JPH0451996B2 - - Google Patents
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- JPH0451996B2 JPH0451996B2 JP57213229A JP21322982A JPH0451996B2 JP H0451996 B2 JPH0451996 B2 JP H0451996B2 JP 57213229 A JP57213229 A JP 57213229A JP 21322982 A JP21322982 A JP 21322982A JP H0451996 B2 JPH0451996 B2 JP H0451996B2
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- pulse shaping
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高電圧かつ大電流の矩形波パルスを
得るのに好適なパルス整形回路に関する。このよ
うなパルスを必要とするものには、例えば、CO2
レーザやエキシマレーザ等がある。このうち、
CO2レーザは主として加工や熔接に利用され、エ
キシマレーザは、半導体のアニーリング、光エツ
チング、表面加工、光化学、ウランの同位体濃縮
もしくは核融合等に利用される。更には、高電
圧、大電流の電気素子の試験等にも使用すること
ができる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a pulse shaping circuit suitable for obtaining high voltage and large current rectangular wave pulses. For those requiring such pulses, e.g. CO 2
There are lasers, excimer lasers, etc. this house,
CO 2 lasers are mainly used for processing and welding, and excimer lasers are used for semiconductor annealing, optical etching, surface processing, photochemistry, uranium isotope enrichment, nuclear fusion, etc. Furthermore, it can also be used for testing high voltage and large current electrical elements.
従来技術
従来のこの種のパルス整形回路は、例えば第1
図に示すように、入力側からコンデンサCに対し
て高電圧を印加してコンデンサCに一旦電荷を蓄
積し、次にスイツチSを閉じ、コンデンサCに蓄
積された電荷を放電ギヤツプGに供給して放電さ
せることにより、必要とするパルスを得ていた。
前記コンデンサCは、平板型または同軸型の別を
問わず、誘電体としてマイラ、エポキシもしくは
ポリエチレン等のプラスチツクや、エチレングリ
コールもしくは水等の液体を用いていた。また、
セラミツクコンデンサを用いたものも知られてい
るが、円柱状または平板状に形成されたセラミツ
クの相対する両端面に電極を付与した一般的な構
造のセラミツクコンデンサを用い、その複数個を
平板状電極板等の間に並列に接続する構造であつ
た。Prior Art A conventional pulse shaping circuit of this type has, for example, a first pulse shaping circuit.
As shown in the figure, a high voltage is applied to capacitor C from the input side to temporarily accumulate charge in capacitor C, then switch S is closed and the charge accumulated in capacitor C is supplied to discharge gap G. By discharging the battery, the required pulse was obtained.
The capacitor C, regardless of whether it is a flat plate type or a coaxial type, uses a plastic such as mylar, epoxy or polyethylene, or a liquid such as ethylene glycol or water as a dielectric material. Also,
Ceramic capacitors are also known, but they use a ceramic capacitor with a general structure in which electrodes are attached to both opposing end faces of ceramic formed in a columnar or flat plate shape, and a plurality of the ceramic capacitors are connected to flat electrodes. The structure was such that they were connected in parallel between plates, etc.
従来技術の欠点
しかしながら、プラスチツクを誘電体とした従
来のパルス整形回路では、誘電率が低いため、イ
ンピーダンスが高くかつパルス幅が短くなり、エ
キシマレーザ等で必要とされる大電流かつ長パル
スの回路を実現することができない。エチレング
リコール(εr〜40)や水(εr〜80)を用いた場合
は、同じパルス幅を得るのに、5倍以上の長さを
必要とし、しかも水の場合は絶縁抵抗が低いた
め、直流電圧を印加することができないという欠
点があつた。更に、通常構造のセラミツクコンデ
ンサを並列に接続したものは、パルス整形回路と
はならず、一つのコンデンサとして働かない。Disadvantages of conventional technology However, in conventional pulse shaping circuits using plastic as a dielectric, the dielectric constant is low, resulting in high impedance and short pulse width, resulting in large current and long pulse circuits required for excimer lasers, etc. cannot be realized. When using ethylene glycol (εr ~ 40) or water (εr ~ 80), to obtain the same pulse width, it requires more than five times the length, and water has low insulation resistance, so DC The drawback was that voltage could not be applied. Furthermore, a circuit in which ceramic capacitors of normal structure are connected in parallel does not function as a pulse shaping circuit and does not function as a single capacitor.
本発明の目的
本発明は、例えば1Ω以下の非常に低いインピ
ーダンスの負荷に対して、立上がりの速い高電圧
かつ大電流の矩形波パルスを、比較的長時間印加
することが可能で、高電圧、大電流の矩形波パル
スを必要とするエキシマレーザの励起、電気的ス
イツチ素子の試験等に最適であり、しかも小型化
が容易で実用性の高い高出力のパルス整形回路を
提供することを目的とする。OBJECTS OF THE INVENTION The present invention is capable of applying a fast rising high voltage and large current rectangular wave pulse for a relatively long time to a load with a very low impedance of, for example, 1Ω or less. Our objective is to provide a high-output pulse shaping circuit that is ideal for excitation of excimer lasers that require large current square wave pulses, testing of electrical switch elements, etc., and that is easy to miniaturize and highly practical. do.
本発明の構成
上記目的を達成するため、本発明に係るパルス
整形回路は、内周及び外周の各全面に内周電極及
び外周電極を被着形成した円筒状誘電体磁器を有
し、前記誘電体磁器の軸方向の一端側に位置する
前記内周電極及び前記外周電極の端部をパルス入
力端とし、他端側に位置する前記内周電極及び外
周電極の端部をパルス出力端とし、前記パルス入
力端にパルスが入力されたとき、前記パルス出力
端から前記誘電体磁器の軸方向長さにほぼ比例す
るパルス幅を有するパルスを出力するパルス整形
回路であつて、
前記誘電体磁器は複数個備えられ、各々は実質
的に同一の内径寸法及び外形寸法を有し、前記内
周電極同志及び前記外周電極同志が導通するよう
に軸方向に並べられていることを特徴とする。Structure of the Present Invention In order to achieve the above object, a pulse shaping circuit according to the present invention includes a cylindrical dielectric ceramic having an inner circumferential electrode and an outer circumferential electrode formed on the entire surface of the inner circumference and the outer circumference, and The ends of the inner circumferential electrode and the outer circumferential electrode located on one end side in the axial direction of the body porcelain are used as pulse input ends, and the ends of the inner circumferential electrode and the outer circumferential electrode located on the other end side are used as pulse output ends, A pulse shaping circuit that outputs a pulse having a pulse width approximately proportional to the axial length of the dielectric ceramic from the pulse output terminal when a pulse is input to the pulse input terminal, wherein the dielectric ceramic is A plurality of electrodes are provided, each having substantially the same inner diameter and outer diameter, and arranged in the axial direction so that the inner electrodes and the outer electrodes are electrically connected to each other.
実施例
第2図は本発明の基礎となるパルス整形回路の
正面断面図、第3図は同じくその側面図である。
この実施例では、適当な誘電体磁器材料を用いて
形成した円筒状の誘電体磁器1の内周面及び外周
面に、それぞれ内周電極2及び外周電極3を形成
した構造となつている。前記電極2及び3は、通
常,磁器コンデンサを製造する際に適用される技
術、例えば銀焼付け電極として被着形成する。Embodiment FIG. 2 is a front sectional view of a pulse shaping circuit which is the basis of the present invention, and FIG. 3 is a side view thereof.
This embodiment has a structure in which an inner electrode 2 and an outer electrode 3 are formed on the inner and outer peripheral surfaces of a cylindrical dielectric ceramic 1 made of a suitable dielectric ceramic material, respectively. The electrodes 2 and 3 are typically deposited using techniques applied in the manufacture of ceramic capacitors, for example as baked-on silver electrodes.
このパルス整形回路は、軸方向の一端イにおけ
る電極2−3間をパルス入力端とし、他端ロにお
ける電極2−3間をパルス出力端として動作させ
る。ここで、入力端イと出力端ロとの間のインピ
ーダンスZ、出力端ロでのパルス幅τ及び容量C
は、
Z=60(1/√)ln(r2/r1)Ω
τ=2L√/v sec
C=0.56εrL/ln(r2/r1)PF
但し、
r1は誘電体磁器1の内径
r2は誘電体磁器1の外径
Lは誘電体磁器1の長さ
εrは誘電体磁器1の比誘電率
vは光速
となる。実現可能な具体的数値として、誘電体磁
器1の比誘電率εrをεr=1200とし、その形状をr1
=9mm、r2=50mm、L=84cm としたとすると、
Z=3Ω
τ=194ns
C=28.6nF
が得られる。即ち、パルス幅τ=194nsの長パル
スが簡単に得られるのである。またインピーダン
スZは3Ωの低インピーダンスとなる。しかもイ
ンピーダンスZの値は、上記構成のパルス整形回
路を並列に複数接続することにより、その並列接
続個数に逆比例して低下させることができる。例
えば上記構成のパルス整形回路の3本を並列に接
続すればインピーダンスZは1Ωまで低下させる
ことができるのである。このため、例えば1Ω以
下の非常に低いインピーダンスの負荷に対して、
立上がりの速い高電圧かつ大電流の矩形波パルス
を、200ns程度の比較的長時間印加することが可
能で、高電圧、大電流の矩形波パルスを必要とす
るエキシマレーザの励起、電気的スイツチ素子の
試験等に最適な小型のパルス整形回路を実現する
ことができる。 This pulse shaping circuit operates between electrodes 2 and 3 at one end A in the axial direction as a pulse input terminal and between electrodes 2 and 3 at the other end B as a pulse output terminal. Here, impedance Z between input terminal A and output terminal B, pulse width τ at output terminal B, and capacitance C
Z=60(1/√)ln(r2/r1)Ω τ=2L√/v sec C=0.56εrL/ln(r2/r1)PF However, r1 is the dielectric and the inner diameter of the ceramic 1 r2 is the dielectric The outer diameter of the porcelain 1 is L, the length of the dielectric porcelain 1, εr is the relative dielectric constant of the dielectric porcelain 1, and v is the speed of light. As a concrete achievable value, let the dielectric constant εr of the dielectric ceramic 1 be εr=1200, and its shape be r1
= 9mm, r2 = 50mm, and L = 84cm, we obtain Z = 3Ω, τ = 194ns, and C = 28.6nF. That is, a long pulse with a pulse width τ=194 ns can be easily obtained. Further, the impedance Z is a low impedance of 3Ω. Moreover, by connecting a plurality of pulse shaping circuits having the above configuration in parallel, the value of impedance Z can be reduced in inverse proportion to the number of parallel connections. For example, if three pulse shaping circuits having the above configuration are connected in parallel, the impedance Z can be lowered to 1Ω. For this reason, for example, for a load with very low impedance of 1Ω or less,
It is possible to apply a fast-rising high voltage and large current square wave pulse for a relatively long time of about 200 ns, and it is an excimer laser excitation and electrical switch element that requires a high voltage and large current square wave pulse. This makes it possible to realize a compact pulse shaping circuit that is ideal for testing, etc.
第4図は本発明に係るパルス整形回路の実施例
を示している。この実施例の特徴は、内周及び外
周にそれぞれ電極2,3を被着形成した略同一形
状の円筒状誘電体磁器1を複数個用意し、各誘電
体磁器1,1,…を、内周電極2同志及び外周電
極3同志が導通するようにして、軸方向に並べた
ことである。 FIG. 4 shows an embodiment of the pulse shaping circuit according to the present invention. The feature of this embodiment is that a plurality of cylindrical dielectric ceramics 1 having substantially the same shape with electrodes 2 and 3 formed on the inner and outer peripheries are prepared, and each dielectric ceramic 1, 1, . . . The circumferential electrodes 2 and the outer circumferential electrodes 3 are arranged in the axial direction so as to be electrically conductive with each other.
上掲式τ=2L√/vから明らかなように、
パルス幅τはパルス整形回路を構成する誘電体磁
器1の長さLに比例する。したがつて、誘電体磁
器1の長さLを調節することにより、パルス幅τ
も調節することができる。例えばより長いパルス
幅τが必要な場合は、誘電体磁器1の長さLを長
くすればよいのである。しかるに、第2図及び第
3図では、一本の誘電体磁器1を用いているた
め、製造し得る長さに製造技術上からの限度があ
り、必要とする長さが得られない場合がある。第
4図の実施例の場合は、略同一形状の円筒状誘電
体磁器1を複数個用意し、各誘電体磁器1,1,
…を、内周電極2同志及び外周電極3同志が導通
するようにして、軸方向に並べた構造であるか
ら、一個の誘電体磁器の長さを小さくして、製造
上の技術的困難性を解決すると共に、誘電体磁器
1,1,…の個数を適当に選択することにより、
パルス整形回路としての実質的な長さLを調整
し、パルス幅τを自由にかつ簡単にコントロール
することができる。 As is clear from the above formula τ=2L√/v,
The pulse width τ is proportional to the length L of the dielectric ceramic 1 constituting the pulse shaping circuit. Therefore, by adjusting the length L of the dielectric ceramic 1, the pulse width τ
can also be adjusted. For example, if a longer pulse width τ is required, the length L of the dielectric ceramic 1 may be increased. However, in FIGS. 2 and 3, since a single piece of dielectric ceramic 1 is used, there is a limit to the length that can be manufactured due to manufacturing technology, and there are cases where the required length cannot be obtained. be. In the case of the embodiment shown in FIG. 4, a plurality of cylindrical dielectric ceramics 1 having approximately the same shape are prepared, and each dielectric ceramic 1,
... are arranged in the axial direction so that the inner circumferential electrodes 2 and the outer circumferential electrodes 3 are electrically conductive, so the length of one dielectric porcelain can be shortened, resulting in technical difficulties in manufacturing. By solving the problem and appropriately selecting the number of dielectric ceramics 1, 1,...
By adjusting the substantial length L of the pulse shaping circuit, the pulse width τ can be freely and easily controlled.
第5図は第4図に示した複合構造のパルス整形
回路の更に具体的な実施例を示す図である。この
実施例では、誘電体磁器1,1,…の各々は、軸
方向の両端面に適当な絶縁樹脂被覆4を施した構
造とし、誘電体磁器1,1…の両端面における沿
面絶縁破壊を絶縁樹脂被覆4によつて防止してあ
る。この誘電体磁器1,1,…は、その内径部内
に弾力性のある金属パイプ5を共通に貫通させ
て、軸方向に並べて一体化してある。金属パイプ
5はその肉厚部に割51を入れて弾力性を持たせ
てある。このような構造であると、当該金属パイ
プ5を誘電体磁器1,1,…の内径部内に密着し
て嵌合させ、破損等を生じることなく、内周電極
2に弾力的に接触させることができる。 FIG. 5 is a diagram showing a more specific embodiment of the composite structure pulse shaping circuit shown in FIG. 4. In this embodiment, each of the dielectric ceramics 1, 1, . This is prevented by an insulating resin coating 4. The dielectric ceramics 1, 1, . . . are axially aligned and integrated with a resilient metal pipe 5 commonly passed through their inner diameters. The metal pipe 5 is provided with elasticity by inserting a crack 51 into its thick wall part. With such a structure, the metal pipe 5 can be closely fitted into the inner diameter of the dielectric ceramics 1, 1, ... and elastically contacted with the inner circumferential electrode 2 without causing damage or the like. Can be done.
金属パイプ5によつて軸方向に一体化された誘
電体磁器1,1,…の外周面には、金属網体6を
套装してあり、該金属網体6によつて誘電体磁器
1,1,…の各外周電極3を互いに導通接続させ
てある。 The outer peripheral surfaces of the dielectric porcelains 1, 1, . The respective outer peripheral electrodes 3 of No. 1, . . . are electrically connected to each other.
更に、電気絶縁性を向上させるため、金属網体
6の上から熱収縮性絶縁チユーブ7を被せ、全体
を絶縁ハウジング8内に収納した構造となつてい
る。絶縁ハウジング8内のパルス整形回路の周囲
には、絶縁油、絶縁ガス、シリコンゴム等を満た
し、沿面絶縁破壊を防止してある。ただし、電圧
が低い場合は、絶縁ハウジング8は省略してもよ
い。 Furthermore, in order to improve electrical insulation, a heat-shrinkable insulating tube 7 is placed over the metal mesh 6, and the entire structure is housed within an insulating housing 8. The area around the pulse shaping circuit in the insulating housing 8 is filled with insulating oil, insulating gas, silicone rubber, etc. to prevent creeping dielectric breakdown. However, if the voltage is low, the insulating housing 8 may be omitted.
第6図は本発明に係るパルス整形回路を希ガス
−ハライドエキシマレーザ発生装置に使用した例
を示す図である。図において、Rは入力抵抗、C
はコンデンサ、SG1はスパークギヤツプ、PFL
は第2図〜第5図で示した本発明に係るパルス整
形回路、SG2はレールギヤツプ、Aは希ガス−
ハライドエキシマレーザ管である。パルス整形回
路PFLは入力端イ側の内周電極2をスパークギ
ヤツプSG1に、また外周電極3をコンデンサC
に接続すると共に、出力端ロ側の内周電極2をレ
ールギヤツプSG2に、外周電極3を希ガス−ハ
ライドエキシマレーザ管Aの電極にそれぞれ接続
してある。 FIG. 6 is a diagram showing an example in which the pulse shaping circuit according to the present invention is used in a rare gas-halide excimer laser generator. In the figure, R is the input resistance, C
is the capacitor, SG1 is the spark gap, PFL
is a pulse shaping circuit according to the present invention shown in FIGS. 2 to 5, SG2 is a rail gap, and A is a rare gas
It is a halide excimer laser tube. In the pulse shaping circuit PFL, the inner electrode 2 on the input terminal A side is connected to the spark gap SG1, and the outer electrode 3 is connected to the capacitor C.
At the same time, the inner circumferential electrode 2 on the output end (R) side is connected to the rail gap SG2, and the outer circumferential electrode 3 is connected to the electrode of the rare gas-halide excimer laser tube A.
上記の希ガス−ハライドエキシマレーザ発生装
置において、入力抵抗Rを通して高圧を供給し、
コンデンサCを充電した後、スパークギヤツプ
SG1を閉じ、パルス整形回路PFLをパルス充電
する。パルス整形回路PFLのパルス充電電圧が
一定の値になり、レールギヤツプSG2が閉じる
と、パルス整形回路PFLの中を電圧波が往復し、
矩形波パルスが希ガス−ハライドエキシマレーザ
管Aに印加され、紫外線領域のエキシマレーザが
発生する。 In the above rare gas-halide excimer laser generator, high pressure is supplied through the input resistor R,
After charging capacitor C, spark gap
Close SG1 and pulse charge the pulse shaping circuit PFL. When the pulse charging voltage of the pulse shaping circuit PFL reaches a certain value and the rail gap SG2 closes, the voltage wave reciprocates inside the pulse shaping circuit PFL,
A square wave pulse is applied to the rare gas-halide excimer laser tube A to generate an excimer laser in the ultraviolet range.
次にこの希ガス−ハライドエキシマレーザ発生
装置において、
εr=1200
r1=9mm
r2=50mm
L=84cm
のパルス整形回路回路PFLを用いた実施例につ
いて説明する。この場合、一本のパルス整形回路
回路PFLでは、
Z=3Ω
τ=194ns
C=28.6nF
となる。この実施例では、負荷となる希ガス−5
ライドエキシマレーザ管Aとのインピーダンスマ
ツチングを考慮して、三本のパルス整形回路回路
PFLを並列に接続した。従つて、パルス整形回
路回路全体としては、
Z=1Ω
τ=194ns
C=86nF
である。 Next, an embodiment will be described in which a pulse shaping circuit PFL with εr=1200 r1=9 mm r2=50 mm L=84 cm is used in this rare gas-halide excimer laser generator. In this case, in one pulse shaping circuit PFL, Z=3Ω, τ=194ns, and C=28.6nF. In this example, the rare gas-5
Three pulse shaping circuits are installed in consideration of impedance matching with the ride excimer laser tube A.
PFLs were connected in parallel. Therefore, for the entire pulse shaping circuit, Z=1Ω, τ=194ns, and C=86nF.
第7図は上記実施例における電圧波形図、第8
図は同じく電流波形図、第9図はレーザ波形図で
ある。まず、電圧は、第7図に示すように、レー
ザの放電時にインピーダンスZが無限大から1Ω
以下に急激に低下するので、最初に急峻なピーク
があり、その後、パルス整形回路回路PFLのパ
ルス幅τ=194nsに対応した一定の電圧が得られ
るている。電流については、第8図に示すよう
に、パルス整形回路回路PFLのパルス幅τ=
194nsの間、ほぼ矩形波が得られ、しかも立上り
時間が20nsで約80KAの電流が得られている。レ
ーザについては、第9図に示すように、前記パル
ス幅τ=194nsに対応して約150nsのパルス幅が得
られている。 FIG. 7 is a voltage waveform diagram in the above embodiment, and FIG.
The figure is also a current waveform diagram, and FIG. 9 is a laser waveform diagram. First, as shown in Figure 7, the voltage changes from infinity to 1Ω when the laser discharges.
Since the voltage drops rapidly below, there is a steep peak at first, and then a constant voltage corresponding to the pulse width τ = 194 ns of the pulse shaping circuit PFL is obtained. Regarding the current, as shown in Figure 8, the pulse width τ of the pulse shaping circuit PFL is
A nearly square wave was obtained for 194 ns, and a current of approximately 80 KA was obtained with a rise time of 20 ns. As for the laser, as shown in FIG. 9, a pulse width of about 150 ns was obtained, corresponding to the pulse width τ=194 ns.
従来、希ガスーハライドエキシマレーザにおい
て、100ns以上のパルス幅の高出力を得るために、
水を誘電体とした平板形パルス整形回路を用いて
いたが、これを用いると200nsのパルス幅を得る
のに、3.3mの長さが必要であつた。これに対し、
本発明によれば、上記実施例で説明した通り、全
長Lが85cmで外径r2が50mmの誘電体磁器を用い
て、約200nsのパルス幅を持つパルス整形回路を
実現することができる。このため、装置が著しく
小型かつ簡単化される。しかも、水の循環装置や
脱イオン化装置が不要であるため、装置全体が著
しく小型化できる。 Conventionally, in rare gas-halide excimer lasers, in order to obtain high output with a pulse width of 100ns or more,
A planar pulse shaping circuit with water as the dielectric was used, but using this circuit required a length of 3.3 m to obtain a pulse width of 200 ns. In contrast,
According to the present invention, as explained in the above embodiment, a pulse shaping circuit having a pulse width of approximately 200 ns can be realized using dielectric ceramic having a total length L of 85 cm and an outer diameter r2 of 50 mm. This makes the device significantly smaller and simpler. Moreover, since a water circulation device and a deionization device are not required, the entire device can be significantly downsized.
本発明の効果
以上述べたように、本発明によれば、次のよう
な効果が得られる。Effects of the present invention As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained.
(a) 円筒状誘電体磁器を用い、その軸方向の一端
をパルス入力端とし、他端をパルス出力端とし
たから、インピーダンスが低く、例えば1Ω以
下の低インピーダンス負荷であるエキシマレー
ザの励起、電気的スイツチ素子の試験等に適し
たパルス整形回路を提供できる。(a) Since a cylindrical dielectric ceramic is used, and one end in the axial direction is used as a pulse input end and the other end is used as a pulse output end, the impedance is low, for example, excitation of an excimer laser with a low impedance load of 1Ω or less, A pulse shaping circuit suitable for testing electrical switch elements can be provided.
(b) 円筒状誘電体磁器を用いたから、高電圧、大
電流の矩形波パルス整形に適し、エキシマレー
ザの励起、電気的スイツチ素子の試験等に好適
なパルス整形回路を提供できる。(b) Since cylindrical dielectric ceramic is used, it is possible to provide a pulse shaping circuit suitable for rectangular wave pulse shaping of high voltage and large current, and suitable for excitation of excimer lasers, testing of electrical switch elements, etc.
(c) 円筒状誘電体磁器の軸方向の一端をパルス入
力端とし、他端をパルス出力端とし、パルス入
力端にパルスが入力されたとき、パルス出力端
から誘電体磁器の軸方向長さにほぼ比例するパ
ルス幅を有するパルスを出力するから、誘電体
磁器の軸方向長さによつて定まる比較的長いパ
ルス幅を有するパルスを出力できる。このた
め、比較的長い矩形波パルスを必要とするエキ
シマレーザの励起、電気的スイツチ素子の試験
等に適したパルス整形回路を提供できる。(c) One axial end of the cylindrical dielectric ceramic is the pulse input end, the other end is the pulse output end, and when a pulse is input to the pulse input end, the axial length of the dielectric ceramic from the pulse output end. Since a pulse having a pulse width approximately proportional to is outputted, a pulse having a relatively long pulse width determined by the axial length of the dielectric ceramic can be outputted. Therefore, it is possible to provide a pulse shaping circuit suitable for excimer laser excitation, testing of electrical switch elements, etc., which require relatively long rectangular wave pulses.
(d) 誘電体磁器は複数個備えられ、各々は実質的
に同一の内径寸法及び外形寸法を有し、内周電
極同志及び外周電極同志が導通するように軸方
向に並べられているから、誘電体磁器の個数選
択によつて、パルス幅を自由、かつ、簡単にコ
ントロールし得るパルス整形回路を提供でき
る。(d) A plurality of dielectric ceramics are provided, each having substantially the same inner diameter and outer diameter, and arranged in the axial direction so that the inner circumferential electrodes and the outer circumferential electrodes are electrically conductive. By selecting the number of dielectric ceramics, it is possible to provide a pulse shaping circuit in which the pulse width can be freely and easily controlled.
第1図は従来のパルス整形回路回路の電気回路
接続図、第2図は本発明の基礎となるパルス整形
回路回路の正面断面図、第3図は同じくその側面
図、第4図は本発明に係るパルス整形回路回路の
別の実施例における正面断面図、第5図は同じく
更に別の実施例の正面断面図、第6図は本発明に
係るパルス整形回路回路を使用した希ガスーハラ
イドエキシマレーザ発生装置の電気回路接続図、
第7図は第6図の希ガスーハライドエキシマレー
ザ発生装置によつて得られた電圧波形図、第8図
は同じく電流波形図、第9図は同じくレーザ波形
図である。
1……誘電体磁器、2……電極、3……電極。
Fig. 1 is an electrical circuit connection diagram of a conventional pulse shaping circuit, Fig. 2 is a front sectional view of the pulse shaping circuit which is the basis of the present invention, Fig. 3 is a side view thereof, and Fig. 4 is the invention of the present invention. 5 is a front sectional view of another embodiment of the pulse shaping circuit according to the present invention, FIG. 5 is a front sectional view of yet another embodiment, and FIG. 6 is a rare gas-halide excimer using the pulse shaping circuit according to the present invention Electric circuit connection diagram of laser generator,
FIG. 7 is a voltage waveform diagram obtained by the rare gas-halide excimer laser generator of FIG. 6, FIG. 8 is a current waveform diagram, and FIG. 9 is a laser waveform diagram. 1... Dielectric ceramic, 2... Electrode, 3... Electrode.
Claims (1)
極を被着形成した円筒状誘電体磁器を有し、前記
誘電体磁器の軸方向の一端側に位置する前記内周
電極及び前記外周電極の端部をパルス入力端と
し、他端側に位置する前記内周電極及び外周電極
の端部をパルス出力端とし、前記パルス入力端に
パルスが入力されたとき、前記パルス出力端から
前記誘電体磁器の軸方向長さにほぼ比例するパル
ス幅を有するパルスを出力するパルス整形回路で
あつて、 前記誘電体磁器は複数個備えられ、各々は実質
的に同一の内径寸法及び外形寸法を有し、前記内
周電極同志及び前記外周電極同志が導通するよう
に軸方向に並べられていることを特徴とするパル
ス整形回路。 2 前記誘電体磁器の各々は、内径部内を貫通さ
せた弾力性のある金属パイプによつて結合され、
前記内周電極が前記金属パイプによつて導通して
いることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記
載のパルス整形回路。 3 前記金属パイプは、軸方向に沿う割りを有
し、前記割りによる弾力性が付与されていること
を特徴とする特許請求の範囲第2項に記載のパル
ス整形回路。 4 前記誘電体磁器の外周に金属網体を套装し、
前記金属網体により前記外周電極の各々を導通さ
せたことを特徴とする特許請求の範囲第1項、第
2項または第3項に記載のパルス整形回路。[Scope of Claims] 1. A cylindrical dielectric ceramic having an inner circumferential electrode and an outer circumferential electrode formed on the entire surface of the inner circumference and the outer circumference, and the inner circumference located on one end side in the axial direction of the dielectric ceramic. The ends of the circumferential electrode and the outer circumference electrode are used as pulse input ends, and the ends of the inner circumference electrode and the outer circumference electrode located on the other end side are used as pulse output ends, and when a pulse is input to the pulse input end, the A pulse shaping circuit that outputs a pulse having a pulse width approximately proportional to the axial length of the dielectric ceramic from a pulse output end, wherein a plurality of the dielectric ceramics are provided, each having substantially the same inner diameter. What is claimed is: 1. A pulse shaping circuit having dimensions and external dimensions, and wherein the inner circumferential electrodes and the outer circumferential electrodes are arranged in the axial direction so as to be electrically conductive with each other. 2. Each of the dielectric ceramics is connected by an elastic metal pipe passed through the inner diameter part,
2. The pulse shaping circuit according to claim 1, wherein the inner peripheral electrode is electrically connected through the metal pipe. 3. The pulse shaping circuit according to claim 2, wherein the metal pipe has a split along the axial direction, and is imparted with elasticity by the split. 4. Wrapping a metal mesh around the outer periphery of the dielectric porcelain,
The pulse shaping circuit according to claim 1, 2, or 3, wherein each of the outer electrodes is electrically connected by the metal net.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57213229A JPS59103392A (en) | 1982-12-04 | 1982-12-04 | Pulse form shaping circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57213229A JPS59103392A (en) | 1982-12-04 | 1982-12-04 | Pulse form shaping circuit |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22187583A Division JPS59171185A (en) | 1983-11-24 | 1983-11-24 | Excimer laser generating device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59103392A JPS59103392A (en) | 1984-06-14 |
| JPH0451996B2 true JPH0451996B2 (en) | 1992-08-20 |
Family
ID=16635666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57213229A Granted JPS59103392A (en) | 1982-12-04 | 1982-12-04 | Pulse form shaping circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59103392A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2583228B1 (en) * | 1985-06-05 | 1987-08-28 | Saint Louis Inst | LASER TUBE WITH METAL VAPORS |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS516368Y2 (en) * | 1971-03-09 | 1976-02-21 | ||
| JPS49140636U (en) * | 1973-04-04 | 1974-12-04 | ||
| JPS56593U (en) * | 1980-03-12 | 1981-01-06 |
-
1982
- 1982-12-04 JP JP57213229A patent/JPS59103392A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59103392A (en) | 1984-06-14 |
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