JPH045285A - （Ｓ）―γ―アシロキシメチル―α，β―ブテノリドの製造方法 - Google Patents
（Ｓ）―γ―アシロキシメチル―α，β―ブテノリドの製造方法Info
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- JPH045285A JPH045285A JP2101843A JP10184390A JPH045285A JP H045285 A JPH045285 A JP H045285A JP 2101843 A JP2101843 A JP 2101843A JP 10184390 A JP10184390 A JP 10184390A JP H045285 A JPH045285 A JP H045285A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、下記の化学構造式に示す（Ｓ）−γ−アシロ
キシメチルー色β−ブテノリドの製造方法に関する。
キシメチルー色β−ブテノリドの製造方法に関する。
本化合物は、例えばプロスタグランジン、抗白血病リグ
ナン、抗生物質ラサロシドＡなどの医薬品の合成原料と
して有用な物質である。さらに、本化合物は２．３−ジ
デオキシリボース誘導体への合成中間体としても有用な
物質である。
ナン、抗生物質ラサロシドＡなどの医薬品の合成原料と
して有用な物質である。さらに、本化合物は２．３−ジ
デオキシリボース誘導体への合成中間体としても有用な
物質である。
（従来の技術）
壮（Ｓ）−７−アシロキシメチル−ｑβ、ブテノリドの
合成方法は、従来衣に示す三方法が知られており、それ
ぞれ次のような問題を有している。
合成方法は、従来衣に示す三方法が知られており、それ
ぞれ次のような問題を有している。
（１）Ｄ−リボースを原料としりボラクトンを経て本化
合物に変換する方法（Ｐ、Ｃａｍｐｓ ｅｔ ａｔ、、
Ｔｅｔｎｈｅｄｒｏｎ、 ３１１１．２３９５この方
法は、原料であるリボースが高価であり、従って住産物
の原価が高くなるという問題がある。
合物に変換する方法（Ｐ、Ｃａｍｐｓ ｅｔ ａｔ、、
Ｔｅｔｎｈｅｄｒｏｎ、 ３１１１．２３９５この方
法は、原料であるリボースが高価であり、従って住産物
の原価が高くなるという問題がある。
（２）Ｌ−グルタミン酸を原料とし、γ−ラクトンを経
てこれを酸化し、６段階で本化合物を得る方法（Ｋ、Ｔ
ｏｍｉｏｋａｅｔａｌ、、 Ｔｅｔｎｈｅｄｒｏｎ、
３０．３５４７ （１９７４））この方法は、反応工程
中ラセミ化の可能性があり、また収率も高くないなどの
欠点がある。
てこれを酸化し、６段階で本化合物を得る方法（Ｋ、Ｔ
ｏｍｉｏｋａｅｔａｌ、、 Ｔｅｔｎｈｅｄｒｏｎ、
３０．３５４７ （１９７４））この方法は、反応工程
中ラセミ化の可能性があり、また収率も高くないなどの
欠点がある。
（発明が解決しようとする課題）
本発明の目的は、上記方法におけるような欠点を伴わな
いで容易にかつ安価に（Ｓ）−γ−アシロキシメチル、
ａ、、β−ブテノリド（以下本化合物という）を製造す
る方法を提供することである。
いで容易にかつ安価に（Ｓ）−γ−アシロキシメチル、
ａ、、β−ブテノリド（以下本化合物という）を製造す
る方法を提供することである。
（課題を解決するための手段）
本発明者らは、上記課題を解決すべく種々検討した結果
、２．アルコキシ−６、アシロキシメチル２Ｈ−ピラン
−３（６Ｈ）−オンを原料として本化合物を製造する方
法を見出し、本発明を完成した。
、２．アルコキシ−６、アシロキシメチル２Ｈ−ピラン
−３（６Ｈ）−オンを原料として本化合物を製造する方
法を見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明による（Ｓ）−γ−アシロキシメチル
ー偽β−ブテノ１八ドの製造方法は、有機溶媒中におい
て、２−フルコキシ、６−アシロキシメチル２Ｈ−ピラ
ン−３（６Ｈ）−オンを過酸で酸化することを特徴とす
るものである。
ー偽β−ブテノ１八ドの製造方法は、有機溶媒中におい
て、２−フルコキシ、６−アシロキシメチル２Ｈ−ピラ
ン−３（６Ｈ）−オンを過酸で酸化することを特徴とす
るものである。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明において、出発原料に用いる２−アルコキシ−６
−アシロキシメチル２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オンは
、公知の物質であり、例えばＤ−グルコースよりＪ、
Ｏｒｇ、 Ｃｈｅｍ、、 ５４．２１０３ （１９８９
）の方法により得ることができる。
−アシロキシメチル２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オンは
、公知の物質であり、例えばＤ−グルコースよりＪ、
Ｏｒｇ、 Ｃｈｅｍ、、 ５４．２１０３ （１９８９
）の方法により得ることができる。
本発明において、上記２−アルコキシ−６−アシロキシ
メチル２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オンの酸化に用いら
れろ過酸としては、例えば過酢酸、メタクロロ過安息香
酸源ノベルオキシフタル酸マグネシウム塩６水和物があ
げられる。しかし、これらに限定されるものではない。
メチル２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オンの酸化に用いら
れろ過酸としては、例えば過酢酸、メタクロロ過安息香
酸源ノベルオキシフタル酸マグネシウム塩６水和物があ
げられる。しかし、これらに限定されるものではない。
本発明における２−アルコキシ−６−７シロキシメチル
２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オンと過酸との反応は、量
論反応である。従って、２−アルコキシ−６−アシロキ
シメチル２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オン１モルに対す
る過酸の使用量は、１．０−３．０モル、望ましくは１
．２−１．５モルの過酸を用いればよい。
２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オンと過酸との反応は、量
論反応である。従って、２−アルコキシ−６−アシロキ
シメチル２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オン１モルに対す
る過酸の使用量は、１．０−３．０モル、望ましくは１
．２−１．５モルの過酸を用いればよい。
本発明における酸化反応は液相で行なわれる。
この反応に用いる溶媒としては、通常の有機溶媒、例え
ば酢酸、塩化メチレン、クロロホルム等を用いることが
できる。溶媒を選定するうえで考慮しなければならない
点は、２−アルコキシ−６−アシロキシメチル２Ｈ−ピ
ラン−３（６Ｈ）−オンを十分に溶解できること、過酸
と反応しないこと、反応後の処理を困難にしないことな
どである。この条件を満たす限りどのような溶媒でも使
用可能である。
ば酢酸、塩化メチレン、クロロホルム等を用いることが
できる。溶媒を選定するうえで考慮しなければならない
点は、２−アルコキシ−６−アシロキシメチル２Ｈ−ピ
ラン−３（６Ｈ）−オンを十分に溶解できること、過酸
と反応しないこと、反応後の処理を困難にしないことな
どである。この条件を満たす限りどのような溶媒でも使
用可能である。
本反応における酸化反応は次式で示され、バイヤービリ
ガー反応と考えられる。
ガー反応と考えられる。
ここで、２−アルコキシ−６−アシロキシメチル２Ｈ−
ピラン−３（６Ｈ）−オンにおけるＲ１はメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、 ｔｅｒｒ−ブチル
、フエ０ル・４ンジルなどの適宜のアルキル基またはア
リール基であり、次の酸化反応の後系外へ排出されるこ
とから特に指定はしない、イソプロピルまたはｔｅｒｔ
−ブチル基が望ましい。またＲ２は１級水酸基の保護基
であれば何でも良いが、アセチル、プロピオニル。
ピラン−３（６Ｈ）−オンにおけるＲ１はメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、 ｔｅｒｒ−ブチル
、フエ０ル・４ンジルなどの適宜のアルキル基またはア
リール基であり、次の酸化反応の後系外へ排出されるこ
とから特に指定はしない、イソプロピルまたはｔｅｒｔ
−ブチル基が望ましい。またＲ２は１級水酸基の保護基
であれば何でも良いが、アセチル、プロピオニル。
ベンゾイル、ｐ−クロロベンゾイルなどのアシル基が望
ましい。また、本化合物は、各種化合物の重要中間体で
もあるので、その後の目的化合物に変換することを考慮
して、例えばｔｅ’ｎ−ブチルジメチルシリル基、ｐ、
トルエンスルホニル基などの保護基を用いることもでき
る。
ましい。また、本化合物は、各種化合物の重要中間体で
もあるので、その後の目的化合物に変換することを考慮
して、例えばｔｅ’ｎ−ブチルジメチルシリル基、ｐ、
トルエンスルホニル基などの保護基を用いることもでき
る。
上記の過酸による反応は、極めて簡単な操作で行なうこ
とができる。すなわち、２−アルコキシ−６＝アシロキ
シメチル２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オンの溶液に過酸
を加え、室温下好ましくは、＋５−２５℃に攪拌しなか
ら１０−１８時間反応させる。こうして得られた本化合
物は、そのまま前述した医薬などの合成原料として用い
ることができる。しかし、反応終了後、例えば亜硫酸ナ
トリウム水溶液を加え、過剰の過酸化物を還元し、次い
で炭酸水素ナトリウム水溶液を加え中和した後、ジクロ
ロメタン、クロロホルムなどの有８！溶媒で抽出、硫酸
ナトリウムなどの乾燥剤で乾燥し、減圧下溶媒を留去す
ることにより、さらに高純度の本化合物を得ることがで
きる。
とができる。すなわち、２−アルコキシ−６＝アシロキ
シメチル２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オンの溶液に過酸
を加え、室温下好ましくは、＋５−２５℃に攪拌しなか
ら１０−１８時間反応させる。こうして得られた本化合
物は、そのまま前述した医薬などの合成原料として用い
ることができる。しかし、反応終了後、例えば亜硫酸ナ
トリウム水溶液を加え、過剰の過酸化物を還元し、次い
で炭酸水素ナトリウム水溶液を加え中和した後、ジクロ
ロメタン、クロロホルムなどの有８！溶媒で抽出、硫酸
ナトリウムなどの乾燥剤で乾燥し、減圧下溶媒を留去す
ることにより、さらに高純度の本化合物を得ることがで
きる。
以下、実施例によりこの発明の方法をざらに詳細に説明
する。
する。
（実施例１）
２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−６−アセトキシメチル２Ｈ−
ピラン−３（６Ｈ）−オン３５ｇを酢酸３００ｍｎ：溶
解し、５０％過酢酸（酢酸溶液）２６ｇを加え室温下１
５時間攪拌した。反応後］００ｍ１の飽和亜硫酸ナトリ
ウム水溶液を加え過剰の過酸化物を還元した後、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液をゆっくり加え中和した。次い
で、クロロホルム５００ｍ１加え抽出した後、硫酸ナト
リウムで乾燥、減圧下溶媒を留去して、（Ｓ）−７，ア
セトキシメチル−偽β−ブテノリドを１８ｇ得た。（収
率８０％）得られた（Ｓ）−γ−アシロキシメチルーへ
β、ブテノリドの沸点、比旋光度、ＩＲ，’ＨＮＭＲは
ＨｅｔｅｒｏｃｙｃＪｅｓ、 ３１．４２３ （１９９
０）に示された値と一致した。
ピラン−３（６Ｈ）−オン３５ｇを酢酸３００ｍｎ：溶
解し、５０％過酢酸（酢酸溶液）２６ｇを加え室温下１
５時間攪拌した。反応後］００ｍ１の飽和亜硫酸ナトリ
ウム水溶液を加え過剰の過酸化物を還元した後、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液をゆっくり加え中和した。次い
で、クロロホルム５００ｍ１加え抽出した後、硫酸ナト
リウムで乾燥、減圧下溶媒を留去して、（Ｓ）−７，ア
セトキシメチル−偽β−ブテノリドを１８ｇ得た。（収
率８０％）得られた（Ｓ）−γ−アシロキシメチルーへ
β、ブテノリドの沸点、比旋光度、ＩＲ，’ＨＮＭＲは
ＨｅｔｅｒｏｃｙｃＪｅｓ、 ３１．４２３ （１９９
０）に示された値と一致した。
（実施例２）
２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−６−ｐ−クロロベンゾイロキ
シメチル２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オン４．９ｇを酢
酸５０ｍ５こ溶解し、５０％過酢酸（酢酸溶液）２．６
ｇを加え室温下１５時間攪拌した。
シメチル２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オン４．９ｇを酢
酸５０ｍ５こ溶解し、５０％過酢酸（酢酸溶液）２．６
ｇを加え室温下１５時間攪拌した。
反応後５０ｍ（ｆ）飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を加え
過剰の過酸化物を還元した後、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液をゆっくり加え中和した。次いで、クロロホルム
１００ｍ階加え抽出した後、硫酸ナトリウムで乾燥、減
圧下溶媒を留去して、（Ｓｌｙ−ｐ−クロロベンゾイロ
キシメチル−α、β−ブテノリドを３ｇ得た。
過剰の過酸化物を還元した後、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液をゆっくり加え中和した。次いで、クロロホルム
１００ｍ階加え抽出した後、硫酸ナトリウムで乾燥、減
圧下溶媒を留去して、（Ｓｌｙ−ｐ−クロロベンゾイロ
キシメチル−α、β−ブテノリドを３ｇ得た。
（収率８２％）
得られた（Ｓ）−アール−クロロベンゾイロキシメチル
−色β−ブテノリドの構造は、’ＨＮＭＲで同定した。
−色β−ブテノリドの構造は、’ＨＮＭＲで同定した。
’ＨＮＭＲ；（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ） ４．６１
（２Ｈ，ｍ）、 ５．４０ （ＩＨ，ｍ）、 ６．２
３ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２．１５．８Ｈｚ）、 ７．４
４ （２Ｈ，ｄ、Ｊ＝ ８．６Ｈｚ）、 ７．６０ （
ＩＨ，ｍ）、 ７．９８ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ ８．６Ｈ
ｚ）（参考例〉 （無水Ｄ−グルコースから２−＋Ｃｎ−ブトキシー６−
アセトキシメチル２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オンの製
造例）［工程１；無水Ｄ−グルコースよりテトラ−Ｏ−
アセチル−ａ−Ｄ−グルコピラノシルプロミドの製造；
ＮａＬｕπ。
（２Ｈ，ｍ）、 ５．４０ （ＩＨ，ｍ）、 ６．２
３ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２．１５．８Ｈｚ）、 ７．４
４ （２Ｈ，ｄ、Ｊ＝ ８．６Ｈｚ）、 ７．６０ （
ＩＨ，ｍ）、 ７．９８ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ ８．６Ｈ
ｚ）（参考例〉 （無水Ｄ−グルコースから２−＋Ｃｎ−ブトキシー６−
アセトキシメチル２Ｈ−ピラン−３（６Ｈ）−オンの製
造例）［工程１；無水Ｄ−グルコースよりテトラ−Ｏ−
アセチル−ａ−Ｄ−グルコピラノシルプロミドの製造；
ＮａＬｕπ。
１６５、３６９ （１９５０）］
１ｆ三つロフラスコに無水酢酸４００ｍＡ入れ氷冷した
後、６５％過塩素酸２．４ｍｉ滴下した。溶液を室温に
戻し、撹拌しながら無水Ｄ−グルコース１００ｇを液温
が３０−４０℃に保たれるように加えた。反応液を２０
℃に冷却した後、赤リン３０ｇを加え、ついで液温を２
０℃以下に保ちながら臭素５８ ｍｎ、次いで水３６ｍ
＃滴下した。反応液を室温で２時間放置した後、クロロ
ホルムを加え沈澱物をろ別し、冷水をカロえ分液し、ク
ロロホルム層を分取した。クロロホルム層ヲ、水、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥、減圧下溶媒を留去すると固い結晶が得られ
た。これをエーテルで再結晶を行い、テトラ−０−アセ
チル−ａ−Ｄ−グルコピラノシルプロミド１９０ｇ得た
。（収率：８３％）［工程２；テトラ−Ｏ−アセチル−
ａ−Ｄ−グルコピラノシルブロミドより、２．３．４．
６−チトラーＯ−ア七チル化５−アンヒドロ−Ｄ−アラ
ビノへキス−１−ユニトールの製造：Ｊ、 Ｏｒｇ、
Ｃｈｅｍ、、 ５４．２１０３ （１９８９）］］１ｆ
三ツロフラスコ中、工程で得られたテトラ−Ｏ−アセチ
ル−α−Ｄ−グルコビラノシルブロミド１９０ｇ。
後、６５％過塩素酸２．４ｍｉ滴下した。溶液を室温に
戻し、撹拌しながら無水Ｄ−グルコース１００ｇを液温
が３０−４０℃に保たれるように加えた。反応液を２０
℃に冷却した後、赤リン３０ｇを加え、ついで液温を２
０℃以下に保ちながら臭素５８ ｍｎ、次いで水３６ｍ
＃滴下した。反応液を室温で２時間放置した後、クロロ
ホルムを加え沈澱物をろ別し、冷水をカロえ分液し、ク
ロロホルム層を分取した。クロロホルム層ヲ、水、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥、減圧下溶媒を留去すると固い結晶が得られ
た。これをエーテルで再結晶を行い、テトラ−０−アセ
チル−ａ−Ｄ−グルコピラノシルプロミド１９０ｇ得た
。（収率：８３％）［工程２；テトラ−Ｏ−アセチル−
ａ−Ｄ−グルコピラノシルブロミドより、２．３．４．
６−チトラーＯ−ア七チル化５−アンヒドロ−Ｄ−アラ
ビノへキス−１−ユニトールの製造：Ｊ、 Ｏｒｇ、
Ｃｈｅｍ、、 ５４．２１０３ （１９８９）］］１ｆ
三ツロフラスコ中、工程で得られたテトラ−Ｏ−アセチ
ル−α−Ｄ−グルコビラノシルブロミド１９０ｇ。
テトラブチルアンモニウムプロミド１９ｇ、及び乾燥ア
セトニトリル２５０ｍｆｔ入れ氷冷下、１４５ｍυジエ
チルアミンを２時間かけてゆっくり滴下した。滴下後、
更に０℃で１５分９次いで室温下１時間かくはんした。
セトニトリル２５０ｍｆｔ入れ氷冷下、１４５ｍυジエ
チルアミンを２時間かけてゆっくり滴下した。滴下後、
更に０℃で１５分９次いで室温下１時間かくはんした。
得られた黒色の溶液に２５０ ｍｖ）クロロホルムを加
え・３２０ｍ／（’）飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗浄した後、クロロホルム層を硫酸ナトリウムで乾燥し
た。
え・３２０ｍ／（’）飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗浄した後、クロロホルム層を硫酸ナトリウムで乾燥し
た。
次いで、減圧下溶媒を留去した後、ヘキサン°酢酸エチ
ル＝７：３を展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマト
グラムにかけ、得られた物質をエテル／ヘキサン溶媒で
再結晶させることにより、２゜３、４．６−チトラーＯ
−アセチルー１，５−アンヒドロ−Ｄ−アラビノへキス
−１−エニトールを６８ｇ得た。（収率４２％）［工程
３ ； ２，３，４．６−テトラ−０−アセチル−１，
５−アンヒドロ−Ｄ−アラビノへキス−１−エニトール
より、ｔｅｎ−ブチル２，４．６−）ソー０−アセチル
−３−デオキシ−６−り一エリスロヘキシー２−二ノピ
ラノシドの製造；Ｊ、 Ｏｒｇ、 Ｃｈｅｍ、、 ５４
．２１０３（１９８９）］ ５００ｍＦツロフラメロフラスコ中で得られた２、 ３
，４．６＝テトラ−Ｏ−アセチル−１，５−アンヒドロ
−Ｄ−アラビノへキス−１−エニトール６８ｇを、８０
ｍ（（１’） ｔｅｎ−ブタノールを含む１４０ｍω乾
燥ジクロロメタンに溶解し、０℃に冷却した後、１３ｍ
ｒＯ）リクロロボラン・エーテル錯体を滴下した。４０
時間室温で撹拌した後、さらに３５０ｍ（ｆ）ジクロロ
メタンで希釈し、１８０ｍｒ（７）飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液をゆっくり加え５分間撹拌した。
ル＝７：３を展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマト
グラムにかけ、得られた物質をエテル／ヘキサン溶媒で
再結晶させることにより、２゜３、４．６−チトラーＯ
−アセチルー１，５−アンヒドロ−Ｄ−アラビノへキス
−１−エニトールを６８ｇ得た。（収率４２％）［工程
３ ； ２，３，４．６−テトラ−０−アセチル−１，
５−アンヒドロ−Ｄ−アラビノへキス−１−エニトール
より、ｔｅｎ−ブチル２，４．６−）ソー０−アセチル
−３−デオキシ−６−り一エリスロヘキシー２−二ノピ
ラノシドの製造；Ｊ、 Ｏｒｇ、 Ｃｈｅｍ、、 ５４
．２１０３（１９８９）］ ５００ｍＦツロフラメロフラスコ中で得られた２、 ３
，４．６＝テトラ−Ｏ−アセチル−１，５−アンヒドロ
−Ｄ−アラビノへキス−１−エニトール６８ｇを、８０
ｍ（（１’） ｔｅｎ−ブタノールを含む１４０ｍω乾
燥ジクロロメタンに溶解し、０℃に冷却した後、１３ｍ
ｒＯ）リクロロボラン・エーテル錯体を滴下した。４０
時間室温で撹拌した後、さらに３５０ｍ（ｆ）ジクロロ
メタンで希釈し、１８０ｍｒ（７）飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液をゆっくり加え５分間撹拌した。
ジクロロメタン層を分取した後、飽和食塩水で洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下溶媒を留去した。次いで
、ヘキサン：酢酸エチル＝８：２を展開溶媒としたシリ
カゲルカラムクロマトグラムにかけ、得られた物質をエ
タノール溶媒で再結晶させることにより、ｔｃｒｔ−ブ
チル２，４．６−）リーＯ−７セチルー３−デオキシ−
６−〇−エリスロヘキシー２−エノピラノシドを６２ｇ
得た。（収率８７％） ［工程４ ； ｔｅｒｔ−ブチル２．４．６−トリー０
−アセチル−３−デオキシ−〇−り、エリメロヘキシ−
２−二ノピラノシドより、２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−６
−ヒドロキシメチル２Ｈ−ビラン−３（６）（）−オン
の製造： Ｊ、 Ｏｒ；、 Ｃｈｅｍ、、 ５４．２１
０３ （１９８９）］工程３で製造したｔｅｎ−ブチル
２．４．６− ）リーＯ−アセチルー３−デオキシ−ａ
−Ｄ−エリメロヘキシ−２−エノピラノシド６２ｇを１
２０ｍｒ（７）メタノールに溶解し、これをエチレング
リコール：トリエチルアミン：水＝ １：１：３の割合
で混合した溶液３ｎこ加える。室温下４０分攪拌した後
、ＩＩの塩化メチレンを加え有機層を抽出する。
硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下溶媒を留去した。次いで
、ヘキサン：酢酸エチル＝８：２を展開溶媒としたシリ
カゲルカラムクロマトグラムにかけ、得られた物質をエ
タノール溶媒で再結晶させることにより、ｔｃｒｔ−ブ
チル２，４．６−）リーＯ−７セチルー３−デオキシ−
６−〇−エリスロヘキシー２−エノピラノシドを６２ｇ
得た。（収率８７％） ［工程４ ； ｔｅｒｔ−ブチル２．４．６−トリー０
−アセチル−３−デオキシ−〇−り、エリメロヘキシ−
２−二ノピラノシドより、２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−６
−ヒドロキシメチル２Ｈ−ビラン−３（６）（）−オン
の製造： Ｊ、 Ｏｒ；、 Ｃｈｅｍ、、 ５４．２１
０３ （１９８９）］工程３で製造したｔｅｎ−ブチル
２．４．６− ）リーＯ−アセチルー３−デオキシ−ａ
−Ｄ−エリメロヘキシ−２−エノピラノシド６２ｇを１
２０ｍｒ（７）メタノールに溶解し、これをエチレング
リコール：トリエチルアミン：水＝ １：１：３の割合
で混合した溶液３ｎこ加える。室温下４０分攪拌した後
、ＩＩの塩化メチレンを加え有機層を抽出する。
得られた有機層は、飽和食塩水で洗浄した後硫酸ナトリ
ウムで乾燥、減圧下溶媒を留去した。次し）で、ヘキサ
ン：酢酸エチル；６：４を展開溶媒としたシリカゲルカ
ラムクロマトグラムにかけ、２−１ｅｎ−ブトキシ−６
−ヒドロキシメチル２Ｈ−ビラン−３（６Ｈ）−オンを
１４ｇ得た。（収率４０％） ［工程５−Ｌ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−６−ヒドロキ
シメチル２Ｈ−ビラン−３（６Ｈ）−オンより、２−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシ−６−アセトキシメチル２Ｈ−ビラン
−３（６Ｈ）−オンの製造ｊ工程４で製造した２−１ｅ
ｒｔ−ブトキシ−６−ヒドロキシメチル２Ｈ−ビラン−
３（６Ｈ）−オン１４ｇを５００ｍｒＯピリジン及び３
００ｍυ無水酢酸の混合溶液に溶解し、室温下５時間攪
拌した後、１０塩化メチレン及び１０水を加え有機層を
抽出する。得られた有機層は、飽和食塩水で洗浄した後
硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下溶媒を留去し、２．−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシ−６−アセトキシメチル■−ビラン−
３（６Ｈ）−オン１４ｇ得た。（収率８２％）以下に物
性データを示す。
ウムで乾燥、減圧下溶媒を留去した。次し）で、ヘキサ
ン：酢酸エチル；６：４を展開溶媒としたシリカゲルカ
ラムクロマトグラムにかけ、２−１ｅｎ−ブトキシ−６
−ヒドロキシメチル２Ｈ−ビラン−３（６Ｈ）−オンを
１４ｇ得た。（収率４０％） ［工程５−Ｌ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−６−ヒドロキ
シメチル２Ｈ−ビラン−３（６Ｈ）−オンより、２−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシ−６−アセトキシメチル２Ｈ−ビラン
−３（６Ｈ）−オンの製造ｊ工程４で製造した２−１ｅ
ｒｔ−ブトキシ−６−ヒドロキシメチル２Ｈ−ビラン−
３（６Ｈ）−オン１４ｇを５００ｍｒＯピリジン及び３
００ｍυ無水酢酸の混合溶液に溶解し、室温下５時間攪
拌した後、１０塩化メチレン及び１０水を加え有機層を
抽出する。得られた有機層は、飽和食塩水で洗浄した後
硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下溶媒を留去し、２．−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシ−６−アセトキシメチル■−ビラン−
３（６Ｈ）−オン１４ｇ得た。（収率８２％）以下に物
性データを示す。
’ＨＮＭＲ； （ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ） １．３
］ （９Ｈ，ｓ）、 ２．０９ （３Ｈ，ｓ）、 ４．
２２ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝４．５．１１．６Ｈｚ）、
４．３５ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８．１１．６Ｈｚ）
、 ４Ｊ５ （ＩＨ，ｍ）、 ５．１３ （ＩＨ，ｓ）
、 ６．１５ （ＩＨ，ｄｄ。
］ （９Ｈ，ｓ）、 ２．０９ （３Ｈ，ｓ）、 ４．
２２ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝４．５．１１．６Ｈｚ）、
４．３５ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８．１１．６Ｈｚ）
、 ４Ｊ５ （ＩＨ，ｍ）、 ５．１３ （ＩＨ，ｓ）
、 ６．１５ （ＩＨ，ｄｄ。
Ｊ＝２．５．１０．６Ｈｚ）、 ６．９８ （ＩＨ，ｄ
ｄ、 Ｊ＝１．６．１０．６Ｈｚ）［工程５−２ ；
２−ｔｅｒＬ−ブトキシ−６−ヒドロキシメチル２Ｈ−
ビラン−３（６Ｈ）−オンより、２−１ｅｒｔ−ブトキ
シ−６−ｐ−クロロベンゾイロキシメチル２Ｈ−ビラン
−３（６Ｈ）−オンの製造ｊ工程４で製造した２−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ−６−ヒドロキシメチル２Ｈ−ビラン−
３（６Ｈ）−オン１０ｇを２００ｍｒＯ乾燥ジクロロメ
タンに溶解し、ｐ−クロロベンゾイルクロリド１０ｇ１
トリエチルアミン５．８ｇ及び４−Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミノピリジン１．２ｇを加え、室温下５時間攪拌した後
、５００ｍ（の塩化メチレン及び５００ｍυ水を加え有
機層を抽出する。得られた有機層は、飽和食塩水で洗浄
した後硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下溶媒を留去し・２
−１Ｃｒｔ−ブトキシ−６−ｐ−クロロベンゾイロキシ
メチル２Ｈ、ビラン−３（６Ｈ）−オン１４ｇ得た。（
収率８２％）以下に物性データを示す。
ｄ、 Ｊ＝１．６．１０．６Ｈｚ）［工程５−２ ；
２−ｔｅｒＬ−ブトキシ−６−ヒドロキシメチル２Ｈ−
ビラン−３（６Ｈ）−オンより、２−１ｅｒｔ−ブトキ
シ−６−ｐ−クロロベンゾイロキシメチル２Ｈ−ビラン
−３（６Ｈ）−オンの製造ｊ工程４で製造した２−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ−６−ヒドロキシメチル２Ｈ−ビラン−
３（６Ｈ）−オン１０ｇを２００ｍｒＯ乾燥ジクロロメ
タンに溶解し、ｐ−クロロベンゾイルクロリド１０ｇ１
トリエチルアミン５．８ｇ及び４−Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミノピリジン１．２ｇを加え、室温下５時間攪拌した後
、５００ｍ（の塩化メチレン及び５００ｍυ水を加え有
機層を抽出する。得られた有機層は、飽和食塩水で洗浄
した後硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下溶媒を留去し・２
−１Ｃｒｔ−ブトキシ−６−ｐ−クロロベンゾイロキシ
メチル２Ｈ、ビラン−３（６Ｈ）−オン１４ｇ得た。（
収率８２％）以下に物性データを示す。
’ＨＮＭＲ； （ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ） １．３
１ （９Ｈ，ｓ）、 ４．４９ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５
．７．１１．６Ｈｚ）、 ４．５６（ＬＨ，’ｄｄ、Ｊ
＝４．５．１１．６Ｈｚ）、 ５．００ （ＩＨ，ｍ）
、 ５．１７ （ＬＨ，ｓ）、 ６．２０ （ＩＨ，ｄ
ｄ、Ｉ＝２．６．１０．６Ｈｚ）。
１ （９Ｈ，ｓ）、 ４．４９ （ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５
．７．１１．６Ｈｚ）、 ４．５６（ＬＨ，’ｄｄ、Ｊ
＝４．５．１１．６Ｈｚ）、 ５．００ （ＩＨ，ｍ）
、 ５．１７ （ＬＨ，ｓ）、 ６．２０ （ＩＨ，ｄ
ｄ、Ｉ＝２．６．１０．６Ｈｚ）。
７．０５ （ＩＨｌｄｄ、 Ｊ＝１．９． Ｉｏ、６Ｈ
ｚ）、 ７．４１ （ＩＨ，ｄ、 Ｉ＝ ８．６Ｈｚ）
、 ７．９６ （］Ｈ，ｄ、 Ｊ＝ ８．６Ｈｚ）（発
明の効果） 天然界に大量に存在するＤ−グルコースから高収率で本
化合物（Ｓ）−γ−アシロキシメチルーα、β−ブテノ
リドを得ることが可能となった。しがも、本発明の方法
は、全ての工程において通常の有機合成的手法を用いて
いることがら、工業規模で本化合物を製造することが容
易である。
ｚ）、 ７．４１ （ＩＨ，ｄ、 Ｉ＝ ８．６Ｈｚ）
、 ７．９６ （］Ｈ，ｄ、 Ｊ＝ ８．６Ｈｚ）（発
明の効果） 天然界に大量に存在するＤ−グルコースから高収率で本
化合物（Ｓ）−γ−アシロキシメチルーα、β−ブテノ
リドを得ることが可能となった。しがも、本発明の方法
は、全ての工程において通常の有機合成的手法を用いて
いることがら、工業規模で本化合物を製造することが容
易である。
それ故、今後本化合物を用いた有用物質の合成が原料供
給の観点から大きく高揚することになる。
給の観点から大きく高揚することになる。
特許比願人 日本たばこ産業株式会社
Claims (1)
- ２−アルコキシ−６−アシロキシメチル２Ｈ−ピラン−
３（６Ｈ）−オンを、有機溶媒中過酸を用いて酸化する
ことを特徴とする（Ｓ）−γ−アシロキシメチル−α，
β−ブテノリドの製造方法
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2101843A JPH045285A (ja) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | （Ｓ）―γ―アシロキシメチル―α，β―ブテノリドの製造方法 |
| EP91908476A EP0478803B1 (en) | 1990-04-19 | 1991-04-19 | Process for producing (S)-gamma-acyloxy-methyl-alpha-beta-butenolide |
| PCT/JP1991/000522 WO1991016319A1 (fr) | 1990-04-19 | 1991-04-19 | PROCEDE DE PRODUCTION DE (S)-η-ACYLOXY-METHYLE-α, β-BUTENOLIDE |
| DE69120760T DE69120760T2 (de) | 1990-04-19 | 1991-04-19 | Verfahren zur Herstellung von (S)-Gamma-Acyloxy-Methyl-alpha-beta-Butenolid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2101843A JPH045285A (ja) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | （Ｓ）―γ―アシロキシメチル―α，β―ブテノリドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH045285A true JPH045285A (ja) | 1992-01-09 |
Family
ID=14311338
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2101843A Pending JPH045285A (ja) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | （Ｓ）―γ―アシロキシメチル―α，β―ブテノリドの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0478803B1 (ja) |
| JP (1) | JPH045285A (ja) |
| DE (1) | DE69120760T2 (ja) |
| WO (1) | WO1991016319A1 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63222162A (ja) * | 1987-03-10 | 1988-09-16 | Noguchi Kenkyusho | プテノライド誘導体とその製造法 |
| JPH0352880A (ja) * | 1989-07-19 | 1991-03-07 | Japan Tobacco Inc | （Ｓ）―γ―ヒドロキシメチル―α，β―ブテノリドの製造方法 |
-
1990
- 1990-04-19 JP JP2101843A patent/JPH045285A/ja active Pending
-
1991
- 1991-04-19 EP EP91908476A patent/EP0478803B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-19 DE DE69120760T patent/DE69120760T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-19 WO PCT/JP1991/000522 patent/WO1991016319A1/ja not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0478803A4 (en) | 1992-08-05 |
| EP0478803B1 (en) | 1996-07-10 |
| DE69120760T2 (de) | 1996-12-12 |
| EP0478803A1 (en) | 1992-04-08 |
| WO1991016319A1 (fr) | 1991-10-31 |
| DE69120760D1 (de) | 1996-08-14 |
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