JPH064523Y2 - カラー陰極線管用シャドーマスク - Google Patents
カラー陰極線管用シャドーマスクInfo
- Publication number
- JPH064523Y2 JPH064523Y2 JP1989133859U JP13385989U JPH064523Y2 JP H064523 Y2 JPH064523 Y2 JP H064523Y2 JP 1989133859 U JP1989133859 U JP 1989133859U JP 13385989 U JP13385989 U JP 13385989U JP H064523 Y2 JPH064523 Y2 JP H064523Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- aperture
- ray tube
- cathode ray
- color cathode
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
- 241000226585 Antennaria plantaginifolia Species 0.000 claims description 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 3
- 238000005282 brightening Methods 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 4
- 240000000136 Scabiosa atropurpurea Species 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0794—Geometrical arrangements, e.g. curvature
Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案はカラー陰極線管用シャドーマスクに関するもの
であって、特に露光用マスクとして用いられるシャドー
マスクに関する。
であって、特に露光用マスクとして用いられるシャドー
マスクに関する。
(従来の技術) インライン形電子銃を備えたカラー陰極線管にあって
は、電子銃の構造的特性上螢光面を構成する螢光体がス
トライプ形状で形成されなければならない。この螢光体
ストライプ間には外光による輝度の低下を防止するた
め、黒鉛等の光吸収性物質でブラックメトリックスが形
成される。
は、電子銃の構造的特性上螢光面を構成する螢光体がス
トライプ形状で形成されなければならない。この螢光体
ストライプ間には外光による輝度の低下を防止するた
め、黒鉛等の光吸収性物質でブラックメトリックスが形
成される。
この螢光体ストライプとブラックメトリックスはそれぞ
れ感光性合成樹脂を用いて写真蝕刻方法、即ち露光及び
現像を通じて形成される。ここで露光用マスクとしては
通常完成されたカラー陰極線管から電子ビームを誘導す
るシャドーマスクが使用される。かかる従来のシャドー
マスクの一つの例を第1図に示す。この第1図におい
て、シャドーマスク1′は、それぞれ幅hのスリット形
アパーチャ2が無数に形成された薄い金属板からなって
いる。
れ感光性合成樹脂を用いて写真蝕刻方法、即ち露光及び
現像を通じて形成される。ここで露光用マスクとしては
通常完成されたカラー陰極線管から電子ビームを誘導す
るシャドーマスクが使用される。かかる従来のシャドー
マスクの一つの例を第1図に示す。この第1図におい
て、シャドーマスク1′は、それぞれ幅hのスリット形
アパーチャ2が無数に形成された薄い金属板からなって
いる。
一方、このようなシャドーマスク1′を露光用マスクと
してパネル面を露光する方法を説明するために露光装置
の一例を第2図に示す。この露光装置は、その内面に感
光性物質が塗布されたパネル5の内側に露光用マスクと
してシャドーマスク1′を装着し、光源6から放射され
る光を、スリット7aを形成するシャッター7をパネル
5の短辺方向に移動させることにより、パネル5の内面
を段階的に連続的に露光させるブラックメトリックス、
又は、螢光体のストライプを形成するようになってい
る。
してパネル面を露光する方法を説明するために露光装置
の一例を第2図に示す。この露光装置は、その内面に感
光性物質が塗布されたパネル5の内側に露光用マスクと
してシャドーマスク1′を装着し、光源6から放射され
る光を、スリット7aを形成するシャッター7をパネル
5の短辺方向に移動させることにより、パネル5の内面
を段階的に連続的に露光させるブラックメトリックス、
又は、螢光体のストライプを形成するようになってい
る。
ところが、光源6からパネル5の内面の各部分までの距
離が異なり、各部分の照度に差異に生じるので、露光さ
れる程度が異なるようになる。従って、パネル5の内面
に形成されるブラックメトリックス又は螢光体ストライ
プの形成状態が不良になる。例えば、通常螢光体ストラ
イプより先に形成されるブラックメトリックスは露光さ
れた部分が剥離されるようになるので、露光が不足の場
合は第3A図のようにブラックメトリックス(B)の幅
が規定幅より不規則に大きくなり、露光が過多の場合に
は第3B図の如くその逆になり、ブラックメトリックス
(B)の直線度がすこぶる悪くなる。ブラックメトリッ
クス(B)の直線度が不良な場合には、その間に形成さ
れる螢光体ストライプの形成状態もすこぶる不良にな
る。
離が異なり、各部分の照度に差異に生じるので、露光さ
れる程度が異なるようになる。従って、パネル5の内面
に形成されるブラックメトリックス又は螢光体ストライ
プの形成状態が不良になる。例えば、通常螢光体ストラ
イプより先に形成されるブラックメトリックスは露光さ
れた部分が剥離されるようになるので、露光が不足の場
合は第3A図のようにブラックメトリックス(B)の幅
が規定幅より不規則に大きくなり、露光が過多の場合に
は第3B図の如くその逆になり、ブラックメトリックス
(B)の直線度がすこぶる悪くなる。ブラックメトリッ
クス(B)の直線度が不良な場合には、その間に形成さ
れる螢光体ストライプの形成状態もすこぶる不良にな
る。
かかる問題点を解決するための従来の試みは、例えば、
日本実用新案公報第58−41633号に開示されたよ
うに主にシャッターのスリット形状を変更させる方法等
であった。
日本実用新案公報第58−41633号に開示されたよ
うに主にシャッターのスリット形状を変更させる方法等
であった。
(考案が解決しようとする課題) しかし、この方法は、上述の問題点の適切な解決策とは
ならなかった。
ならなかった。
このような従来の問題点を勘案して本考案の目的は、露
光用マスクに使用するとき、パネル全面に対する露光量
を均一にすることができるカラー陰極線管用シャドーマ
スクを提供することである。
光用マスクに使用するとき、パネル全面に対する露光量
を均一にすることができるカラー陰極線管用シャドーマ
スクを提供することである。
(課題を解決するための手段) 本考案は、それぞれ電子ビームを誘導する多数のアパー
チャが形成されたカラー陰極線管用シャドーマスクにお
いて、 上記シャドーマスクにピンクッション形アパーチャとド
ラム形アパーチャ中の少なくともいずれかの1種類とス
リット形アパーチャが混合されて形成されることを特徴
とする。
チャが形成されたカラー陰極線管用シャドーマスクにお
いて、 上記シャドーマスクにピンクッション形アパーチャとド
ラム形アパーチャ中の少なくともいずれかの1種類とス
リット形アパーチャが混合されて形成されることを特徴
とする。
(実施例) 以下、添付した図面を参照して、本考案の好ましい実施
例を詳細に説明する。
例を詳細に説明する。
第4A図は、本考案によるシャドーマスクに形成された
アパーチャの形態であって、ピンクッション形(Pin-cu
shion)形アパーチャ、第4B図は、本考案によるシャ
ドーマスクに形成されたアパーチャの形態であって、ド
ラム(drum)形アパーチャである。ピンクッション形ア
パーチャ3は最小幅(h1)と最大幅(h2)を有し、
ドラム形アパーチャ4は最小幅(h3)と最大幅(h
4)とを有する。ここでピンクッション形アパーチャ3
の最大幅(h2)とドラム形アパーチャ4の最小幅(h
3)は、それぞれ通常スリット形アパーチャ2の幅
(h)と殆んど同一に構成されるのが好ましい。従っ
て、ピンクッション形アパーチャ3の開口部面積はスリ
ット形アパーチャ2の開口部面積より少なくなり、ドラ
ム形アパーチャ4の開口部面積はスリット形アパーチャ
2の開口部面積より大きくなる。
アパーチャの形態であって、ピンクッション形(Pin-cu
shion)形アパーチャ、第4B図は、本考案によるシャ
ドーマスクに形成されたアパーチャの形態であって、ド
ラム(drum)形アパーチャである。ピンクッション形ア
パーチャ3は最小幅(h1)と最大幅(h2)を有し、
ドラム形アパーチャ4は最小幅(h3)と最大幅(h
4)とを有する。ここでピンクッション形アパーチャ3
の最大幅(h2)とドラム形アパーチャ4の最小幅(h
3)は、それぞれ通常スリット形アパーチャ2の幅
(h)と殆んど同一に構成されるのが好ましい。従っ
て、ピンクッション形アパーチャ3の開口部面積はスリ
ット形アパーチャ2の開口部面積より少なくなり、ドラ
ム形アパーチャ4の開口部面積はスリット形アパーチャ
2の開口部面積より大きくなる。
ここで、ピンクッション形アパーチャ3の最小幅(h
1)とドラム形アパーチャ4の最大幅(h4)をそれぞ
れスリット形アパーチャ2の幅(h)と殆んど同一にす
る場合には、開口部面積が上述の実施例の場合と逆にな
る。このようにして、スリット形アパーチャ2と複合し
て使用するとき、インライン(in-line)状態に整列す
ることが難しいので好ましくない。
1)とドラム形アパーチャ4の最大幅(h4)をそれぞ
れスリット形アパーチャ2の幅(h)と殆んど同一にす
る場合には、開口部面積が上述の実施例の場合と逆にな
る。このようにして、スリット形アパーチャ2と複合し
て使用するとき、インライン(in-line)状態に整列す
ることが難しいので好ましくない。
このような本考案による各種アパーチャ等は第5A図、
第5B図に示した如く、シャドーマスク1に混合形成さ
れる。例えば、長辺部の外側中央付近の露光量が標準値
より過多であり短辺部の外側中央付近の露光量が標準値
より不足の場合には、露光量が過多な長辺部の外側中央
付近にはピンクッション形アパーチャ3を形成し、露光
量が不足な短辺部の外側中央付近にはドラム形アパーチ
ャ4を形成する。(その逆の場合は第5B図に示すとお
りである。) ここでピンクッション形アパーチャ3の最大幅(h2)
を、前述の如くスリット形アパーチャ2の幅と殆んど同
一に形成し、露光量の過多程度に従って漸次その最小幅
(h1)を増加させ、露光量が標準値に至る部分におい
てはスリット形アパーチャ2の形態に近接させるように
形成するのが好ましい。又ドラム形アパーチャ4もこれ
と同様漸次最大幅(h4)を減少させて形成するのが好
ましい。
第5B図に示した如く、シャドーマスク1に混合形成さ
れる。例えば、長辺部の外側中央付近の露光量が標準値
より過多であり短辺部の外側中央付近の露光量が標準値
より不足の場合には、露光量が過多な長辺部の外側中央
付近にはピンクッション形アパーチャ3を形成し、露光
量が不足な短辺部の外側中央付近にはドラム形アパーチ
ャ4を形成する。(その逆の場合は第5B図に示すとお
りである。) ここでピンクッション形アパーチャ3の最大幅(h2)
を、前述の如くスリット形アパーチャ2の幅と殆んど同
一に形成し、露光量の過多程度に従って漸次その最小幅
(h1)を増加させ、露光量が標準値に至る部分におい
てはスリット形アパーチャ2の形態に近接させるように
形成するのが好ましい。又ドラム形アパーチャ4もこれ
と同様漸次最大幅(h4)を減少させて形成するのが好
ましい。
上述の本考案によるシャドーマスクの作用を以下に説明
する。
する。
本考案によって構成されたシャドーマスクは装着され、
その内面を露光するための露光用マスクとして使用され
る。以下においては説明の便宜上、ブラックメトリック
スの形成過程について説明するが、螢光体ストライプ形
成においてもこれとほぼ同様である。
その内面を露光するための露光用マスクとして使用され
る。以下においては説明の便宜上、ブラックメトリック
スの形成過程について説明するが、螢光体ストライプ形
成においてもこれとほぼ同様である。
光源6から光が照射されれば、この光束は移動するシャ
ッター7のスリット7aによってパネル5の内面を段階
的に露光するようになる。これは各アパーチャ2、3、
4をパネルの内面に対してその長手方向に移動させるの
と同じ効果を表わすようになる。
ッター7のスリット7aによってパネル5の内面を段階
的に露光するようになる。これは各アパーチャ2、3、
4をパネルの内面に対してその長手方向に移動させるの
と同じ効果を表わすようになる。
(考案の効果) 従って、パネル5の内面の各ストライプ形成位置に対す
る露光量が制御されるので、ピンクッション形アパーチ
ャ3の場合には、その開口部断面積が一般的なスリット
形アパーチャ2の開口部断面積に比べて小さいので平均
光通過量が減少され、ドラム形アパーチャ4においては
その逆になり、結果的にパネル5の内面の各部位に到達
する光の強さが殆んど均一になることによりパネルの全
体的な露光量が均一となる。
る露光量が制御されるので、ピンクッション形アパーチ
ャ3の場合には、その開口部断面積が一般的なスリット
形アパーチャ2の開口部断面積に比べて小さいので平均
光通過量が減少され、ドラム形アパーチャ4においては
その逆になり、結果的にパネル5の内面の各部位に到達
する光の強さが殆んど均一になることによりパネルの全
体的な露光量が均一となる。
これによりパネル全体において、露光部位の感光偏差が
減少して、ブラックメトリックスの形成状態、特に直線
性と密度が著しく均一になる。
減少して、ブラックメトリックスの形成状態、特に直線
性と密度が著しく均一になる。
また、本考案に基づくシャドーマスクを使用すれば良質
の螢光膜形成が可能になるので、優れた画像を提供する
高品位のカラー陰極線管の生産が可能になる利点があ
る。
の螢光膜形成が可能になるので、優れた画像を提供する
高品位のカラー陰極線管の生産が可能になる利点があ
る。
第1図は従来のシャドーマスクフレームの構造を示す一
部拡大斜視図、 第2図は通常の露光装置を示す概略断面図、 第3A図は、ブラックメトリックスの形成不良を示すパ
ネル内面の拡大平面図であって、露光の不足状態、第3
B図は、ブラックメトリックスの形成不良を示すパネル
内面の拡大平面図であって、露光の過多状態に関する図
である。 第4A図は、本考案に基づくシャドーマスクに形成され
るアパーチャの形態を示す概略図であって、ピンクッシ
ョン形、第4B図は、本考案に基づくシャドーマスクに
形成されるアパーチャの形態を示す概略図であって、ド
ラム形に関する図である。 第5A図、第5B図はそれぞれ本考案により構成された
シャドーマスクの実施例を示した平面図である。 1…シャドーマスク、2…スリット形アパーチャ、3…
ピンクッション形アパーチャ、4…ドラム形アパーチ
ャ、5…パネル、6…光源、7…シャッター、7a…ス
リット。
部拡大斜視図、 第2図は通常の露光装置を示す概略断面図、 第3A図は、ブラックメトリックスの形成不良を示すパ
ネル内面の拡大平面図であって、露光の不足状態、第3
B図は、ブラックメトリックスの形成不良を示すパネル
内面の拡大平面図であって、露光の過多状態に関する図
である。 第4A図は、本考案に基づくシャドーマスクに形成され
るアパーチャの形態を示す概略図であって、ピンクッシ
ョン形、第4B図は、本考案に基づくシャドーマスクに
形成されるアパーチャの形態を示す概略図であって、ド
ラム形に関する図である。 第5A図、第5B図はそれぞれ本考案により構成された
シャドーマスクの実施例を示した平面図である。 1…シャドーマスク、2…スリット形アパーチャ、3…
ピンクッション形アパーチャ、4…ドラム形アパーチ
ャ、5…パネル、6…光源、7…シャッター、7a…ス
リット。
Claims (5)
- 【請求項1】それぞれ電子ビームを誘導する多数のアパ
ーチャが形成されたカラー陰極線管用シャドーマスクに
おいて、 上記シャドーマスクにピンクッション形アパーチャとド
ラム形アパーチャ中の少なくもいずれかの一種類とスリ
ット形アパーチャが混合されて形成されることを特徴と
するカラー陰極線管用シャドーマスク。 - 【請求項2】上記ピンクッション形アパーチャが、上記
シャドーマスクが露光用マスクとして用いられるとき、
減光の要求される部分に形成されることを特徴とする請
求項1記載のカラー陰極線管用シャドーマスク。 - 【請求項3】上記ドラム形アパーチャが、上記シャドー
マスクが露光用マスクに使用されるとき、増光の要求さ
れる部分に形成されることを特徴とする請求項1記載の
カラー陰極線管用シャドーマスク。 - 【請求項4】上記ピンクッション形アパーチャの最大幅
が上記スリット形アパーチャの幅と殆んど同一なことを
特徴とする、請求項1又は2のいずれかの1項に記載の
カラー陰極線管用シャドーマスク。 - 【請求項5】上記ドラム形アパーチャの最小幅が上記ス
リット形アパーチャの幅と殆んど同一なことを特徴とす
る請求項1又は3のいずれかの1項に記載のカラー陰極
線管用シャドーマスク。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR19155 | 1988-11-26 | ||
| KR2019880019155U KR960010113Y1 (ko) | 1988-11-26 | 1988-11-26 | 칼라음극선관용 섀도우마스크 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02111047U JPH02111047U (ja) | 1990-09-05 |
| JPH064523Y2 true JPH064523Y2 (ja) | 1994-02-02 |
Family
ID=19281611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989133859U Expired - Lifetime JPH064523Y2 (ja) | 1988-11-26 | 1989-11-17 | カラー陰極線管用シャドーマスク |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH064523Y2 (ja) |
| KR (1) | KR960010113Y1 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS517397A (ja) * | 1974-07-05 | 1976-01-21 | Yokogawa Electric Works Ltd | Ryuryoseigyosochi |
| JPS592986Y2 (ja) * | 1981-09-16 | 1984-01-27 | 富士重工業株式会社 | 自動車用バンパのオ−バライダ |
| JPS5948507A (ja) * | 1982-09-12 | 1984-03-19 | 中山 良雄 | 道路標識およびその製造方法 |
-
1988
- 1988-11-26 KR KR2019880019155U patent/KR960010113Y1/ko not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-11-17 JP JP1989133859U patent/JPH064523Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02111047U (ja) | 1990-09-05 |
| KR900010795U (ko) | 1990-06-04 |
| KR960010113Y1 (ko) | 1996-11-22 |
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