JPH0454143A - ビスフェノールaの製造方法 - Google Patents
ビスフェノールaの製造方法Info
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- JPH0454143A JPH0454143A JP2159625A JP15962590A JPH0454143A JP H0454143 A JPH0454143 A JP H0454143A JP 2159625 A JP2159625 A JP 2159625A JP 15962590 A JP15962590 A JP 15962590A JP H0454143 A JPH0454143 A JP H0454143A
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- Japan
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- reactor
- reaction
- distributor
- bisphenol
- secondary reactor
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン(以下、ビスフェノールAと称する)の製造方法
に関する。更に詳しくは、フェノールとアセトンを塩酸
触媒の存在下に反応させてビスフェノールAを製造する
方法において、連続的に運転されている一次反応機から
回分的に運転されている二次反応機への液の供給を、反
応機間の配管に反応液を実質的に滞留させることなく行
うことを特徴とするビスフェノールへの製造方法に関す
る。
ロパン(以下、ビスフェノールAと称する)の製造方法
に関する。更に詳しくは、フェノールとアセトンを塩酸
触媒の存在下に反応させてビスフェノールAを製造する
方法において、連続的に運転されている一次反応機から
回分的に運転されている二次反応機への液の供給を、反
応機間の配管に反応液を実質的に滞留させることなく行
うことを特徴とするビスフェノールへの製造方法に関す
る。
ビスフェノールAは酸性触媒存在下に、成る場合にはイ
オウ化合物のような助触媒を加えて、アセトンと過剰の
フェノールから製造される。
オウ化合物のような助触媒を加えて、アセトンと過剰の
フェノールから製造される。
この縮合反応の触媒としては塩酸又は強酸性イオン交換
樹脂が知られている。塩酸を使用し、た場合には低温で
操作することにより、ビスフェノールAとフェノールの
付加物を晶出させなから反応させるため、反応を進めな
から主要副生成物であるo、 p’一体をp、p一体で
あるビスフェノールAに異性化することにより減らすこ
とかできる。 しかし、反応を連続的に行う場合には、
付加物結晶を含むスラリーの移送のために、フェノール
をより過剰に使用する必要からo、 p’一体の増加か
避けられず、一方、回分式で反応を行う場合には、アセ
トンの初期濃度か高い為にもう一つの主要副原料である
シアニン化合物か増加してしまうという欠点かあった。
樹脂が知られている。塩酸を使用し、た場合には低温で
操作することにより、ビスフェノールAとフェノールの
付加物を晶出させなから反応させるため、反応を進めな
から主要副生成物であるo、 p’一体をp、p一体で
あるビスフェノールAに異性化することにより減らすこ
とかできる。 しかし、反応を連続的に行う場合には、
付加物結晶を含むスラリーの移送のために、フェノール
をより過剰に使用する必要からo、 p’一体の増加か
避けられず、一方、回分式で反応を行う場合には、アセ
トンの初期濃度か高い為にもう一つの主要副原料である
シアニン化合物か増加してしまうという欠点かあった。
これらを補う方法として、特開平1−180843号公
報には、原料として使用するアセトンの20乃至60%
までを連続的に操作される反応機内で反応させ、この未
反応アセトンを含む反応混合物を塩酸触媒の存在下にさ
らに回分式反応機で反応させた後に、反応生成物を精製
工程で処理することを特徴とするビスフェノールAの製
造方法か提案されている。
報には、原料として使用するアセトンの20乃至60%
までを連続的に操作される反応機内で反応させ、この未
反応アセトンを含む反応混合物を塩酸触媒の存在下にさ
らに回分式反応機で反応させた後に、反応生成物を精製
工程で処理することを特徴とするビスフェノールAの製
造方法か提案されている。
この改良された方法においても、最初の段階の反応を行
う一次反応機から、次の段階を行う二次反応機へ反応液
を装入する際に、反応液を移送する配管系に滞留部が出
来てしまうと、配管内でビスフェノールAへの反応が更
に進行して、ビスフェノールAとフェノールとの結晶を
含むスラリーを形成したり、配管内壁から結晶が成長し
たりして、ついには配管閉塞等の事故か発生し、プロセ
スの正常な運転か不可能となってしまう。
う一次反応機から、次の段階を行う二次反応機へ反応液
を装入する際に、反応液を移送する配管系に滞留部が出
来てしまうと、配管内でビスフェノールAへの反応が更
に進行して、ビスフェノールAとフェノールとの結晶を
含むスラリーを形成したり、配管内壁から結晶が成長し
たりして、ついには配管閉塞等の事故か発生し、プロセ
スの正常な運転か不可能となってしまう。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は、このような問題を解決する方法を提供するも
のである。
のである。
すなわち、本発明の課題はフェノールとアセトンを塩酸
触媒の存在下に反応させてヒスフェノールAを製造する
プロセスにおいて、−次反応機から二次反応機への反応
液の装入方法を提供することである。
触媒の存在下に反応させてヒスフェノールAを製造する
プロセスにおいて、−次反応機から二次反応機への反応
液の装入方法を提供することである。
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討し遂
に本発明に到った。
に本発明に到った。
すなわち、本発明は、フェノールとアセトンを塩酸触媒
の存在下に反応させてヒスエノール八を製造する方法に
おいて、連続的に運転されている一次反応機から回分的
に運転されている二次反応機への液の供給を、これらの
反応機間の配管に反応液を実質的に滞留させることなく
行うことを特徴とするヒスフェノールへの製造方法であ
る。
の存在下に反応させてヒスエノール八を製造する方法に
おいて、連続的に運転されている一次反応機から回分的
に運転されている二次反応機への液の供給を、これらの
反応機間の配管に反応液を実質的に滞留させることなく
行うことを特徴とするヒスフェノールへの製造方法であ
る。
この方法では、−次反応機に塩酸および/または塩化水
素を流入させながら、フェノールおよびアセトンを連続
的に装入して反応させる。通常、アセトンの転化率か2
0〜6096の状態の反応液を、−機以上の二次反応機
に送り、必要に応じてフェノールまたはアセトン、およ
び触媒を各反応機に送入させて反応を進めている。
素を流入させながら、フェノールおよびアセトンを連続
的に装入して反応させる。通常、アセトンの転化率か2
0〜6096の状態の反応液を、−機以上の二次反応機
に送り、必要に応じてフェノールまたはアセトン、およ
び触媒を各反応機に送入させて反応を進めている。
このような反応において、通常−次反応機から二次反応
機への反応液の移送は、配管を通して複数個の二次反応
機に移送される。
機への反応液の移送は、配管を通して複数個の二次反応
機に移送される。
すなわち、反応液の移送か一次反応機と二次反応機とを
結ぶ配管を通して行われる場合、この配管内に反応液の
滞留部か生じると、ここで反応か進行し配管閉塞等の事
故を起ニす。
結ぶ配管を通して行われる場合、この配管内に反応液の
滞留部か生じると、ここで反応か進行し配管閉塞等の事
故を起ニす。
本発明は、このような事故の発生を未然に防ぐような反
応液の分配装置であり、−次反応機から二次反応機へ反
応液を装入する方法である。
応液の分配装置であり、−次反応機から二次反応機へ反
応液を装入する方法である。
本発明の方法で使用する、−次反応機と複数の二次反応
機との間に介在させる反応液を実質的に滞留させること
のない分配器は、プロセスの安全上の設計を勘案して、
−次反応機にてきる限り最短の位置に設置された複数の
反応機との間に設け、分配器から複数の二次反応機への
各配管の長さかほぼ等しい配管で結ばれるのか好ましい
。
機との間に介在させる反応液を実質的に滞留させること
のない分配器は、プロセスの安全上の設計を勘案して、
−次反応機にてきる限り最短の位置に設置された複数の
反応機との間に設け、分配器から複数の二次反応機への
各配管の長さかほぼ等しい配管で結ばれるのか好ましい
。
また、−次反応機から分配器への配管は、分配器の頭頂
部へ、また分配器から二次反応機への配管は分配槽の底
に近い位置から各二次反応機種へ反応液の自重で流入す
るように各二次反応機へ結ばれるのが好ましい。
部へ、また分配器から二次反応機への配管は分配槽の底
に近い位置から各二次反応機種へ反応液の自重で流入す
るように各二次反応機へ結ばれるのが好ましい。
各配管の途中には設計上可能な限り、分配器に近い位置
に開閉弁を設ける。
に開閉弁を設ける。
これらにより一次反応機から二次反応機への反応液の移
送は実質的に滞留かなく円滑に流れる状態て行うことか
てきるのて、配管内で反応か進行して生じる生成物が、
配管を閉塞するのを防止できる。
送は実質的に滞留かなく円滑に流れる状態て行うことか
てきるのて、配管内で反応か進行して生じる生成物が、
配管を閉塞するのを防止できる。
〔実施例〕
本発明を更に詳し〈実施例により説明する。
実施例
図面に示す分配器を用いて実施した。
図1に示す分配器は、−次反応機からの反応液を移送す
る配管■か分配器の頭頂に結ばれ、分配器から各二次反
応機への配管■は分配器の周囲に設置された各二次反応
機と放射状に結はれ、かつ、二次反応機方向に低くなる
ように斜めに取りつけられ、さらに、分配器の側壁の上
端に、−次反応機と連結しているオーバフロー管を設け
てなるものである。また、この間の弁■は出来る限り分
配器に近く設けられ、配管内に反応液の滞留部かできる
のを極力少なくするように設計されたものである。
る配管■か分配器の頭頂に結ばれ、分配器から各二次反
応機への配管■は分配器の周囲に設置された各二次反応
機と放射状に結はれ、かつ、二次反応機方向に低くなる
ように斜めに取りつけられ、さらに、分配器の側壁の上
端に、−次反応機と連結しているオーバフロー管を設け
てなるものである。また、この間の弁■は出来る限り分
配器に近く設けられ、配管内に反応液の滞留部かできる
のを極力少なくするように設計されたものである。
この分配器を使用する本発明のビスフェノールへの製造
は、−次反応機にフェノール、アセトンを装入し塩化水
素を吹き込みなから反応接円に塩化水素を満たして反応
させ、アセトンの転化率か20〜60%に達した反応液
を分配器を通して各二次反応機に連続的に供給した。
は、−次反応機にフェノール、アセトンを装入し塩化水
素を吹き込みなから反応接円に塩化水素を満たして反応
させ、アセトンの転化率か20〜60%に達した反応液
を分配器を通して各二次反応機に連続的に供給した。
必要に応してアセトン、フェノールを装入し、塩化水素
を各二次反応機に流通させて二次反応機での反応を行っ
た。反応液からは、この後、常用の方法でビスフェノー
ルAを得た。
を各二次反応機に流通させて二次反応機での反応を行っ
た。反応液からは、この後、常用の方法でビスフェノー
ルAを得た。
−次反応機から二次反応機への反応液の供給に際して、
分配器をオーバフローする反応液はオーバーフローライ
ンを通して一次反応機に連続的に戻された。また、二〇
オーバーフロー管は分配器から二次反応機への配管のい
ずれかか万一閉塞した場合に反応液を一次反応機に戻し
て、配管閉塞によるトラブルを防止する効果を補うこと
かできる。
分配器をオーバフローする反応液はオーバーフローライ
ンを通して一次反応機に連続的に戻された。また、二〇
オーバーフロー管は分配器から二次反応機への配管のい
ずれかか万一閉塞した場合に反応液を一次反応機に戻し
て、配管閉塞によるトラブルを防止する効果を補うこと
かできる。
本発明の方法により反応液装入部における滞留部分か実
質的になくなり高濃度ビスフェノールAによる配管閉塞
等のトラブルは全く無くなった。
質的になくなり高濃度ビスフェノールAによる配管閉塞
等のトラブルは全く無くなった。
本発明の方法により、−次反応機からの反応液は、二次
反応機への装入部分における滞留部分か実質的になくな
り、ビスフェノールAによる配管閉塞等のトラブルは全
くなくなり、生産性の向上に大いに寄与した。
反応機への装入部分における滞留部分か実質的になくな
り、ビスフェノールAによる配管閉塞等のトラブルは全
くなくなり、生産性の向上に大いに寄与した。
図面の第1図は、本発明の方法で使用する分配器の一例
を示した。 図中、各記号は次を示す。 ■・−次反応機から分配器への反応液供給ライン、 ■:分配器、 ■ニオバフローライン、 ■:分配器から二次反応器への反応液供給ライン 第2図は、上記の分配器で一次反応機と二次反応機を連
結した部分の工程図を示すものである。 図中、各記号は次を示す。 0ニ一次反応機 @:ポンブ @:液分配器 @二二次反応機
を示した。 図中、各記号は次を示す。 ■・−次反応機から分配器への反応液供給ライン、 ■:分配器、 ■ニオバフローライン、 ■:分配器から二次反応器への反応液供給ライン 第2図は、上記の分配器で一次反応機と二次反応機を連
結した部分の工程図を示すものである。 図中、各記号は次を示す。 0ニ一次反応機 @:ポンブ @:液分配器 @二二次反応機
Claims (1)
- 1)フェノールとアセトンを塩酸触媒の存在下に反応さ
せてビスェノールAを製造する方法において、連続的に
運転されている一次反応機から回分的に運転されている
二次反応機への液の供給を、これらの反応機間の配管に
反応液を実質的に滞留させることなく行うことを特徴と
するビスフェノールAの製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2159625A JP2504857B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | ビスフェノ―ルaの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2159625A JP2504857B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | ビスフェノ―ルaの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0454143A true JPH0454143A (ja) | 1992-02-21 |
| JP2504857B2 JP2504857B2 (ja) | 1996-06-05 |
Family
ID=15697812
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2159625A Expired - Fee Related JP2504857B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | ビスフェノ―ルaの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2504857B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003511429A (ja) * | 1999-10-12 | 2003-03-25 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | ビスフェノール予備反応器の清浄化方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01180843A (ja) * | 1988-01-08 | 1989-07-18 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ビスフェノールaの製造方法 |
-
1990
- 1990-06-20 JP JP2159625A patent/JP2504857B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01180843A (ja) * | 1988-01-08 | 1989-07-18 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ビスフェノールaの製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003511429A (ja) * | 1999-10-12 | 2003-03-25 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | ビスフェノール予備反応器の清浄化方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2504857B2 (ja) | 1996-06-05 |
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