JPH0453023Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案はプリント基板に現像液やエツチング液
等を噴き付けて現像やエツチング等の液体処理を
行う装置の液はけ性の改良に関するものである。

［従来の技術］ 従来、このような装置として、例えば第５図に
示すものがあつた。この装置はプリント基板の現
像、エツチング及び水洗いを行う装置である。

図で、１はプリント基板２をＡ方向に搬送する
チエーン式の基板搬送手段であり、回転駆動する
ギア３と、ギア３が掛けられたチエーン４と、プ
リント基板２の搬送路に沿つて配置されていてチ
エーン４を介して伝達されるギア３の動力で回転
してプリント基板２を搬送する摩擦ローラ５から
なる。

６は現像部、７はエツチング部、８は水洗部で
あり、それぞれには送られてくるプリント基板２
の上側と下側に配置されたスプレー噴射器６１，
７１，８１と６２，７２，８２が設けられてい
る。

現像部６、エツチング部７及び水洗部８では、
上側と下側に配置されたスプレー噴射器でプリン
ト基板２の上面と下面に現像液、エツチング液及
び水を噴き付けて、現像、エツチング及び水洗い
を行う。

［考案が解決しようとする問題点］ このような装置では、送られてくるプリント基
板の姿勢が変わらないため、第６図に示すよう
に、プリント基板上面の中央部に現像液やエツチ
ング液がわずかながら滞留する。この滞留部分２
１は、基板の下面や上面の液はけのよいところに
比べて現像不良やエツチング不良になり、パター
ン形成の品質にばらつきが生じるという問題点が
あつた。

本考案はこのような問題点を解決するためにな
されたものであり、プリント基板に噴射した液体
の液はけ性が良好なプリント基板の液体処理装置
を実現することを目的とする。

［問題点を解決するための手段］ 本考案は、 一定方向に送られるプリント基板の上側と下側
にスプレー噴射器を配置し、これらのスプレー噴
射器でプリント基板に液体を噴射し、プリント基
板を液体処理する装置において、 前記プリント基板を回転自由に支持する基板支
持手段と、 前記上側と下側のスプレー噴射器を互いに逆方
向に移動させ、プリント基板の回転の支点よりも
一端側にある上面と他端側にある下面に液体を噴
射してプリント基板をローリングさせ、基板上に
滞留した液体を流し落とす噴射器移動手段、 を具備したことを特徴とするプリント基板の液体
処理装置である。

［実施例］ 以下、図面により本考案を説明する。

第１図は本考案にかかるプリント基板の液体処
理装置の一実施例の要部構成図である。この図で
はエツチング部の構成を示している。第１図で、
第５図と同一のものは同一符号を付ける。

第１図で、９は基板支持手段としての固定治具
であり、第２図に示すように、プリント基板２を
収納するフレーム９１、フレーム９１の両辺に設
けられた軸９２，９３からなる。固定治具９は、
基板搬送手段の搬送部に軸９２，９３を支点とし
て回転自由に支持されている。支持状態を第３図
に示す。

第３図で、４１，４２はプリント基板の送り方
向（Ａ方向）に移動する搬送部である。軸９２，
９３は搬送部４１，４２に設けられた軸支持部４
３，４４内に支持され、これによつて固定治具９
は搬送部４１，４２に回転自由に支持されてい
る。搬送部４１，４２は第１図の紙面と直交する
方向に移動する。搬送部４１，４２の移動は、例
えば、回転駆動するローラの動力をベルトで搬送
部に与えたり、回転駆動するギアの動力をチエー
ンで搬送部に与えること等によつて行う。

再び第１図にもどり、７３，７４はスプレー噴
射器７１，７２が複数個取付けられたスプレーユ
ニツト、７５，７６はスプレーユニツト７３，７
４をＢ−B′方向に揺動させる噴射器移動手段で
ある。これらの移動手段は、例えばスプレーユニ
ツト７３がＢ方向に移動させられたときは、スプ
レーユニツト７４はB′方向に移動させるという
ように、スプレー噴射器７１と７２を互いに逆方
向に移動させる。

次に、このような装置の動作を説明する。

第２図は第１図の装置の動作手順を示したフロ
ーチヤートである。

第２図で、先ずプリント基板２を固定治具９に
セツトする。

次に、セツトした基板を搬送部４１，４２で送
つて上側のスプレー噴射器７１と下側の噴射器７
２の間に配置する。

ここで、上下スプレー噴射器７１と７２の噴射
を開始する。

その後、スプレーユニツト７３と７４を、互い
に逆方向に水平揺動させ始める。この水平揺動
は、スプレーユニツト７３と７４の一方をＢ方向
に他方をB′方向に移動させた後、今度は一方を
B′方向に他方をＢ方向に移動させる これによつて、軸９２，９３（支点）よりも一
端側にあるプリント基板２の上面と他端側にある
プリント基板２の下面にエツチング液が噴射さ
れ、その後一端側にあるプリント基板２の下面と
他端側にあるプリント基板２の上面にエツチング
液が噴射される。そして、このような噴射が交互
に繰り返される。

液の噴射力により、プリント基板２は固定治具
９ごとに第１図の実線と破線に示すようにＣ−
C′方向にローリングする。このように基板がロー
リングするように噴射器により加える噴射力を偏
心圧力とする。

このローリングにより、プリント基板２に噴き
付けられたエツチング液は基板から流れ落ち、基
板上における液の滞留は防止される。

なお、第４図で、スプレー噴射器の噴射開始
と、スプレーユニツトの水平揺動の開始は同時に
行つても第４図に示す順序と逆に行つてもよい。

また、第１図に示す構成は、実施例で挙げたエ
ツチング部に限らず、現像部、水洗部、エツチン
グ後に残つたレジストを除去するレジスト剥離部
に適用してもよい。更に、スプレー噴射器により
プリント基板に各種の薬液処理例えば脱脂、酸洗
い、中和処理等を行う装置に適用してもよい。

また、搬送部４１，４２の移動方向は第１図の
紙面に直交する方向に限らず、スプレー噴射器の
揺動方向と同一方向であつてもよい。

［効果］ 本考案によれば、スプレー噴射器の偏心圧力に
よりプリント基板がローリングするため、基板に
噴き付けられた液体は基板上に滞留せず液はけ性
が著しく向上する。これによつて、現像やエツチ
ング等の不良が大幅に解消され、品質を向上でき
る。

また、本考案にかかる装置では、基板上に滞留
した液体を除去する工程を別個に設ける必要がな
いことから、化学処理や水洗いの工程に用いるこ
とによつて処理時間が大幅に短縮される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案にかかるプリント基板の液体処
理装置の一実施例の要部構成図、第２図は第１図
の装置の基板支持手段の構成図、第３図は第３図
の基板支持手段の支持状態を示した図、第４図は
第１図の装置の動作説明図、第５図は従来におけ
るプリント基板の液体処理装置の一例の構成図、
第６図は第５図の装置で処理したプリント基板の
状態を示した図である。 ２……プリント基板、４１，４２……搬送部、
６……現像部、７……エツチング部、８……水洗
部、６１，６２，７１，７２，８１，８２……ス
プレー噴射器、９……基板支持手段、９２，９３
……軸。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 一定方向に送られるプリント基板の上側と下側
   にスプレー噴射器を配置し、これらのスプレー噴
   射器でプリント基板に液体を噴射し、プリント基
   板を液体処理する装置において、 前記プリント基板を回転自由に支持する基板支
   持手段と、 前記上側と下側のスプレー噴射器を互いに逆方
   向に移動させ、プリント基板の回転の支点よりも
   一端側にある上面と他端側にある下面に液体を噴
   射してプリント基板をローリングさせ、基板上に
   滞留した液体を流し落とす噴射器移動手段、 を具備したことを特徴とするプリント基板の液体
   処理装置。