JPH0452356U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0452356U JPH0452356U JP9526590U JP9526590U JPH0452356U JP H0452356 U JPH0452356 U JP H0452356U JP 9526590 U JP9526590 U JP 9526590U JP 9526590 U JP9526590 U JP 9526590U JP H0452356 U JPH0452356 U JP H0452356U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma chamber
- plasma
- group
- discharge
- electron emission
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図は、この考案の一実施例に係るイオン源
の副プラズマ室周りの詳細例を示す断面図である
。第２図は、第１図の電子放出孔周りを主プラズ
マ室側から見て示す正面図である。第３図および
第４図は、それぞれ、この考案の他の実施例に係
るイオン源の電子放出孔周りを主プラズマ室側か
ら見て示す正面図である。第５図は、第３図の一
つの電子放出孔周りを示す拡大断面図である。第
６図は、従来のイオン源を電源と共に示す図であ
る。第７図は、第６図のイオン源の副プラズマ室
周りの詳細例を示す断面図である。 ２……副プラズマ室、１０……アンテナ、１４
……副プラズマ、１６……電子放出孔、１８……
電子、２２……主プラズマ室、３０……主プラズ
マ、３２……引出し電極系、３６……イオンビー
ム、５２……高融点金属から成る部材。
の副プラズマ室周りの詳細例を示す断面図である
。第２図は、第１図の電子放出孔周りを主プラズ
マ室側から見て示す正面図である。第３図および
第４図は、それぞれ、この考案の他の実施例に係
るイオン源の電子放出孔周りを主プラズマ室側か
ら見て示す正面図である。第５図は、第３図の一
つの電子放出孔周りを示す拡大断面図である。第
６図は、従来のイオン源を電源と共に示す図であ
る。第７図は、第６図のイオン源の副プラズマ室
周りの詳細例を示す断面図である。 ２……副プラズマ室、１０……アンテナ、１４
……副プラズマ、１６……電子放出孔、１８……
電子、２２……主プラズマ室、３０……主プラズ
マ、３２……引出し電極系、３６……イオンビー
ム、５２……高融点金属から成る部材。
Claims (1)
- 直流放電によつてプラズマを生成する主プラズ
マ室と、高周波放電によつてプラズマを生成して
前記直流放電に必要な電子を電子放出孔から主プ
ラズマ室に供給する副プラズマ室とを備え、主プ
ラズマ室中のプラズマからイオンビームを引き出
すようにしたイオン源において、少なくとも前記
電子放出孔の周りを、元素周期表のａ族、ａ
族およびａ族金属の内から選ばれた高融点金属
から成る部材で構成したことを特徴とするイオン
源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9526590U JPH0452356U (ja) | 1990-09-10 | 1990-09-10 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9526590U JPH0452356U (ja) | 1990-09-10 | 1990-09-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0452356U true JPH0452356U (ja) | 1992-05-01 |
Family
ID=31833866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9526590U Pending JPH0452356U (ja) | 1990-09-10 | 1990-09-10 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0452356U (ja) |
-
1990
- 1990-09-10 JP JP9526590U patent/JPH0452356U/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2409167A1 (en) | Microchannel plate detector assembly for a time-of-flight mass spectrometer | |
| JPH0452356U (ja) | ||
| EP0772218A3 (en) | Linear beam microwave tube with planar cold cathode as an electron beam source | |
| JPH0454138U (ja) | ||
| JPS63165750U (ja) | ||
| JPS633050U (ja) | ||
| JPH02123051U (ja) | ||
| JPS5974659U (ja) | イオン注入装置のイオン発生装置 | |
| JPS6224466U (ja) | ||
| JPH0231055U (ja) | ||
| JPH025860U (ja) | ||
| JPH01160648U (ja) | ||
| JPH0221540A (ja) | マイクロ波管用電子銃 | |
| JPH0313661U (ja) | ||
| JPH02137746U (ja) | ||
| JPS62124746U (ja) | ||
| GB1169725A (en) | Improvements in or relating to an Electron Gun for Cathode-Ray Tubes | |
| JPS62180856U (ja) | ||
| JPH03110752U (ja) | ||
| JPS6277686U (ja) | ||
| JPH0468343U (ja) | ||
| JPH0466752U (ja) | ||
| JPH0254143U (ja) | ||
| JPS5887252U (ja) | 電子ビ−ム源 | |
| JPH0282865U (ja) |