JPH0452999Y2 - - Google Patents
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- JPH0452999Y2 JPH0452999Y2 JP1986174049U JP17404986U JPH0452999Y2 JP H0452999 Y2 JPH0452999 Y2 JP H0452999Y2 JP 1986174049 U JP1986174049 U JP 1986174049U JP 17404986 U JP17404986 U JP 17404986U JP H0452999 Y2 JPH0452999 Y2 JP H0452999Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fiber layer
- electrode
- soft resin
- semiconductor device
- resin body
- Prior art date
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は、半導体装置、特に電気的特性に悪影
響を与える有害物質の内部への侵入を十分に阻止
できる半導体装置に関連する。
響を与える有害物質の内部への侵入を十分に阻止
できる半導体装置に関連する。
従来の技術
例えば、自動車に使用される交流発電機(オル
タネータ)の出力を整流する素子として、軟質樹
脂、即ちラバー状樹脂で半導体チツプを封止した
樹脂封止ダイオードが公知である。この樹脂封止
ダイオードを第7図について説明する。
タネータ)の出力を整流する素子として、軟質樹
脂、即ちラバー状樹脂で半導体チツプを封止した
樹脂封止ダイオードが公知である。この樹脂封止
ダイオードを第7図について説明する。
ダイオード1は、平坦なベース部2a及びベー
ス部2aから屈曲して伸び出す側部2bを有して
凹部2cの形成された椀形の支持電極2と、フラ
ンジ状のヘツダー3a及びヘツダー3aより小さ
い横断面を有するリード部3bからなるリード電
極3と、ベース部2aとヘツダー3aとの間に接
続された半導体チツプ4と、凹部2c内に充填さ
れ且つ半導体チツプ4を封止する軟質樹脂体5と
を備えている。半導体チツプ4の上面4a及び下
面4bは、それぞれ半田6によりヘツダー3aの
下面3a1及びベース部2aの上面2a1に接着され
ている。
ス部2aから屈曲して伸び出す側部2bを有して
凹部2cの形成された椀形の支持電極2と、フラ
ンジ状のヘツダー3a及びヘツダー3aより小さ
い横断面を有するリード部3bからなるリード電
極3と、ベース部2aとヘツダー3aとの間に接
続された半導体チツプ4と、凹部2c内に充填さ
れ且つ半導体チツプ4を封止する軟質樹脂体5と
を備えている。半導体チツプ4の上面4a及び下
面4bは、それぞれ半田6によりヘツダー3aの
下面3a1及びベース部2aの上面2a1に接着され
ている。
椀形の支持電極2のベース部2aは、約1mmの
厚さを有する。また、ベース部2aから屈曲して
伸び出す側部2bは、直径約9.5mm、高さ約2.3mm
及び厚さ約0.5mmの環状である。リード電極3の
ヘツダー3aは、約5mmの直径と約0.5mmの厚さ
を有する。ヘツダー3aから上方に伸びるリード
部3bは、約1.5mmの直径で約18mmの長さを有す
る。リード部3bにはU字形のベンド部3b1が形
成される。しかし、U字形のベンド部3b1を設け
ずに、リード部3bを直線状に形成してもよい。
厚さを有する。また、ベース部2aから屈曲して
伸び出す側部2bは、直径約9.5mm、高さ約2.3mm
及び厚さ約0.5mmの環状である。リード電極3の
ヘツダー3aは、約5mmの直径と約0.5mmの厚さ
を有する。ヘツダー3aから上方に伸びるリード
部3bは、約1.5mmの直径で約18mmの長さを有す
る。リード部3bにはU字形のベンド部3b1が形
成される。しかし、U字形のベンド部3b1を設け
ずに、リード部3bを直線状に形成してもよい。
半導体チツプ4の両主面4a,4bにはニツケ
ル電極(図示せず)が形成されている。半田6
は、鉛(Pb)95重量%、錫(Sn)5重量%のPb
−Sn系合金である。椀形の支持電極2及びリー
ド電極3は、ニツケルが被覆された銅材である。
軟質樹脂体5は、シリコンラバーである。軟質樹
脂体5は、椀形の支持電極2の凹部2cから少し
盛り上がるように形成され、半導体チツプ4の側
面4c、ヘツダー3aに続くリード部3bの下部
及び椀形の支持電極2の凹部2c側を被覆する。
また、軟質樹脂体5は、椀形の支持電極2に半導
体チツプ4とリード電極3を固着した後に椀形の
支持電極2の凹部2cに樹脂形成用粘液を注ぎ、
熱処理を施して形成される。
ル電極(図示せず)が形成されている。半田6
は、鉛(Pb)95重量%、錫(Sn)5重量%のPb
−Sn系合金である。椀形の支持電極2及びリー
ド電極3は、ニツケルが被覆された銅材である。
軟質樹脂体5は、シリコンラバーである。軟質樹
脂体5は、椀形の支持電極2の凹部2cから少し
盛り上がるように形成され、半導体チツプ4の側
面4c、ヘツダー3aに続くリード部3bの下部
及び椀形の支持電極2の凹部2c側を被覆する。
また、軟質樹脂体5は、椀形の支持電極2に半導
体チツプ4とリード電極3を固着した後に椀形の
支持電極2の凹部2cに樹脂形成用粘液を注ぎ、
熱処理を施して形成される。
考案が解決しようとする問題点
ところで、軟質樹脂体5の支持電極2及びリー
ド電極3との結合は、酸やアルカリの存在によつ
て分断されやすい。しかも、軟質樹脂体5を固化
する熱処理工程では、軟質樹脂体5に収縮が伴
い、矢印A及びBで示す接着部にストレスが集中
する。このため、接着部A及びBにおいて軟質樹
脂体5がリード電極3のリード部3b又は椀形の
支持電極2の上部2b2の表面から剥離しやすい状
態になる。従つて、厳しい環境の下でダイオード
1を長期間使用すると、接着部A及びBを起点と
してリード電極3のリード部3b又は椀形の支持
電極2の側部2bの表面に沿つて軟質樹脂体5の
剥離が進行し、最終的にはヘツダー3aの上面3
a2及び側面3a3又は椀形の支持電極2の側部2b
の内面2b1及びベース部2aの上面2a1を経て、
半導体チツプ4の側面4cにまで軟質樹脂体5の
剥離が達することがある。このように剥離が進行
した状態では、ダイオオード1は、軟質樹脂体5
の剥離部から半導体チツプ4の側面4cに侵入す
る水分やイオン性不純物等の有害物質により、逆
方向電流が増加してシヨート状になるなどの特性
不良となる。
ド電極3との結合は、酸やアルカリの存在によつ
て分断されやすい。しかも、軟質樹脂体5を固化
する熱処理工程では、軟質樹脂体5に収縮が伴
い、矢印A及びBで示す接着部にストレスが集中
する。このため、接着部A及びBにおいて軟質樹
脂体5がリード電極3のリード部3b又は椀形の
支持電極2の上部2b2の表面から剥離しやすい状
態になる。従つて、厳しい環境の下でダイオード
1を長期間使用すると、接着部A及びBを起点と
してリード電極3のリード部3b又は椀形の支持
電極2の側部2bの表面に沿つて軟質樹脂体5の
剥離が進行し、最終的にはヘツダー3aの上面3
a2及び側面3a3又は椀形の支持電極2の側部2b
の内面2b1及びベース部2aの上面2a1を経て、
半導体チツプ4の側面4cにまで軟質樹脂体5の
剥離が達することがある。このように剥離が進行
した状態では、ダイオオード1は、軟質樹脂体5
の剥離部から半導体チツプ4の側面4cに侵入す
る水分やイオン性不純物等の有害物質により、逆
方向電流が増加してシヨート状になるなどの特性
不良となる。
一方、エポキシ樹脂のような硬質樹脂(非ラバ
ー状又は非ゲル状の樹脂)で封止すると、硬質樹
脂の金属への接着及び結合が比較的強固であるこ
とから、上記問題を解決できる可能性がある。し
かし、軟質樹脂体5をエポキシ樹脂に置換えたダ
イオード1は、半田付により放熱体に取付けて使
用されるので、この半田付時及びその他の熱履歴
により、エポキシ樹脂の封止効果が損なわれてし
まう。即ち、エポキシ樹脂と支持電極2の熱膨張
係数差に基づく熱応力により、エポキシ樹脂と支
持電極2の界面に剥離が生じ、有害物質の侵入に
よる特性劣化を生じる。
ー状又は非ゲル状の樹脂)で封止すると、硬質樹
脂の金属への接着及び結合が比較的強固であるこ
とから、上記問題を解決できる可能性がある。し
かし、軟質樹脂体5をエポキシ樹脂に置換えたダ
イオード1は、半田付により放熱体に取付けて使
用されるので、この半田付時及びその他の熱履歴
により、エポキシ樹脂の封止効果が損なわれてし
まう。即ち、エポキシ樹脂と支持電極2の熱膨張
係数差に基づく熱応力により、エポキシ樹脂と支
持電極2の界面に剥離が生じ、有害物質の侵入に
よる特性劣化を生じる。
そこで本考案は、上記欠点を解消して、電気的
特性に悪影響を与える有害物質の内部への侵入を
阻止する能力の大きい半導体装置を提供すること
を目的とする。
特性に悪影響を与える有害物質の内部への侵入を
阻止する能力の大きい半導体装置を提供すること
を目的とする。
問題点を解決するための手段
本考案による半導体装置は、凹部を有する支持
電極と、リード電極と、支持電極の凹部の底部と
リード電極との間に接続された半導体チツプと、
凹部内に充填され且つ該半導体チツプを被覆する
軟質樹脂体とを備えている。軟質樹脂体の上部
に、織布又は不織布から成り且つ硬質樹脂が含浸
され且つ固化された略一定厚さの繊維層が固着さ
れる。リード電極を挿入する中心孔が繊維層の略
中央部に形成される。繊維層の中心孔の隣接部は
繊維層に固着された硬質樹脂によりリード電極に
接着される。繊維層の外周部は繊維層に固着され
た硬質樹脂により支持電極の側部に接着される。
電極と、リード電極と、支持電極の凹部の底部と
リード電極との間に接続された半導体チツプと、
凹部内に充填され且つ該半導体チツプを被覆する
軟質樹脂体とを備えている。軟質樹脂体の上部
に、織布又は不織布から成り且つ硬質樹脂が含浸
され且つ固化された略一定厚さの繊維層が固着さ
れる。リード電極を挿入する中心孔が繊維層の略
中央部に形成される。繊維層の中心孔の隣接部は
繊維層に固着された硬質樹脂によりリード電極に
接着される。繊維層の外周部は繊維層に固着され
た硬質樹脂により支持電極の側部に接着される。
作 用
繊維層は、繊維素が絡み合つた繊維材料を芯材
として薄く形成されているため、硬質樹脂と金属
との膨張係数差が緩和され、繊維層に大きな熱変
形が発生しない。このため、繊維層は半田付時等
の熱履歴によつて支持電極又はリード電極から剥
離しない。また、繊維層により軟質樹脂体が補強
され、大きな機械的強度が得られる。このため、
厳しい環境の下で半導体装置を使用したとき、支
持電極又はリード電極の表面に沿う樹脂体の剥離
が繊維層の部分で進行し難くなり、有害物質の半
導体チツプ表面への到達を阻止する作用が強化さ
れる。
として薄く形成されているため、硬質樹脂と金属
との膨張係数差が緩和され、繊維層に大きな熱変
形が発生しない。このため、繊維層は半田付時等
の熱履歴によつて支持電極又はリード電極から剥
離しない。また、繊維層により軟質樹脂体が補強
され、大きな機械的強度が得られる。このため、
厳しい環境の下で半導体装置を使用したとき、支
持電極又はリード電極の表面に沿う樹脂体の剥離
が繊維層の部分で進行し難くなり、有害物質の半
導体チツプ表面への到達を阻止する作用が強化さ
れる。
実施例
以下、本考案の実施例を第1図〜第6図につい
て説明する。これらの図面では、第7図に示す部
分と同一の個所には同一符号を付し、説明を省略
する。
て説明する。これらの図面では、第7図に示す部
分と同一の個所には同一符号を付し、説明を省略
する。
第1図に示すように、本考案の半導体装置で
は、支持電極2の凹部2c内で繊維層8が軟質樹
脂体7の上部に固着される。軟質樹脂体7はシリ
コンラバーで形成され、繊維層8は織布又は不織
布を構成するガラス繊維等の繊維材料に硬質樹脂
が含浸され且つ固化された硬質膜である。繊維層
8は中心孔8aを有しかつ円形に形成される。中
心孔8aにはリード電極3のリード部3bが挿通
される。繊維層8は、中心孔8aの隣接部におい
てリード電極3のリード部3bに接着されると共
に、繊維層8の外周部8bにおいて支持電極2の
側部2bの内面2b1に接着される。
は、支持電極2の凹部2c内で繊維層8が軟質樹
脂体7の上部に固着される。軟質樹脂体7はシリ
コンラバーで形成され、繊維層8は織布又は不織
布を構成するガラス繊維等の繊維材料に硬質樹脂
が含浸され且つ固化された硬質膜である。繊維層
8は中心孔8aを有しかつ円形に形成される。中
心孔8aにはリード電極3のリード部3bが挿通
される。繊維層8は、中心孔8aの隣接部におい
てリード電極3のリード部3bに接着されると共
に、繊維層8の外周部8bにおいて支持電極2の
側部2bの内面2b1に接着される。
次に、第1図に示すダイオードの製造法を説明
する。
する。
まず、椀形の支持電極2、半導体チツプ4及び
リード電極3を半田6により図示のように接着し
て、未封止のダイオードを作る。次に、半導体チ
ツプ4の側面4cのエツチング、洗浄及び乾燥を
行つた後、シリコンラバーの樹脂形成用粘液を椀
形の支持電極2の凹部2cに注入して、この粘液
を加熱により熱硬化させる。シリコンラバーは半
導体チツプ4の側面4cを被覆する保護樹脂兼封
止樹脂として軟質樹脂体7となる。次に、第6図
aに示す繊維材料9を用意する。繊維材料9は、
繊維素の絡み合つたガラス繊維の不織布にエポキ
シ樹脂形成用粘液を含浸させ、未硬化の状態のま
まで固化させたものである。不織布の代りにガラ
ス繊維の織布を使つても良い。繊維材料9は、中
心孔9aと切断部9bを有する。その後、繊維材
料9の中心孔9aをリード電極3のリード部3b
に嵌合し、熱処理を施す。この熱処理により繊維
材料9に含浸されたエポキシ樹脂は一旦軟質樹脂
体7内に溶解した上で熱硬化し繊維層8が形成さ
れる。繊維素の絡み合つた繊維材料を芯材とする
繊維材料9を用いると、ピンホールのない繊維層
8が得られる。また、樹脂形成用粘液の塗布によ
る方法と比べると、繊維層8の厚みの制御性が良
い。最後に、シリコンラバーの樹脂形成用粘液を
繊維層8の上に注入して、軟質樹脂体10を形成
する。
リード電極3を半田6により図示のように接着し
て、未封止のダイオードを作る。次に、半導体チ
ツプ4の側面4cのエツチング、洗浄及び乾燥を
行つた後、シリコンラバーの樹脂形成用粘液を椀
形の支持電極2の凹部2cに注入して、この粘液
を加熱により熱硬化させる。シリコンラバーは半
導体チツプ4の側面4cを被覆する保護樹脂兼封
止樹脂として軟質樹脂体7となる。次に、第6図
aに示す繊維材料9を用意する。繊維材料9は、
繊維素の絡み合つたガラス繊維の不織布にエポキ
シ樹脂形成用粘液を含浸させ、未硬化の状態のま
まで固化させたものである。不織布の代りにガラ
ス繊維の織布を使つても良い。繊維材料9は、中
心孔9aと切断部9bを有する。その後、繊維材
料9の中心孔9aをリード電極3のリード部3b
に嵌合し、熱処理を施す。この熱処理により繊維
材料9に含浸されたエポキシ樹脂は一旦軟質樹脂
体7内に溶解した上で熱硬化し繊維層8が形成さ
れる。繊維素の絡み合つた繊維材料を芯材とする
繊維材料9を用いると、ピンホールのない繊維層
8が得られる。また、樹脂形成用粘液の塗布によ
る方法と比べると、繊維層8の厚みの制御性が良
い。最後に、シリコンラバーの樹脂形成用粘液を
繊維層8の上に注入して、軟質樹脂体10を形成
する。
本考案による半導体装置の耐環境性能を調査す
るため、本考案によるダイオード及び従来のダイ
オードを試料として、耐環境性能を調べるための
厳しい加速寿命試験である電解試験を行つた。即
ち、各ダイオードに7.5の逆方向電圧を印加し
た状態で、室温中に放置された10%の塩水に10秒
間浸漬した。10秒経過後に塩水から取出し、逆方
向電圧の印加状態のまま、各ダイオードを30分間
室温の大気中に放置した。これらの過程を1サイ
クルとして10サイクル単位で50サイクルまでこの
作業を行つた。各10サイクル終了毎に各ダイオー
ドを洗浄及び乾燥して逆方向電流を測定した。こ
の測定では、逆方向電流が規格値内であれば良品
とし、規格値外であれば不良品として各ダイオー
ドを選別した。その結果、本考案によるダイオー
ドは良好な結果を示した。
るため、本考案によるダイオード及び従来のダイ
オードを試料として、耐環境性能を調べるための
厳しい加速寿命試験である電解試験を行つた。即
ち、各ダイオードに7.5の逆方向電圧を印加し
た状態で、室温中に放置された10%の塩水に10秒
間浸漬した。10秒経過後に塩水から取出し、逆方
向電圧の印加状態のまま、各ダイオードを30分間
室温の大気中に放置した。これらの過程を1サイ
クルとして10サイクル単位で50サイクルまでこの
作業を行つた。各10サイクル終了毎に各ダイオー
ドを洗浄及び乾燥して逆方向電流を測定した。こ
の測定では、逆方向電流が規格値内であれば良品
とし、規格値外であれば不良品として各ダイオー
ドを選別した。その結果、本考案によるダイオー
ドは良好な結果を示した。
この電解試験では、椀形の支持電極2とリード
電極3のうち、(+)極となる方には塩水の電気
分解により塩酸(HCl)が発生し、(−)極とな
る方には同じくカセイソーダ(NaOH)が発生
する。これらの酸又はアルカリを含む電解液は、
電極と封止樹脂体の結合を分断し、電極からの封
止樹脂体の剥離を引き起こす。剥離を生じた部分
には電解液が浸透し、更に剥離を引き起こし、こ
の繰返しにより封止樹脂体の剥離が進行する。従
つて、この電解試験は、封止樹脂体(軟質樹脂体
5,7,10及び繊維層8)と支持電極2及びリ
ード電極3との結合の強さが不良率の高低に顕著
に現れてくる試験である。なお、この試験を通し
て、シリコンラバー(軟質樹脂体7,10)とエ
ポキシ樹脂(繊維層8)の間が剥離する問題は生
じなかつた。これは繊維層8により硬質樹脂と金
属との間の膨張係数差が緩和すると共に、軟質樹
脂体7,10が補強され且つ軟質樹脂体7,10
の機械的強度が増加するためである。
電極3のうち、(+)極となる方には塩水の電気
分解により塩酸(HCl)が発生し、(−)極とな
る方には同じくカセイソーダ(NaOH)が発生
する。これらの酸又はアルカリを含む電解液は、
電極と封止樹脂体の結合を分断し、電極からの封
止樹脂体の剥離を引き起こす。剥離を生じた部分
には電解液が浸透し、更に剥離を引き起こし、こ
の繰返しにより封止樹脂体の剥離が進行する。従
つて、この電解試験は、封止樹脂体(軟質樹脂体
5,7,10及び繊維層8)と支持電極2及びリ
ード電極3との結合の強さが不良率の高低に顕著
に現れてくる試験である。なお、この試験を通し
て、シリコンラバー(軟質樹脂体7,10)とエ
ポキシ樹脂(繊維層8)の間が剥離する問題は生
じなかつた。これは繊維層8により硬質樹脂と金
属との間の膨張係数差が緩和すると共に、軟質樹
脂体7,10が補強され且つ軟質樹脂体7,10
の機械的強度が増加するためである。
本考案では、第2図〜第5図に例示するように
繊維層8の種々の変更が可能である。第2図は、
ヘツダー3aの上面3a2に繊維層8を接着した例
を示す。第3図は、繊維層8の上に軟質樹脂体を
形成しない例を示す。この例では、繊維層8と支
持電極2との大きな接着面積を確保するため、側
部2bの上面2b2の部分がフランジ状に形成され
る。第4図及び第5図は、第1図と第3図の例の
変形で、繊維層8に切欠き部8cを設けた例を示
す。第6図bは、切欠き部8cを有する繊維層8
を形成するため切欠き部9cを有する繊維材料9
を示す。切欠き部8cを設けると、熱履歴による
繊維層8の支持電極2又はリード電極3からの剥
離がより完全に防止できる。また、第2図の例で
切欠き部8cを形成してもよい。
繊維層8の種々の変更が可能である。第2図は、
ヘツダー3aの上面3a2に繊維層8を接着した例
を示す。第3図は、繊維層8の上に軟質樹脂体を
形成しない例を示す。この例では、繊維層8と支
持電極2との大きな接着面積を確保するため、側
部2bの上面2b2の部分がフランジ状に形成され
る。第4図及び第5図は、第1図と第3図の例の
変形で、繊維層8に切欠き部8cを設けた例を示
す。第6図bは、切欠き部8cを有する繊維層8
を形成するため切欠き部9cを有する繊維材料9
を示す。切欠き部8cを設けると、熱履歴による
繊維層8の支持電極2又はリード電極3からの剥
離がより完全に防止できる。また、第2図の例で
切欠き部8cを形成してもよい。
上記実施例では、繊維層8の芯材となる繊維材
料として使用するガラス繊維の代わりに、非導電
性の他の無機繊維材料又は有機繊維材料を使用す
ることができる。更に、繊維材料に含浸する合成
樹脂は、エポキシ樹脂の代わりに、ポリイミド系
樹脂等の他の硬質樹脂を用いてもよい。
料として使用するガラス繊維の代わりに、非導電
性の他の無機繊維材料又は有機繊維材料を使用す
ることができる。更に、繊維材料に含浸する合成
樹脂は、エポキシ樹脂の代わりに、ポリイミド系
樹脂等の他の硬質樹脂を用いてもよい。
考案の効果
上記の通り、本考案による半導体装置では、封
止樹脂体と電極との剥離が進行し難く、有害物質
の侵入を阻止する能力が強化されている。従つ
て、本考案によれば、耐環境性能の向上した信頼
性の高い半導体装置を得ることができる。
止樹脂体と電極との剥離が進行し難く、有害物質
の侵入を阻止する能力が強化されている。従つ
て、本考案によれば、耐環境性能の向上した信頼
性の高い半導体装置を得ることができる。
第1図は本考案による半導体装置の断面図、第
2図、第3図、第4図及び第5図は本考案の変形
例を示す半導体装置の断面図、第6図は繊維層を
形成するための繊維材料を示す平面図、第7図は
従来の半導体装置の断面図を示す。 2……支持電極、2a……ベース部、2b……
側部、2c……凹部、3……リード電極、3a…
…ヘツダー、3b……リード部、4……半導体チ
ツプ、6……半田、7,10……軟質樹脂体、8
……繊維層、8a……中心孔、8b……外周部、
9……繊維材料。
2図、第3図、第4図及び第5図は本考案の変形
例を示す半導体装置の断面図、第6図は繊維層を
形成するための繊維材料を示す平面図、第7図は
従来の半導体装置の断面図を示す。 2……支持電極、2a……ベース部、2b……
側部、2c……凹部、3……リード電極、3a…
…ヘツダー、3b……リード部、4……半導体チ
ツプ、6……半田、7,10……軟質樹脂体、8
……繊維層、8a……中心孔、8b……外周部、
9……繊維材料。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 凹部を有する支持電極と、リード電極と、前
記支持電極の凹部の底部と前記リード電極との
間に接続された半導体チツプと、前記凹部内に
充填され且つ該半導体チツプを被覆する軟質樹
脂体とを備えた半導体装置において、 織布又は不織布から成り且つ硬質樹脂が含浸
され且つ固化された略一定厚さの繊維層が前記
軟質樹脂体の上部に固着され、 前記繊維層の略中央部に前記リード電極を挿
入する中心孔が形成され、 前記繊維層の前記中心孔の隣接部は前記繊維
層に固着された前記硬質樹脂により前記リード
電極に接着され、 前記繊維層の外周部は前記繊維層に固着され
た前記硬質樹脂により前記支持電極の側部に接
着されたことを特徴とする半導体装置。 (2) 前記繊維層を形成する繊維材料は前記中心孔
から径方向に外周部まで延びる切断部を備えた
実用新案登録請求の範囲第(1)項記載の半導体装
置。 (3) 前記繊維層の上部に更に軟質樹脂体が固着さ
れた実用新案登録請求の範囲第(1)項記載の半導
体装置。 (4) 前記織布又は不織布を構成する繊維材料はガ
ラス繊維材料である実用新案登録請求の範囲第
(1)項記載の半導体装置。 (5) 前記軟質樹脂体はシリコンラバーであり、前
記繊維層はエポキシ樹脂を含浸させた板状のガ
ラス繊維材料を熱処理して形成された実用新案
登録請求の範囲第(1)項記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986174049U JPH0452999Y2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986174049U JPH0452999Y2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6380851U JPS6380851U (ja) | 1988-05-27 |
| JPH0452999Y2 true JPH0452999Y2 (ja) | 1992-12-14 |
Family
ID=31112083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986174049U Expired JPH0452999Y2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0452999Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0610691Y2 (ja) * | 1987-08-17 | 1994-03-16 | 日本電気株式会社 | プラスチック封止電子部品 |
-
1986
- 1986-11-14 JP JP1986174049U patent/JPH0452999Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6380851U (ja) | 1988-05-27 |
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