JPH0453950A - プリント板製造におけるアートワーク方法 - Google Patents
プリント板製造におけるアートワーク方法Info
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- JPH0453950A JPH0453950A JP2164515A JP16451590A JPH0453950A JP H0453950 A JPH0453950 A JP H0453950A JP 2164515 A JP2164515 A JP 2164515A JP 16451590 A JP16451590 A JP 16451590A JP H0453950 A JPH0453950 A JP H0453950A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔目 次〕
概要
産業上の利用分野
従来の技術と発明が解決しようとする課題課題を解決す
るための手段 作用 実施例 発明の効果 〔概要〕 プリント板上に形成された図形領域に対して、フォトプ
ロッタから投射した光（フラッシュ）で軌跡を描くアー
トワーク方法に関し、 アートワーク方法による描画時のノ＼レーションの防止
と、データ量を削減することを目的とし、円形状の光を
移動させることにより図形を塗り潰す過程で、一つの点
で同一の径の円が、多数回重ならないように、核用の移
動開始点Ｐ２をずらし、且つ、該移動開始点Ｐ２に応じ
て、選択的に、核用の径を変更して描（ようにする。具
体的には、上記図形上の径長の異なる円Ａと円Ｂの、そ
れぞれの円の径が、円Ａ〉円Ｂであって、核用Ａと円Ｂ
の間に引かれた２本の接線ａ、ｂと、核用Ａ。
るための手段 作用 実施例 発明の効果 〔概要〕 プリント板上に形成された図形領域に対して、フォトプ
ロッタから投射した光（フラッシュ）で軌跡を描くアー
トワーク方法に関し、 アートワーク方法による描画時のノ＼レーションの防止
と、データ量を削減することを目的とし、円形状の光を
移動させることにより図形を塗り潰す過程で、一つの点
で同一の径の円が、多数回重ならないように、核用の移
動開始点Ｐ２をずらし、且つ、該移動開始点Ｐ２に応じ
て、選択的に、核用の径を変更して描（ようにする。具
体的には、上記図形上の径長の異なる円Ａと円Ｂの、そ
れぞれの円の径が、円Ａ〉円Ｂであって、核用Ａと円Ｂ
の間に引かれた２本の接線ａ、ｂと、核用Ａ。
円Ｂの円周線によって囲まれる図形を、円Ｂの径と同じ
か、又は、該径以上の円Ｃ，，Ｃ，を移動させることで
塗り潰すとき、第ｉステップ：円Ｂと同一径を持つ円Ｃ
Ｉを点Ｐｌから点Ｑ１まで移動させることで、長円工を
発生し、同様に点Ｐ１から点Ｑ！まで移動させることで
、長円２を発生し、第ｉｉステップ：点Ｐ＋から、上記
第ｉステップの描き方により発生した線分ｃ、ｄの交点
Ｐ２まで、軌跡の開始点を移動させ、該交点Ｐ２より、
円Ａに内接するまで、円への中心方向に、円Ａと線分ｃ
、ｄの交点Ｓ、、Ｓ、間の距離以上の径を持つ円Ｃ２を
移動させることで、長円３を発生して、該塗り潰し処理
を終了し、上記第ｉｊステップの描き方において、交点
Ｓ、、Ｓｔ間の距離以上の径を持つ円Ｃ２の光が、上記
フォトプロッタから投射する光になかったとき、上記交
点Ｓ、、Ｓ、間の距離より短い径を持つ円Ｃ２で、該第
ｉｉステップの描き方による長円３を発生し、第ｉステ
ップ二上記線分ｃ、ｄに内接する円Ｂと同一径を持つ円
Ｃ８の中心点を、点Ｐ３とし、酸点Ｐ３より円Ｃ０を線
分Ｃに並行で接するように移動させ、同様に線分ｄに対
して同じ円Ｃ１を移動させることで、長円４．長円５を
発生することを、該長円４．長円５を生成したときに生
成される線分ｅ、ｆと円Ａとの交点Ｓ’３、Ｓ４が、上
記長円３の内部に存在するようになる迄、該ステップｉ
による描き方を繰り返して、上記図形内に投射光の軌跡
を描くようにする。
か、又は、該径以上の円Ｃ，，Ｃ，を移動させることで
塗り潰すとき、第ｉステップ：円Ｂと同一径を持つ円Ｃ
Ｉを点Ｐｌから点Ｑ１まで移動させることで、長円工を
発生し、同様に点Ｐ１から点Ｑ！まで移動させることで
、長円２を発生し、第ｉｉステップ：点Ｐ＋から、上記
第ｉステップの描き方により発生した線分ｃ、ｄの交点
Ｐ２まで、軌跡の開始点を移動させ、該交点Ｐ２より、
円Ａに内接するまで、円への中心方向に、円Ａと線分ｃ
、ｄの交点Ｓ、、Ｓ、間の距離以上の径を持つ円Ｃ２を
移動させることで、長円３を発生して、該塗り潰し処理
を終了し、上記第ｉｊステップの描き方において、交点
Ｓ、、Ｓｔ間の距離以上の径を持つ円Ｃ２の光が、上記
フォトプロッタから投射する光になかったとき、上記交
点Ｓ、、Ｓ、間の距離より短い径を持つ円Ｃ２で、該第
ｉｉステップの描き方による長円３を発生し、第ｉステ
ップ二上記線分ｃ、ｄに内接する円Ｂと同一径を持つ円
Ｃ８の中心点を、点Ｐ３とし、酸点Ｐ３より円Ｃ０を線
分Ｃに並行で接するように移動させ、同様に線分ｄに対
して同じ円Ｃ１を移動させることで、長円４．長円５を
発生することを、該長円４．長円５を生成したときに生
成される線分ｅ、ｆと円Ａとの交点Ｓ’３、Ｓ４が、上
記長円３の内部に存在するようになる迄、該ステップｉ
による描き方を繰り返して、上記図形内に投射光の軌跡
を描くようにする。
本発明は、プリント板上に形成された図形領域に対して
、フォトブロックから投射した光（フラッシュ）で軌跡
を描くアートワーク方法に関する。
、フォトブロックから投射した光（フラッシュ）で軌跡
を描くアートワーク方法に関する。
最近の計算機システムの機種の多様化に伴い、該計算機
システムに搭載されるプリント板も、多品種少量化の方
向にあり、多種多様のパターンを持つプリント板を、効
率よく製造することが要求される。
システムに搭載されるプリント板も、多品種少量化の方
向にあり、多種多様のパターンを持つプリント板を、効
率よく製造することが要求される。
その為、アートワーク手法で、プリント板のパターンの
描画を行う場合、１枚当たりのデータ量はできる限り少
ないことが必要とされる。
描画を行う場合、１枚当たりのデータ量はできる限り少
ないことが必要とされる。
又、最近の高密度化実装の動向に伴い、該プリント板上
のパターンも微細化される動向にあり、フォトブロック
から投射される光によるハレーションの影響が問題にな
ってきており、該ハレーションができる限りすくなくな
るアートワーク方法が必要とされる。
のパターンも微細化される動向にあり、フォトブロック
から投射される光によるハレーションの影響が問題にな
ってきており、該ハレーションができる限りすくなくな
るアートワーク方法が必要とされる。
〔従来の技術と発明が解決しようとする課題〕第３図は
従来のアートワーク方法を説明する図であり、（ａ）は
プリント板の一例を示し、（ｂ）は従来の図形作成装置
の一例を示し、（ｃ）は従来のテーパ部の作成方法の一
例を示している。
従来のアートワーク方法を説明する図であり、（ａ）は
プリント板の一例を示し、（ｂ）は従来の図形作成装置
の一例を示し、（ｃ）は従来のテーパ部の作成方法の一
例を示している。
本図（ａ）に示したような、プリント板ｌ上に存在する
配線パターン部１２とランドバット１１との間にテーパ
部１３を持つパターンを作成する場合、一般には、フォ
トプロッタを使用する。又、該ランドバット１１を生成
する場合は、径の大きい光点（フラッシュ）を使用する
。
配線パターン部１２とランドバット１１との間にテーパ
部１３を持つパターンを作成する場合、一般には、フォ
トプロッタを使用する。又、該ランドバット１１を生成
する場合は、径の大きい光点（フラッシュ）を使用する
。
（ｂ）図は、従来の図形作成装置の一例を示したもので
、３１は図形処理装置、３２は制御部、３３はフォトプ
ロッタである。
、３１は図形処理装置、３２は制御部、３３はフォトプ
ロッタである。
該フォトプロッタ３３は、プリント板１上に、通常、丸
形状の光点（フラッシュ）を投射する装置であり、図形
処理装置３１は、制御部３２を介してフォトプロッタ３
３を制御することにより、全面に銅箔が付けられたプリ
ント板ｌ上に、上記フラッシュを投射し、移動して図形
を描く。
形状の光点（フラッシュ）を投射する装置であり、図形
処理装置３１は、制御部３２を介してフォトプロッタ３
３を制御することにより、全面に銅箔が付けられたプリ
ント板ｌ上に、上記フラッシュを投射し、移動して図形
を描く。
図形を描いた後、エツチングを行うと、該光が投射され
なかった部分の銅箔が剥がれて、（ａ）図に示すような
図形のパターンができる。
なかった部分の銅箔が剥がれて、（ａ）図に示すような
図形のパターンができる。
プリント板１上に、上記のようなテーパ部１３を作るに
は、従来は下記の方法をとっていた。
は、従来は下記の方法をとっていた。
（ｃ）図において、配線パターン部１２と、フラッシュ
の直径は同じである。
の直径は同じである。
（１）上記フォトプロッタ３３により、配線パターン１
２の投射が終わると、次にテーパ部１３の作成に移る。
２の投射が終わると、次にテーパ部１３の作成に移る。
（２）上記生成した配線パターン１２内の左端のからラ
ンドバット部１１内の端点■迄、該フラッシュを移動さ
せて、配線パターン部１３ａを作成する。
ンドバット部１１内の端点■迄、該フラッシュを移動さ
せて、配線パターン部１３ａを作成する。
このとき、端点■のフラッシュはランドバット部１１に
内接する。フォトプロッタ３３から投射させるフラッシ
ュとして、このような内接した端点■のフラッシュを与
える為には、上記図形処理装置３１から与えられる、配
線パターン１３ａの端点■と、ランドバット部１１との
接線ａのランドバット部１１例の端点の位置から、上記
端点■の半径をオフセットとしてフォトプロッタ３３に
与えることで事足りる。
内接する。フォトプロッタ３３から投射させるフラッシ
ュとして、このような内接した端点■のフラッシュを与
える為には、上記図形処理装置３１から与えられる、配
線パターン１３ａの端点■と、ランドバット部１１との
接線ａのランドバット部１１例の端点の位置から、上記
端点■の半径をオフセットとしてフォトプロッタ３３に
与えることで事足りる。
（３）同様にして、配線パターン部１２内の左端■から
ランドバット部１１内の端点■まで、フラッシュを移動
させて配線パターン１３ｂを作る。このとき、端点■の
フラッシュはランドバット部１１に内接する。
ランドバット部１１内の端点■まで、フラッシュを移動
させて配線パターン１３ｂを作る。このとき、端点■の
フラッシュはランドバット部１１に内接する。
（４）次に、配線パターン部１２内の左端■からランド
バット部１１内の端点■までフラッシュを移動させて、
配線パターン部１３ｃを作る。このとき、端点■のフラ
ッシュはランドバット部１１に内接する。
バット部１１内の端点■までフラッシュを移動させて、
配線パターン部１３ｃを作る。このとき、端点■のフラ
ッシュはランドバット部１１に内接する。
（５）同様にして、上記配線パターン１３ａ、 １３ｂ
を形成している線分ｃ、ｄに内接する、配線パターン部
１３ｃ内の端点■からランドパット部１１内の端点■ま
で、フラッシュを移動させて、配線パターン部１３ｄを
作る。
を形成している線分ｃ、ｄに内接する、配線パターン部
１３ｃ内の端点■からランドパット部１１内の端点■ま
で、フラッシュを移動させて、配線パターン部１３ｄを
作る。
このとき、該配線パターン部１３ｄは、上記配線パター
ン１３ａと平行で、上記線分Ｃと接触し、端点■のフラ
ッシュはランドバット部１１に内接する。
ン１３ａと平行で、上記線分Ｃと接触し、端点■のフラ
ッシュはランドバット部１１に内接する。
（６）同様にして、配線パターン１３ａ、１３ｂを形成
している線分ｃ、ｄに内接する、配線パターン部１３ｃ
内の端点■からランドバット部１１内の端点■まで、フ
ラッシュを移動させて、配線パターン部１３ｅを作る。
している線分ｃ、ｄに内接する、配線パターン部１３ｃ
内の端点■からランドバット部１１内の端点■まで、フ
ラッシュを移動させて、配線パターン部１３ｅを作る。
このとき、該配線パターン部１３ｅは、上記配線パター
ン１３ｂと平行で、上記線分ｄと接触し、端点■のフラ
ッシュはランドバット部１１に内接する。
ン１３ｂと平行で、上記線分ｄと接触し、端点■のフラ
ッシュはランドバット部１１に内接する。
（５）、 （６）の動作を繰り返して、テーパ部１３の
全面積を塗り潰す方法を採る。
全面積を塗り潰す方法を採る。
従って、この従来方法では、上記（１）〜（４）の動作
の為に、■で示した端点に、合計４度の投射を行うこと
になる。
の為に、■で示した端点に、合計４度の投射を行うこと
になる。
この為、■の端点でハレーションが起きるといった問題
を生じていた。更に、配線パターン部１３ｄと、１３ｅ
のような、無駄な配線パターンが発生する場合が多いと
いう問題があった。
を生じていた。更に、配線パターン部１３ｄと、１３ｅ
のような、無駄な配線パターンが発生する場合が多いと
いう問題があった。
本発明は上記従来の欠点に鑑み、プリント板上に形成さ
れた図形領域に対して、フォトプロッタから投射した光
（フラッシュ）で軌跡を描くアートワーク方法において
、該アートワーク方法による描画時のハレーションの防
止と、データ量を削減することができるアートワーク方
法を捉供することを目的とするものである。
れた図形領域に対して、フォトプロッタから投射した光
（フラッシュ）で軌跡を描くアートワーク方法において
、該アートワーク方法による描画時のハレーションの防
止と、データ量を削減することができるアートワーク方
法を捉供することを目的とするものである。
第１図は本発明の原理を示した図である。
上記の問題点は下記の如くに構成したアートワーク方法
によって解決される。
によって解決される。
（１）プリント板上に形成された図形領域に対して、フ
ォトプロッタから投射した光で軌跡を描くアートワーク
方法であって、 円形状の光を移動させることにより図形を塗り潰す過程
で、一つの点で同一の径の円が、多数回重ならないよう
に、核用の移動開始点Ｐ２をずらし、且つ、該移動開始
点Ｐｚに応じて、選択的に、核用の径を変更（Ｃ＋＝＋
Ｃｚ）して描くようにする。
ォトプロッタから投射した光で軌跡を描くアートワーク
方法であって、 円形状の光を移動させることにより図形を塗り潰す過程
で、一つの点で同一の径の円が、多数回重ならないよう
に、核用の移動開始点Ｐ２をずらし、且つ、該移動開始
点Ｐｚに応じて、選択的に、核用の径を変更（Ｃ＋＝＋
Ｃｚ）して描くようにする。
（２）プリント板上に形成された図形領域に対して、フ
ォトプロッタから投射した光で軌跡を描（アートワーク
方法であって、 該図形上の直径のことなる２つの円Ａと円Ｂの、それぞ
れの円の径が、円Ａ〉円Ｂであって、核用Ａと円Ｂの間
に引かれた２本の接線ａ、ｂと、該円Ａ１円Ｂの円周線
によって囲まれる図形を、円Ｂの径と同じか、又は、該
径以上の円ＣＩ、Ｃｚを移動させることで塗り潰すとき
、 第１ステツプ：円Ｂと同一径を持つ円Ｃ１を点Ｐ１から
点Ｑ１まで移動させることで、長円１を発生し、同様に
点Ｐ１から点Ｑ、まで移動させることで、長円２を発生
し、 第ｉｉステップ：点Ｐ、から、上記第１ステツプの描き
方により発生した線分ｃ、ｄの交点Ｐ、まで、軌跡の開
始点を移動させ、該交点Ｐ２より、円Ａに内接するまで
、円Ａの中心方向に、円Ａと線分ｃ、ｄの交点Ｓｌ、Ｓ
ｔ間の距離以上の径を持つ円Ｃ！を移動させることで、
長円３を発生して、該塗り潰し処理を終了し、 上記第１１ステツプの描き方において、交点Ｓｔ。
ォトプロッタから投射した光で軌跡を描（アートワーク
方法であって、 該図形上の直径のことなる２つの円Ａと円Ｂの、それぞ
れの円の径が、円Ａ〉円Ｂであって、核用Ａと円Ｂの間
に引かれた２本の接線ａ、ｂと、該円Ａ１円Ｂの円周線
によって囲まれる図形を、円Ｂの径と同じか、又は、該
径以上の円ＣＩ、Ｃｚを移動させることで塗り潰すとき
、 第１ステツプ：円Ｂと同一径を持つ円Ｃ１を点Ｐ１から
点Ｑ１まで移動させることで、長円１を発生し、同様に
点Ｐ１から点Ｑ、まで移動させることで、長円２を発生
し、 第ｉｉステップ：点Ｐ、から、上記第１ステツプの描き
方により発生した線分ｃ、ｄの交点Ｐ、まで、軌跡の開
始点を移動させ、該交点Ｐ２より、円Ａに内接するまで
、円Ａの中心方向に、円Ａと線分ｃ、ｄの交点Ｓｌ、Ｓ
ｔ間の距離以上の径を持つ円Ｃ！を移動させることで、
長円３を発生して、該塗り潰し処理を終了し、 上記第１１ステツプの描き方において、交点Ｓｔ。
３８間の距離以上の径を持つ円Ｃ３の光が、上記フォト
プロッタから投射する光になかったとき、上記交点Ｓ＋
、Ｓｘ間の距離より短い径を持つ円Ｃ２て、該第１１ス
テツプの描き方による長円３を発生し、 第ｉステップ二上記線分ｃ、 ｄに内接する円Ｂと同
一径を持つ円Ｃ１の中心点を、点Ｐ、とし、酸点Ｐ３よ
り円Ｃ１を線分Ｃに並行で接するように移動させ、同様
に線分ｄに対して同じ円Ｃ１を移動させることで、長円
４．長円５を発生することを、該長円４．長円５を生成
したときに生成される線分ｅ、 ｆと円Ａの交点Ｓｓ
、Ｓａが、長円３の内部に存在するようになる迄、該ス
テップかによる描き方を繰り返して、 上記図形内に投射光の軌跡を描くようにする。
プロッタから投射する光になかったとき、上記交点Ｓ＋
、Ｓｘ間の距離より短い径を持つ円Ｃ２て、該第１１ス
テツプの描き方による長円３を発生し、 第ｉステップ二上記線分ｃ、 ｄに内接する円Ｂと同
一径を持つ円Ｃ１の中心点を、点Ｐ、とし、酸点Ｐ３よ
り円Ｃ１を線分Ｃに並行で接するように移動させ、同様
に線分ｄに対して同じ円Ｃ１を移動させることで、長円
４．長円５を発生することを、該長円４．長円５を生成
したときに生成される線分ｅ、 ｆと円Ａの交点Ｓｓ
、Ｓａが、長円３の内部に存在するようになる迄、該ス
テップかによる描き方を繰り返して、 上記図形内に投射光の軌跡を描くようにする。
即ち、本発明によれば、プリント板上に形成された図形
領域に対して、フォトプロッタから投射した光点（フラ
ッシュ）で軌跡を描くアートワーク方法において、配線
パターン部１２の端点■とランドバットＡとの間のテー
パ部を塗り潰すのに、該配線パターン１２の端点■から
、ランドバット部Ａに内接する点Ｑ ｌ＋ を迄フラッ
シュを移動させて、長円１．長円２を発生させた後、該
端点■からランドバット部Ａに内接する点Ｑ、迄の長円
３を発生させる際に、該フラッシュを移動させる開始点
を、ランドバット部Ａ側に、端点■から点Ｐ２にずらし
て、且つ、該配線パターン１２の径より太い径Ｃｔのフ
ラッシュを用いて、配線パターン（長円３）を描（よう
にすることで、該配線パターンによる長円３により、上
記長円１と、長円２と、ランドバット間の隙間を塗り潰
すことができたとき（第１図（ｃ）参照）は、即、該塗
り潰し処理を終了することができ、第３図（ｃ）に示し
た従来方式で必要であった、配線パターン部１３ｄ、
１３ｅ（長円４，５）等が不要となり、データ量が削減
されると共に、配線パターン１２の端点■でのフラッシ
ュ動作が、従来方式のように、４回行われることがなく
なり、該フラッシュの重なりによるハレーションの発生
を抑止することができる効果がある。
領域に対して、フォトプロッタから投射した光点（フラ
ッシュ）で軌跡を描くアートワーク方法において、配線
パターン部１２の端点■とランドバットＡとの間のテー
パ部を塗り潰すのに、該配線パターン１２の端点■から
、ランドバット部Ａに内接する点Ｑ ｌ＋ を迄フラッ
シュを移動させて、長円１．長円２を発生させた後、該
端点■からランドバット部Ａに内接する点Ｑ、迄の長円
３を発生させる際に、該フラッシュを移動させる開始点
を、ランドバット部Ａ側に、端点■から点Ｐ２にずらし
て、且つ、該配線パターン１２の径より太い径Ｃｔのフ
ラッシュを用いて、配線パターン（長円３）を描（よう
にすることで、該配線パターンによる長円３により、上
記長円１と、長円２と、ランドバット間の隙間を塗り潰
すことができたとき（第１図（ｃ）参照）は、即、該塗
り潰し処理を終了することができ、第３図（ｃ）に示し
た従来方式で必要であった、配線パターン部１３ｄ、
１３ｅ（長円４，５）等が不要となり、データ量が削減
されると共に、配線パターン１２の端点■でのフラッシ
ュ動作が、従来方式のように、４回行われることがなく
なり、該フラッシュの重なりによるハレーションの発生
を抑止することができる効果がある。
以下本発明の実施例を図面によって詳述する。
前述の第１図は本発明の詳細な説明する図であり、第２
図は本発明の一実施例を示した図である。
図は本発明の一実施例を示した図である。
本発明は、プリント板上に形成された図形領域に対して
、フォトプロッタから投射した光点（フラッシュ）で軌
跡を描くアートワーク方法において、配線パターン部１
２の端点■とランドパット１１との間のテーパ部１３を
塗り潰すのに、該配線パターン１２の端点■から、ラン
ドバット部１１に内接する点Ｑ１を含む端点■１点Ｑ、
を含む端点■迄フラッシュを移動させて、長円１ １３
ａ。
、フォトプロッタから投射した光点（フラッシュ）で軌
跡を描くアートワーク方法において、配線パターン部１
２の端点■とランドパット１１との間のテーパ部１３を
塗り潰すのに、該配線パターン１２の端点■から、ラン
ドバット部１１に内接する点Ｑ１を含む端点■１点Ｑ、
を含む端点■迄フラッシュを移動させて、長円１ １３
ａ。
長円２１３ｂを発生させた後、該端点■からランドバッ
ト部１１に内接する点Ｑ、を含む端点■迄の長円３１３
ｈを発生させる際に、該フラッシュを移動させる開始点
を、ランドバット部１１偏に、端点■から■にずらして
、且つ、該配線パターン１３の径より太い径のフラッシ
ュを用いて、長円３１３ｈを描く方法が、本発明を実施
するのに必要な方法である。尚、全図を通して同じ符号
は同じ対象物を示している。
ト部１１に内接する点Ｑ、を含む端点■迄の長円３１３
ｈを発生させる際に、該フラッシュを移動させる開始点
を、ランドバット部１１偏に、端点■から■にずらして
、且つ、該配線パターン１３の径より太い径のフラッシ
ュを用いて、長円３１３ｈを描く方法が、本発明を実施
するのに必要な方法である。尚、全図を通して同じ符号
は同じ対象物を示している。
以下、第１図、第３図（ｂ） 、 （ｃ）を参照しなが
ら、第２図によって本発明によるアートワーク方法を説
明する。
ら、第２図によって本発明によるアートワーク方法を説
明する。
先ずて配線パターン部１２と、第３図（ｂ）に示したフ
ォトプロッタ３３から投射されるフラッシュ１の直径は
同じであるが、フラッシュ２の直径は、該配線パターン
部１２０幅と同一である必要はない。
ォトプロッタ３３から投射されるフラッシュ１の直径は
同じであるが、フラッシュ２の直径は、該配線パターン
部１２０幅と同一である必要はない。
（ａ） 上記フォトプロッタ３３により、配線パター
ン部１２の投射が終わると、次のテーパ部１３の作成に
移る。
ン部１２の投射が終わると、次のテーパ部１３の作成に
移る。
（ハ）配線パターン部１２の左端■からランドバット部
１１内の端点■まで、フラッシュ１を移動させて、配線
パターン部（長円１）１３ａを一作成する。
１１内の端点■まで、フラッシュ１を移動させて、配線
パターン部（長円１）１３ａを一作成する。
このとき、上記の端点■のフラッシュ１はランドバット
部１１に内接する。該内接させる方法は、従来技術と同
じであるので、詳細は省略する。
部１１に内接する。該内接させる方法は、従来技術と同
じであるので、詳細は省略する。
次に、配線パターン部１２の左端■からランドバット部
１１内の端点■まで、フラッシュ１を移動させて、配線
パターン部（長円２）１３ｂを作成する。
１１内の端点■まで、フラッシュ１を移動させて、配線
パターン部（長円２）１３ｂを作成する。
このとき、上記の端点■のフラッシュｌはランドバット
部１１に内接する。
部１１に内接する。
（Ｃ） 配線パターン部１３ａの線分Ｃと配線パター
ン部１３ｂの線分ｄの交点Ｐ２を含む端点■からランド
バット部ｌｌ内の端点■まで、線分Ｃとランドバット部
１工の交点Ｓ１と、線分ｄとランドバット部１１の交点
Ｓ！の距離以上の径を持つ、前述のフラッシュ２を移動
させて配線パターン（長円３）１３ｈを作成する。
ン部１３ｂの線分ｄの交点Ｐ２を含む端点■からランド
バット部ｌｌ内の端点■まで、線分Ｃとランドバット部
１工の交点Ｓ１と、線分ｄとランドバット部１１の交点
Ｓ！の距離以上の径を持つ、前述のフラッシュ２を移動
させて配線パターン（長円３）１３ｈを作成する。
このとき、該フラッシュ２が、上記端点■において、配
線パターン１３ａ、 １３ｂの線分ａ、ｂよりはみ出る
場合には、該端点■より、更に、ランドバット部１１の
中心方向へのオフセットを行う。
線パターン１３ａ、 １３ｂの線分ａ、ｂよりはみ出る
場合には、該端点■より、更に、ランドバット部１１の
中心方向へのオフセットを行う。
このオフセット値の指示は、例えば、上記フラッシュ２
の半径分だけ、ランドバット部１１側にずらせる指示を
、制御部３２がフォトプロッタ３３に与えることで行う
。
の半径分だけ、ランドバット部１１側にずらせる指示を
、制御部３２がフォトプロッタ３３に与えることで行う
。
又、上記端点■のフラッシュ２はランドバット部１１に
内接する。
内接する。
この配線パターン１３ｈの作成が本発明のポイントであ
って、（ｅ）図に示したように、上記交点ＳＩと交点Ｓ
２の距離以上の径を持つフラッシュ２があると、該テー
パ部１３は上記（Ｃ）の処理で、全て、塗り潰されるこ
とになり、該テーパ部１３の作成処理を終了する。
って、（ｅ）図に示したように、上記交点ＳＩと交点Ｓ
２の距離以上の径を持つフラッシュ２があると、該テー
パ部１３は上記（Ｃ）の処理で、全て、塗り潰されるこ
とになり、該テーパ部１３の作成処理を終了する。
然し、上記交点Ｓｌと交点Ｓオの距離以上の径を持つフ
ラッシュ２がフォトプロッタ３３に存在しないとき、上
記配線パターン（長円３）１３ｂを作成しても、配線パ
ターン（長円１． ２） １３ａ、１３ｂと配線パター
ン（長円３）１３ｈとの間に隙間が残ることになるので
、従来方式と同じ処理となる次の処理（ｄ）に移る。
ラッシュ２がフォトプロッタ３３に存在しないとき、上
記配線パターン（長円３）１３ｂを作成しても、配線パ
ターン（長円１． ２） １３ａ、１３ｂと配線パター
ン（長円３）１３ｈとの間に隙間が残ることになるので
、従来方式と同じ処理となる次の処理（ｄ）に移る。
（ｄ） 配線パターン（長円３）１３ｈ内の点であっ
て、配線パターン（長円１． ２） １３ａ、１３ｂが
作る線分ｃ、ｄに内接する、フラッシュ１と同じ径の端
点■からランドパット部ｌｌ内の端点■迄、フラッシュ
ｌを移動させて、配線パターン部（長円４）１３ｄを作
る。このとき、該配線パターン（長円４）１３ｄは、配
線パターン（長円１）１３ａと平行で、線分Ｃと接触し
、上記端点■のフラッシュｌはランドバット部１１に内
接する。
て、配線パターン（長円１． ２） １３ａ、１３ｂが
作る線分ｃ、ｄに内接する、フラッシュ１と同じ径の端
点■からランドパット部ｌｌ内の端点■迄、フラッシュ
ｌを移動させて、配線パターン部（長円４）１３ｄを作
る。このとき、該配線パターン（長円４）１３ｄは、配
線パターン（長円１）１３ａと平行で、線分Ｃと接触し
、上記端点■のフラッシュｌはランドバット部１１に内
接する。
同様にして、上記端点■からランドバット部１１内の端
点■迄、フラッシュ１を移動させて、配線パターン部（
長円５）１３ｅを作る。このとき、該配線パターン（長
円５）１３ｅは、配線パターン（長円２）１３ｂと平行
で、線分ｄと接触し、上記端点■のフラッシュ１はラン
ドバット部１１に内接する。
点■迄、フラッシュ１を移動させて、配線パターン部（
長円５）１３ｅを作る。このとき、該配線パターン（長
円５）１３ｅは、配線パターン（長円２）１３ｂと平行
で、線分ｄと接触し、上記端点■のフラッシュ１はラン
ドバット部１１に内接する。
上記（ｄ）の動作を、配線パターン（長円４．５）１３
ｄ、１３ｅが生成する線分ｅ、ｆとランドバット１■と
の交点Ｓｓ、Ｓａが、上記配線パターン（長円３）１３
ｈの内部に入る迄繰り返すことで、該テーバ部１３内の
全面積を塗り潰すことができる。
ｄ、１３ｅが生成する線分ｅ、ｆとランドバット１■と
の交点Ｓｓ、Ｓａが、上記配線パターン（長円３）１３
ｈの内部に入る迄繰り返すことで、該テーバ部１３内の
全面積を塗り潰すことができる。
この処理（ｄ）の繰り返し回数は、上記（ｅ）でのフラ
ッシュ２の径が大きい分だけ、従来方式に比較して減ら
すことができる効果を持たらす。
ッシュ２の径が大きい分だけ、従来方式に比較して減ら
すことができる効果を持たらす。
この処理（６）は、上記フラッシュ２の径が、上記交点
ＳＩと交点Ｓ２の距離以上の径を持たない場合のみ必要
であって、本発明の本質ではなく、該ランドバット部１
１と、配線パターン部１２の端点■との間の距離と、そ
れぞれの径との関係で、その処理の必要性が決まるもの
である。（第１図（Ｃ）、第２図（ｅ）参照） 従って、プリント板１によっては、該ランドバット部１
１と、配線パターン部１２の端点■との関係も、はり同
じで、且つ、本処理（ロ）が不要の場合には、上記（ａ
）〜（Ｃ）の処理で、該テーバ部１３の塗り潰しが終了
し、データ量の削減効果、ハレーシランの防止効果は３
より著しいものとなる。
ＳＩと交点Ｓ２の距離以上の径を持たない場合のみ必要
であって、本発明の本質ではなく、該ランドバット部１
１と、配線パターン部１２の端点■との間の距離と、そ
れぞれの径との関係で、その処理の必要性が決まるもの
である。（第１図（Ｃ）、第２図（ｅ）参照） 従って、プリント板１によっては、該ランドバット部１
１と、配線パターン部１２の端点■との関係も、はり同
じで、且つ、本処理（ロ）が不要の場合には、上記（ａ
）〜（Ｃ）の処理で、該テーバ部１３の塗り潰しが終了
し、データ量の削減効果、ハレーシランの防止効果は３
より著しいものとなる。
このように、本発明は、プリント板上に形成された図形
領域に対して、フォトプロッタから投射した光点（フラ
ッシュ）で軌跡を描くアートワーク方法において、配線
パターン部１２の端点■とランドバット１１との間のテ
ーパ部１３を塗り潰すのに、該配線パターン部１２の端
点■から、ランドバット部１１に内接する点Ｑ、を含む
端点■。
領域に対して、フォトプロッタから投射した光点（フラ
ッシュ）で軌跡を描くアートワーク方法において、配線
パターン部１２の端点■とランドバット１１との間のテ
ーパ部１３を塗り潰すのに、該配線パターン部１２の端
点■から、ランドバット部１１に内接する点Ｑ、を含む
端点■。
点Ｑ、を含む端点■迄フラッシュを移動させて、長円１
．長円２を発生させた後、該端点■からランドバット部
１１に内接する点Ｑ、を含む端点■迄の長円３を発生さ
せる際に、該フラッシュを移動させる開始点を、ランド
バット部ｌｌ側に、端点■から交点Ｐｇを含む端点■に
ずらして、且つ、該配線パターン部１２の径より太い径
のフラッシュ２を用いて、配線パターン１３Ｃ（長円３
）を描くようにした所に特徴がある。
．長円２を発生させた後、該端点■からランドバット部
１１に内接する点Ｑ、を含む端点■迄の長円３を発生さ
せる際に、該フラッシュを移動させる開始点を、ランド
バット部ｌｌ側に、端点■から交点Ｐｇを含む端点■に
ずらして、且つ、該配線パターン部１２の径より太い径
のフラッシュ２を用いて、配線パターン１３Ｃ（長円３
）を描くようにした所に特徴がある。
以上、詳細に説明したように、本発明のアートワーク方
式は、プリント板上に形成された図形領域に対して、フ
ォトプロッタから投射した光で軌跡を描くアートワーク
方法において、円形状の光（フラッシュ）を移動させる
ことにより図形を塗り潰す過程で、一つの点で同一の径
の円が、多数回重ならないように、核内の移動開始点Ｐ
２をずらし、且つ、該移動開始点Ｐ２に応じて、選択的
に、核内の径を変更して描くようにする。具体的には、
上記図形上の径長の異なる円Ａと円Ｂの、それぞれの円
の径が、円Ａ〉円Ｂであって、核内Ａと円Ｂの間に引か
れた２本の接線ａ、ｂと、該円Ａ９円Ｂの円周線によっ
て囲まれる図形を、円Ｂの径と同じか、又は、該種以上
の円ＣＩ、Ｃｔを移動させることで塗り潰すとき、第ｉ
ステップ：円Ｂと同一径を持つ円Ｃ１を点Ｐ、から点Ｑ
、まで移動させることで、長円１を発生し、同様に点Ｐ
、から点Ｑ！まで移動させることで、長円２を発生し、
第ｉｉステップ：点Ｐ＋から、上記第ｉステップの描き
方により発生した線分ｃ、ｄの交点Ｐ２まで、軌跡の開
始点を移動させ、該交点Ｐ。
式は、プリント板上に形成された図形領域に対して、フ
ォトプロッタから投射した光で軌跡を描くアートワーク
方法において、円形状の光（フラッシュ）を移動させる
ことにより図形を塗り潰す過程で、一つの点で同一の径
の円が、多数回重ならないように、核内の移動開始点Ｐ
２をずらし、且つ、該移動開始点Ｐ２に応じて、選択的
に、核内の径を変更して描くようにする。具体的には、
上記図形上の径長の異なる円Ａと円Ｂの、それぞれの円
の径が、円Ａ〉円Ｂであって、核内Ａと円Ｂの間に引か
れた２本の接線ａ、ｂと、該円Ａ９円Ｂの円周線によっ
て囲まれる図形を、円Ｂの径と同じか、又は、該種以上
の円ＣＩ、Ｃｔを移動させることで塗り潰すとき、第ｉ
ステップ：円Ｂと同一径を持つ円Ｃ１を点Ｐ、から点Ｑ
、まで移動させることで、長円１を発生し、同様に点Ｐ
、から点Ｑ！まで移動させることで、長円２を発生し、
第ｉｉステップ：点Ｐ＋から、上記第ｉステップの描き
方により発生した線分ｃ、ｄの交点Ｐ２まで、軌跡の開
始点を移動させ、該交点Ｐ。
より、円Ａに内接するまで、円Ａの中心方向に、円Ａと
線分ｃ、ｄの交点Ｓ、、Ｓ、間の距離以上の径を持つ円
Ｃ２を移動させることで、長円３を発生して、上記塗り
潰し処理を終了し、上記第ｉｉステップの描き方におい
て、交点Ｓ、、Ｓ、間の距離以上の径を持つ円Ｃ７の光
が、上記フォトプロッタから投射する光になかったとき
、上記交点Ｓ１゜５２間の距離より短い径を持つ円Ｃ２
で、該第ｉｉステップの描き方による長円３を発生し、
第ｉステップ二上記線分ｃ、ｄに内接する円Ｂと同一径
を持つ円Ｃ３の中心点を、点Ｐ、とし、酸点Ｐ。
線分ｃ、ｄの交点Ｓ、、Ｓ、間の距離以上の径を持つ円
Ｃ２を移動させることで、長円３を発生して、上記塗り
潰し処理を終了し、上記第ｉｉステップの描き方におい
て、交点Ｓ、、Ｓ、間の距離以上の径を持つ円Ｃ７の光
が、上記フォトプロッタから投射する光になかったとき
、上記交点Ｓ１゜５２間の距離より短い径を持つ円Ｃ２
で、該第ｉｉステップの描き方による長円３を発生し、
第ｉステップ二上記線分ｃ、ｄに内接する円Ｂと同一径
を持つ円Ｃ３の中心点を、点Ｐ、とし、酸点Ｐ。
より円Ｃ１を線分Ｃに並行で接するように移動させ、同
様に線分ｄに対して同し円ＣＩを移動させることで、長
円４．長円５を発生することを、該長円４．長円５を生
成したときに生成される線分ｅ、 ｆと円Ａとの交点
Ｓ３．Ｓ４が、上記長円３の内部に存在するようになる
迄、該ステップｉを繰り返して、上記図形内に投射光の
軌跡を描くしたものであるので、同一点に対するフラッ
シュの投射は、最大でも３回に抑えられる、ハレーシラ
ンを起こす可能性が大幅に減少すると共に、無駄な配線
パターンがなくなり、データ量が減少するという効果が
ある。
様に線分ｄに対して同し円ＣＩを移動させることで、長
円４．長円５を発生することを、該長円４．長円５を生
成したときに生成される線分ｅ、 ｆと円Ａとの交点
Ｓ３．Ｓ４が、上記長円３の内部に存在するようになる
迄、該ステップｉを繰り返して、上記図形内に投射光の
軌跡を描くしたものであるので、同一点に対するフラッ
シュの投射は、最大でも３回に抑えられる、ハレーシラ
ンを起こす可能性が大幅に減少すると共に、無駄な配線
パターンがなくなり、データ量が減少するという効果が
ある。
第１図は本発明の詳細な説明する図。
第２図は本発明の一実施例を示した図。
第３図は従来のアートワーク方法を説明する図。
である。
図面において、
１はプリント板、１１はランドバット部。
１２は配線パターン部、又は、配線パターン。
１３はテーバ部。
１３ａ〜１３ｅ、 １３ｈはテーパ部の配線パターン部
、又は、配線パターン、又は、長円１〜 ■〜■は端点。 Ａ、Ｂ、Ｃｒ、ｔは円。 Ｓ ｌ、ｔ、３＋ ４は交点。 Ｐ Ｉ＋ ３．３＋ ４は点。 Ｑｌ＋８．３は円４に内接する円の点。 ａ −ｆは線分。 をそれぞれ示す。 第 １ 図 （その２）
、又は、配線パターン、又は、長円１〜 ■〜■は端点。 Ａ、Ｂ、Ｃｒ、ｔは円。 Ｓ ｌ、ｔ、３＋ ４は交点。 Ｐ Ｉ＋ ３．３＋ ４は点。 Ｑｌ＋８．３は円４に内接する円の点。 ａ −ｆは線分。 をそれぞれ示す。 第 １ 図 （その２）
Claims (2)
- （１）プリント板上に形成された図形領域に対して、フ
ォトプロッタから投射した光で軌跡を描くアートワーク
方法であって、 円形状の光を移動させることにより図形を塗り潰す過程
で、該円の移動開始点Ｐ＿２をずらし、且つ、該移動開
始点Ｐ＿２に応じて、選択的に、該円の径を変更して描
くことを特徴とするプリント板製造におけるアートワー
ク方法。 - （２）プリント板上に形成された図形領域に対して、フ
ォトプロッタから投射した光で軌跡を描くアートワーク
方法であって、 該図形上の径長の異なる円Ａと円Ｂの、それぞれの円の
径が、円Ａ＞円Ｂであって、該円Ａと円Ｂの間に引かれ
た２本の接線ａ、ｂと、該円Ａ、円Ｂの円周線によって
囲まれる図形を、円Ｂの径と同じか、又は、該径以上の
円Ｃ＿１、Ｃ＿２を移動させることで塗り潰すとき、 第ｉステップ：円Ｂと同一径を持つ円Ｃ＿１を点Ｐ＿１
から点Ｑ＿１まで移動させることで、長円１を発生し、
同様に点Ｐ＿１から点Ｑ＿２まで移動させることで、長
円２を発生し、 第ｉｉステップ：点Ｐ＿１から、上記第ｉステップの描
き方により発生した線分ｃ、ｄの交点Ｐ＿２まで、軌跡
の開始点を移動させ、該交点Ｐ＿２より、円Ａに内接す
るまで、円Ａの中心方向に、円Ａと線分ｃ、ｄの交点Ｓ
＿１、Ｓ＿２間の距離以上の径を持つ円Ｃ＿２を移動さ
せることで、長円３を発生して、該塗り潰し処理を終了
し、 上記第ｉｉステップの描き方において、交点Ｓ＿１、Ｓ
＿２間の距離以上の径を持つ円Ｃ＿２の光が、上記フォ
トプロッタから投射する光になかったとき、上記交点Ｓ
＿１、Ｓ＿２間の距離より短い径を持つ円Ｃ＿２で、該
第ｉｉステップの描き方による長円３を発生し、 第ｉｉｉステップ：上記線分ｃ，ｄに内接する円Ｂと同
一径を持つ円Ｃ＿１の中心点を、点Ｐ＿３とし、該点Ｐ
＿３より円Ｃ＿１を線分ｃに並行で接するように移動さ
せ、同様に線分ｄに対して同じ円Ｃ＿１を移動させるこ
とで、長円４、長円５を発生することを、該長円４、長
円５を生成したときに生成される線分ｅ、ｆと円Ａとの
交点Ｓ＿３、Ｓ＿４が、上記長円３の内部に存在するよ
うになる迄、該ステップｉｉｉによる描き方を繰り返し
て、 上記図形内に投射光の軌跡を描くことを特徴とするプリ
ント製造におけるアートワーク方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16451590A JP2513907B2 (ja) | 1990-06-22 | 1990-06-22 | プリント板製造におけるア―トワ―ク方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16451590A JP2513907B2 (ja) | 1990-06-22 | 1990-06-22 | プリント板製造におけるア―トワ―ク方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0453950A true JPH0453950A (ja) | 1992-02-21 |
| JP2513907B2 JP2513907B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=15794631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16451590A Expired - Fee Related JP2513907B2 (ja) | 1990-06-22 | 1990-06-22 | プリント板製造におけるア―トワ―ク方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2513907B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04119470A (ja) * | 1990-09-10 | 1992-04-20 | Nec Software Ltd | プリント基板ｃａｄシステムにおける製造用アートワーク情報生成方式 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61235838A (ja) * | 1985-04-11 | 1986-10-21 | Casio Comput Co Ltd | 導電体パタ−ンの露光装置 |
| JPS6445840U (ja) * | 1987-09-14 | 1989-03-20 |
-
1990
- 1990-06-22 JP JP16451590A patent/JP2513907B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61235838A (ja) * | 1985-04-11 | 1986-10-21 | Casio Comput Co Ltd | 導電体パタ−ンの露光装置 |
| JPS6445840U (ja) * | 1987-09-14 | 1989-03-20 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04119470A (ja) * | 1990-09-10 | 1992-04-20 | Nec Software Ltd | プリント基板ｃａｄシステムにおける製造用アートワーク情報生成方式 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2513907B2 (ja) | 1996-07-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |