JPH0453627A - 高精度電解仕上げ加工方法 - Google Patents
高精度電解仕上げ加工方法Info
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- JPH0453627A JPH0453627A JP15956790A JP15956790A JPH0453627A JP H0453627 A JPH0453627 A JP H0453627A JP 15956790 A JP15956790 A JP 15956790A JP 15956790 A JP15956790 A JP 15956790A JP H0453627 A JPH0453627 A JP H0453627A
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Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、電解仕上げ加工方法に係り、特に三次元形
状の被加工面を短時間かつ高精度に仕上げる電解仕上げ
加工方法に関する。
状の被加工面を短時間かつ高精度に仕上げる電解仕上げ
加工方法に関する。
[従来の技術]
従来の電解加工方法としては、例えば特開昭64−78
722号公報により、電極とワークとの間隙に硝酸ナト
リウムや塩化ナトリウム等の溶液である電解液を満たし
、この電極とワークとの間にパルス電流を流すことによ
り、ワーク表面を鏡面状に仕上げるものが開示されてい
る。
722号公報により、電極とワークとの間隙に硝酸ナト
リウムや塩化ナトリウム等の溶液である電解液を満たし
、この電極とワークとの間にパルス電流を流すことによ
り、ワーク表面を鏡面状に仕上げるものが開示されてい
る。
[発明が解決しようとする課題]
この電解加工方法にあっては、三次元形状の底付き加工
(凹窩状に形成された三次元構造の加工面を有するもの
に対する加工をいう)において、複雑な輪郭形状を有す
るワークと電極との間隙に電解液を満たし、仕上げ加工
の前期にはピーク電流密度を30〜50 A/ c m
2て、オン時間を2〜10msecとし、後期にはピー
ク電流密度を30〜50 / A c m 2て、オン
時間を20〜60m s e cとして加工を行ってい
る。その結果、前期の加工て面粗度を向上させ、又後期
の加工て面粗度を損なうことなく被加工面の鏡面状の光
沢面を得る。
(凹窩状に形成された三次元構造の加工面を有するもの
に対する加工をいう)において、複雑な輪郭形状を有す
るワークと電極との間隙に電解液を満たし、仕上げ加工
の前期にはピーク電流密度を30〜50 A/ c m
2て、オン時間を2〜10msecとし、後期にはピー
ク電流密度を30〜50 / A c m 2て、オン
時間を20〜60m s e cとして加工を行ってい
る。その結果、前期の加工て面粗度を向上させ、又後期
の加工て面粗度を損なうことなく被加工面の鏡面状の光
沢面を得る。
しかしながら、この方法によると、滑らかな表面形状で
は問題とならなかったが、第6図に示すような直角もし
くは鋭角の部分形状を有する物を加工する場合に、前工
程での放電加工で如何に鋭利な隅Rを形成したとしても
後工程での電解仕上げ加工では、隅Rが最小でも0.2
mmR程度にしか仕上がらないという不都合が生じた。
は問題とならなかったが、第6図に示すような直角もし
くは鋭角の部分形状を有する物を加工する場合に、前工
程での放電加工で如何に鋭利な隅Rを形成したとしても
後工程での電解仕上げ加工では、隅Rが最小でも0.2
mmR程度にしか仕上がらないという不都合が生じた。
これに対して特開昭54−1495号公報によれば、電
極とワークとの対向する面全体における等クリアランス
化加工を行うために、電極とワークとを相対的に移動さ
せて通電を行うことが開示されている。しかし、この方
法を取り入れての実験においても結果は変わらなかった
。
極とワークとの対向する面全体における等クリアランス
化加工を行うために、電極とワークとを相対的に移動さ
せて通電を行うことが開示されている。しかし、この方
法を取り入れての実験においても結果は変わらなかった
。
その理由としては、電解加工においては、電極とワーク
との加工時の間隙が50〜300μm程度を必要とする
ことと、対向する加工面に対し一様に加工をしてしまう
性質があることとが考えられる。即ち、電解加工におい
て電極とワークとを対向させてパルス電流を供給した場
合、高電流密度条件(例えば、10〜25■)のときは
、間隙を110μmとして所定の加工エネルギを供給し
たとき40μmの加工量が得られるに対し、間隙を10
μmとして同じ条件の加工エネルギを供給したときは、
約20μmの加工量しか得られないで、かつその加工表
面も荒れて形状を損なっている。その原因は加工中の間
隙には電解生成物や水素ガスが生じて適正な電解作用を
阻害するためである。したがって、第6図の場合でも単
位面積当りの加工エネルギ(電流密度Xパルス輻×連発
パルス数)が大きい標準の加工条件では、ワークの被加
工面4aと電極面2aとの間隙を100μm以下にして
の加工は完全なものではなかった。
との加工時の間隙が50〜300μm程度を必要とする
ことと、対向する加工面に対し一様に加工をしてしまう
性質があることとが考えられる。即ち、電解加工におい
て電極とワークとを対向させてパルス電流を供給した場
合、高電流密度条件(例えば、10〜25■)のときは
、間隙を110μmとして所定の加工エネルギを供給し
たとき40μmの加工量が得られるに対し、間隙を10
μmとして同じ条件の加工エネルギを供給したときは、
約20μmの加工量しか得られないで、かつその加工表
面も荒れて形状を損なっている。その原因は加工中の間
隙には電解生成物や水素ガスが生じて適正な電解作用を
阻害するためである。したがって、第6図の場合でも単
位面積当りの加工エネルギ(電流密度Xパルス輻×連発
パルス数)が大きい標準の加工条件では、ワークの被加
工面4aと電極面2aとの間隙を100μm以下にして
の加工は完全なものではなかった。
[発明の目的]
そこでこの発明は、上記不都合を除去し、特に角度を有
する曲面における隅Rを極小とすべく改良した、三次元
形状の被加工面を短時間かつ高精度に仕上げて、鏡面状
の光沢面等を得ることができる高精度電解仕上げ加工方
法を実現することを目的とする。
する曲面における隅Rを極小とすべく改良した、三次元
形状の被加工面を短時間かつ高精度に仕上げて、鏡面状
の光沢面等を得ることができる高精度電解仕上げ加工方
法を実現することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
この目的を達成するために、この出願の第1発明は、電
解液中で電極とワークとを所定間隙をもって対向設置す
る工程と、前記電極とワークとの間に、微弱なパルス電
流を供給する工程と、前記電極とワークとの間隙を拡げ
るべく、両者を引き離す工程と、前記電極とワークとの
間に新たな電解液を供給して電解生成物を除去する工程
と、前記電極を前記ワークに対して相対的にX−Y方向
に移動させる工程とを有することを特徴とする。
解液中で電極とワークとを所定間隙をもって対向設置す
る工程と、前記電極とワークとの間に、微弱なパルス電
流を供給する工程と、前記電極とワークとの間隙を拡げ
るべく、両者を引き離す工程と、前記電極とワークとの
間に新たな電解液を供給して電解生成物を除去する工程
と、前記電極を前記ワークに対して相対的にX−Y方向
に移動させる工程とを有することを特徴とする。
又、第2発明は、上記第1発明におけるパルス電流を、
電圧が5.3〜6.5Vで30msec以下のオン時間
としたことを特徴とする。
電圧が5.3〜6.5Vで30msec以下のオン時間
としたことを特徴とする。
[作 用]
この出願の発明によると、パルス電流を供給する一回当
りの電解生成物の発生量や水素ガスの発生量も少ないた
めに、電極とワークとの間隙もより小さくすることがで
き、例えば間隙を10μmとしたとき、間隙が110μ
mの場合に2μmの加工量しか得られない加工エネルギ
条件てあっても、20μmの加工量を得ることができる
。このことから、電極とワークとの間隙を従来よりも小
さくして電極形状に沿った精密な曲面転写が可能となる
。
りの電解生成物の発生量や水素ガスの発生量も少ないた
めに、電極とワークとの間隙もより小さくすることがで
き、例えば間隙を10μmとしたとき、間隙が110μ
mの場合に2μmの加工量しか得られない加工エネルギ
条件てあっても、20μmの加工量を得ることができる
。このことから、電極とワークとの間隙を従来よりも小
さくして電極形状に沿った精密な曲面転写が可能となる
。
[実施例]
以下、図面を参照してこの発明の実施例を詳細かつ具体
的に説明する。
的に説明する。
第1〜2図は、この発明の一実施例を示すものである。
第1図において、この発明を実施し得る電解仕上げ加工
装置1は、電極2を固定する電極固定装置3、ワーク4
を固定するワーク固定装置5、パルスモータからなるZ
軸モータ6の回転運動を往復運動に変換する駆動変換部
7、エアー供給装置8からのエアーの供給により前記電
極固定装置3を上下動するビックユニット9、直流電源
部10と充放電部11からなり加工パルスを発生する電
源装置12、モータ駆動制御部13と加工条件制御部1
4と電解液流制御部15等からなる制御装置16、ワー
ク4に間する各種データ等を入力する入力装置17、電
解液を濾過するとともに、この濾過した電解液を噴出ノ
ズル18を介して噴出することにより、電極2とワーク
4の間隙19に電解液の噴流を供給する電解液濾過装置
20、加工槽21等からなる。
装置1は、電極2を固定する電極固定装置3、ワーク4
を固定するワーク固定装置5、パルスモータからなるZ
軸モータ6の回転運動を往復運動に変換する駆動変換部
7、エアー供給装置8からのエアーの供給により前記電
極固定装置3を上下動するビックユニット9、直流電源
部10と充放電部11からなり加工パルスを発生する電
源装置12、モータ駆動制御部13と加工条件制御部1
4と電解液流制御部15等からなる制御装置16、ワー
ク4に間する各種データ等を入力する入力装置17、電
解液を濾過するとともに、この濾過した電解液を噴出ノ
ズル18を介して噴出することにより、電極2とワーク
4の間隙19に電解液の噴流を供給する電解液濾過装置
20、加工槽21等からなる。
前記電極固定装置3は、その下部に設けたロッド22の
下端に、例えば純銅もしくはグラファイトからなる電極
2を、その電極面2aとワーク4の被加工面4aとが三
次元方向に−様な間隙19を保つように固定する。この
電極固定装置3は、前記モータ駆動制御部13の制御信
号によりZ軸モータ6が回転し、この回転が駆動変換部
7によって上下方向の運動に変換されて上下動するとと
もに、モータ駆動制御部13の制御信号によりエアー供
給装置8が作動して、ピックユニット9内にエアーが供
給されて上下動する。なお、電極固定装置3の駆動方法
は、加工条件等に応じて、Z軸モータ6及びエアー供給
装置8の一方もしくはこれらの両者を同時に使用して行
う。
下端に、例えば純銅もしくはグラファイトからなる電極
2を、その電極面2aとワーク4の被加工面4aとが三
次元方向に−様な間隙19を保つように固定する。この
電極固定装置3は、前記モータ駆動制御部13の制御信
号によりZ軸モータ6が回転し、この回転が駆動変換部
7によって上下方向の運動に変換されて上下動するとと
もに、モータ駆動制御部13の制御信号によりエアー供
給装置8が作動して、ピックユニット9内にエアーが供
給されて上下動する。なお、電極固定装置3の駆動方法
は、加工条件等に応じて、Z軸モータ6及びエアー供給
装置8の一方もしくはこれらの両者を同時に使用して行
う。
前記ワーク固定装置5は、絶縁性の高いグラナイトもし
くはセラミックス製のテーブルで、その上面には例えば
型彫放電加工されたワーク4を図示しないセット治具、
ネジ等により固定する。
くはセラミックス製のテーブルで、その上面には例えば
型彫放電加工されたワーク4を図示しないセット治具、
ネジ等により固定する。
前記電極2とワーク4との相対的位置間係を制御して加
工を行う仕組は、例えば第2図に示す如く構成する。
工を行う仕組は、例えば第2図に示す如く構成する。
即ち、制御装置16は、入力装置17及び各種センサ2
3からの信号を受けて所定のプログラムによる制御を行
う。このセンサ23は概念的なもので実際には複数のセ
ンサからなり、液面検出、電極とワークとの接触検出、
電解液のPH検出、加工深さ検出、パルス供給回数検出
等の機能を果たすものを総称する。
3からの信号を受けて所定のプログラムによる制御を行
う。このセンサ23は概念的なもので実際には複数のセ
ンサからなり、液面検出、電極とワークとの接触検出、
電解液のPH検出、加工深さ検出、パルス供給回数検出
等の機能を果たすものを総称する。
前記モータ駆動制御部13は、電極2を支持するテーブ
ル(図示せず)をX軸モータ24、Y軸モータ25を駆
動することによってX−Y平面(前後左右方向)で所定
の位置に自由に移動させてワーク4との相対的位置関係
を変更し保持する。又、前記Z軸モータ6及びエアー供
給装置8を駆動して電極2を上下動させて、ワーク4と
の間隙19を所定値に保つ位置と両者を引き離した位置
とを交互に得るようにしている。
ル(図示せず)をX軸モータ24、Y軸モータ25を駆
動することによってX−Y平面(前後左右方向)で所定
の位置に自由に移動させてワーク4との相対的位置関係
を変更し保持する。又、前記Z軸モータ6及びエアー供
給装置8を駆動して電極2を上下動させて、ワーク4と
の間隙19を所定値に保つ位置と両者を引き離した位置
とを交互に得るようにしている。
さらに前記制御装置16は、入力された加工条件を記憶
装置26に記憶するとともに、表示装置27によりその
内容を表示して操作者の便宜を図っている。そして、電
解加工が所定量に達したことをセンサ23が検出したな
らば、その旨を表示すると同時に、加工条件制御部14
は、電源装置12に新たな加工条件に基づくパルス電流
を供給するよう信号を発して加工を継続する。かかるプ
ログラム化された工程を自動的に切り換えて加工を継続
し、最後に所定の工程が完了したことをセンサ23が検
出して加工を終了する。
装置26に記憶するとともに、表示装置27によりその
内容を表示して操作者の便宜を図っている。そして、電
解加工が所定量に達したことをセンサ23が検出したな
らば、その旨を表示すると同時に、加工条件制御部14
は、電源装置12に新たな加工条件に基づくパルス電流
を供給するよう信号を発して加工を継続する。かかるプ
ログラム化された工程を自動的に切り換えて加工を継続
し、最後に所定の工程が完了したことをセンサ23が検
出して加工を終了する。
その間、電極2が上昇して電極2とワーク4との間隙1
9が拡がったときには電解液が噴出ノズル18から噴き
出され、間隙19に発生している電解生成物を排除する
。この作用をなす前記電解液濾過装置20は、前記セン
サ23の電解液の淑面検出信号に基づく電解液の供給や
電極2の上昇に伴う電解液の噴出に加えて、加工槽21
内の電解液の汚れを防止すべく、電解液を循環させなが
ら、電解生成物を濾過する。
9が拡がったときには電解液が噴出ノズル18から噴き
出され、間隙19に発生している電解生成物を排除する
。この作用をなす前記電解液濾過装置20は、前記セン
サ23の電解液の淑面検出信号に基づく電解液の供給や
電極2の上昇に伴う電解液の噴出に加えて、加工槽21
内の電解液の汚れを防止すべく、電解液を循環させなが
ら、電解生成物を濾過する。
このような加工中の制御内容は逐一記憶装置26に記憶
し、必要に応じて表示装置27に表示させ、あるいは図
示しないプリンタにて印字出力して再確認できるように
構成しである。
し、必要に応じて表示装置27に表示させ、あるいは図
示しないプリンタにて印字出力して再確認できるように
構成しである。
次にこの出願の発明の原理を示す実験について第3図に
より説明する。
より説明する。
電極2は、はぼ直角をなす凸条E1、E2、E3、E4
を有する形状とし、ワーク4はその上面が傾斜した構成
として、両者を対向させたとき一例にては両者の間隙が
10μmで、反対側では、110μmとなるように設定
した。このような電極2とワーク4との関係において、
両者間にパルス電流を供給したところ第4図の如き結果
を得た。
を有する形状とし、ワーク4はその上面が傾斜した構成
として、両者を対向させたとき一例にては両者の間隙が
10μmで、反対側では、110μmとなるように設定
した。このような電極2とワーク4との関係において、
両者間にパルス電流を供給したところ第4図の如き結果
を得た。
即ち、第4図イは従来の加工方法に習った加工条件での
通電を行った結果を示し、同アはこの出願にかかる発明
となった加工条件での通電を行った結果を示すものであ
る。
通電を行った結果を示し、同アはこの出願にかかる発明
となった加工条件での通電を行った結果を示すものであ
る。
第4図ア及びイのWl、W2、W3、W4はワーク4に
おいて、第3図に示す電極2の凸条El、E2、E3、
E4に対応する部位に加工の結果生じた深さTの加工量
を示す凹溝である。
おいて、第3図に示す電極2の凸条El、E2、E3、
E4に対応する部位に加工の結果生じた深さTの加工量
を示す凹溝である。
第4図イでは従来の、いわゆる高電流密度の加工条件で
のパルス電流を供給した。その結果、加工間隙が110
μmとなるW1部分ではきわめて正確に加工がなされて
いるに対し、間隙が小さくなるに連れて電極の形状転写
が崩れて、w4部分では加工表面の荒さも加わって、実
用にならないことが判明した。これより従来の加工条件
では、電極2とワーク4との間隙を10011m以下に
縮小することが余り好ましくないと判断される。
のパルス電流を供給した。その結果、加工間隙が110
μmとなるW1部分ではきわめて正確に加工がなされて
いるに対し、間隙が小さくなるに連れて電極の形状転写
が崩れて、w4部分では加工表面の荒さも加わって、実
用にならないことが判明した。これより従来の加工条件
では、電極2とワーク4との間隙を10011m以下に
縮小することが余り好ましくないと判断される。
これとは反対に、第4図アではパルス電流の電流値を小
さくして行き、かつパルスのオン時間も変えて短くした
場合の加工結果を表わし、間隙が10μmとなるW4部
分で電極形状が正確に転写されているに対し、間隙が大
きくなるに連れて形状転写がなされていない状況が明ら
かである。この場合の電流条件は、おおよそ電圧が5.
3〜6゜5vで、パルス幅(印加時間)が30msec
以下であった。このことから、電流値を下げていけば電
流2とワーク4との加工時の間隙19を小さくしても、
加工形状を損なわない電解加工ができることが判明した
。
さくして行き、かつパルスのオン時間も変えて短くした
場合の加工結果を表わし、間隙が10μmとなるW4部
分で電極形状が正確に転写されているに対し、間隙が大
きくなるに連れて形状転写がなされていない状況が明ら
かである。この場合の電流条件は、おおよそ電圧が5.
3〜6゜5vで、パルス幅(印加時間)が30msec
以下であった。このことから、電流値を下げていけば電
流2とワーク4との加工時の間隙19を小さくしても、
加工形状を損なわない電解加工ができることが判明した
。
なお、この場合パルス電流のオン時間は、実用の段階に
おけるワークの大きさやその形状に基づいて、形状精度
追求との関係で限りなくゼロに近い値で実施することに
なるが、従来の通常範囲の形状及び精度の型加工におい
ては1〜30msecの範囲で十分である。
おけるワークの大きさやその形状に基づいて、形状精度
追求との関係で限りなくゼロに近い値で実施することに
なるが、従来の通常範囲の形状及び精度の型加工におい
ては1〜30msecの範囲で十分である。
以上の知見に基づいて、この出願の発明者は、高精度に
電極形状を転写しうる電解仕上げ加工方法を完成させた
。即ち、放電加工により形成された3次元形状の加工面
を有するワークを仕上げ加工するに、 先ず第1段階は比較的大きなエネルギ条件でのパルス電
流を供給する。(ピーク電流密度が30〜50A/Cm
2で、オン時間を2〜10m5eCとする。)その結果
として、面粗度を向上させる。
電極形状を転写しうる電解仕上げ加工方法を完成させた
。即ち、放電加工により形成された3次元形状の加工面
を有するワークを仕上げ加工するに、 先ず第1段階は比較的大きなエネルギ条件でのパルス電
流を供給する。(ピーク電流密度が30〜50A/Cm
2で、オン時間を2〜10m5eCとする。)その結果
として、面粗度を向上させる。
次いで第2段階は第1段階よりも一層大きいエネルギ条
件でのパルス電流を供給する。(ピーク電流密度を30
〜50A/cm2で、オン時間を20〜60msecと
する。)その結果、面粗度を損なうことなく被加工面を
鏡面状の光沢面とする。
件でのパルス電流を供給する。(ピーク電流密度を30
〜50A/cm2で、オン時間を20〜60msecと
する。)その結果、面粗度を損なうことなく被加工面を
鏡面状の光沢面とする。
なお、この第2段階の電流値設定での加工は、次の第3
段階の加工を行った場合には、その後工程としての第4
段階の加工にも適用されるものである。
段階の加工を行った場合には、その後工程としての第4
段階の加工にも適用されるものである。
そして、形状が屈曲部分を有するために必要な場合には
、さらに第3段階として、第1段階より小さいエネルギ
条件でのパルス電流を供給する。
、さらに第3段階として、第1段階より小さいエネルギ
条件でのパルス電流を供給する。
(電極2とワーク4との間にかける電圧を第1段階の場
合より低い5.3〜6,5Vに設定し、オン時間を30
msec以下とする。)この場合、被加工面の面積を変
わらないものと想定すれば、単位面積当りの電流密度は
第1段階と比べてもはるかに小さい値となるが、実際に
は、加工結果から推定すると、局部的に電流が集中して
流れることになり、加工面積を特定できないため平均電
流密度として把握することができない。
合より低い5.3〜6,5Vに設定し、オン時間を30
msec以下とする。)この場合、被加工面の面積を変
わらないものと想定すれば、単位面積当りの電流密度は
第1段階と比べてもはるかに小さい値となるが、実際に
は、加工結果から推定すると、局部的に電流が集中して
流れることになり、加工面積を特定できないため平均電
流密度として把握することができない。
この第3段階では、電極をワークに対してX−Y平面で
相対的に移動せしめて加工の際の間隙を小さくするよう
制御することとした。
相対的に移動せしめて加工の際の間隙を小さくするよう
制御することとした。
そして、各段階における動作はそれぞれ従来通りとし、
第3段階のみ次の様にflE正した。つまり、電極2を
下降させてX軸方向での間隙19を所定値に保つととも
に、さらに電極2をX軸方向あるいはY軸方向に移動さ
せて、X軸方向あるいはY軸方向における電極2とワー
ク4との間隙を所定値にする工程を加える。そして、パ
ルス電流を供給したら、−旦電極2をX軸あるいはY軸
方向に戻して、その後電極2を上昇させ、同時に噴出ノ
ズル18から電解液を噴出して間隙19の電解生成物を
排除する。そうして前記の動作を繰り返す。
第3段階のみ次の様にflE正した。つまり、電極2を
下降させてX軸方向での間隙19を所定値に保つととも
に、さらに電極2をX軸方向あるいはY軸方向に移動さ
せて、X軸方向あるいはY軸方向における電極2とワー
ク4との間隙を所定値にする工程を加える。そして、パ
ルス電流を供給したら、−旦電極2をX軸あるいはY軸
方向に戻して、その後電極2を上昇させ、同時に噴出ノ
ズル18から電解液を噴出して間隙19の電解生成物を
排除する。そうして前記の動作を繰り返す。
この点についてさらに第5図に基づいて説明すると、前
述の原理で電極2の電極面2aをワーク4の被加工面4
aに対して、間隙19を10umとなるまで接近させて
加工することができるようになったが、その場合、すて
に前段階(上記第1段階及び第2段階)の加工を経てい
るので、電極2の横幅は、ワーク4の内面幅に対して相
対的に小さくなっているため、電極2を横方向に移動さ
せないと電極面2aとワーク4の被加工面4aとは接近
し得ない。そこで、前記第3段階では、少なくとも電極
2をワーク4に対してX−Y方向(前後左右方向)に位
置を移動させて、電極面2−aとワーク4の被加工面4
aとの間隙を調整する必要が生ずる。これを前記モータ
駆動制御部13によってX軸モータ24及びY軸モータ
25を運転させることで実現したのである。
述の原理で電極2の電極面2aをワーク4の被加工面4
aに対して、間隙19を10umとなるまで接近させて
加工することができるようになったが、その場合、すて
に前段階(上記第1段階及び第2段階)の加工を経てい
るので、電極2の横幅は、ワーク4の内面幅に対して相
対的に小さくなっているため、電極2を横方向に移動さ
せないと電極面2aとワーク4の被加工面4aとは接近
し得ない。そこで、前記第3段階では、少なくとも電極
2をワーク4に対してX−Y方向(前後左右方向)に位
置を移動させて、電極面2−aとワーク4の被加工面4
aとの間隙を調整する必要が生ずる。これを前記モータ
駆動制御部13によってX軸モータ24及びY軸モータ
25を運転させることで実現したのである。
この結果、第6図に示す従来との比較から明らかなよう
に、従来では放電加工面(−点鎖線で示す)との間隙を
縮小できなかったために、電解加工による加工面もほぼ
放電加工面に倣う形の曲面であったのに対し、この出願
の発明では、第5図に示すように放電加工面を修正した
形の電解加工面を得ることができた。
に、従来では放電加工面(−点鎖線で示す)との間隙を
縮小できなかったために、電解加工による加工面もほぼ
放電加工面に倣う形の曲面であったのに対し、この出願
の発明では、第5図に示すように放電加工面を修正した
形の電解加工面を得ることができた。
なお、上記の説明においては、電極とワークとを上下方
向に対向位置させたが、これを水平方向に位置させて、
両者間の電解生成物を排除しやすくすることもできる。
向に対向位置させたが、これを水平方向に位置させて、
両者間の電解生成物を排除しやすくすることもできる。
その場合、Z軸が水平方向となるので、X−Y平面は、
Z軸に直交する(上下前後方向に延びる)平面と読み替
える。
Z軸に直交する(上下前後方向に延びる)平面と読み替
える。
[発明の効果]
この発明は上述の通りに構成したので、次に記す効果を
奏する。
奏する。
■直角もしくは鋭角の屈曲した曲面を有する被加工面で
あっても、正確な形状転写を実現した電解加工ができて
、高精度な表面品質を得ることができる。
あっても、正確な形状転写を実現した電解加工ができて
、高精度な表面品質を得ることができる。
■電極を消耗しない電解加工でもって、表面荒さを取り
除く面粗度向上加工(第1段階)から光沢面を得る仕上
げ加工(第2段階)、及び精度の高い型彫り加工(第3
段階)が可能となり、放電加工を経ないでも3次元形状
の曲面を有する金型の製作加工ができるようになった。
除く面粗度向上加工(第1段階)から光沢面を得る仕上
げ加工(第2段階)、及び精度の高い型彫り加工(第3
段階)が可能となり、放電加工を経ないでも3次元形状
の曲面を有する金型の製作加工ができるようになった。
第1図は、この発明に係る電解仕上げ加工方法を実施し
得る電解仕上げ加工装置のブロック図、第2図は、制御
内容を示すブロック図、第3図は、この出願の原理を示
す実験の説明図、第4図は、同じく実験の結果を示すワ
ーク表面の拡大説明図、第5図は、この発明による電解
加工の状況を示す説明図、第6図は従来の電解加工の状
況を示す説明図である。 l・・・電解仕上げ加工装置、2・・・電極、4・・・
ワーク、12・・・電源装置、13・・・モータ駆動制
御部、14・・・加工条件制御部、15・・・電解液流
制御部、16・・・制御装置、17・・−・入力装置、
23・・・センサ、26・・・記憶装置、27・・・表
示装置 である。 第1図 特許出願人 静岡製機株式会社 代表者 銘木 重夫 第2嗟 第a図
得る電解仕上げ加工装置のブロック図、第2図は、制御
内容を示すブロック図、第3図は、この出願の原理を示
す実験の説明図、第4図は、同じく実験の結果を示すワ
ーク表面の拡大説明図、第5図は、この発明による電解
加工の状況を示す説明図、第6図は従来の電解加工の状
況を示す説明図である。 l・・・電解仕上げ加工装置、2・・・電極、4・・・
ワーク、12・・・電源装置、13・・・モータ駆動制
御部、14・・・加工条件制御部、15・・・電解液流
制御部、16・・・制御装置、17・・−・入力装置、
23・・・センサ、26・・・記憶装置、27・・・表
示装置 である。 第1図 特許出願人 静岡製機株式会社 代表者 銘木 重夫 第2嗟 第a図
Claims (2)
- (1)次のA〜Eの要件を具備したことを特徴とする高
精度電解仕上げ加工方法。 A、電解液中で電極とワークとを所定間隙をもって対向
設置する工程、 B、前記電極とワークとの間に、微弱なパルス電流を供
給する工程、 C、前記電極とワークとの間隙を拡げるべく、両者を引
き離す工程、 D、前記電極とワークとの間に新たな電解液を供給して
電解生成物を除去する工程、 E、前記電極を前記ワークに対して相対的にX−Y方向
に移動させる工程。 - (2)次の要件を具備してなる請求項(1)記載の高精
度電解仕上げ加工方法。 F、前記パルス電流は、電圧が5.3〜6.5Vで30
msec以下のオン時間であること。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15956790A JPH0453627A (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | 高精度電解仕上げ加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15956790A JPH0453627A (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | 高精度電解仕上げ加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0453627A true JPH0453627A (ja) | 1992-02-21 |
Family
ID=15696547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15956790A Pending JPH0453627A (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | 高精度電解仕上げ加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0453627A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6532662B2 (en) * | 2000-03-13 | 2003-03-18 | Koyo Seiko Co., Ltd. | Method for processing dynamic pressure groove of fluid dynamic bearing |
-
1990
- 1990-06-18 JP JP15956790A patent/JPH0453627A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6532662B2 (en) * | 2000-03-13 | 2003-03-18 | Koyo Seiko Co., Ltd. | Method for processing dynamic pressure groove of fluid dynamic bearing |
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