JPH0451928B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0451928B2 JPH0451928B2 JP58192095A JP19209583A JPH0451928B2 JP H0451928 B2 JPH0451928 B2 JP H0451928B2 JP 58192095 A JP58192095 A JP 58192095A JP 19209583 A JP19209583 A JP 19209583A JP H0451928 B2 JPH0451928 B2 JP H0451928B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- intensity distribution
- transmitted light
- light intensity
- panel
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes
- H01J9/2272—Devices for carrying out the processes, e.g. light houses
- H01J9/2273—Auxiliary lenses and filters
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、カラー陰極線管の蛍光面を形成する
際に用いられる露光方法に関する。
際に用いられる露光方法に関する。
背景技術とその問題点
通常、カラー陰極線管における蛍光面、例えば
赤、緑及び青の各色蛍光体ストライプ間に黒色ス
トライプ（光吸収層）を形成したストライプ型の
カラー蛍光面は次のようにして形成される。先ず
陰極線管のパネル内面に感光性レジスト膜を塗
布、乾燥後、アパーチヤグリル（スリツト状のビ
ーム透過孔が所定ピツチで多数配列された色選択
電極）を光学用マスクとして、紫外線露光し、現
像処理して各色に対応した位置に多数のストライ
プ状のレジスト層を形成する。この露光処理は
夫々赤、緑及び青の光源位置に対応するように露
光光源の位置をずらせて３回露光する。
赤、緑及び青の各色蛍光体ストライプ間に黒色ス
トライプ（光吸収層）を形成したストライプ型の
カラー蛍光面は次のようにして形成される。先ず
陰極線管のパネル内面に感光性レジスト膜を塗
布、乾燥後、アパーチヤグリル（スリツト状のビ
ーム透過孔が所定ピツチで多数配列された色選択
電極）を光学用マスクとして、紫外線露光し、現
像処理して各色に対応した位置に多数のストライ
プ状のレジスト層を形成する。この露光処理は
夫々赤、緑及び青の光源位置に対応するように露
光光源の位置をずらせて３回露光する。
次でレジスト層を含む全面にカーボンスラリー
を塗布し、乾燥後、レジスト層と共にその上のカ
ーボン層をリフトオフし、所定のパターンのカー
ボンストライプ即ち黒色ストライプを形成する。
しかる後、例えば緑色の蛍光体スラリーを塗布
し、露光し、現像処理して所定のカーボンストラ
イプ間の所謂白抜き部分に緑色蛍光体ストライプ
を形成し、以下同様にして夫々他の白抜き部分に
青色及び赤色蛍光体ストライプを形成して目的の
カラー蛍光面を得ている。
を塗布し、乾燥後、レジスト層と共にその上のカ
ーボン層をリフトオフし、所定のパターンのカー
ボンストライプ即ち黒色ストライプを形成する。
しかる後、例えば緑色の蛍光体スラリーを塗布
し、露光し、現像処理して所定のカーボンストラ
イプ間の所謂白抜き部分に緑色蛍光体ストライプ
を形成し、以下同様にして夫々他の白抜き部分に
青色及び赤色蛍光体ストライプを形成して目的の
カラー蛍光面を得ている。
ところで、この様な露光法では、カラー陰極線
管の光学的デイメンシヨンによつては、アパーチ
ヤグリルのスリツトを透過した透過光強度分布
（又は露光量）が第１図Ａに示すようなフレネル
回折波形の分布１となる。このために第１図Ｂに
示すようにカラー陰極線管の設計上必要な白抜き
部分すなわちカーボンストライプ２間の白抜き部
分３の巾Ｗ（以下白抜き巾という）を得ようとす
ると、その透過光強度分布（又は露光量）１の微
分値∂I／∂X（Ｉは透過光強度）が極端に小さな所
で白抜き部分のストライプエツヂを作製すること
にになり、感光性レジスト膜の架橋度分布の微分
値が小さくなるので、第１図Ｂに示すようにエツ
ヂの凹凸がはげしくなり、巨視的にはむらとなつ
て、カラー陰極線管の品質を著しく劣下させるも
のであつた。
管の光学的デイメンシヨンによつては、アパーチ
ヤグリルのスリツトを透過した透過光強度分布
（又は露光量）が第１図Ａに示すようなフレネル
回折波形の分布１となる。このために第１図Ｂに
示すようにカラー陰極線管の設計上必要な白抜き
部分すなわちカーボンストライプ２間の白抜き部
分３の巾Ｗ（以下白抜き巾という）を得ようとす
ると、その透過光強度分布（又は露光量）１の微
分値∂I／∂X（Ｉは透過光強度）が極端に小さな所
で白抜き部分のストライプエツヂを作製すること
にになり、感光性レジスト膜の架橋度分布の微分
値が小さくなるので、第１図Ｂに示すようにエツ
ヂの凹凸がはげしくなり、巨視的にはむらとなつ
て、カラー陰極線管の品質を著しく劣下させるも
のであつた。
この改善方法として、第２図に示すように露光
光源の位置を緑、青、赤の各基準位置Ｏに対して
夫々左右に移動した位置Q1及びQ2とし、各位置
Q1及びQ2にて紫外線４及び５を照射する所謂２
点光源露光方法が考えられ、この方法を採用する
ことにより、第３図に示すように２つのフレネル
回折波形６及び７を重ね合せた透過光強度分布
（又は露光量）８を得て目標の白抜き巾Ｗを得る
ことができる。なお、第２図において、９は内面
に感光性レジスト膜１０を被着したパネル、１１
はアパーチヤグリル、１２は露光時の光路を実際
の電子ビームの軌路に近似させるための補正レン
ズである。
光源の位置を緑、青、赤の各基準位置Ｏに対して
夫々左右に移動した位置Q1及びQ2とし、各位置
Q1及びQ2にて紫外線４及び５を照射する所謂２
点光源露光方法が考えられ、この方法を採用する
ことにより、第３図に示すように２つのフレネル
回折波形６及び７を重ね合せた透過光強度分布
（又は露光量）８を得て目標の白抜き巾Ｗを得る
ことができる。なお、第２図において、９は内面
に感光性レジスト膜１０を被着したパネル、１１
はアパーチヤグリル、１２は露光時の光路を実際
の電子ビームの軌路に近似させるための補正レン
ズである。
しかしながら、この２点光源露光方法はパネル
内面の全面に亘り重ね合された透過光強度分布
（又は露光量）８の最適化がなされないために次
のような問題点があつた。
内面の全面に亘り重ね合された透過光強度分布
（又は露光量）８の最適化がなされないために次
のような問題点があつた。
カラー陰極線管の光学的デイメンシヨンによつ
ては製造不可能な領域が生ずる。パネル内面で透
過光強度分布（又は露光量）８の微分値∂I／∂X
の小さい所が出ることにより感光性レジスト膜の
架橋度分布の微分値∂Q／∂Xが小さくなり、第１
図Ｂに示すように白抜き巾のバラツキが大きくな
り品質が不安定となる。またアパーチヤグリルの
スリツト巾、アパーチヤグリル及びパネル間の距
離（バーハイト）等の材料関係のバラツキがむら
発生に直接寄与し、生産性が悪くなる。
ては製造不可能な領域が生ずる。パネル内面で透
過光強度分布（又は露光量）８の微分値∂I／∂X
の小さい所が出ることにより感光性レジスト膜の
架橋度分布の微分値∂Q／∂Xが小さくなり、第１
図Ｂに示すように白抜き巾のバラツキが大きくな
り品質が不安定となる。またアパーチヤグリルの
スリツト巾、アパーチヤグリル及びパネル間の距
離（バーハイト）等の材料関係のバラツキがむら
発生に直接寄与し、生産性が悪くなる。
第６図は上記従来の２点光源露光時に得られる
パネル内面の任意の位置（Xi，Yi）での透過光強
度分布（又は露光量）（実線）及びその微分値
∂I／∂X（点線）を示すもので、同図Ａ，Ｂ，Ｃ，
Ｄ，Ｅ及びＦは夫々中央上部（xi，yi＝１，
180）、中央（xi，yi＝１，１）、中間上部（xi，yi
＝127，180）中間中央部（xi，yi＝127，１）、周
辺上部（xi，yi＝255，180）、周辺中央部（xi，yi
＝255，１）に相当する。この第６図からも明ら
かなように中央と周辺では白抜き巾Ｗのエツヂに
対応する位置での透過光強度分布の微分値∂I／
∂Xは大きくとれるが、中間領域での微分値∂I／
∂Xは小さくなり、中間領域で製造不能もしくは
白抜き巾のバラツキが大きくなるのが認められ
る。
パネル内面の任意の位置（Xi，Yi）での透過光強
度分布（又は露光量）（実線）及びその微分値
∂I／∂X（点線）を示すもので、同図Ａ，Ｂ，Ｃ，
Ｄ，Ｅ及びＦは夫々中央上部（xi，yi＝１，
180）、中央（xi，yi＝１，１）、中間上部（xi，yi
＝127，180）中間中央部（xi，yi＝127，１）、周
辺上部（xi，yi＝255，180）、周辺中央部（xi，yi
＝255，１）に相当する。この第６図からも明ら
かなように中央と周辺では白抜き巾Ｗのエツヂに
対応する位置での透過光強度分布の微分値∂I／
∂Xは大きくとれるが、中間領域での微分値∂I／
∂Xは小さくなり、中間領域で製造不能もしくは
白抜き巾のバラツキが大きくなるのが認められ
る。
発明の目的
本発明は、上述の点に鑑み透過光強度分布（又
は露光量）の微分値∂I／∂X及び透過光強度分布
（又は露光量）Ｉの絶対値をパネル内面の全面に
亘つて均一ならしめ、感光性レジスト膜の架橋度
分布の微分値∂Q／∂X及び架橋度分布Ｑの絶対値
を全体的に最適化せしめて、微細ピツチの蛍光面
の露光をも可能にしたカラー陰極線管の露光方法
を提供するものである。
は露光量）の微分値∂I／∂X及び透過光強度分布
（又は露光量）Ｉの絶対値をパネル内面の全面に
亘つて均一ならしめ、感光性レジスト膜の架橋度
分布の微分値∂Q／∂X及び架橋度分布Ｑの絶対値
を全体的に最適化せしめて、微細ピツチの蛍光面
の露光をも可能にしたカラー陰極線管の露光方法
を提供するものである。
発明の概要
本発明は、露光光源の位置を複数とし、複数の
フレネル回折波形を重ね合せた透過光強度分布を
用いてパネル内面の被感光膜を所定ストライプ巾
に露光する露光方法であつて、各光源位置での露
光に応じて夫々フレネル回折条件を補正する補正
レンズ系（補正レンズ及び照度補正フイルタを含
む）を選択し、複数の光源より発射された複数の
光は各々補正レンズ系と光学用マスクを通して被
感光膜上でフレネル回折波形を重ね合せて１本の
所定巾のストライプを露光するように調整され、
更にパネル内面の被感光膜全面に亘つて光透過光
強度分布又は露光量の絶対値をほぼ均一となすと
共に透過光強度分布又は露光量の前記ストライプ
巾のエツジに対応する位置での微分値∂I／∂Xを
∂I／∂Xの波形分布の頂部近傍値又はストライプ
巾のエツジむらを防止するための一定レベル値以
上となして露光するように調整するカラー陰極線
管の露光方法である。
フレネル回折波形を重ね合せた透過光強度分布を
用いてパネル内面の被感光膜を所定ストライプ巾
に露光する露光方法であつて、各光源位置での露
光に応じて夫々フレネル回折条件を補正する補正
レンズ系（補正レンズ及び照度補正フイルタを含
む）を選択し、複数の光源より発射された複数の
光は各々補正レンズ系と光学用マスクを通して被
感光膜上でフレネル回折波形を重ね合せて１本の
所定巾のストライプを露光するように調整され、
更にパネル内面の被感光膜全面に亘つて光透過光
強度分布又は露光量の絶対値をほぼ均一となすと
共に透過光強度分布又は露光量の前記ストライプ
巾のエツジに対応する位置での微分値∂I／∂Xを
∂I／∂Xの波形分布の頂部近傍値又はストライプ
巾のエツジむらを防止するための一定レベル値以
上となして露光するように調整するカラー陰極線
管の露光方法である。
この発明の露光方法ではパネル内面の全面に亘
つて所望のストライプ巾の露光が行える。従つて
例えば微細ピツチの蛍光面をもつ高精細度管の量
産が可能となる。
つて所望のストライプ巾の露光が行える。従つて
例えば微細ピツチの蛍光面をもつ高精細度管の量
産が可能となる。
実施例
以下、第４図及び第５図を参照して本発明の実
施例を説明する。なお、第４図において第２図と
対応する部分には同一符号を付す。
施例を説明する。なお、第４図において第２図と
対応する部分には同一符号を付す。
本例は黒色ストライプを形成する際の感光性レ
ジスト膜１０に対する露光で、第４図はそのうち
の緑に対応する１本のストライプを露光するとき
の図である。本例においては、１本のストライプ
を露光するのに露光光源を、Ｘ方向に関する３つ
の位置即ち基準位置Ｏとその左右の位置Q1及び
Q2に移動して各位置Ｏ，Q1及びQ2より紫外線２
１，２２及び２３を照射し、第５図に示すように
各紫外線２１，２２及び２３によるフレネル回折
波形２４，２５及び２６を重ね合せた透過光強度
分布２７によつて露光する。これは所謂３点光源
露光である。そして、この場合光源位置Q1及び
Q2での夫々の露光時には、補正レンズ１２に加
えて両フレネル回折波形２５及び２６の重ね合せ
をパネル内面の全面に亘つて最適化する（すなわ
ち重ね合された透過光強度分布（又は露光量）２
７のストライプ巾Ｗのエツヂに対応した位置での
微分値∂I／∂Xをパネル内面の全面に亘つて大き
くする）ための第２補正レンズ２８1及び２８2を
選択して介挿する。すなわち、両補正レンズ２８
１及び２８2は互にレンズ特性を異にするもので、
光源位置Q1の露光では補正レンズ１２と２８1を
組合せ、光源位置Q2の露光では補正レンズ１２
と２８2を組合せて用いる。又、光源位置Ｏでの
露光時には補正レンズ１２と照度補正フイルタ２
９を用い、重ね合された透過光強度分布（又は露
光量）２７の中心のパターンの強度分布を照度補
正フイルタ２９によつて制御し、透過光強度分布
２７の絶対値をパネル内面の全面にわたり均一化
する。
ジスト膜１０に対する露光で、第４図はそのうち
の緑に対応する１本のストライプを露光するとき
の図である。本例においては、１本のストライプ
を露光するのに露光光源を、Ｘ方向に関する３つ
の位置即ち基準位置Ｏとその左右の位置Q1及び
Q2に移動して各位置Ｏ，Q1及びQ2より紫外線２
１，２２及び２３を照射し、第５図に示すように
各紫外線２１，２２及び２３によるフレネル回折
波形２４，２５及び２６を重ね合せた透過光強度
分布２７によつて露光する。これは所謂３点光源
露光である。そして、この場合光源位置Q1及び
Q2での夫々の露光時には、補正レンズ１２に加
えて両フレネル回折波形２５及び２６の重ね合せ
をパネル内面の全面に亘つて最適化する（すなわ
ち重ね合された透過光強度分布（又は露光量）２
７のストライプ巾Ｗのエツヂに対応した位置での
微分値∂I／∂Xをパネル内面の全面に亘つて大き
くする）ための第２補正レンズ２８1及び２８2を
選択して介挿する。すなわち、両補正レンズ２８
１及び２８2は互にレンズ特性を異にするもので、
光源位置Q1の露光では補正レンズ１２と２８1を
組合せ、光源位置Q2の露光では補正レンズ１２
と２８2を組合せて用いる。又、光源位置Ｏでの
露光時には補正レンズ１２と照度補正フイルタ２
９を用い、重ね合された透過光強度分布（又は露
光量）２７の中心のパターンの強度分布を照度補
正フイルタ２９によつて制御し、透過光強度分布
２７の絶対値をパネル内面の全面にわたり均一化
する。
この露光方法によれば、光源位置Q1及びQ2で
の夫々の露光に応じて補正レンズ２８1及び２８2
を夫々選択することにより、両フレネル回折波形
２５及び２６を重ね合せた透過光強度分布２７の
波形がパネル内面の全面に亘つて最適化される。
従つて露光されるべきストライプ巾のエツヂに対
応する位置での微分値∂I／∂Xは大きくなり、即
ち∂I／∂Xの波形分布の頂部近傍値又はストライ
プ巾のエツジむらを防止するための一定レベル値
以上となり、パネル全面に亘つてむらのない白抜
き巾が得られる。
の夫々の露光に応じて補正レンズ２８1及び２８2
を夫々選択することにより、両フレネル回折波形
２５及び２６を重ね合せた透過光強度分布２７の
波形がパネル内面の全面に亘つて最適化される。
従つて露光されるべきストライプ巾のエツヂに対
応する位置での微分値∂I／∂Xは大きくなり、即
ち∂I／∂Xの波形分布の頂部近傍値又はストライ
プ巾のエツジむらを防止するための一定レベル値
以上となり、パネル全面に亘つてむらのない白抜
き巾が得られる。
また、光源位置Ｏでの露光では照度補正フイル
タ２９によつて透過光強度分布２７の絶対値がパ
ネル内面の全面に亘つて均一化され、過露光が抑
えられる。感光性レジスト膜１０として例えばポ
リビニルピロリドン（PVP）と４，4′−ジアジス
チルベン−２，2′−ジスルホン酸ナトリウム
（DAS）からなる相反則不軌特性（低照度領域で
は架橋度が低下する）をもつPVP感光剤が注目
されつつあるが、このPVP感光剤は過露光され
ると架橋点が増え、リフトオフするときに完全に
取り去ることが出来ず白抜き部分に一部取り残さ
れる場合が生じる。
タ２９によつて透過光強度分布２７の絶対値がパ
ネル内面の全面に亘つて均一化され、過露光が抑
えられる。感光性レジスト膜１０として例えばポ
リビニルピロリドン（PVP）と４，4′−ジアジス
チルベン−２，2′−ジスルホン酸ナトリウム
（DAS）からなる相反則不軌特性（低照度領域で
は架橋度が低下する）をもつPVP感光剤が注目
されつつあるが、このPVP感光剤は過露光され
ると架橋点が増え、リフトオフするときに完全に
取り去ることが出来ず白抜き部分に一部取り残さ
れる場合が生じる。
一方、一般に使用されているPVP感光剤（ポ
リビニルアルコールPVAと重クロム酸アンモニ
ウムADCからなる）の場合は過露光による光の
回折によつて露光パターンにむらが生ずる。しか
し、本発明では過露光が抑えられるので、このよ
うな問題は解決される。
リビニルアルコールPVAと重クロム酸アンモニ
ウムADCからなる）の場合は過露光による光の
回折によつて露光パターンにむらが生ずる。しか
し、本発明では過露光が抑えられるので、このよ
うな問題は解決される。
第７図は本発明の露光法によつて得られたパネ
ル内面の任意の位置Xi，Yiでの重ね合された透過
光強度分布（又は露光量）（実線）及びその微分
値∂I／∂X（点線）を示す一例である。第７図Ａ〜
Ｆは第６図Ａ〜Ｆに対応する。この第７図によれ
ばパネル内面の中央、中間、周辺の全面に亘つて
ストライプ巾Ｗのエツヂに対応する位置での微分
値∂I／∂Xが大きくなる、即ち∂I／∂Xの波形分布
の頂部近傍値又はストライプ巾のエツジむらを防
止するための一定レベル値以上となるのが認めら
れる。従つて、従来のような中間領域での製造不
能もしくは白抜き巾のむらは解消される。
ル内面の任意の位置Xi，Yiでの重ね合された透過
光強度分布（又は露光量）（実線）及びその微分
値∂I／∂X（点線）を示す一例である。第７図Ａ〜
Ｆは第６図Ａ〜Ｆに対応する。この第７図によれ
ばパネル内面の中央、中間、周辺の全面に亘つて
ストライプ巾Ｗのエツヂに対応する位置での微分
値∂I／∂Xが大きくなる、即ち∂I／∂Xの波形分布
の頂部近傍値又はストライプ巾のエツジむらを防
止するための一定レベル値以上となるのが認めら
れる。従つて、従来のような中間領域での製造不
能もしくは白抜き巾のむらは解消される。
尚、上例では３点光源露光とした場合である
が、光源位置をQ1とQ2とした２点光源露光にも
適用でき、その他の多点光源露光にも適用でき
る。
が、光源位置をQ1とQ2とした２点光源露光にも
適用でき、その他の多点光源露光にも適用でき
る。
また照度補正フイルタはパネル内面の全面にわ
たつてその透過光強度をできるかぎり均一にする
ために用いるので、各光源位置での露光において
適宜選択できる。
たつてその透過光強度をできるかぎり均一にする
ために用いるので、各光源位置での露光において
適宜選択できる。
発明の効果
上述せる本発明によれば各光源位置での露光に
応じて夫々補正レンズ系を選択し、複数のフレネ
ル回折波形を重ね合せた透過光強度分布及びそれ
に基づく架橋度分布の絶対値及び微分値をパネル
内面の全面に亘つて最適化したことにより、従来
製造不可能であつた微細パターンの蛍光面の形成
も可能となる。また白抜き巾のバラツキを小さく
できるのでカラー陰極線管の品質の安定化が図ら
れる。また材料関係のバラツキが吸収され、露光
されたストライプエツヂのむらがなくなり、生産
性の向上が図れる。従つて特に微細パターンのカ
ラー蛍光面を有する高精細度カラー陰極線管での
露光に適用して好適ならしめるものである。
応じて夫々補正レンズ系を選択し、複数のフレネ
ル回折波形を重ね合せた透過光強度分布及びそれ
に基づく架橋度分布の絶対値及び微分値をパネル
内面の全面に亘つて最適化したことにより、従来
製造不可能であつた微細パターンの蛍光面の形成
も可能となる。また白抜き巾のバラツキを小さく
できるのでカラー陰極線管の品質の安定化が図ら
れる。また材料関係のバラツキが吸収され、露光
されたストライプエツヂのむらがなくなり、生産
性の向上が図れる。従つて特に微細パターンのカ
ラー蛍光面を有する高精細度カラー陰極線管での
露光に適用して好適ならしめるものである。
第１図Ａ及びＢは透過光強度分布（又は露光
量）及びこれによつて露光されたストライプの平
面図、第２図及び第３図は従来の２点光源露光方
法の説明図及びその重ね合された透過光強度分布
図、第４図及び第５図は本発明による露光方法の
一例を示す説明図及びその重ね合された透過光強
度分布図、第６図は従来の露光方法によるパネル
内面の任意の位置による透過光強度分布（又は露
光量）及びその微分値を示す図、第７図は同様に
本発明によつて得られた透過光強度分布（又は露
光量）及びその微分値を示す図である。 ９はパネル、１０は感光性レジスト膜、１２，
２８1，２８2は補正レンズ、２９は照度補正フイ
ルタ、Ｏ，Q1，Q2は露光光源位置、２４，２５，
２６はフレネル回折波形、２７は重ね合された透
過光強度分布である。
量）及びこれによつて露光されたストライプの平
面図、第２図及び第３図は従来の２点光源露光方
法の説明図及びその重ね合された透過光強度分布
図、第４図及び第５図は本発明による露光方法の
一例を示す説明図及びその重ね合された透過光強
度分布図、第６図は従来の露光方法によるパネル
内面の任意の位置による透過光強度分布（又は露
光量）及びその微分値を示す図、第７図は同様に
本発明によつて得られた透過光強度分布（又は露
光量）及びその微分値を示す図である。 ９はパネル、１０は感光性レジスト膜、１２，
２８1，２８2は補正レンズ、２９は照度補正フイ
ルタ、Ｏ，Q1，Q2は露光光源位置、２４，２５，
２６はフレネル回折波形、２７は重ね合された透
過光強度分布である。
Claims (1)
- １ 露光光源の位置を複数とし、複数のフレネル
回折波形を重ね合せた透過光強度分布を用いてパ
ネル内面の被感光膜を所定ストライプ巾に露光す
る露光方法であつて、前記各光源位置での露光に
応じて夫々フレネル回折条件を補正する補正レン
ズ系を選択し、前記複数の光源より発射された複
数の光は各々前記補正レンズ系と光学用マスクを
通して前記被感光膜上で前記フレネル回折波形を
重ね合せて１本の所定巾のストライプを露光する
ように調整され、更に前記パネル内面の被感光膜
全面に亘つて、前記光透過光強度分布又は露光量
の絶対値をほぼ均一となすと共に、前記透過光強
度分布又は露光量の前記ストライプ巾のエツジに
対応する位置での微分値∂I／∂Xを∂I／∂Xの波形
分布の頂部近傍値又はストライプ巾のエツジむら
を防止するための一定レベル値以上となして露光
するように調整されたことを特徴とするカラー陰
極線管の露光方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58192095A JPS6084738A (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | カラ−陰極線管の露光方法 |
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