブの処理装置。 ２ 前記バツフルプレート９とウエブ４との間の
   距離がウエブ４の運動方向に見て増大しているこ
   とを特許とする特許請求の範囲第１項記載の動い
   ているウエブの処理装置。 ３ 前記バツフルプレート９とウエブ４との間の
   角度が1°〜3°であることを特徴とする特許請求の
   範囲第２項記載の動いているウエブの処理装置。 ４ 前記バツフルプレート９は前記ガス流の出口
   ８の出口開口を取り囲んでいる壁部１０の上方
   に、前記ガス排出間〓１１，１２が前記バツフル
   プレート９のそれぞれ前縁および後縁と前記壁部
   １０との間に形成されるような距離に配置されて
   いることを特徴とする特許請求の範囲第１項から
   第３項までの何れか１項に記載の動いているウエ
   ブの処理装置。 ５ 前記バツフルプレート９のそれぞれ前縁およ
   び後縁における前記ガス排出間〓１１，１２がウ
   エブ４の運動方向に見てそれぞれ５および2.5mm
   であること特許とする特許請求の範囲第４項記載
   の動いているウエブの処理装置。 ６ 前記ガス流の出口８の出口開口の取り囲んで
   いる壁部１０がウエブ４の運動方向に平行で、前
   記室１の下壁を形成していることを特徴とする特
   許請求の範囲第４項または第５項に記載の動いて
   いるウエブの処理装置。