JPH0452236B2 - - Google Patents

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JPH0452236B2
JPH0452236B2 JP58186358A JP18635883A JPH0452236B2 JP H0452236 B2 JPH0452236 B2 JP H0452236B2 JP 58186358 A JP58186358 A JP 58186358A JP 18635883 A JP18635883 A JP 18635883A JP H0452236 B2 JPH0452236 B2 JP H0452236B2
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JP
Japan
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layer
recording
acid
metal
solution
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP58186358A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6078786A (en
Inventor
Koji Kuroda
Hisaki Suzuki
Masaki Kutsukake
Mitsuru Takita
Nobuhiko Sakai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP58186358A priority Critical patent/JPS6078786A/en
Publication of JPS6078786A publication Critical patent/JPS6078786A/en
Publication of JPH0452236B2 publication Critical patent/JPH0452236B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/242Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
    • G11B7/251Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials dispersed in an organic matrix

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

(技術分野) 本発明は感度が良く生産性の良好なヒートモー
ド記録に適する光記録材料に関するものである。 (従来技術) 従来、レーザー光線等の高密度エネルギービー
ムをスポツトに集光させて、記録媒体に照射して
媒体の一部を状態変化させて記録する、いわゆる
ヒートモード記録が知られている。これに用いる
ヒートモード記録媒体としては、テルル、ビスマ
ス等の金属薄膜やポリスチレン、ニトロセルロー
ス等の有機薄膜、あるいはテルル低酸化物の相転
位を利用したもの等が知られており、これらは
「書いた後直読する」ことのできる、いわゆる
DRAW(direct read after write)媒体であり、
高密度記録が可能で追加書込みも可能であること
から、デイスク用やカード用途に拡大が期待さ
れ、光記録材料としてもさらに安定で高感度なも
のが要求されてくる。 これらのヒートモード記録媒体のうち代表的な
テルル、ビスマス等の金属薄膜は比較的記録感度
の優れた材料であるが、製造には、高価な真空蒸
着装置、スパツタリング装置等が必要である他、
毒性を持つているために取扱いに充分な配慮を要
し、製造作業環境が悪いこと、酸化され易く、デ
イスク用途等特殊処理なしでは保存性が悪いこ
と、及び単なるパターン露光では、予め情報ない
し、ガイドマーク等も入れる事が出来ないこと等
の欠点がある。 また高解像グレードの銀塩写真ゼラチン感材に
特殊な現像をするか、あるいはゼラチンマトリツ
クス中に銀粒子を分散する等して反射性を得て、
実際の記録はゼラチンマトリツクスの熱変形で行
われる記録媒体が知られている。これらの記録媒
体はコーテイングにより連続的に製造でき、銀を
用いることにより広い波長域にわたつて均一な反
射率を得て、種々の波長のレーザービームを用い
た記録再生装置への適合性が高いという利点を持
つている。しかしながら、これらの媒体は高価な
銀を用いているため、価格変動により安定的に安
価に生産供給する事が困難であり、また高解像の
写真感材を用いるため、パターン化、現像を暗室
中で行なわねばならない等の欠点がある。 (発明の目的) 従つて、本発明はこれらの従来の光記録材料の
諸欠点を改善し、連続的にコーテイングして製造
でき、毒性を持たず、明室で取扱うことが可能な
ため作業環境が良く、生産性が向上でき、さらに
安価な光記録材料を提供することを目的とする。 (発明の構成) 本発明は基材の少くとも一部に光画像記録層を
有しており、前記光画像記録層は表面が金属光沢
面であり、下部が光吸収性の金属微粒子分散層で
ある透明合成樹脂層からなつていることを特徴と
する光記録材料をその主旨とするものである。 以下、図面を用いながら本発明について詳細に
説明する。 第3図は本発明の光記録材料1の一例を示す断
面図であつて、基材2の表面には透明合成樹脂層
3が積層されており、透明合成樹脂層の一部の表
面3Bは表面が金属光沢面であり、表面3Bの下
部3Cは金属微粒子の分散層となつている。 上記において基材2としてはガラス、セラミツ
ク、紙、プラスチツクフイルム、織布、不織布等
の任意の個体材料が用いられるが、生産性と平滑
性の点からガラスとプラスチツクフイルムが好ま
しく用いられる。プラスチツクとしてはセルロー
ス誘導体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ビニル系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリ
ル系樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリスルポン樹
脂、ポリアミド樹脂等を用いることが出来、寸法
安定性の及び平滑性の点からセルローストリアセ
テート、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミ
ド等が好ましい。これら基材2には必要に応じ
て、コロナ放電処理、プラズマ処理、プライマー
処理などの接着性改良のための前処理をしてもよ
い。 又、上記において金属光沢面3Bはニツケル、
コパルト、鉄及びクロム等のVIb族金属、銅等の
Ib族金属、或いは錫、錫−銅合金のいずれかから
選択されてなる。 金属光沢面3Bの下部の金属微粒子分散層は原
則的には透明合成樹脂中に透明合成樹脂100部に
対して金属微粒子を0.1〜100部、特に1〜10部含
むものである。 なお層3B及び3Cは明確に区分された2つの
層として図示してあるが、後述するように物理現
像によつて製造するときは少くとも表面が金属光
沢面であつて、下部が金属微粒子分散層である限
り、2つの層の境界は不明確であつてもよい。 次に上記のような光記録材料を製造する方法に
ついて説明すると、以下に示すような感材に以下
のような処理法を施すものである。 まず、感材としては、ジアゾ基又はアジド基
を有する光分解性の現像抑制材、還元されて金
属現像核となる金属錯化合物又は金属化合物の2
つの成分を透明合成樹脂中に含有する感剤層3を
基材2上に設けたものを用いる。 そして、上記感材に施す処理法は(イ)露光して現
像抑制剤を分解させ潜像を形成する工程、(ロ)還元
剤を作用させて金属現像核を形成する工程、及び
(ハ)無電解めつき法(物理現像)で感剤層の潜像部
に金属を析出させて金属膜を形成する工程とを遂
次行なうものである。 上記の感材及び処理法について次に詳しく説明
する。 感 材 本発明の光記録材料を製造するのに使用する感
材は上記したような感材層を基材上に有するもの
である。感剤層を構成する各成分は透明合成樹脂
(結合剤)100部に対して、還元されて金属現像核
となる金属錯化合物又は金属化合物を0.1〜100
部、好ましくは1〜10部、ジアゾ基又はアジド基
を有する光分解性の現像抑制剤を1〜100部、好
ましくは20〜50部の割合であり、透明合成樹脂中
に他の成分が分散、好ましくは溶解している。 ここで各成分としては次のようなものが使用さ
れる。 透明合成樹脂 透明合成樹脂としては親油性のもの及び親水性
のもののうちから選択しうるが、親油性のものと
しては例えば、ポリ酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニ
ル/アクリル酸エステル共重合樹脂、アクリル
酸/酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン/酢酸ビニ
ル共重合樹脂等のエステル基を有する樹脂、酢酸
セルロース等の水酸基を有する樹脂カルボン酸基
やスルホン酸基を含む変性酢酸ビニル樹脂等の油
溶性のポリ酢酸ビニル系樹脂がパターン現像する
ために好ましく使用される。 また、光記録特性上はヒートモードで変形する
性質のあるニトロセルロース等のセルロース誘導
体を添加することも高感度化のために有効であ
る。 又、親水性バインダーとしてはゼラチン、カゼ
イン、グルー、アラビアゴム、セラツクなどの天
然高分子、カルボキシメチルセルロース、卵白ア
ルブミン、ポリビニルアルコール(部分ケン化ポ
リ酢酸ビニル)、ポリアクリル酸、ポリアクリル
アミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオ
キシド、無水マレイン酸共重合体などが用いられ
るが、水溶性ないし親水性樹脂である限りにおい
て、上記以外のものも使用可能である。バインダ
ーに必要な親水性の程度は、感剤層3を形成し
て、物理現像液と接触させるときに、物理現像液
が感剤層3に浸透して物理現像が可能となる程度
である。 また光記録特性上はヒートモードで変形し易い
性質のある、ニトロセルロース等の低分子量物を
エタノール溶解して添加することも有効である。 現像抑制剤 現像抑制剤としてはジアゾ基又はアジド基を有
する化合物を用い、ジアゾ基を有する化合物とし
てはジアゾ基を有する塩化亜鉛複塩若しくはホウ
フツ化塩、又はこれらの化合物とパラホルムアル
デヒドより得られる縮合化合物であるジアゾ樹脂
等が好ましく用いられる。より具体的にはp−
N,N−ジエチルアミノベンゼンジアゾニウム塩
化亜鉛複塩、p−N−エチル−N−βヒドロキシ
エチルアミノベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複
塩、4−モルフオリノ−2,5−ジエトキシベン
ゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、4−モルフオリ
ノ−2,5−ジブトキシベンゼンジアゾニウム塩
化亜鉛複塩、4−ベンゾイルアミノ−2,5−ジ
エトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、4
−(4′−メトキシベンゾイルアミノ)−2,5−ジ
エトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、4
−(p−トルイルメルカプト)−2,5−ジメトキ
シベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、4−ジア
ゾ−4′−メトキシジフエニルアミン塩化亜鉛複
塩、4−ジアゾ−3−メトキシ−ジフエニルアミ
ン塩化亜鉛複塩等、若しくは以上のような塩化亜
鉛複塩の代わりにホウフツ化塩、硫酸塩、リン酸
塩等も使用できる。 アジド基を有する化合物としてはp−アジドア
セトフエノン、4,4′−ジアジドカルコン、2,
6−ビス−(4′−アジドベンザル)−アセトン、
2,6−ビス−(4′−アジドベンザル)−シクロヘ
キサノン、2,6−ビス−(4′−アジドベンザル)
−4−メチルシクロヘキサノン、2,6−ビス
(4′−アジドスチリル)−アセトン、アジドピレン
等が使用できる。或いはジアゾ基若しくはアジド
基を有する限り上記以外の化合物を使用すること
もでき、又、上記したジアゾ基若しくはアジド基
を有する化合物を任意に2種以上併用することも
差支えない。 なおジアゾ基を有する化合物を用いるときは該
化合物を安定化させる安定化剤を用いるとよく、
有機カルボン酸や有機スルホン酸を具体例として
挙げることができ、より実際的にはp−トルエン
スルホン酸などを用いるとよい。 金属錯化合物及び金属化合物 次に還元されて金属現像核となる金属錯化合物
若しくは金属化合物について説明する。 まず、還元されて金属現像核となる金属錯化合
物としてはパラジウム、金、銀、白金、銅等の貴
なる金属の錯化合物が用いられ、これらの金属の
イオンに対し電子ドナーとなる配位子としては通
常知られているものを用いることができ、例えば
錯化合物として次のようなものを挙げることがで
きる; ビス(エチレンジアミン)パラジウム()
塩、ジクロロエチレンジアミンパラジウム()
塩、ジクロロ(エチレンジアミン)白金()
塩、テトラクロロジアミン白金()塩、ジクロ
ロビス(エチレンジアミン)白金()塩、テト
ラエチルアンモニウム銅()塩、ビス(エチレ
ンジアミン銅()塩。 更に金属の錯化合物を形成する配位子として
は、2カ所以上で配位して環状構造をとるいわゆ
るキレート化剤を用いると、形成される金属錯化
合物の安定性が高いために好適である。キレート
化剤としては第1級、第2級若しくは第3級アミ
ン類、オキシム類、イミン類、ケトン類を挙げる
ことができ、より具体的には次のようなものを挙
げることができる; ジメチルグリオキシム、ジチゾン、オキシン、
アセチルアセトン、グリシン、エチレンジアミン
四酢酸、ニトリロ三酢酸、ウラミル二酢酸。 上記のキレート化剤を用いたものとしてはビス
(2,2′−ビピリジン)パラジウム()塩、ビ
ス(アセチルアセトナート)パラジウム()、
ビス(N,N−ジエチルエチレンジアミン)銅
()塩、ビス(2,2′−ビピリジン)銅()
塩、ビス(1,10−フエナントロリン)銅()
塩、ビス(ジメチルグリオキシマート)銅()、
ビス(アセチルアセトナート)銅()、ビス
(アセチルアセトナート)白金()などが好ま
しい。 還元されて金属現像核を与える金属化合物とし
ては、パラジウム、金、銀、白金、銅等の貴なる
金属の塩化物、硝酸塩などの水溶性塩、たとえば
無電解メツキのアクチベーター液中に含まれる塩
化パラジウム、硝酸銀、4塩化水素金などの塩も
用いられ、特にパラジウムの塩が好ましく用いら
れる。 又、金属化合物を用いるときには上述した金属
化合物(市販される無電解メツキ用のアクチベー
ター液をそのまま用いることができる)を、現像
抑制剤であるジアゾ基又はアジド基を有する化合
物とともに透明合成樹脂に合わせて選択した適宜
な溶剤で溶解したバインダー溶液と混合して、塗
布に適した粘度10〜1000センチポイズ程度の液と
し、これを基材1上に塗布し、乾燥することによ
り、通常0.1〜30μの塗膜として感剤層を形成する
バインダーを溶解する溶剤としては適宜なものを
使用できるが、透明合成樹脂として親水性のもの
を使用するときは水を使用するか、或いは水と低
級アルコール、ケトン、エーテル等の水混和性溶
媒との混合溶媒を用いるとよく、又、親油性のも
のを用いるときはメチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール等の低級アルコ
ール、アセトン、メチルエチルケトン等のケト
ン、酢酸エチル、酢酸nブチル等のエステル、メ
チルセロソルブ等の極性の高い溶剤が好ましく使
用される。 なお、親水性の透明合成樹脂を用いるときは、
感剤層3を形成後、物理現像処理中の現像液への
バインダーの溶出を抑制するため、望ましくは硬
膜処理を行う。硬膜処理は、例えば下記の化合物
を画像形成層2の形成用塗布液中にバインダー
100部に対してたとえば0.1〜50部の割合で混合す
るか、あるいはその水溶液を画像形成層上に塗布
することにより行われる: カリ明バン、アンモニウム明バン等のAl化合
物:クロム明バン、硫酸クロム等のCr化合物:
ホルムアルデヒド、グリオキザル、グルタルアル
デヒド、2−メチルグルタルアルデヒド、サクシ
ナルデヒド等のアルデヒド類;o−ベンゾキノ
ン、p−ベンゾキノン、シクロヘキサン−1,2
−ジオン、シクロペンタン−1,2−ジオン、ジ
アセチル、2,3−ペンタンジオン、2,5−ヘ
キサンジオン、2,5−ヘキセンジオン等のジケ
トン;トリグリシジルイソシアヌル酸塩などのエ
ポキシド;テトラフタロイルクロリド、4,4′−
ジフエニルメタンジスルフオニルクロリド、4,
4′−ジフエニルメタンジスルフオニルクロリドな
どの酸無水物;タンニン酸、没食子酸、2,4−
ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジン、な
らびに一般式R2NPOX2、(R2N)oPOX3-o
(Technical Field) The present invention relates to an optical recording material suitable for heat mode recording with high sensitivity and good productivity. (Prior Art) Conventionally, so-called heat mode recording is known in which a high-density energy beam such as a laser beam is focused on a spot and irradiated onto a recording medium to change the state of a part of the medium for recording. Known heat mode recording media used for this purpose include metal thin films such as tellurium and bismuth, organic thin films such as polystyrene and nitrocellulose, and those that utilize the phase transition of low tellurium oxides. The so-called
It is a DRAW (direct read after write) medium,
Since high-density recording and additional writing are possible, it is expected to be used more widely for disks and cards, and even more stable and sensitive optical recording materials will be required. Among these heat mode recording media, typical metal thin films such as tellurium and bismuth are materials with relatively excellent recording sensitivity, but manufacturing them requires expensive vacuum evaporation equipment, sputtering equipment, etc.
Because it is toxic, it requires careful handling, the manufacturing work environment is poor, it is easily oxidized, and has poor storage stability without special treatment such as when used as a disk, and simple pattern exposure requires no prior information. There are drawbacks such as the inability to insert guide marks etc. In addition, reflective properties can be obtained by special development of high-resolution grade silver salt photographic gelatin sensitive materials, or by dispersing silver particles in gelatin matrix.
A recording medium is known in which actual recording is performed by thermal deformation of a gelatin matrix. These recording media can be manufactured continuously by coating, and by using silver they achieve uniform reflectance over a wide wavelength range, making them highly compatible with recording and reproducing devices that use laser beams of various wavelengths. It has the advantage of However, because these media use expensive silver, it is difficult to produce and supply them stably and inexpensively due to price fluctuations, and because they use high-resolution photographic materials, patterning and development must be done in a darkroom. There are disadvantages such as having to do it indoors. (Objective of the Invention) Therefore, the present invention improves the various drawbacks of these conventional optical recording materials, can be manufactured by continuous coating, is non-toxic, and can be handled in a bright room, making it easier to work in the working environment. The purpose of the present invention is to provide an optical recording material with good performance, improved productivity, and low cost. (Structure of the Invention) The present invention has an optical image recording layer on at least a part of the base material, and the optical image recording layer has a metallic glossy surface and a light-absorbing metal fine particle dispersion layer on the lower part. The object of the invention is an optical recording material characterized by being made of a transparent synthetic resin layer. Hereinafter, the present invention will be explained in detail using the drawings. FIG. 3 is a sectional view showing an example of the optical recording material 1 of the present invention, in which a transparent synthetic resin layer 3 is laminated on the surface of the base material 2, and a part of the surface 3B of the transparent synthetic resin layer is The surface is a metallic luster surface, and the lower part 3C of the surface 3B is a dispersed layer of metal fine particles. In the above, any solid material such as glass, ceramic, paper, plastic film, woven fabric, or nonwoven fabric can be used as the base material 2, but glass and plastic film are preferably used from the viewpoint of productivity and smoothness. As the plastic, cellulose derivatives, polyester resins, polycarbonate resins, vinyl resins, polyimide resins, acrylic resins, polyether resins, polysulfone resins, polyamide resins, etc. can be used, and from the viewpoint of dimensional stability and smoothness. Cellulose triacetate, polyethylene terephthalate, polyimide, etc. are preferred. These base materials 2 may be subjected to pretreatment to improve adhesion, such as corona discharge treatment, plasma treatment, and primer treatment, if necessary. In addition, in the above, the metallic glossy surface 3B is made of nickel,
Group VIb metals such as copalt, iron and chromium, copper etc.
It is selected from group Ib metals, tin, and tin-copper alloys. The metal fine particle dispersion layer below the metallic luster surface 3B basically contains 0.1 to 100 parts, particularly 1 to 10 parts, of metal fine particles per 100 parts of the transparent synthetic resin in a transparent synthetic resin. Layers 3B and 3C are shown as two clearly separated layers, but as will be described later, when manufactured by physical development, at least the surface has a metallic luster and the lower part has a metallic fine particle dispersion. As long as the two layers are layers, the boundary between the two layers may be unclear. Next, a method for manufacturing the above-mentioned optical recording material will be explained. The following processing method is applied to the photosensitive material as shown below. First, as a sensitive material, a photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group, a metal complex compound or a metal compound that becomes a metal development nucleus when reduced, etc.
A material in which a sensitive layer 3 containing two components in a transparent synthetic resin is provided on a base material 2 is used. The processing method applied to the above-mentioned sensitive material is (a) exposing to light to decompose the development inhibitor and forming a latent image, (b) acting with a reducing agent to form metal development nuclei, and
(c) The step of depositing metal on the latent image area of the sensitive layer by electroless plating (physical development) to form a metal film is performed sequentially. The above-mentioned photosensitive material and processing method will be explained in detail below. Sensitive material The sensitive material used to produce the optical recording material of the present invention has a sensitive material layer as described above on a base material. Each component constituting the sensitive layer contains 0.1 to 100 parts of a metal complex compound or metal compound that will be reduced and become metal development nuclei per 100 parts of the transparent synthetic resin (binder).
part, preferably 1 to 10 parts, a photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group in an amount of 1 to 100 parts, preferably 20 to 50 parts, and other components dispersed in the transparent synthetic resin. , preferably dissolved. Here, the following components are used. Transparent synthetic resin The transparent synthetic resin can be selected from lipophilic and hydrophilic resins. Examples of lipophilic resins include polyvinyl acetate resin, vinyl acetate/acrylic acid ester copolymer resin, and acrylic acid/acrylic acid ester copolymer resin. Resins with ester groups such as vinyl acetate copolymer resins, ethylene/vinyl acetate copolymer resins, resins with hydroxyl groups such as cellulose acetate, and oil-soluble polyvinyl acetate resins such as modified vinyl acetate resins containing carboxylic acid groups and sulfonic acid groups. Based resins are preferably used for pattern development. Furthermore, in terms of optical recording properties, it is also effective to add cellulose derivatives such as nitrocellulose, which have the property of deforming in heat mode, for increasing sensitivity. Hydrophilic binders include natural polymers such as gelatin, casein, glue, gum arabic, and shellac, carboxymethylcellulose, egg albumin, polyvinyl alcohol (partially saponified polyvinyl acetate), polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, Polyethylene oxide, maleic anhydride copolymer, etc. are used, but other resins than the above can also be used as long as they are water-soluble or hydrophilic resins. The degree of hydrophilicity required for the binder is such that when the sensitive layer 3 is formed and brought into contact with a physical developer, the physical developer permeates into the sensitive layer 3 to enable physical development. In addition, it is also effective to add a low molecular weight substance such as nitrocellulose, which has a property of being easily deformed in a heat mode, dissolved in ethanol in terms of optical recording properties. Development inhibitor A compound having a diazo group or an azide group is used as the development inhibitor, and the compound having a diazo group is a zinc chloride double salt or a borofluoride salt having a diazo group, or a condensation product obtained from these compounds and paraformaldehyde. A compound such as diazo resin is preferably used. More specifically, p-
N,N-diethylaminobenzenediazonium zinc chloride double salt, p-N-ethyl-N-β hydroxyethylaminobenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-morpholino-2,5-diethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4- Morpholino-2,5-dibutoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-benzoylamino-2,5-diethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4
-(4'-methoxybenzoylamino)-2,5-diethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4
-(p-tolylmercapto)-2,5-dimethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-diazo-4'-methoxydiphenylamine zinc chloride double salt, 4-diazo-3-methoxy-diphenylamine zinc chloride double salt, etc. Alternatively, borofluoride salts, sulfates, phosphates, etc. can also be used instead of the above-mentioned zinc chloride double salts. Examples of compounds having an azide group include p-azidoacetophenone, 4,4'-diazidechalcone, 2,
6-bis-(4′-azidobenzal)-acetone,
2,6-bis-(4'-azidobenzal)-cyclohexanone, 2,6-bis-(4'-azidobenzal)
-4-methylcyclohexanone, 2,6-bis(4'-azidostyryl)-acetone, azidopyrene, etc. can be used. Alternatively, compounds other than those mentioned above may be used as long as they have a diazo group or an azide group, and two or more of the above-mentioned compounds having a diazo group or an azide group may be used in combination. When using a compound having a diazo group, it is recommended to use a stabilizer to stabilize the compound.
Specific examples include organic carboxylic acids and organic sulfonic acids, and more practically, p-toluenesulfonic acid and the like may be used. Metal Complex Compound and Metal Compound Next, the metal complex compound or metal compound which is reduced and becomes a metal development nucleus will be explained. First, complex compounds of noble metals such as palladium, gold, silver, platinum, and copper are used as metal complex compounds that are reduced and become metal development nuclei, and ligands that serve as electron donors to ions of these metals are used. Commonly known compounds can be used as complex compounds, such as the following: bis(ethylenediamine) palladium ()
Salt, dichloroethylenediamine palladium ()
Salt, dichloro(ethylenediamine) platinum ()
salt, tetrachlorodiamine platinum() salt, dichlorobis(ethylenediamine)platinum() salt, tetraethylammonium copper() salt, bis(ethylenediamine copper() salt).Furthermore, there are two ligands that form metal complex compounds. It is preferable to use a so-called chelating agent which coordinates with the above to form a cyclic structure because the stability of the metal complex compound formed is high.As the chelating agent, primary, secondary or tertiary chelating agents are used. Examples include amines, oximes, imines, and ketones, and more specifically, the following: dimethylglyoxime, dithizone, oxine,
Acetylacetone, glycine, ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, uramyldiacetic acid. Those using the above chelating agent include bis(2,2'-bipyridine) palladium () salt, bis(acetylacetonato) palladium (),
Bis(N,N-diethylethylenediamine)copper() salt, bis(2,2'-bipyridine)copper()
salt, bis(1,10-phenanthroline)copper()
salt, bis(dimethylglyoximate)copper(),
Bis(acetylacetonato)copper(), bis(acetylacetonato)platinum(), etc. are preferred. Metal compounds that are reduced to give metal development nuclei include water-soluble salts such as chlorides and nitrates of noble metals such as palladium, gold, silver, platinum, and copper, such as those contained in the activator solution for electroless plating. Salts such as palladium chloride, silver nitrate, and gold tetrachloride may also be used, and palladium salts are particularly preferably used. When using a metal compound, the above-mentioned metal compound (a commercially available activator liquid for electroless plating can be used as is) is added to a transparent synthetic resin together with a compound having a diazo group or an azide group as a development inhibitor. It is also mixed with a binder solution dissolved in an appropriate solvent selected to obtain a liquid with a viscosity of about 10 to 1000 centipoise suitable for coating, and this is coated on the substrate 1 and dried to give a viscosity of usually 0.1 to 30 μm. Any suitable solvent can be used to dissolve the binder that forms the sensitive layer as a coating film, but when a hydrophilic transparent synthetic resin is used, water is used, or water and lower alcohol, It is best to use a mixed solvent with a water-miscible solvent such as a ketone or ether, or when using a lipophilic solvent, use a lower alcohol such as methyl alcohol, ethyl alcohol, or isopropyl alcohol, acetone, a ketone such as methyl ethyl ketone, or ethyl acetate. , esters such as n-butyl acetate, and highly polar solvents such as methyl cellosolve are preferably used. In addition, when using hydrophilic transparent synthetic resin,
After forming the sensitive layer 3, a hardening process is desirably performed in order to suppress elution of the binder into the developer during physical development. In the hardening process, for example, the following compound is added as a binder to the coating solution for forming the image forming layer 2.
It is carried out by mixing at a ratio of 0.1 to 50 parts per 100 parts, or by coating the aqueous solution on the image forming layer: Al compounds such as potash alum, ammonium alum, etc.: chromium alum, sulfuric acid Cr compounds such as chromium:
Aldehydes such as formaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde, 2-methylglutaraldehyde, succinaldehyde; o-benzoquinone, p-benzoquinone, cyclohexane-1,2
-dione, diketones such as cyclopentane-1,2-dione, diacetyl, 2,3-pentanedione, 2,5-hexanedione, 2,5-hexenedione; epoxides such as triglycidyl isocyanurate; tetraphthaloyl Chloride, 4,4'-
Diphenylmethane disulfonyl chloride, 4,
Acid anhydrides such as 4'-diphenylmethanedisulfonyl chloride; tannic acid, gallic acid, 2,4-
Dichloro-6-hydroxy-S-triazine, as well as general formulas R 2 NPOX 2 , (R 2 N) o POX 3-o ,

【式】【formula】

【式】および R−N=C=N−R′(ここでRは炭素2〜6のア
ルキル基、R′は(CH33N+(CH33X-基、XはF
又はCl、nは1又は2)で表わされるリン化合物
又はカルボジイミド;スチレン/マレイン酸共重
合体、ビニルピロリドン/マレイン酸共重合体、
ビニルメチルエーテル/マレイン酸共重合体、エ
チレンイミン/マレイン酸共重合体、メタクリル
酸/メタクリロニトリル共重合体、ポリメタクリ
ルアミド、メタクリル酸エステル共重合体等の樹
脂類。ジカルボン酸としてグルタル酸、コハク
酸、ヒドロキシカルボン酸としてりんご酸、乳
酸、クエン酸、アスパラギン酸、グルコール酸、
酒石酸等の有機カルボン酸も使用出来る。 処理法 上記の感剤層3を有する感材1にはまず露光を
行ない、続いて還元処理を行ない、その後、物理
現像液を作用させる各工程からなる処理法を施
す。 露 光 まず感剤層上に情報記録区域を規定し、該情報
記録区域全体に均一に露光を行う。あるいは、あ
らかじめ情報を記録しておく場合や、情報読取り
用のガイドラインやタイミングビツトを形成して
おく場合は、第2図に示すように透過原稿4を介
してパターン露光を行うことも可能である。これ
により、露光部3Aにおいて、選択的にかつ露光
量に応じた程度にジアゾ基もしくはアジド基を有
する化合物を分解させる。 露光に使用する光源としては前記したジアゾ基
もしくはアジド基を有する化合物を分解できる光
源ならば任意に用いることができ、通常超高圧水
銀灯が好ましく用いられる。また原稿は密着でも
投影でも露光できるし、収束した光ビームやレー
ザーで描画露光することも可能である。 還元処理 次いで露光により、ジアゾ基もしくはアジド基
を有する化合物が分解された潜像を有する感剤層
3に還元剤水溶液を浸漬により接触させて感剤層
3中にほぼ一様に金属現像核を発生させる。 還元剤としては、塩化第1スズ、硫酸第1ス
ズ、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボ
ラザン、ジエチルアミンボラザン、トリメチルア
ミンボラザン、その他ボラザン誘導対、ボラン、
ジボラン、メチルジボラン等のボラン誘導体、ヒ
ドラジン等を用いることができる。特に好ましく
は、酸性塩化第1スズ溶液、硫酸第1スズ溶液
(Weiss液)あるいは市販の無電解メツキ用のセ
ンシタイザー液などが用いられるが、一般には強
力な還元剤であればすべて使用できる。 さらに、このようにして得られた金属現像核と
ジアゾ基もしくはアジド基を有する化合物の分解
による潜像を有する感剤層3に物理現像液を浸漬
により接触させて、第3図に示すごとく露光部に
金属現像核を中心として現像液中の金属が還元に
より析出した反射性情報記録区域3Bを形成す
る。物理現像で得られる光記録材料の反射率は再
生装置のピツクアツプに対し、充分なS/N比で
再生できるためには最低15%は必要であるが、ま
た、あまり高すぎると記録時のパワー損失とな
り、低感度化するため、80%以下であることが好
ましい。従つてレーザー波長域400〜900nmで、
15%〜80%さらには、30〜55%の範囲が好ましく
用いられる。 物理現像 物理現像液としては、水溶性の被還元性金属塩
および還元剤を含む水溶液が必要に応じて加温し
た状態で使用される。 被還元性金属塩としては、例えばニツケル、コ
バルト、鉄及びクロム等のVIP族金属、銅等のIb
族金属の水溶性塩が単独で又は混合して使用され
る。また一たん銅塩溶液で物理現像した後、塩化
第一錫や硫酸錫で置換メツキを行い錫ないし錫・
銅系の金属層を得ることも可能である。これらの
中でも安全性、保存性を考慮するとニツケル、
銅、錫が好ましく用いられる。但し、蒸着と異な
り原料の純度、メツキ安定化剤等から少量の異種
金属やリン、イオウ等の元素の混入はあり得る
が、特に光記録特性に影響を与えるものではな
い。 適当な水溶性の被還元性金属塩としては、例え
ば以下のものが用いられる。 塩化第一コバルト、ヨウ化第一コバルト、臭化
第一鉄、塩化第一鉄、臭化第二クロム、ヨウ化第
二クロム、塩化第二銅等の重金属ハライド;硫酸
ニツケル、硫酸第一鉄、硫酸第一コバルト、硫酸
第二クロム、硫酸第二銅等の重金属硫酸塩;硝酸
ニツケル、硝酸第一鉄、硝酸第一コバルト、硝酸
第二クロム、硝酸第二銅等の重金属硝酸塩;フエ
ラスアセテート、コバルタスアセテート、クロミ
ツクアセテート、キユーブリツクフオルメート等
の金属の有機酸塩。 これら被還元性重金属塩は物理現像液中に、た
とえば10〜100g/の割合で含まれる。 これら被還元性金属塩は物理現像液中に、たと
えば10〜100g/の割合で含まれる。 還元剤としては、例えば次亜リン酸、次亜リン
酸ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラ
ジン、ホルマリン、ジエチルアミンボラン、ジメ
チルアミンボラン、トリメチルアミンボラン、ボ
ラン、ジボラン、メチルジボラン、ジボラザン、
ボラゼン、ボラジン、t−ブチルアミンボラザ
ン、ピリジンボラン、2,6−ルチジンボラン、
エチレンジアミンボラン、ヒドラジンジボラン、
ジメチルホスフインボラン、フエニルホスフイン
ボラン、ジメチルアルジンボラン、フエニルアル
ジンボラン、ジメチルスチビンボラン、ジエチル
スチビンボランなどが使用できる。 これら還元剤は、物理現像液中に、たとえば
0.1〜50g/の割合で用いられる。 物理現像液中には、前記した被還元性重金属塩
の溶解により生成する重金属イオンが水酸化物と
して沈澱するのを防止するために、たとえばモノ
カルボン酸;ジカルボン酸;リンゴ酸、乳酸等の
ヒドロキシカルボン酸;コハク酸、クエン酸、ア
スパラキン酸、グリコール酸、酒石酸、エチレン
ジアミンテトラ酢酸、グルコン酸、糖酸、キニン
酸等の有機カルボン酸からなる錯塩化剤の一種又
は二種以上を含ませることができる。これら錯塩
化剤は、物理現像液中にたとえば1〜100g/
の割合で用いられる。 更に、物理現像液には、現像液の保存性および
操作性ならびに得られる画像の質を改善するため
に、酸及び塩基等のPH調節剤、緩衝剤、防腐剤、
増白剤、界面活性剤などが常法に必要に従い応じ
て添加される。 この添加剤のうちPH調節剤としてアンモニウム
塩、またはアンモニア系でPHを上げると、特に感
剤表面に光沢を得易くなるため、本発明の記録材
の製造においては、上記アンモニウム塩またはア
ンモニアからなるPH調節剤を用いることが特に好
ましい。 また、物理現像を次亜リン酸ナトリウムを還元
剤を用いた65℃から90℃の高温ニツケルメツキ浴
又は銅メツキで高速メツキする条件で行うことに
よつてもパインダー表面に金属光沢を持つ金属画
像を形成できる。しかも得られた画像を、たとえ
ば塩酸5%又は硝酸の5%水溶液で5分間処理す
ることにより非画像部のバインダーを選択的に除
去するため本発明には好ましい。 本発明の光記録材料を用いる場合は基材2の上
に直接光画像記録層を形成するか、又は、フイル
ム上に形成しておき、他の基材に接着剤または熱
融着等の接着法により接着する方法がある。記録
材表面は、光デイスク用途のように、空間を設け
る場合の他カード用途のように保護材を積層する
場合があり、用いうる保護材としてはガラス、ポ
リメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポ
リ塩化ビニル等が接着剤を介して又はヒートシー
ルされて用いうるが、複屈折性や干渉性等の記録
ビームの伝達を妨害する因子が少ないか、あるい
は記録ビームの伝達を疎害する散乱、吸収のない
よう構成あるいは処理された材料であればいかな
る材料で保護層を形成しても差しつかえない。 本発明の光記録材料は適宜な大きさ、形態をと
ることにより、種々の用途に用いることができる
が、記録密度の高さや偽造防止性から、カードし
て用いるのにも適している。 第4図は本発明の光記録材料をカードの構成し
たときの平面図であつて、カード5はカード基材
6の一部に光画像記録層7を有しているものであ
る。第5図はカードの断面構造の一例を示すもの
であつて、カード基材6上の一部に光画像記録層
7が積層され、光画像記録層7を含むカード基材
6の全面に透明な保護層8を積層してある。第4
図・第5図では光画像記録層7をカード基材6の
一部に設けたが、全面に設けてもよいし、或いは
第4図の光画像記録層7をカード基材6の左右の
長さ一杯に設けてもよい。 カードにはこの他第4図に示すように磁気記録
層9や公知の写真、彫刻による画像10を有して
もよく、更に図示しないが、その他の文字やイン
プリントと称される浮出し文字等を設けてもIC
メモリーを内蔵しても差支えない。 第5図は第4図に示したカードの記録後のピツ
ト11を有する状態を示す。 以上のような構造のカードの各構成及び製造法
について以下に説明すると、カード基材としては
剛性を有し、かつ、熱融着や各種の印刷等の加工
に適したものであればいずれでもよいが、通常、
塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
樹脂、塩化ビニリデン樹脂、アクリル樹脂、スチ
レン樹脂、ビニルブチラール樹脂、アセチルセル
ロース樹脂、スチレン−ブタジエン共重合樹脂、
ポリエチレン樹脂、フツ素樹脂等の合成樹脂が使
用でき、なかでも塩化ビニル樹脂が加工の容易さ
の点で用いられる。この他、紙、金属箔等、及び
以上の各材料の複合体も使用しうる。 保護層8の厚みとしては10〜2000μm、好まし
くは200〜1500μm、10μm未満では保護層として
の強度に不足であり、また、2000μmを越えると
レーザ光が記録層に到達し難くなり、好ましくな
い。また特に1000〜1500μmでは保護層の表面に
附着した指紋やゴミなどによるレーザ光への妨害
をまぬがれる効果がある。 保護層は本発明では光画像記録層の保護を主眼
とするので光画像記録層の表面のみを覆えば事足
りるが通常のカードでは全面に設けるため、本発
明においても全面に設けて差支えない。保護層は
公知の透明合成樹脂塗料を用いて塗布、印刷して
乾燥するか、若しくは透明合成樹脂フイルム若し
くは透明合成樹脂板を接着若しくは熱融着するこ
とにより設けることができ、透明合成樹脂フイル
ム若しくは板としては、カード基材として前記し
た合成樹脂のフイルム若しくはシートを用いるこ
とができ、熱融着の条件は、100〜300℃、40〜
400Kg/cm2である。 なお基材上に光画像記録層及び保護層を部分的
に設けるには、以上の説明とは逆に透明合成樹脂
保護層上に予め光画像記録層を設けておき、接着
剤を介してカード基材に貼着する、熱融着する、
或いは更に剥離性基体に透明合成樹脂保護層及び
光画像記録層を設け、更に所望により接着剤を塗
布しておいてカード基材上に転写する等の方法に
よつてもよい。 (発明の効果) 以上の本発明の光記録材料は記録再生装置に適
応するための反射率をニツケル、コバルト、鉄等
の比較的融点の高い金属粒子によつて得ている
が、層構成としては表面層のみが反射性の金属で
あり、内層はバインダー中に光吸収性の金属粒子
となつているため、効率的に発熱し透明合成樹脂
が熱変形することによつて行われるのでテルル等
の金属薄膜の揮発を用いた記録媒体に比べて高感
度である他、記録媒体上にあらかじめ永久的な情
報を従来から知られている写真的方法ないしビー
ム露光で簡単に予め記録しておけるという大きな
利点を持つている。 また本光記録材料の製造には従来からの写真感
材の製造方法と同様の連続的なコーテイング技術
を適用でき、さらに感材層中に含有されるジアゾ
基もしくはアジド基を有する化合物である現像抑
制剤の感光波長が、5000Å以下の可視領域から紫
外領域にわたつてあるため、紫外線カツトフイル
ターを介した照明を用いるか、イエローライトを
用いた明室で生産作業を行う事が可能であるの
で、特殊な技術な技術を要さずに、良好な作業環
境で生産することができる点、ニツケル等の金属
を親油性樹脂に対し用いることにより銀塩を親水
性樹脂に対し用いるよりもはるかに低価格で耐
湿、安定的の高い記録媒体を安定的に生産供給で
きる等本発明の光記録材料は工業的にも優れたも
のである。 (実施例) 以下、実施例により本発明をより具体的に説明
する。 以下の実施例1〜2において塩化パラジウム溶
液とは以下の組成のものを指す。 塩化パラジウム溶液 塩化パラジウム 濃塩酸 エタノール 1.0g 50g 1 実施例 1 感剤液 ポリ酢酸ビニル樹脂(日本合成科学工業製、コ
ーセニールA50−z5)…… 20重量部 ジアゾモノマー(大東化学製、DH−300BF4
10%MEK溶液)…… 5.0重量部 塩化パラジウム溶液…… 10重量部 ポリエチレングリコール(M.W,=1500)5%
MEK溶液…… 1重量部 p−トルエンスルホン酸(安定化剤)5%エタ
ノール溶液…… 1重量部 上記組成の感剤液を厚み100μmのポリエステ
ルフイルム(東レ製ルミナー、#100)にワイヤ
ーバーNo.36を用いて塗布し80℃のオーブンで乾燥
し、塗膜の厚み4μmの感剤層を形成した。 作製した感剤層の全面に超高圧水銀灯(波自
4050Å、75W)を用いて30秒間密着露光し、次い
で20℃の物理現像液(奥野製薬製TMP化学ニツ
ケル)に200秒間、浸漬して表面光沢を持つ光学
的情報記録媒体を得た。この記録媒体の波長6330
Åにおける全反射率は43%であつた。次にHe−
Neレーザー(波長6330Å)を記録表面上3mW
のパワーでビーム径2μmに集光してパルス幅
0.5μsecで照射したところ、直径4μmの円形ピツ
トが記録された。 実施例 2 感剤液 アクリル酸/酢酸ビニル共重合樹脂(日本合成
化学工業製、コーポニールPC−50M(H)20%エ
タノール溶液…… 20重量部 ジアゾモノマー(レスペケミカル製、No.
11′BF4)10%MEK溶液…… 3.0重量部 塩化パラジウム溶液…… 10重量部 ポリエチレンオキシド(製鉄化学製、PEO−
3)1%メタノール溶液…… 2.0重量部 p−トルエンスルホン酸5%エタノール溶液…
… 1.0重量部 上記組成の感剤液を実施例1と同様に塗布、乾
燥し感剤層を形成し、超高圧水銀灯を用い、ネガ
フイルムを介して30秒間密着露光した。 次いで35℃の物理現像液(奥野製薬製、TMP
化学ニツケル)に120秒間浸漬して現像を行い、
2μ巾のラインで80mm×15mmの情報記録区域を限
定し、さらに内部を長手方向に20分割する管理表
示を持つ、光学的情報記録媒体を得た。情報記録
部の波長7800Åにおける全反射率は51%であつ
た。次にレーザーダイオード(波長7900Å)のビ
ームを記録表面上5mWのパワーでビーム径2μ
mに集光して、パルス巾1μsecで照射したところ、
直径7μmの円形ピツトが記録された。 実施例 3 実施例1の感剤液に対し、ニトロセルロース2
重量部を添加した以外は実施例1と同様に行なつ
て同一レーザーで同一時間照射したところ、直径
10μmの円形ビツトが記録され、高感度化が確認
できた。 実施例 4 感剤液 三酢酸セルロース…… 20重量部 ジアゾモノマー(大東化学製DH−300BF4、10%
MEK溶液)…… 5.0重量部 塩化パラジウム溶液…… 10重量部 MEK…… 10重量部 を厚み50μmのポリエステルフイルムに実施例1
と同様に塗布、乾燥し、厚さ2.5μmの感剤層を得
た。作製した感剤層に、1WArレーザーを用い
488nmの波長の光をガイドライン状に10μのスト
ライプを描画した後ジメチルアミノボラザン4%
を水・エタノール50%液に溶解した還元液に5秒
間浸漬した後、銅めつき液(奥野製薬製OPCカ
ツパーNo.1 60ml/、OPCカツパーNo.2 25
ml/、OPCカツパーNo.3 250ml/)に50℃
で15分間浸漬して10μのストライプ状に銅の光沢
めつきを得た。 この全反射率は約35%であり(波長6330Å)、
He−Neレーザーで2μスポツトに絞り、記録面上
6mWのパワーでパルス2μsecで照射したところ、
直径5μの円形のピツトが成形された。 実施例 5 実施例4で作製した銅めつき品を、錫置換めつ
き液(奥野製薬製、テイプレイト4MHメイクア
ツプA250ml/、蒸留水750ml/、テイプレイ
ト4MHコンポーネントB80g/)に55℃20秒
間浸漬し錫のめつき層を得た。この全反射率は
7800Åで55%であつた。この記録材に半導体レー
ザー(波長7900Å)のビームを記録面上4mWの
パワーでビーム径2μmに集光してパルス巾
0.5μsecで照射したところ直径4μmの円形のピツ
トが記録された。 実施例 6 PdCl22gを、HCl20mlとともに水1000ml中に溶
解し、得られたPdCl2液の20gを用いて下記組成
の感材(画像形成層形成用塗布液)を調製した。 上記組成のPdCl2液…… 20g ゼラチン(新田ゼラチン製P−2151)30%水溶液
…… 10g ジアゾレジン(シンコー技研D−011)20%水溶
液…… 2.5g グルタル酸…… 0.12g 上記感材を30℃〜40℃に温度調整し、あらかじ
めプラズマ処理を行なつたポリエステルフイルム
(東レ・ルミラーS・100#)に塗布し乾燥して
5μの塗膜を得た。 上記で得られた感材フイルム(画像形成材料)
に超高圧水銀灯2KWプリンター(光源からの距
離100cm)を用い2分間ネガフイルムを密着露光
した。次いで30℃の下記還元浴に1分間浸漬して
還元処理した。 SnCl2…… 1g HCl…… 40ml H2O…… 100c.c. 次いで、下記組成の90℃の物理現像液で処理し
て金属を折出せしめ、光沢ある画像を形成した。 塩化ニツケル…… 30g 次亜リン酸ナトリウム…… 10g オキシ酢酸アンモニウム ……100g 水…… 900g この記録媒体の波長6330Åにおける全反射率は
40%であつた。次にHe−Neレーザー(波長6330
Å)を記録表面上3mWのパワーでビーム径2μ
mに集光してパルス幅0.5μsecで照射したところ、
直径4μmの円形のピツトが記録された。 実施例 7 実施例6の感材フイルムを、超高圧水銀灯
2KWプリンター(光源からの距離100cm)を用
い、ネガフイルムを介して2分間露光した。次い
で、塩酸ヒドラジン(N2H2・HCl)を1.0mol/
の割合で含む還元浴に40℃で1分間浸漬した。 その感材フイルムを水洗乾燥し、超高圧水銀灯
2KWプリンター(光源からの距離100cm)を用い
2分間露光した。次いで下記に示す無電解メツキ
液で8分間処理をして金属光沢のある画像を得
た。 塩化ニツケル…… 50g/ 次亜リン酸ナトリウム…… 10g/ クエン酸ナトリウム…… 10g/ 得られた画像は2μ巾のラインで80mm×15mmの
情報記録区域を限定し、さらに内部を長手方向に
20分割する管理表示を持つものであつて情報記録
部の波長7800Åにおける全反射率は45%であつ
た。次にレーザーダイオード(波長7900Å)のビ
ームを記録表面上5mWのパワーでビーム径2μ
mに集光してパルス巾1μsecで照射したところ、
直径5μmの円形のピツトが記録された。 実施例 8 実施6の感剤液に対し、ニトロセルロース(旭
化成LS1/4)0.5g/を添加した以外は実施例
6と同様に処理したところ同一レーザーで同一時
間照射したところ、直径6μmの円形ピツトが記
録され、高感度化が確認できた。 実施例 9 下記組成 PdCl2塩酸水溶液 (日本カニセン レツドシユーマ)…… 20g PVA(日本合成ゴゼノールNH−14)0%水溶液
…… 20g ジアゾレジン(シンコー技研D−013)20%水溶
液…… 2.5g りんご酸…… 0.08g の感剤を厚み50μmのポリエステルフイルムに実
施例5と同様に塗布、乾燥し厚さ2.5μmの感剤層
を得た。作製した感剤層に1WArレーザーを用い
405nmの波長の光をガイドライン状に10μのスト
ライプを描画した後ジメチルアミノボラザン4%
水溶液(還元液)に5秒間浸漬した後銅めつき液
(奥野製薬製、OPCカツパーNo.1 60ml/、
OPCカツパーNo.2 25ml/、OPCカツパーNo.
3 250ml/)に50℃で15分間浸漬して10μの
ストライプ状に銅の光沢めつきを得た。この全反
射率は約30%であり(波長6330Å)He−Neレー
ザーで2μスポツトに絞り、記録面上4mWのパ
ワーでパルス2μsecで照射したところ、直径5μm
の円形のピツトが成形された。 実施例 10 実施例4で作製した銅めつき品を、錫置換めつ
き液(奥野製薬製、テイプレイト4MHメイクア
ツプA 250ml/、蒸留水750ml/テイプレイ
ト4MHコンポーネントB 80g/)に55℃、
20秒間浸漬し錫のめつき層を得た。この全反射率
は7800Åで、45%であつた。この記録材に半導体
レーザー(波長7900Å)のビームを記録面上4m
Wのパワーでビーム径2μmに集光してパルス巾
0.5μsecで照射したところ直径4μmの円形のピツ
トが記録された。
[Formula] and R-N=C=N-R' (where R is an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms, R' is a (CH 3 ) 3 N + (CH 3 ) 3 X - group, and X is a F
or a phosphorus compound or carbodiimide represented by Cl, n is 1 or 2); styrene/maleic acid copolymer, vinylpyrrolidone/maleic acid copolymer,
Resins such as vinyl methyl ether/maleic acid copolymer, ethyleneimine/maleic acid copolymer, methacrylic acid/methacrylonitrile copolymer, polymethacrylamide, and methacrylic acid ester copolymer. Glutaric acid, succinic acid as dicarboxylic acids, malic acid, lactic acid, citric acid, aspartic acid, glycolic acid, as hydroxycarboxylic acids.
Organic carboxylic acids such as tartaric acid can also be used. Processing Method The photosensitive material 1 having the above-mentioned photosensitive layer 3 is first exposed to light, then subjected to a reduction treatment, and then subjected to a processing method consisting of each step of applying a physical developer. Exposure First, an information recording area is defined on the sensitive layer, and the entire information recording area is uniformly exposed. Alternatively, when recording information in advance or forming guidelines or timing bits for reading information, it is also possible to perform pattern exposure through a transparent original 4 as shown in Fig. 2. . As a result, the compound having a diazo group or an azide group is selectively decomposed in the exposed portion 3A to a degree corresponding to the amount of exposure. As the light source used for exposure, any light source can be used as long as it can decompose the above-described compound having a diazo group or an azide group, and an ultra-high pressure mercury lamp is usually preferably used. Further, the original can be exposed by contact or projection, and can also be exposed by drawing with a converged light beam or laser. Reduction treatment Next, by exposure, a reducing agent aqueous solution is brought into contact with the sensitive layer 3 having a latent image in which a compound having a diazo group or an azide group is decomposed by immersion, so that metal development nuclei are almost uniformly formed in the sensitive layer 3. generate. Examples of reducing agents include stannous chloride, stannous sulfate, sodium borohydride, dimethylamine borazane, diethylamine borazane, trimethylamine borazane, other borazane derivatives, borane,
Borane derivatives such as diborane and methyldiborane, hydrazine, and the like can be used. Particularly preferably, an acidic stannous chloride solution, a stannous sulfate solution (Weiss solution), or a commercially available sensitizer solution for electroless plating is used, but in general, any strong reducing agent can be used. Furthermore, a physical developer is brought into contact with the sensitive layer 3, which has a latent image formed by the decomposition of the metal development nuclei obtained in this way and a compound having a diazo group or an azide group, by immersion, and exposed as shown in FIG. A reflective information recording area 3B is formed in which the metal in the developer is precipitated by reduction, centering on metal development nuclei. The reflectance of the optical recording material obtained by physical development needs to be at least 15% in order to be able to reproduce with a sufficient S/N ratio for the pick-up of the reproduction device, but if it is too high, the recording power will be reduced. It is preferable that it is 80% or less, since this results in a loss and lowers the sensitivity. Therefore, in the laser wavelength range of 400 to 900 nm,
A range of 15% to 80%, more preferably 30 to 55%, is preferably used. Physical Development As the physical developer, an aqueous solution containing a water-soluble reducible metal salt and a reducing agent is used, if necessary, in a heated state. Examples of reducible metal salts include VIP group metals such as nickel, cobalt, iron and chromium, and Ib metals such as copper.
Water-soluble salts of group metals are used alone or in mixtures. In addition, after physical development with a copper salt solution, substitution plating is performed with stannous chloride or tin sulfate to produce tin or tin.
It is also possible to obtain copper-based metal layers. Among these, considering safety and preservation, Nickel,
Copper and tin are preferably used. However, unlike vapor deposition, small amounts of different metals and elements such as phosphorus and sulfur may be mixed in due to the purity of the raw materials, plating stabilizers, etc., but this does not particularly affect the optical recording characteristics. As suitable water-soluble reducible metal salts, for example, the following can be used. Heavy metal halides such as cobaltous chloride, cobaltous iodide, ferrous bromide, ferrous chloride, chromic bromide, chromic iodide, cupric chloride; nickel sulfate, ferrous sulfate , heavy metal sulfates such as cobaltous sulfate, chromic sulfate, cupric sulfate; heavy metal nitrates such as nickel nitrate, ferrous nitrate, cobaltous nitrate, chromic nitrate, cupric nitrate; ferras Organic acid salts of metals such as acetate, cobalt acetate, chromic acetate, and chromic fluorate. These reducible heavy metal salts are contained in the physical developer at a rate of, for example, 10 to 100 g/g. These reducible metal salts are contained in the physical developer at a rate of, for example, 10 to 100 g/g. Examples of reducing agents include hypophosphorous acid, sodium hypophosphite, sodium borohydride, hydrazine, formalin, diethylamine borane, dimethylamine borane, trimethylamine borane, borane, diborane, methyldiborane, diborazane,
Borazene, borazine, t-butylamine borazane, pyridine borane, 2,6-lutidine borane,
Ethylenediamineborane, hydrazinediborane,
Dimethylphosphine borane, phenylphosphine borane, dimethylaldine borane, phenylaldine borane, dimethylstibine borane, diethylstivine borane, etc. can be used. These reducing agents can be added to the physical developer, e.g.
It is used at a rate of 0.1 to 50g/. In order to prevent the heavy metal ions generated by dissolving the above-mentioned reducible heavy metal salts from precipitating as hydroxides, the physical developer contains, for example, monocarboxylic acids; dicarboxylic acids; hydroxyl acids such as malic acid and lactic acid. Carboxylic acid: Contain one or more complexing agents consisting of organic carboxylic acids such as succinic acid, citric acid, aspartic acid, glycolic acid, tartaric acid, ethylenediaminetetraacetic acid, gluconic acid, sugar acid, and quinic acid. I can do it. For example, 1 to 100 g of these complex chloride agents may be added to the physical developer.
used at a rate of Furthermore, the physical developer contains PH regulators such as acids and bases, buffers, preservatives, etc. to improve the storage stability and operability of the developer and the quality of the resulting images.
Brighteners, surfactants, and the like are added as needed in a conventional manner. Among these additives, ammonium salts or ammonia-based additives are used as pH regulators to increase the pH, making it easier to obtain gloss on the surface of the photosensitive material. Particular preference is given to using PH regulators. In addition, metal images with metallic luster can be created on the binder surface by performing physical development in a high-temperature nickel plating bath at 65 to 90°C using sodium hypophosphite as a reducing agent or in high-speed plating with copper plating. Can be formed. Moreover, it is preferable in the present invention because the binder in the non-image area can be selectively removed by treating the obtained image with, for example, a 5% hydrochloric acid or 5% nitric acid aqueous solution for 5 minutes. When using the optical recording material of the present invention, an optical image recording layer is formed directly on the base material 2, or it is formed on a film and then attached to another base material by adhesive or heat fusion. There is a method of adhesion according to the method. The surface of the recording material may be provided with a space, such as in optical disk applications, or may be laminated with a protective material, as in card applications. Examples of protective materials that can be used include glass, polymethyl methacrylate, polycarbonate, and polyvinyl chloride. can be used with an adhesive or heat-sealed, but the structure is such that there are few factors that interfere with the transmission of the recording beam, such as birefringence or interference, or there is no scattering or absorption that would impede the transmission of the recording beam. Alternatively, the protective layer may be formed of any treated material. The optical recording material of the present invention can be used for various purposes by taking an appropriate size and shape, and is also suitable for use in the form of a card due to its high recording density and anti-counterfeiting properties. FIG. 4 is a plan view of a card made from the optical recording material of the present invention, and the card 5 has an optical image recording layer 7 on a part of the card base material 6. FIG. 5 shows an example of a cross-sectional structure of a card, in which an optical image recording layer 7 is laminated on a part of the card base material 6, and the entire surface of the card base material 6 including the optical image recording layer 7 is transparent. A protective layer 8 is laminated thereon. Fourth
In FIG. 5, the optical image recording layer 7 is provided on a part of the card base material 6, but it may be provided on the entire surface, or the optical image recording layer 7 in FIG. It may be provided to the full length. In addition, the card may have a magnetic recording layer 9 and a known photographic or engraved image 10 as shown in FIG. IC even if characters etc. are provided
There is no problem even if it has built-in memory. FIG. 5 shows the card shown in FIG. 4 with pits 11 after recording. The structure and manufacturing method of the card with the structure described above will be explained below. The card base material may be any material that is rigid and suitable for processing such as heat fusion and various types of printing. Good, but usually
Vinyl chloride resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, vinylidene chloride resin, acrylic resin, styrene resin, vinyl butyral resin, acetyl cellulose resin, styrene-butadiene copolymer resin,
Synthetic resins such as polyethylene resin and fluororesin can be used, and among them, vinyl chloride resin is used because of its ease of processing. In addition, paper, metal foil, etc., and composites of the above materials may also be used. The thickness of the protective layer 8 is 10 to 2000 .mu.m, preferably 200 to 1500 .mu.m. If it is less than 10 .mu.m, the strength as a protective layer is insufficient, and if it exceeds 2000 .mu.m, it becomes difficult for the laser beam to reach the recording layer, which is not preferable. Particularly, a thickness of 1000 to 1500 μm has the effect of avoiding interference with the laser beam due to fingerprints, dust, etc. attached to the surface of the protective layer. Since the main purpose of the protective layer in the present invention is to protect the optical image recording layer, it is sufficient to cover only the surface of the optical image recording layer, but since it is provided on the entire surface of a normal card, it may be provided on the entire surface in the present invention as well. The protective layer can be provided by applying, printing and drying using a known transparent synthetic resin paint, or by gluing or heat-sealing a transparent synthetic resin film or a transparent synthetic resin plate. As the board, the synthetic resin film or sheet described above as the card base material can be used, and the heat fusion conditions are 100-300°C, 40-30°C.
It is 400Kg/ cm2 . Note that in order to partially provide an optical image recording layer and a protective layer on a base material, contrary to the above explanation, an optical image recording layer is previously provided on a transparent synthetic resin protective layer, and then a card is attached using an adhesive. Attach to base material, heat-seal,
Alternatively, a method may be used in which a transparent synthetic resin protective layer and an optical image recording layer are further provided on a releasable substrate, and if desired, an adhesive is further applied thereon and the layer is transferred onto a card substrate. (Effects of the Invention) The optical recording material of the present invention has a reflectance suitable for recording and reproducing devices using metal particles having a relatively high melting point such as nickel, cobalt, and iron. Since only the surface layer is made of reflective metal, and the inner layer is made of light-absorbing metal particles in the binder, heat is generated efficiently and the transparent synthetic resin is thermally deformed. In addition to being more sensitive than recording media that use the volatilization of thin metal films, permanent information can be easily recorded on the recording media using conventional photographic methods or beam exposure. It has great advantages. In addition, continuous coating technology similar to the conventional manufacturing method of photographic materials can be applied to the production of this optical recording material. Since the photosensitive wavelength of the inhibitor ranges from the visible region of 5000 Å or less to the ultraviolet region, production can be carried out using illumination through an ultraviolet cut filter or in a bright room using yellow light. , it can be produced in a good working environment without requiring special technology, and the use of metals such as nickel for lipophilic resins is much more effective than using silver salts for hydrophilic resins. The optical recording material of the present invention is industrially superior, as it allows stable production and supply of low-cost, moisture-resistant, and highly stable recording media. (Example) Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. In Examples 1 and 2 below, the palladium chloride solution refers to one having the following composition. Palladium chloride solution Palladium chloride concentrated hydrochloric acid ethanol 1.0g 50g 1 Example 1 Sensitizer liquid polyvinyl acetate resin (Nippon Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd., Cosenyl A50-z5)... 20 parts by weight diazo monomer (Daito Chemical Co., Ltd., DH-300BF 4 ,
10% MEK solution)... 5.0 parts by weight Palladium chloride solution... 10 parts by weight Polyethylene glycol (MW, = 1500) 5%
MEK solution... 1 part by weight p-toluenesulfonic acid (stabilizer) 5% ethanol solution... 1 part by weight The sensitizer solution with the above composition was applied to a 100 μm thick polyester film (Toray Luminar, #100) with wire bar No. .36 and dried in an oven at 80°C to form a sensitive layer with a coating thickness of 4 μm. An ultra-high pressure mercury lamp (wavelength) was applied to the entire surface of the prepared sensitive layer.
4050 Å, 75 W) for 30 seconds, and then immersed in a physical developer (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., TMP Chemical Nickel) for 200 seconds to obtain an optical information recording medium with a glossy surface. The wavelength of this recording medium is 6330
The total reflectance at Å was 43%. Next He−
Ne laser (wavelength 6330Å) is applied to the recording surface at 3 mW.
The power is focused to a beam diameter of 2 μm and the pulse width is
When irradiated at 0.5 μsec, circular pits with a diameter of 4 μm were recorded. Example 2 Sensitizer liquid Acrylic acid/vinyl acetate copolymer resin (manufactured by Nippon Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd., Coponyl PC-50M(H) 20% ethanol solution...20 parts by weight of diazo monomer (manufactured by Respé Chemical Co., Ltd., No.
11'BF 4 ) 10% MEK solution... 3.0 parts by weight Palladium chloride solution... 10 parts by weight Polyethylene oxide (manufactured by Steel Chemical Co., Ltd., PEO-
3) 1% methanol solution... 2.0 parts by weight p-toluenesulfonic acid 5% ethanol solution...
... 1.0 parts by weight A photosensitive liquid having the above composition was applied and dried in the same manner as in Example 1 to form a photosensitive layer, followed by contact exposure for 30 seconds through a negative film using an ultra-high pressure mercury lamp. Next, a physical developer at 35°C (manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., TMP
Developed by immersing it in chemical nickel) for 120 seconds,
An optical information recording medium was obtained which had an information recording area of 80 mm x 15 mm defined by a 2 μ wide line and had a management display that further divided the inside into 20 sections in the longitudinal direction. The total reflectance of the information recording section at a wavelength of 7800 Å was 51%. Next, a beam from a laser diode (wavelength 7900 Å) was applied to the recording surface with a power of 5 mW and a beam diameter of 2 μ.
When the light was focused at m and irradiated with a pulse width of 1 μsec,
A circular pit with a diameter of 7 μm was recorded. Example 3 Nitrocellulose 2 was added to the sensitizer solution of Example 1.
When the same procedure as in Example 1 was carried out except that part by weight was added, and irradiation was performed using the same laser for the same time, the diameter
A circular bit of 10 μm was recorded, confirming high sensitivity. Example 4 Sensitizer liquid Cellulose triacetate... 20 parts by weight diazo monomer (Daito Chemical DH-300BF 4 , 10%
MEK solution)... 5.0 parts by weight Palladium chloride solution... 10 parts by weight MEK... 10 parts by weight was applied to a 50 μm thick polyester film Example 1
It was coated and dried in the same manner as above to obtain a 2.5 μm thick sensitive layer. A 1WAr laser was used on the prepared sensitive layer.
After drawing a 10μ stripe in a guideline shape with 488nm wavelength light, dimethylaminoborazane 4%
After immersing it in a reducing solution prepared by dissolving it in a 50% water/ethanol solution for 5 seconds, add a copper plating solution (OPC Cutupa No. 1 60ml/manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., OPC Cutuppur No. 2 25
ml/, OPC Katsupa No. 3 250ml/) at 50℃
It was soaked in water for 15 minutes to obtain a shiny copper plating in 10μ stripes. This total reflectance is approximately 35% (wavelength 6330Å),
When a He-Ne laser was focused on a 2μ spot and irradiated with a pulse of 2μsec at a power of 6mW on the recording surface,
A circular pit with a diameter of 5μ was molded. Example 5 The copper-plated product produced in Example 4 was immersed in a tin substitution plating solution (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., Tape Rate 4MH Make Up A 250ml/, Distilled Water 750ml/, Tape Rate 4MH Component B 80g/) at 55°C for 20 seconds. I got a glaring layer. This total reflectance is
It was 55% at 7800 Å. A beam from a semiconductor laser (wavelength: 7900 Å) is focused on this recording material to a beam diameter of 2 μm with a power of 4 mW on the recording surface, and the pulse width is
When irradiated at 0.5 μsec, circular pits with a diameter of 4 μm were recorded. Example 6 2 g of PdCl 2 was dissolved in 1000 ml of water together with 20 ml of HCl, and 20 g of the resulting two PdCl solutions were used to prepare a sensitive material (coating solution for forming an image forming layer) having the following composition. Two PdCl solutions with the above composition...20g Gelatin (Nitta Gelatin P-2151) 30% aqueous solution...10g Diazoresin (Shinko Giken D-011) 20% aqueous solution...2.5g Glutaric acid...0.12g The above sensitive material Adjust the temperature to 30°C to 40°C, apply it to a polyester film (Toray Lumirror S, 100#) that has been plasma-treated in advance, and dry it.
A coating film of 5μ was obtained. Sensitive film (image forming material) obtained above
The negative film was exposed for 2 minutes using a 2KW ultra-high pressure mercury lamp printer (distance 100cm from the light source). Next, it was immersed in the following reduction bath at 30° C. for 1 minute for reduction treatment. SnCl 2 ... 1 g HCl ... 40 ml H 2 O ... 100 c.c. Next, it was treated with a physical developer having the following composition at 90° C. to precipitate the metal and form a glossy image. Nickel chloride...30g Sodium hypophosphite...10g Ammonium oxyacetate...100g Water...900g The total reflectance of this recording medium at a wavelength of 6330 Å is
It was 40%. Next, He−Ne laser (wavelength 6330
Å) on the recording surface with a beam diameter of 2μ at a power of 3mW.
When the light was focused at m and irradiated with a pulse width of 0.5μsec,
A circular pit with a diameter of 4 μm was recorded. Example 7 The sensitive film of Example 6 was exposed to an ultra-high pressure mercury lamp.
Using a 2KW printer (distance 100 cm from the light source), the negative film was exposed for 2 minutes. Next, hydrazine hydrochloride (N 2 H 2 · HCl) was added at 1.0 mol/
It was immersed for 1 minute at 40°C in a reducing bath containing a proportion of . The sensitive film was washed with water, dried, and exposed using an ultra-high pressure mercury lamp.
Exposure was performed for 2 minutes using a 2KW printer (distance 100 cm from the light source). Then, it was treated with an electroless plating solution shown below for 8 minutes to obtain an image with metallic luster. Nickel chloride... 50g/ Sodium hypophosphite... 10g/ Sodium citrate... 10g/ The obtained image is a 2μ wide line to limit the information recording area of 80mm x 15mm, and the inside is further expanded in the longitudinal direction.
It had a management display divided into 20 parts, and the total reflectance of the information recording section at a wavelength of 7800 Å was 45%. Next, a beam from a laser diode (wavelength 7900 Å) was applied to the recording surface with a power of 5 mW and a beam diameter of 2 μ.
When the light was focused at m and irradiated with a pulse width of 1 μsec,
Circular pits with a diameter of 5 μm were recorded. Example 8 The sensitizer solution of Example 6 was treated in the same manner as in Example 6 except that 0.5 g of nitrocellulose (Asahi Kasei LS1/4) was added. When irradiated with the same laser for the same time, a circular shape with a diameter of 6 μm was formed. The pit was recorded, confirming the increased sensitivity. Example 9 The following composition: PdCl dihydrochloric acid aqueous solution (Nippon Kanisen Retsudoshauma)... 20g PVA (Japan Synthetic Gozenol NH-14) 0% aqueous solution... 20g Diazoresin (Shinko Giken D-013) 20% aqueous solution... 2.5g Malic acid... ... 0.08 g of the sensitizer was coated on a 50 μm thick polyester film in the same manner as in Example 5, and dried to obtain a 2.5 μm thick sensitizer layer. A 1WAr laser is used for the prepared sensitive layer.
After drawing a 10μ stripe in a guideline shape with 405nm wavelength light, dimethylaminoborazane 4%
After immersing in an aqueous solution (reducing solution) for 5 seconds, copper plating solution (manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., OPC Katsupa No. 1 60ml/,
OPC Katsupa No.2 25ml/, OPC Katsupa No.
3 250ml/) at 50°C for 15 minutes to obtain a copper gloss in the form of 10μ stripes. This total reflectance is approximately 30% (wavelength: 6330 Å), and when a He-Ne laser is focused on a 2 μ spot and irradiated with a pulse of 2 μsec at a power of 4 mW on the recording surface, a diameter of 5 μ is obtained.
A circular pit was formed. Example 10 The copper-plated product produced in Example 4 was placed in a tin substitution plating solution (manufactured by Okuno Pharmaceutical, Tape Rate 4MH Make Up A 250ml/, distilled water 750ml/Tay Rate 4MH Component B 80g/) at 55°C.
A tin plating layer was obtained by dipping for 20 seconds. The total reflectance was 7800 Å, or 45%. A beam of a semiconductor laser (wavelength 7900Å) is applied to this recording material 4m above the recording surface.
The power of W is focused to a beam diameter of 2 μm and the pulse width is
When irradiated at 0.5 μsec, circular pits with a diameter of 4 μm were recorded.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図〜第3図は本発明の光記録材料の製造工
程を示すいずれも断面図であり、第4図〜第6図
は本発明の光記録材料をカードに応用した例を示
し、第4図は平面図、第5図は断面図、第6図は
記録後の状態を示す平面図である。 1……感材、2……基材、3……透明合成樹脂
層(感剤層)、3A……露光部、3B……金属光
沢面、3C……金属微粒子分散層、4……透過原
稿、5……カード、6……カード基材、7……光
画像記録層、8……保護層、9……磁気記録層、
10……画像、11…ピツト(光画像部)
Figures 1 to 3 are cross-sectional views showing the manufacturing process of the optical recording material of the present invention, and Figures 4 to 6 show examples in which the optical recording material of the present invention is applied to cards. 4 is a plan view, FIG. 5 is a sectional view, and FIG. 6 is a plan view showing the state after recording. 1...Sensitive material, 2...Base material, 3...Transparent synthetic resin layer (sensitive layer), 3A...Exposed area, 3B...Metallic luster surface, 3C...Metal fine particle dispersion layer, 4...Transmission Original, 5... Card, 6... Card base material, 7... Optical image recording layer, 8... Protective layer, 9... Magnetic recording layer,
10...Image, 11...Pitsuto (light image section)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基材の少なくとも一部に光画像記録層を有し
ており、前記光画像記録層は表面が金属光沢面で
あり、下部が光吸収性の金属微粒子分散層である
透明合成樹脂層からなつていることを特徴とする
光記録材料。 2 金属光沢面を構成する金属はニツケル、コバ
ルト、鉄、クロム、銅、及び錫からなる群より選
択されていることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の光記録材料。 3 基材はカード基材である特許請求の範囲第1
項又は第2項記載の光記録材料。 4 更に表面に透明合成樹脂保護層を有する特許
請求の範囲第1項〜第3項いずれか記載の光記録
材料。
[Claims] 1. At least a part of the base material has an optical image recording layer, the surface of the optical image recording layer is a metallic glossy surface, and the lower part is a light-absorbing metal fine particle dispersion layer. An optical recording material characterized by being made of a transparent synthetic resin layer. 2. The optical recording material according to claim 1, wherein the metal constituting the metallic glossy surface is selected from the group consisting of nickel, cobalt, iron, chromium, copper, and tin. 3 Claim 1 in which the base material is a card base material
The optical recording material according to item 1 or 2. 4. The optical recording material according to any one of claims 1 to 3, further comprising a transparent synthetic resin protective layer on the surface.
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