JPH0452668Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、サンプルガス中の各種の成分を各別
に分析するためのガス分析装置に関するものであ
る。

〔従来の技術〕

上記のガス分析装置として、例えば第５図に示
すように、サンプルガスの供給管１に複数台の分
析計A₁〜A_oをシリーズに介装すると共に、各分
析計校正のために、最上流の分析計A₁の上流側
に、１本のゼロ校正用のガス供給管４と、分析計
A₁〜A_oの数に対応した複数本のスパン校正用の
ガス供給管５……を接続したものがある。尚、図
中のＺはゼロガスの供給源、S₁〜S_oはスパンガス
の供給源であり、SV₁は三方口電磁弁、V₁〜
V_o+1は二方口電磁弁である。

〔考案が解決しようとする問題点〕

かかるガス分析装置によれば、複数台の分析計
A₁〜A_oがサンプルガス供給管１にシリーズに介
装されているので、特にサンプルガスの流量が少
ないフローを対象にする場合に有効であるが、分
析計A₁〜A_oの校正に手間取る上、校正の制御が
複雑になる点で改善の余地があつたのである。

即ち、上記複数台の分析計A₁〜A_oを校正する
に際して、先ず、前記三方口電磁弁SV₁ならびに
ゼロガス用の二方口電磁弁V₁をON（このときの
ガスの流れ方向を実線の矢符ｃで示す。）に切り
換えて、前記分析計A₁〜A_oへのサンプルガスの
供給を停止し且つ前記ゼロガス供給源Ｚからゼロ
ガスをサンプルガス供給管１に供給し、該ゼロガ
スを前記シリーズに接続された分析計A₁〜A_oに
供給して、このゼロガスを基にして各分析計A₁
〜A_oのゼロ校正を行い、次いで、前記ゼロガス
用の二方口電磁弁V₁のみをOFFに切り換えてゼ
ロガスの供給を停止すると共に、残りの二方口電
磁弁V₂〜V_o+1を順次１個ずつON（このときのガ
スの流れ方向を仮想線の矢符ｄで示す。）にする
ように、分析計A₁〜A_oのスパン校正完了毎に当
該二方口電磁弁V₂〜V_o+1を順次ONに切り換え
て、夫々成分の異なるスパンガスをサンプルガス
供給管１を通して分析計A₁〜A_oに順次供給し、
この線分の異なるスパンガスを基にして前記分析
計A₁〜A_oのスパン校正を順次行うものである。
このときの弁開閉の制御手順図を第６図に示す。

而して、この第６図に示す弁開閉の制御手順
図、並びに、第７図に示すガス切り換え供給のシ
ーケンス図面で明らかなように、上記スパン校正
を各分析計毎に行わねばならないことから、該分
析計A₁〜A_oのスパン校正を順次完了するたびに、
前記二方口電磁弁V₂〜V_o+1を所定通り順次１個
ずつON，OFF操作しなければならず、分析計A₁
〜A_oの数量が多くなるほど、更には、先に流し
たスパンガスと次に流すスパンガスとの置換を完
全に行わせる上で、上記スパン校正の時間が長く
かかると共に、延いてはサンプルガスの成分分析
の測定が不能になる時間（欠測時間）が長くな
り、その上、前記スパンガスを順次分析計A₁〜
A_oに供給させる点において、スパンガス用の二
方口電磁弁V₂〜V_o+1に対する弁開閉の制御系が
複雑になる欠点があつたのである。

本考案は、かかる実情に鑑みて案出されたもの
であつて、極めて簡単な制御によつて複数台の分
析計に対するスパン校正を短時間で行えるガス分
析装置を提供せんとしている。

〔問題点を解決するための手段〕

上記の目的を達成するために本考案は、サンプ
ルガスの供給管に複数台の分析計をシリーズに介
装すると共に、最上流の分析計の上流側にはゼロ
ガスの供給管を接続する一方、夫々成分の異なる
スパンガスを各分析計の上流側に供給するための
スパンガスの供給管と、該スパンガスを各分析計
の下流側において分析系外に排気する排気管を、
夫々前記サンプルガス供給管に接続し、かつ、前
記サンプルガスを各分析計に供給する第１状態
と、前記ゼロガスを前記各分析計に供給する第２
状態、及び、前記スパンガスを前記各分析計に各
別に且つ時間的に同時に供給すると共に該スパン
ガスを各分析計の下流側において分析系外に排気
する第３状態を、夫々切り換え現出させる制御機
構を設けた点に特徴がある。

〔作用〕

上記の特徴構成によれば、第１状態を現出する
ことで、複数台の分析計によるサンプルガスの成
分分析が行われ、かつ第２状態を現出することで
上記複数台の分析計に同時にゼロガスを流すゼロ
校正が行われ、そして第３状態を現出することで
前記複数台の分析計に各別に且つ時間的に同時に
スパンガスを流すスパン校正が行われる。

〔実施例〕

以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明す
ると、第１図は校正手段を備えたガス分析装置の
フロー図面を示し、１はサンプルガスの供給管
で、該サンプルガス供給管１には、前記サンプル
ガス中の各種の成分を分析するための複数台の分
析計A₁〜A_oがシリーズに介装され、かつ当該各
分析計A₁〜A_oの上流側には、三方口電磁弁SV₁
〜SV_oが設けられている。そして、この内の最上
流のものを除く三方口電磁弁SV₂〜SV_oの残りの
弁口にわたつて排気管２を接続すると共に、当該
排気管２を最下流の分析計A_oの下流側における
排気管３に連通接続してある。

Ｚはゼロガスの供給源、S₁〜S_oはスパンガスの
供給源で、これらの供給源Ｚ、S₁〜S_oに接続の供
給管４，５……の夫々には、二方口電磁弁V₁〜
V_o+1が介装されている。

この内のゼロガス供給源Ｚとスパンガス供給源
S₁に接続の供給管４，５が互いに連通接続されて
いて、その連通管６が最上流の分析計A₁の上流
側の三方口電磁弁SV₁の残りの弁口に連通接続さ
れており、かつ、残りのスパンガス供給源S₂〜S_o
に接続の供給管５……が、最上流から２番目の分
析計A₂〜A_oとそれの上流側の三方口電磁弁SV₂
〜SV_oとの間のサンプルガス供給管１に連通接続
されている。

上記構成のガス分析装置において、それの二方
口電磁弁V₁〜V_o+1ならびに三方口電磁弁SV₁〜
SV_oを第２図に示す弁開閉の制御図に基づいて開
閉させる制御機構７を設けてある。

ずなわち、前記二方口電磁弁V₁〜V_o+1ならび
に三方口電磁弁SV₁〜SV_oの全てをOFF（このと
きの三方口電磁弁SV₁〜SV_oのガスの流れ方向を
実線の矢符ａで示す。）にして、前記サンプルガ
スを各分析計A₁〜A_oに順次供給するサンプルガ
ス分析の第１状態Ｘと、 上記二方口電磁弁V₁〜V_o+1のうちのゼロガス
用の二方口電磁弁V₁と三方口電磁弁SV₁〜SV_oの
うちの最上流の三方口電磁弁SV₁のみをON（この
ときの三方口電磁弁SV₁のガスの流れ方向を仮想
線の矢符ｂで示す。）にして、前記ゼロガスを前
記各分析計A₁〜A_oに順次供給する第２状態Ｙ、 及び、前記ゼロガス用の二方口電磁弁V₁を
OFFに且つ残りの二方口電磁弁V₂〜V_o+1と三方
口電磁弁SV₂〜SV_oの全てをON（このときの三方
口電磁弁SV₂〜SV_oのガスの流れ方向も仮想線の
矢符ｂで示す。）にして、前記各分析計A₁〜A_oに
対して成分の異なるスパンガスを各別に且つ時間
的に同時に供給すると共に、該スパンガスを各分
析計A₁〜A_oの下流側から排気管２，３を通して
分析系外に排気する第３状態Ｚを、夫々切り換え
現出させるさせるように制御機構７を構成してあ
る。

かかる構成によれば、上記第２及び第３状態
Ｙ，Ｚを現出させることで、分析計A₁〜A_oのゼ
ロ校正ならびにスパン校正をおこなうことができ
る。

このゼロ校正ならびにスパン校正に際してのガ
ス切り換えのシーケンスは第３図に示す通りであ
り、即ち従来のように、各分析計A₁〜A_oのスパ
ン校正を完了するたびに二方口電磁弁V₂〜V_oを
順次１個ずつON，OFF操作することなく連続的
に、しかもガス置換の時間を待たずに、各分析計
A₁〜A_oのスパン校正を行うことができるのであ
り、従来に比べて校正時間を短縮することができ
る。

また、第２図の弁開閉の制御図から明らかなよ
うに、分析計A₁〜A_oのゼロ校正に際しては、サ
ンプルガスの成分分析の状態から夫々１個の二方
口電磁弁V₁と三方口電磁弁SV₁のみをONに切り
換えるだけであり、そして、該ゼロ校正後におけ
るスパン校正に際しては、上記二方口電磁弁V₁
をOFFに且つ残りの二方口電磁弁V₂〜V_o+1と三
方口電磁弁SV₂〜SV_oをONに切り換えるだけで
あつて、ゼロ校正とスパン校正のための弁開閉の
制御系が極めて単純なものとなる。

尚、弁配置の構成は上記の通りに特定されるも
のではなく、例えば第４図に示すような変形が可
能である。この第４図において、二方口電磁弁を
Ｖ、三方口電磁弁をSVで示し、その他、第１図
に示すものと同じ構成部品には同符号を付して説
明を省略する。

また本考案は、２台の分析計A₁〜A₂を備える
ガス分析装置や、それ以上の分析計A₁〜A_oを備
えるガス分析装置を対象にしており、例えば２台
の分析計A₁〜A₂を備えるガス分析装置を構成す
るには、第４図において仮想線で囲つた範囲の構
成となる。

〔考案の効果〕

以上説明したように本考案のガス分析装置によ
れば、サンプルガスの成分分析を行つている第１
状態から第２状態を切り換え現出させることで、
従来通り複数台の分析計に同時にゼロガスを流す
ゼロ校正が行われ、この後に第３状態を切り換え
現出させることで、上記複数台の分析計に各別に
且つ時間的に同時に線分の異なるスパンガスを流
すスパン校正が行われる。

而して従来のように、各分析計のスパン校正を
完了するたびに順次１個ずつ弁をON，OFF操作
することなく、しかも、ガス置換の時間を待たず
に、連続的に各分析計のスパン校正を行うことが
できるのであり、従来に比べて校正時間を大幅に
短縮することができる。

また、分析計のゼロ校正ならびにスパン校正に
際しての弁開閉の制御系を極めて単純なON，
OFF構成のものにでき、全体として、極めて簡
単な制御によつて複数台の分析計の校正を短時間
で行い得るコスト的に安価なガス分析装置を提供
できるに至つたのである。

【図面の簡単な説明】

第１図はガス分析装置の形態図、第２図は弁開
閉の制御手順図、第３図はサンプルガスの成分分
析ならびに校正のシーケンス図面である。そして
第４図は別実施例のガス分析装置の形態図であ
る。第５図以降は従来例を示し、第５図はガス分
析装置の形態図、第６図は弁開閉の制御手順図、
第７図はサンプルガスの成分分析ならびに校正の
シーケンス図面である。 １……サンプルガス供給管、２，３……排気
管、４……ゼロガス供給管、５……スパンガス供
給管、７……制御機構、Ｘ……第１状態、Ｙ……
第２状態、Ｚ……第３状態。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. サンプルガスの供給管に複数台の分析計をシリ
   ーズに介装すると共に、最上流の分析計の上流側
   にはゼロガスの供給管を接続する一方、夫々成分
   の異なるスパンガスを各分析計の上流側に供給す
   るためのスパンガスの供給管と、該スパンガスを
   各分析計の下流側において分析系外に排気する排
   気管を、夫々前記サンプルガス供給管に接続し、
   かつ、前記サンプルガスを各分析計に供給する第
   １状態と、前記ゼロガスを前記各分析計に供給す
   る第２状態、及び、前記スパンガスを前記各分析
   計に各別に且つ時間的に同時に供給すると共に該
   スパンガスを各分析計の下流側において分析系外
   に排気する第３状態を、夫々切り換え現出させる
   制御機構を設けて成るガス分析装置。