JPH0455428B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の詳細な説明〕 本発明は新規なスルホニル尿素除草剤性化合物
類、それらの農業用に適している組成物類および
望ましくない植物の生長を調節するためのそれら
の使用方法に関するものである。 望ましくない植物の生長を調節するのに効果の
ある新規化合物類はたえず要求されている。多く
の一般的状況下では、若干の例をあげれば例えば
ワタ、イネ、トウモロコシ、コムギおよびダイズ
の如き有用作物中での雑草の生長を調節するよう
な化合物類が探されている。そのような作物中で
の野放しの雑草生長は相当な被害を与え、農民の
利益を減じ、そして消費者価格の高騰をもたら
す。他の状況下では、全ての植物の生長を調節す
る除草剤が望まれる。全ての植物を完全に防除す
ることが望まれる場所は、燃料貯蔵タンク、弾薬
倉庫および工業用貯蔵場所の周辺の場所である。
これらの目的用の市販の製品はたくさんあるが、
さらに有効な安価でしかも環境上安全な製品類が
たえず求められている。 「スルホニル尿素」除草剤類は、最近の数年間内
に発見された非常に強力な種類の除草剤である。
この種類の除草剤には多くの構造上の変種が存在
しているが、それらは一般的に二個の芳香族また
は複素芳香族環を連結しているスルホニル尿素架
橋−SO₂NHCONH−を含有している。 米国特許4394506は、 〔式中、 R₂はＨ、Ｆ、Cl、Br、C₁−C₃アルキル、NO₂、
SO₂CH₃、OCH₃、ScH₃，CF₃、Ｎ（CH₃）₂、NH₂
またはCNであり、ＸはＨ、Cl、CH₃、OCH₃、
OCH₂CH₃またはOCH₂CH₂OCH₃であり、そして
ＹはＨ、ハロゲン、C₁−C₄アルキル、C₁−C₄置
換されたアルキル、C₁−C₄アルコキシ、アルキ
ルアミノ、ジアルキルアミノなどである〕 の如き除草剤性のオルト−アルコキシカルボニル
ベンゼンスルホンアミド類を開示している。 南アフリカ特許出願81／4874は、式 〔式中、 Ａはハロゲンもしくは種々の他の有機置換基に
より置換されているC₁−C₆アルキルまたは置換
されているかもしくは未置換のC₂−C₆アルケニ
ル基であり、 ＸはＯ、Ｓ、SOまたはSO₂であり、R₁はＨ、
ハロゲン、C₁−C₅アルキル、C₂−C₅アルケニル
またはYR₅であり、R₂はＨ、ハロゲン、C₁−C₅
アルキル、C₂−C₅アルケニル、C₁−C₄ハロアル
キル、CO₂R₆、YR₅、NO₂またはCONR₇R₈であ
り、そして R₃およびR₄はそれぞれ互いに独立して、水
素、C₁−C₄アルキル、C₁−C₄アルコキシ、C₁−
C₄アルキルチオ、C₁−C₄ハロアルキル、ハロゲ
ン、または炭素数が多くても４のアルキシアルキ
ルである〕 の除草剤性スルホンアミド類を開示している。 南アフリカ特許出願82／5042は、式 〔式中、 ＡはC₃−C₆アルキニルであり、 ＸはＯ，Ｓ、SOまたはSO₂であり、 R₁はＨ、ハロゲン、C₁−C₅アルキル、C₂−C₅ア
ルケニルまたはYR₅であり、 R₂はＨ、ハロゲン、C₁−C₅アルキル、C₂−C₅ア
ルケニル、C₁−C₄ハロアルキル、CO₂R₆、YR₅，
NO₂またはCONR₇R₈であり、そして R₃およびR₄は互いに独立して、水素、C₁−C₄ア
ルキル、C₁−C₄アルコキシ、C₁−C₄アルキルチ
オ、C₁−C₄ハロアルキル、C₁−C₄ハロアルコキ
シ、ハルゲンまたは炭素数が多くとも４のアルコ
キシアルキルである〕 の除草剤性スルホンアミド類を開示している。 南アフリカ特許出願82／5671は、式 〔式中、 Ａはハロゲンもしくは種々の他の有機置換基に
より置換されているC₁−C₆アルキル基またはC₂
−C₆アルケニル基であり、 ＸはＯ、Ｓ、SOまたはSO₂であり、 Ｒ、はＨ、ハロゲン、C₁−C₅アルキル、C₂−C₅
アルケニルまたはYR₅であり、 R₂はＨ、ハロゲン、C₁−C₅アルキル、C₂−C₅ア
ルケニル、C₁−C₄ハロアルキル、CO₂R₆、YR₅、
NO₂またはCONR₇R₈であり、そして、 R₃およびR₄は互いに独立して、水素、C₁−C₄ア
ルキル、C₁−C₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ま
たは炭素数が多くとも４のアルコキシアルキルで
ある〕 の除草剤性スルホンアミド類を開示している。 南アフリカ特許出願82／7439は、式 〔式中、 ＡはC₃−C₆アルキニル基；ハロゲン、C₁−C₄
アルコキシ、C₁−C₄アルキルチオ、C₁−C₄アル
キルスルフイニル、C₁−C₄アルキルスルホニル、
C₁−C₄ハロアルコキシ、C₁−C₄ハロアルキルチ
オ、C₁−C₄ハロアルキルスルフイニルもしくは
C₁−C₄ハロアルキルスルホニルにより置換され
たC₁−C₆アルキル基；または上記の置換基の１
種により置換されたC₂−C₆アルケニル基であり、
ＸはＯ、Ｓ、SOまたはSO₂であり、R₁は水素、
ハロゲン、C₁−C₅アルキル、C₂−C₅アルケニル
またはYR₆基であり、R₂は水素、ハロゲン、C₁
−C₅アルキル、C₂−C₅アルケニル、C₁−C₄ハロ
アルキル、YR₆、CO₂R₇、NO₂またはCONR₈R₉
であり、 R₃は水素、C₁−C₄アルキル、C₁−C₄アルコキシ、
C₁−C₄アルキルチオ、C₁−C₄ハロアルキル、C₁
−C₄ハロアルコキシ、ハロゲンまたは炭素数が
多くとも４のアルコキシアルキルであり、 R₄は水素、メチルまたはエチルであり、R₅は水
素、C₁−C₄アルキル、C₁−C₃アルコキシ、メト
キシメチル、シアノメチルまたはシアノエチルで
あり、 R₆およびR₇はそれぞれC₁−C₅アルキル、C₂−C₅
アルケニルまたはC₂−C₆アルキニルである〕 の除草剤性スルホンアミド類を開示している。 南アフリカ特許出願84／2722は、式 〔式中、 Ａは式CR₆R₇XR₈、CR₉R₁₀R₁₁またはCHR₇
SCQR₂₁の基であり、 R₁は水素、ハロゲン、ニトロ、シアニ、C₁−C₄
アルキル、C₁−C₄ハロアルキル、YR₁₄、
CONR₁₂R₁₃、NR₁₂R₁₃、SONR₁₅R₁₆、OSO₂R₁₇
またはCOR₁₈であり、 R₂は水素、ハロゲン、C₁−C₄アルキル、C₁−
C₄アルコキシ、C₁−C₄アルキルチオ、C₁−C₄ア
ルキルスルフイニルまたはC₁−C₄アルキルスル
ホニルであり、 R₃およびR₄は互いに独立して、それぞれ水素、
ハロゲン、C₁−C₄アルキル、C₁−C₄ハロアルキ
ル、C₁−C₄アルコキシ、C₁−C₄ハロアルコキシ、
C₁−C₄アルキルチオ、C₁−C₄ハロアルキルチオ、
C₂−C₅アルコキシアルキルまたはNR₁₉R₂₀であ
り、 R₉は水素、ハロゲン、C₁−C₄アルキル、C₁−
C₄アルコキシ、C₁−C₄アルキルチオ、C₁−C₄ア
ルキルスルフイニルまたはC₁−C₄アルキルスル
ホニルであり、R₁₀は水素、ハロゲンまたはメチ
ルであり、R₁₁は基COR₂₄；またはシアノ、ニト
ロ、ヒドロキシル、C₁−C₄アルコキシ、C₁−C₄
アルキルチオなどの群から選択された置換基によ
りモノーもしくはポリ置換されたC₁−C₄アルキ
ル基であり、 R₁₈はＨ、C₁−C₄アルコキシおよび種々の他の有
機基である〕 の除草剤性ベンゼンスルホンアミド類を開示して
いる。 南ミアフリカ特許出願83／0127は、式 〔式中、 R₁は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、C₁−
C₄ハロアルキル、C₁−C₄アルキル、C₁−C₄アル
コキシ、COR₆、NR₇R₈、Ｓ（Ｏ）_n−C₁−C₄アル
キルまたはSO₂R₉であり、 R₂はＨ、Ｆ、Cl、Br、NO₂、CF₃、NR₂₀R₂₁、
C₁−C₂アルキル、C₁−C₂アルコキシまたはＳ
（Ｏ）_n−C₁−C₄アルキルであり、 R₃はＨ、Ｆ、Cl、Br、NH₂，NO₂または
OCH₃であり、 R₆は水素、C₁−C₄アルキル、C₃−C₅アルケニル
オキシ、C₃−C₅アルキニルオキシ、C₁−C₄ハロ
アルキル、C₁−C₅アルキルチオ、フエノキシ、
ベンジルオキシ、NR₁₀R₁₁または未置換のもしく
は１−３個のハロゲン原子もしくはC₁−C₃アル
コキシにより置換されたC₁−C₅アルコキシであ
り、 R₁₈は水素、C₁−C₃アルキルまたはC₁−C₃アル
コキシであり、 ｍは０，１または２であり、そしてＹはC₁−
C₃アルキル、C₁−C₃ハロアルキル、C₁−C₃アル
コキシ、C₁−C₃ハロアルコキシ、C₂−C₃アルコ
キシアルキル、C₁−C₃アルキルチオ、ハロゲン
またはNR₁₆R₁₇である〕 の除草剤性スルホンアミド類を開示している。 今、一般的もしくは選択的な発芽前または発芽
後除草剤としてまたは植物生長調節剤として作用
する新規な除草剤性化合物類および組成物類を見
出した。本発明の化合物類は式 〔式中、 ＲはＨまたはCH₃であり、 R₁はC₁−C₃アルキルであり、 R₂はRaまたはRbであり、 RaはC₁−C₆アルコキシ、C₁−C₈アルキルチ
オ、C₁−C₈アルキルスルフイニル、C₁−C₈アル
キルスルホニル、C₃−C₆アルケニルオキシ、C₃
−C₆アルキニルオキシ、C₃−C₆アルケニルチオ、
C₃−C₆アルケニルスルフイニル、C₃−C₆アルケ
ニルスルホニル、C₃−C₆アルキニルチオ、C₃−
C₆アルキニルスルフイニル、C₃−C₆アルキニル
スルホニル、OCH₂CH₂OCH₃，OCH₂CH₂
SCH₃、OCH₂CH₂Ｓ（Ｏ）CH₃，OCH₂CH₂SO₂
CH₃；１−３個のＦ，ClもしくはBr原子で置換
されたC₂−C₆アルキル；CH₂Ｆ、CHF₂；C₁−C₂
アルコキシ、C₁−C₂アルキルチオ、C₁−C₂アル
キルスルフイニルもしくはC₁−C₂アルキルスル
ホニルで置換されたC₁−C₄アルキル；OCF₂Ｈ、
OCH₂CH₂Ｆ、OCH₂CHF₂、OCH₂CF₃、OCH₂
CH₂Cl、Ｓ−シクロヘキシル、Ｓ−C₆H₅または
SCH₂C₆H₅であり、 RbはC₁−C₃アルキル、シクロプロピル、C₁−
C₃アルコキシ、C₁−C₃アルキルチオ、C₁−C₃ア
ルキルスルフイニル、C₁−C₃アルキルスルホニ
ル、アリルオキシ、アリルチオ、アリルスルフイ
ニル、アリルスルホニル、プロパルギルオキシ、
プロパルギルチオ、プロパルギルスルフイニル、
プロパルギルスルホニル、OCF₂Ｈ、OCH₂CH₂
Ｆ、OCH₂CHF₂、OCH₂CF₃、OCH₂CH₂Cl；ま
たは１−３個のＦもしくはCl原子で置換された
C₁−C₃アルキル；またはOCH₃もしくはSCH₃で
置換されたC₁−C₂アルキルであり、 ＸはCH₃、OCH₃、OC₂H₅、Cl、BrまたはOCF₂
Ｈであり、 ＹはC₁−C₂アルキル、C₁−C₂アルコキシ、
OCF₂Ｈ、Ｏ CH₂CH₂Ｆ、OCH₂CHF₂、OCH₂
CF₃、NHC H₃またはＮ（CH₃）₂であり、 ＺはCHまたはＮであり、 但し条件として、 １ ＸがClまたはBrであるときには、ＺはCHで
あり、そして ＹはC₁−C₂アルコキシ、NHCH₃またはＮ
（CH₃）₂であり、 ２ RaがSCH₃であるときには、ＲはＨであり、
R₁はCH₃であり、ＸはOCH₃であり、Ｙは
OCH₃であり、そしてＺはCHであり、 ３ RaがOCH₃であるときには、ＲはＨであり、
R₁はCH₃であり、ＸはOCH₃であり、ＹはCH₃
であり、そしてＺはＮであり、 ４ Ｘおよび／またはＹがOCF₂Ｈであるとき、
R₂はRbであり、 4A ＸおよびＹのいずれもがOCF₂Ｈでないと
き、R₂はRaであり、 ５ ＸまたはＹがOCF₂Ｈであるときには、Ｚは
CHであり、そして ６ ＸまたはＹがOCF₂Ｈであるときには、他方
はCH₃，OCH₃またはOCF₂Ｈである〕 の化合物、およびそれらの農業的に適している塩
類である。 比較的高い除草剤活性、比較的大きい植物生長
調節剤活性および／または比較的好ましい合成の
容易さのために好ましい化合物類は下記のもので
ある： (1) R₂がRaであり、そしてRaがCH₃Ｏ、CH₃
Ｓ、CH₃SO₂、C₃−C₆アルケニルオキシ、C₃−
C₆アルキニルキシ、C₃−C₆アルケニルチオ、
C₃−C₆アルケニルスルフイニル、C₃−C₆アル
ケニルスルホニル、C₃−C₆アルキニルスルフ
イニル、C₃−C₆アルキニルスルホニル；１−
３個のＦ、ClもしくはBr原子で置換されたC₂
−C₆アルキル；CH₂Ｆ、CHF₂；C₁−C₂アルコ
キシ、C₁−C₂アルキルチオ、C₁−C₂アルキル
スルフイニルもしくはC₁−C₂アルキルスルホ
ニルで置換されたC₁−C₄アルキル；OCH₂CH₂
OCH₃、OCH₂CH₂SCH₃、OCH₂CH₂Ｓ（Ｏ）
CH₃、OCH₂CH₂SO₂CH₃、OCF₂Ｈ、OCH₂
CH₂Ｆ、OCH₂CHF₂、OCH₂CF₃またはOCH₂
CH₂Clである、 式の化合物類。 (2) ＲがＨである、 好適項(1)の化合物類。 (3) RaがCH₃Ｏ、CH₃Ｓ、CH₃SO₂、C₃−C₄ア
ルケニルオキシ、C₃−C₄アルケニルチオ、C₃
−C₄アルケニルスルフイニル、C₃−C₄アルケ
ニルスルホニル；１−３個のＦもしくはCl原子
で置換されたC₂−C₃アルキル；CH₂Ｆ、
CHF₂；C₁−C₂アルコキシ、C₁−C₂アルキルチ
オ、C₁−C₂アルキルスルフイニルもしくはC₁
−C₂アルキルスルホニルで置換されたC₁−C₂
アルキル；OCHF₂、OCH₂CH₂Ｆ、OCH₂CF₃
またはOCH₂CH₂Clである、 好適項(2)の化合物類。 (4) R₁がCH₃またはCH₂CH₃であり、 ＸがCH₃、OCH₃またはClであり、そしてＹが
CH₃、OCH₃、C₂H₅またはOC₂H₅である、 好適項(3)の化合物類。 (5) Raがアリルオキシ、アリルチオ、プロパル
ギルオキシ、プロパルギルチオ、CH₂Ｆ、
OCHF₂、OCH₂CH₂Ｆ、CH₃ＳまたはCH₃SO₂
である、 好適項(4)の化合物類。 (6) R₂がRaであり、そしてRaがC₂−C₆アルコキ
シ、C₂−C₈アルキルチオ、C₂−C₈アルキルス
ルホニル、C₁−C₈アルキルスルフイニル、Ｓ
−シクロヘキシル、Ｓ−C₆H₅またはSCH₂C₆
H₅である、 式の化合物類。 (7) ＲがＨである、 好適項(6)の化合物類。 (8) RaがC₂−C₄アルコキシ、C₂−C₄アルキルチ
オ、C₂−C₄アルキルスルホニルまたはC₁−C₄
アルキルスルフイニルである、 好適項(7)の化合物類。 (9) R₁がCH₃またはC₂H₅であり、ＸがCH₃、
OCH₃またはClであり、そしてＹがCH₃、
OCH₃、C₂H₅またはOC₂H₅である、 好適項(8)の化合物類。 (10) RaがC₂−C₃アルコキシ、C₂−C₃アルキルチ
オまたはC₁−C₃アルキルスルフイニルである、 好適項(9)の化合物類。 (11) R₂がRbであり、そしてRbがC₁−C₂アルキ
ル、シクロプロピル、C₁−C₂アルコキシ、C₁
−C₃チオアルキル、C₁−C₃アルキルスルフイ
ニル、C₁−C₃アルキルスルホニル、CF₃、プロ
パルギルオキシ、プロパルギルチオ、プロパル
ギルスルフイニル、プロパルギルスルホニル、
OCF₂Ｈ、OCH₂CH₂Ｆ、OCH₂CHF₂、OCH₂
CF₃、OCH₂CH₂Cl；またはOCH₃もしくは
SCH₃で置換されたC₂アルキルである、 式の化合物類。 (12) ＲがＨであり、 R₁がC₁−C₂アルキルであり、 RbがC₁−C₂アルキル、C₁−C₂アルコキシ、
C₁−C₂アルキルチオ、OF₃またはOCF₂Ｈであ
り、そして ＹがCH₃またはOCH₃である、 好適項〓の化合物類。 (13) RbがCH₃、OCH₃、OCH₂CH₃またはCF₃で
ある、 好適項(12)の化合物類。 (14) R₂がRbであり、そしてRbがプロピル、プ
ロピルオキシ、アリルオキシ、アリルチオ、ア
リルスルフイニル、アリルスルホニル、CH₃
OCH₂、CH₃SCH₂、CH₂Ｆ、CHF₂；１−３個
のＦ原子で置換されたC₂−C₃アルキル；また
は１−３個のC1原子で置換されたC₁−C₃アル
キルである、 式の化合物類。 (15) ＲがＨであり、 R₁がC₁−C₂アルキルであり、 RbがCH₂ＦまたはCH₂CH₂Ｆであり、そし
てＹがCH₃またはOCH₃である、 好適項(14)の化合物類。 最も高い除草剤活性、最も大きい植物生長調節
剤活性および／または最も好ましい合成の容易さ
のために特に好適なものは下記のものである：２
−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）
アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４−（メ
チルチオ）安息香酸メチルエステル、融点201−
202℃。 ４−メトキシ−２−〔〔（４−メトキシ−６−メチ
ル−１，３，５−トリアジン−２−イル）アミノ
カルボニル〕アミノスルホニル〕安息香酸メチル
エステル、融点190−192℃。 ２−〔〔〔４−（ジフルオロメトキシ）−６−メトキ
シピリミジン−２−イル〕−アミノカルボニル〕
アモノスルホニル〕−４−エトキシ安息香酸メチ
ルエステル、融点195−196℃。 本発明はまた発芽前もしくは発芽後除草剤とし
てのまたは植物生長調節剤としての上記の化合物
類およびそれらの組成物類の使用方法にも関する
ものである。 合 成 式の化合物類は反応式１〜３および14中に記
されている１種以上の下記の方法により製造でき
る。 反応式１中に示されている如く、式の化合物
類は式(1)の適当に置換されたスルホニルイソシア
ネートを式(2)の適当なアミノまたはメチルアミノ
複素環と反応させることにより製造できる。Ａは
【式】であり、そしてＲ、R₁、R₂Ｘ、 ＹおよびＺは上記で定義されている如くである。 この反応は、例えばジクロロメタン１，２−ジ
クロロエタン、テトラヒドロフランまたはアセト
ニトリルの如き不活性の非プロトン性有機溶媒中
で20°〜85℃の間の温度で最良に実施される。添
加順序は厳密なものではないが、スルホニルイソ
シアネートまたはそれの反応溶媒中溶液を攪拌さ
れているアミン懸濁液に加えることがしばしば簡
便である。 ある場合には、希望する生成物は反応溶媒中に
室温において不溶性であり、そしてそこから純粋
な形で結晶化する。反応溶媒中に可溶性である生
成物類は溶媒の蒸発に単離される。 次に、蒸発残渣を例えば１−クロロブタンまた
はエチルエーテルの如き溶媒と研和しそして過
することにより、例えば１，２−ジクロロエタ
ン、１−クロロブタンおよびヘプタンの混合物か
ら再結晶化させることにより、またはシリカゲル
上のクロマトグラフイにより、式の化合物類を
精製できる。 式の化合物類の多くは反応式２に示されてい
る工程により製造でき、ここでＡ，Ｒ，R₁およ
びR₂は上記で定義されている如くである。 反応式２にしめされている反応は、式(3)のフエ
ニルカルバメート類を式(2)のアミノ複素環類と約
20−100℃の温度において約30分間〜24時間の期
間にわたつて接触させることにより実施される。
生成物は反応溶媒の蒸発により単離され、そして
前期の方法により精製される。 式(3)のフエニルカルバメート類は、1982年１月
27日に発行されたヨーロツパ特許出願818102824
（公告番号44808）または南アフリカ特許出願
825042中に記されている方法または当技術の専門
家に公知のそれらの変法により製造できる。 一方、式の化合物類の多くは反応式３に記さ
れている方法により製造でき、ここでＡ，R₁お
よびR₂は前期で定義されている如くでありそし
てＲはＨである。 反応式３の反応は、南アフリカ特許出願830441
に記されている方法と同様な方法により等モル量
の式(4)のスルホンアミドを式(5)の複素環式フエニ
ルカルバメートと等モル量の１，８−ジアザビシ
クロ−〔5.4.0〕ウンデセ−７−エン（DBU）の存
在下で接触させることにより実施できる。式(5)の
フエニルカルバメートは南アフリカ特許出願
825671および南アフリカ特許出願825045中に記さ
れている方法または当技術の専門家に公知のそれ
らの変法により製造できる。 式の化合物類のあるものは、R₂がOHまたは
SHである式の化合物類から製造できる。 式（4a）の未置換のおよび置換されたアルコ
キシ、アルケニルオキシおよびアルキニルオキシ
ベンゼンスルホンアミド中間生成物類は１種以上
の下記の一般的方法により製造できる。 反応式４に示されている如く、非常に有用な一
般的方法はフエノール（６）から出発する。 〔式中、 R₁は上記で定義されている如くであり、R₃は
C₁−C₆アルキル、C₃−C₆アルケニル、C₃−C₆ア
ルキニル、CF₂Ｈ、CH₂CH₂Ｆ、CH₂CHF₂、
CH₂CH₂OCH₃、CH₂CH₂SCH₃、CH₂CF₃、CH₂
CH₂Clであり、 M₁はNaまたはＫであり、 X₁はCl、Br、Ｉ、【式】 【式】【式】 Ｏ （R₃）₂BF ₄、または 【式】である。〕 例えばジクロロメタンまたはＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド（DMF）の如き適当な極性の非プ
ロトン性溶媒中の４−ヒドロキシ−２−ニトロ安
息香酸（６）の溶液または懸濁液を、少なくとも
２当量の例えばＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルア
ミンまたは炭酸カリウムの如き適当な塩基の存在
下でそして20〜155℃の間の温度において４〜16
時間にわたつて、少なくとも２当量のR₃X₁（７）
で処理する（反応式4a）。溶媒が水と混和性であ
るなら、それを次に蒸発させ、そして残渣をジク
ロメタン中で抽出する。生成物溶液を炭酸ナトリ
ウムまたはカリウム水溶液および水性塩酸で洗浄
し、次に例えば硫酸マグネシウムの如き適当な乾
燥剤上で乾燥させる。過しそして溶媒を蒸発さ
せると、（８）が半精製形で残る。それを再結晶
化またはシリカゲルカラム上でのクロマトグラフ
イによりさらに精製することができる。必要なア
ルキル化剤、アルケニル化剤およびアルキニル化
剤R₃X₁（７）は公知であるかまたは当技術で公知
の種々の方法により製造できる。 R₃がR₁と同じでない場合には、エステル（８）
を水および例えばエタノールまたはｐ−ジオキサ
ンの如き適当な有機共溶媒の混合物中で20〜100
℃の間の温度において４〜16時間にわたつて少な
くとも１当量の水酸化ナトリウムまたはカリウム
で処理する（反応式4b）。反応混合物を次に濃塩
酸を用いて酸性化する。生成物が結晶形で分離す
るなら、それを集める。そうでない場合には水溶
液をエーテルで抽出する。エーテル溶液を硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、過し、そして溶媒を蒸発
させて、カルボン酸（10）与える。 カルボン酸（10）をエステル（12）に転化する
には、それのピリジン中溶液をJ.H.ブリユースタ
ー（Brewster）およびC.J.チオツテイ（Cio−
tti）、Jr.のJ.Am.Chem.Soc.、1955、77、6214の
一般的工程に従いｐ−トルエンスルホニルクロラ
イドおよびR₁OH（11）で順次処理する。 一方、カルボン酸（10）をC.A.ビユーラー
（Buehler）およびD.E.ピアーソン（Pearson）の
Survey of Organic Synthesis、ウイリー−イン
ターサイエンス、ニユーヨーク、1970、802−807
頁により記されている如く過剰のR₁OH11および
例えば塩化水素の如き強酸触媒の使用によりエス
テル（12）に転化することもできる（反応式4c）。 ニトロベンゼン（12）は、C.A.ビユーラーお
よびD.E.ピアーソン（引用文献、413−414頁）に
より記されている如き酢酸中での鉄の使用により
または触媒としての硫化白金並びにF.S.ドウベル
（Dovel）およびH.グリーンフイールド
（Greenfield）のJ.Am.Chem.Soc.、87、2767
（1965）の条件を使用する水素化により、アニリ
ン（13）に還元する（反応式4d）。存在している
他の置換基が水素化または加水素分解に対して潜
在的に敏感でないときには、触媒として硫化白金
の代わりにパラジウムを使用することもできる。 アニリン（13）は、H.ミールウエイン（Mee
−rwein）、G.デイツトマール（Dittmer）、R.ゴ
ルナー（Gollner）、K.ハフナー（Hafner）、F.メ
ンシシュ（Mensch）、O.ステインフオート
（Steinfort）のChem.Ber. 90、841（1957）の一般
的工程を使用して塩化スルホニル（14）に転化さ
れる（反応式4e）。結合段階中の生成物の加水分
解を制限するために、共溶媒としてジクロロメタ
ンを使用することが有利である。 最後に、塩化スルホニル（14）を２当量のアン
モニアを使用してジクロロメタン溶液中で−30〜
−10℃の間の温度においてアミノ化して4aを与
える（反応式4b）。 一方、スルホンアミド類（4a）の多くは反応
式５に示されている工程により２，４−ジヒドロ
キシ安息香酸（15）から出発して製造できる。 (g) （14）NH₃ ――――→（4a） 〔式中、M₁、R₁およびX₁は上記で定義されて
いる如くであり、そして R₃はC₁−C₆アルキル、CH₂CH₂Ｆ、CH₂
CHF₂、CH₂CH₂OCH₃、CH₂CF₃、CH₂CH₂Cl、
CF₂Ｈまたはペンジルである〕。 フエノール（15）を２当量のナトリウムの無水
メタノール、エタノールまたはアミルアルコール
中溶液に加える。１当量より少し多いR₃X₁（７）
を加え、そして混合物を４〜24時間加熱還流す
る。溶媒を真空中で除去し、残渣を1N塩酸およ
びエーテルの間で分配させる。エーテル相を硫酸
ナトリウム上で乾燥し、そして過する。エーテ
ルを蒸発させるとフエノール（16）が残る（反応
式5a）。 カルボン酸（16）を、C.A.ビユーラーおよび
D.E.ピアーソン（前記引用文献、802−807頁）に
より記されているようにして過剰のR₁OHおよび
例えば塩化水素の如き強酸によりエステル（17）
に転化させる（反応式5b）。 フエノール（17）をM.S.ニユーマン
（Newman）およびH.A.カーネス（Karnes）のJ.
Org.Chem. 1966、31、3980の一般的工程に従い
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアモミド中でジメチルチ
オカルバモイルクロライドおよび１，４−ジアザ
ビシクロ〔2.2.2〕オクタン（DABCO）の使用に
よりチオカルバメート（18）に転化させる（反応
式5c）。一方、フエノール（17）、少なくとも１当
量のジメチルチオカルバモイルクロライド、少な
くとも１当量のトリエチルアミン（Et₃Ｎ）およ
び触媒量の４−ジメチルアミノピリジン
（DMAP）の混合物をジクロロメタン中で１〜７
日間にわたつて加熱還流する。反応混合物を1N
塩酸および10％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄
し、次に硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして
過する。溶媒を蒸発させると粗生成物（18）が残
り、それをシリカゲル上でクロマトグラフイによ
りまたはそれが結晶性であるなら再結晶化により
精製することができる。 チオカルバメート（18）を、M.S.ニユーマン
およびH.A.カーネス（前記引用文献）の一般的
工程に従い加熱することによりそれの異性体
（19）に転化させることができる（反応式5d）。 （19）の無水R₁OH（11）中溶液に１当量より
少し多いNaOR₁（20）を加える。溶媒を真空中で
除去し、残渣をジクロロメタンおよび水の間で分
配させる。水相をジクロロメタンで戦場し、12N
塩酸で酸性化し、ジクロロメタンで抽出する。ジ
クロロメタン抽出物を硫酸ナトリウム上で乾燥
し、そして過する。溶媒を蒸発させるとチオー
ル（21）が残る（反応式5e）。 チオール（21）および少なくとも１当量の蟻酸
ナトリウムの蟻酸中混合物に少なくとも３当量の
過酸化水素を、温度が40〜50℃の間に保たれるよ
うな速度で加える。反応混合物を次に45−55℃に
１−５時間加熱する。過剰の過酸化物を硫化ナト
リウムを用いて分解させ、そして溶媒を蒸発させ
る。残渣を過剰の塩化チオニルに加え、そして触
媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（DMF）
を加える。混合物を８〜24時間加熱還流し、次に
溶媒を蒸発させる。残渣を水およびエーテルの間
に分配させる。エーテル溶液を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥
し、そして過する。溶媒を蒸発させると、塩化
スルホニル（14）が残る（反応式5f）。 最後に塩化スルホニル（14）を反応式4f用にす
でに記されている如くしてアミノ化してスルホン
アミド（4a）を与える（反応式5g）。 スルホンアミド類（4a）の多くは反応式６に
示されている工程により６−ヒドロキシサツカリ
ン（22）から出発して製造できる。 (b) （23）HCl ―――――――――→ ／R₁OH（11）（4a） (d) （24）R₃X₁（７） ――――――――→ 塩 基（4a） 〔式中、R₁およびX₁は上記で定義されている
如くであり、そして R₃はC₁−C₆アルキル、C₃−C₆アルケニル、C₃
−C₆アルキニル、CF₂Ｈ，CH₂CH₂Ｆ，CH₂
CHF₂，CH₂CF₃，CH₂CH₂Cl，CH₂CH₂OCH₃ま
たはCH₂CH₂SCH₃である〕。 ６−ヒドロキシサツカリン（22）はC.フインジ
（Finzi）およびM.コロンナ（Colonna）のAtti.
accad.Lincei. Classe， sci. fis.，mat. nat.，1937，
26，19（Chem. Abst. 1938，32，3762）により記さ
れている如くして製造できる。一方、R₁＝CH₃，
R₃＝C₆H₅CH₂である（4a）は反応式５により記
されている工程により製造できる。このスルホン
アミドのジクロロメタン中溶液を１当量の１，８
−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセ−７−エン
（DBU）で処理する。溶媒を蒸発させ、残渣を最
小量の水中に溶解させ、そして濃塩酸で酸性化し
て６−ベンジルオキシサツカリンを沈殿させる。
これをパラジウム触媒を含有しているエタノール
中に溶解させる。水素の吸収がやむまで混合物を
20−40℃および１−10psiで水素化する。過し
そして溶媒を蒸発させて６−ヒドロキシサツカリ
ン（22）を与える。 反応式6aにより記されている方法において、
６−ヒドロキシサツカリン（22）を２当量のナト
リウムの無水メタノール、エタノールまたはアミ
ルアルコール中溶液に加える。１当量より少し多
いR₃X₁（７）を加え、そして混合物を４〜24時間
にわたつて加熱還流する。溶媒を真空中で除去
し、そして残渣を最小量の水中に溶解させる。そ
れを濃塩酸で酸性化する。生成物が結晶化する場
合には、それを集め、希塩酸で洗浄し、そして乾
燥する。それが結晶しない場合には、水性混合物
をジクロロメタンで抽出する。ジクロロメタン相
を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして過する。
溶媒を蒸発させると、サツカリン（23）が残る
（反応式6a）。 サツカリン（23）のR₁OH（11）中の溶液また
は懸濁液を塩化水素で飽和させる。混合物を65−
80℃に１−６時間加熱する。溶媒および塩化水素
を蒸発させる。残渣をジクロロメタン中に溶解さ
せ、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、そして過する。溶媒を蒸
発させると、スルホンアミド（4a）を与える
（反応式6b）。 一方、サツカリン（22）を反応式6b中の（23）
から（4a）への転化に関してすでに記されてい
る条件を使用して開環してスルホンアミド（24）
にすることができる（反応式6c）。スルホンアミ
ド（24）の無水メタノール、エタノール、アミル
アルコール、または例えばＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドの如き適当な非プロトン性溶媒中溶液を
１当量のナトリウムもしくはカリウムメトキシ
ド、エトキシド、またはターシヤリー−ブトキシ
ドに加え、その後アルキル化剤R₃X₁（７）を加え
る。混合物を20−80℃に１−８時間保つ。溶媒を
真空中で除去し、残渣をジクロロメタン中に溶解
させ、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、Na₂
SO₄上で乾燥し、そして過する。溶媒を蒸発さ
せてスルホンアミド（4a）を与える（反応式
6d）。 式（4b）のスルホンアミド類は反応式７に示
されている方法により製造できる。 (h) （32）R₄X₁（28） ―――――――――→ 塩 基（4d） 〔式中、 M₁，R₁およびX₁は上記で定義されている如く
であり、 X₂はＦ，Cl，BrまたはＩであり、そして R₄はC₁−C₆アルキル、C₃−C₆アルケニル、C₃
−C₆アルキニル、シクロヘキシル、C₆H₅または
CH₂C₆H₅である〕。 ヒドロキシサツカリン（22）を、M.S.ニユー
マンおよびH.A.カーネス（前記引用文献）の一
般的工程または当技術の専門家に公知のそれの変
法に従いジメチルチオカルバモイルクロライドお
よび１，４−ジアザビシクロ〔2.2.2〕オクタン
（DABCO）を使用してＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド中でチオカルバメート（25）に転化させる
（反応式7a）。 チオカルバメート（25）を、M.S.ニユーマン
およびH.A.カーネス（同上）の一般的工程また
は当技術の専門家に公知のそれの変法に従い加熱
することによりそれの異性体（25）に転化させる
（反応式7b）。 （26）の無水メタノール中溶液に２当量より少
し多いナトリウムメトキシドを加える。混合物を
60−70℃に0.5−１時間加熱する。溶媒を真空中
で除去し、そして残渣をジクロロメタンおよび水
の間に分配させる。水相をジクロロメタンで洗浄
し、そして濃塩酸で酸性化する。サツカリン
（27）が結晶化する場合にはそれを集め、希塩酸
ですすぎ、そして乾燥する。それが結晶化しない
場合には、水相をジクロロメタンで抽出する。ジ
クロロメタン抽出物を硫酸ナトリウム上で乾燥
し、そして過する。溶媒を蒸発させるとサツカ
リン（27）が残る（反応式7c）。 メルカプタン（27）を、２当量の無水メタノー
ル、エタノールまたはアミルアルコール中溶液に
加える。１当量より少し多いR₄X₁（28）を加え、
そして混合物を１−８時間加熱還流する。必要な
アルキル化剤、アルケニル化剤およびアルキニル
化剤R₄X₁（28）は当技術で公知であるか、または
当技術で公知の種々の方法により製造できる。 溶媒を真空中で除去し、そして残渣を最小量の
水中に溶解させる。それを濃塩酸で酸性化する。
サツカリン（29）が結晶化する場合には、それを
集め、冷たい希塩酸で洗浄し、そして乾燥する。
それが結晶化しない場合には、水性混合物をジク
ロロメタンで抽出する。ジクロロメタン相を硫酸
ナトリウム上で乾燥し、そして過する。溶媒を
蒸発させると、サツカリン（29）が残る（反応式
7d）。 一方、多くの場合、ハロサツカリン（30）を例
えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの如き極性の
非プロトン性溶媒中で20−100℃において少なく
とも２当量の対応する式（31）のチオレートを用
いて４−24時間にわたつて処理することによりサ
ツカリン（29）を製造することもできる。反応は
溶媒の蒸発により処理される。残渣を最小量の水
中に溶解させ、そして濃塩酸で酸性化する。サツ
カリン（29）が結晶化する場合には、それを過
する。そうでない場合には水溶液をジクロロメタ
ンで抽出し、そして溶媒を蒸発させると、サツカ
リン（29）が残る（反応式7e）。 必要な式（30）の先駆体ハロサツカリン類は、
反応式４に記載されている方法と同様な方法の使
用により対応する４−ハロ−２−ニトロ安息香酸
から２−（アミノ−スルホニル）−４−ハロ安息香
酸へ転化させることにより製造できる。これらの
先駆体類は、６−ベンジルオキシサツカリンの製
造に関してすでに記されている一般的方法に従う
DBUを用いる処理により閉環されて対応する式
（30）のサツカリン類にされる。 サツカリン（29）を次に反応式６（ｂ）中に
（23）から（4a）への転化に関してすでに記され
ている条件を使用して開環してスルホンアミド
（32）とすることができる（反応式7g）。チオー
ル（32）を次に反応式6d中に（24）から（4a）
への転化に関してすでに記されている方法を使用
して（4b）に転化させる（反応式7h）。 式（4b）の多くのスルホンアミド類（R₁およ
びR₂は上記で定義されている如くである）は、
実施例９〜15中にR₁＝R₄＝CH₃に関して記され
ているのと同様な合成工程によつても製造でき
る。 式（4c）のスルホンアミド類は反応式８に示さ
れている方法により製造できる。 〔式中、 R₁は上記で定義されている如くであり、 R₅はC₁−C₃アルキル、シクロプロピル、CH₂
Ｆ，CHF₂，OCF₂Ｈ，OCH₂CH₂Ｆ，OCH₂
CHF₂，OCH₂CF₃，OCH₂CH₂Cl、１〜３個のＦ
もしくはClで置換されたC₂−C₆アルキル、また
はC₁−C₂アルコキシ、Cl，BrもしくはＩで置換
されたC₁−C₄アルキルであり、 R₆はCH₃またはC₂H₅であり、 R₇はC₁−C₃アルキル、シクロプロピル、CH₂
Ｆ，CHF₂，OCF₂Ｈ，OCH₂CH₂Ｆ，OCH₂
CHF₂，OCH₂CF₃，OCH₂CH₂Cl、１〜３個のＦ
もしくはCl原子で置換されたC₂−C₆アルキル、
またはC₁−C₂アルコキシもしくはC₁−C₂アルキ
ルチオで置換されたC₁−C₄アルキルであり、 M₂はNaまたはＫである。〕。 出発ニトロベンゼン類（33）は当技術で公知で
あるか、または当技術で公知の種々の方法により
製造できる。これらの方法のあるものは、適当な
ハライドとジフニエルクプレートの反応から得ら
れたカツプリング生成物（詳細に関しては、G.
H.ポスナー（Posner）の「有機銅試薬を用いる
置換反応」、Organic Reactions，22巻、W.G.ダ
ウベン（Dauben）ed.、ウイリー、ニユーヨー
ク、1975を参照のこと）のニトロ化（詳細に関し
ては、G.レーマン（Lehmann），H.アイヒマン
（Eichmann）の「炭素−窒素結合の生成」、
Preparative Organic Chemistry，G.ヒルゲタグ
（Hilgetag）、A.マルチニ（Martini）ed.、ウイ
リー−インターサイエンス、ニユーヨーク、
1972）を参照のこと）を含んでいる。 他の方法は、ベンゼンを適当な酸ハライドまた
は無水物を用いてフリーデル−クラフツアシル化
し（詳細に関しては、G.A.オラーのFriedel−
Crafts and Related Reactions、−巻、ウ
イリー−インターサイエンス、ニユーヨーク、
1963−1965を参照のこと）、その後カルボニル酸
化を還元除去し（詳細に関しては、C.ビシヨツフ
（Bischoff），P.G.デイートリツヒ（Dietrich）、
E.ヘフト（HO¨ft）、D.ムロフスキイ
（Murowski）の「炭素−水素結合の生成」、
Preparative Organic Chemistry、G.ヒルゲタ
グ、A.マルチニed.、ウイリー−インターサイエ
ンス、ニユーヨーク、1972を参照のこと）、そし
て次にニトロ化する。 さらに別の方法は、G.A.ボスウエル
（Boswe11）、Jr.、W.C.リプカ（Ripka）、R.M.
スクリブナー（Scribner）、C.W.チユロツク
（Tullock）の「四弗化硫黄による弗素化」およ
びC.M.シヤーツ（Sharts）、W.A.シエパード
（Sheppard）の「モノフルオロ脂肪族化合物類の
最新製造方法」、Organic Reactions、21巻、W.
G.ダウベンed、ウイリー、ニユーヨーク、1974
により記されている条件を使用する適当な４−ニ
トロベンジルアルコール類、アルテヒドまたはケ
トン類からのそれらのモノもしくはジフルオロア
ルキル同族体類への転化を包含している。 ニトロベンゼン（33）は、反応式4d中で（12）
から（13）への転化に関してすでに記されている
条件を使用してアニリンに還元される（反応式
8a）。 アニリン（34）を例えばベンゼンの如き適当な
溶媒中で少なくとも１当量の無水酢酸で処理し、
そして８−24時間加熱還流する。反応混合物を冷
却し、そしてアセトアニリド（35）が結晶化する
場合には、それを集め、乾燥する。それが結晶化
しない場合には、ベンゼン溶液を1N塩酸および
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、そして過する。溶媒を蒸発
させると、アセトアニリド（35）が残る（反応式
8b）。 アセトアニリド（35）を次にG.レーマンおよ
びH.アイヒマン（前記引用文献）により記され
ている一般的条件を用いてニトロ化してニトロア
セトアニリド（36）を与える（反応式8c）。 アセトアニリド（36）の1N塩酸中スラリーを
全ての固体が溶けるまで加熱還流する。次に溶液
を炭酸水素ナトリウムを用いて微塩基性とし、そ
してジクロロメタンで抽出する。ジクロロメタン
抽出物を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして過
する。溶媒を蒸発させると、アニリン（37）が残
る（反応式8d）。 反応式8cにより示されている反応で使用される
硝酸は酸化剤として作用することもあるため、ア
ニリン（37）の置換基R₅はアルキルチオ基を含
有できない。しかしR₅は、アルキルチオ基を含
有していない限りR₇に関して可能な全ての他の
置換基であることができる。これらの場合には反
応式8eにより示されている反応は抜かされ、そし
て反応式8fで使用されるアニリン（39）はアニリ
ン（37）の如くして製造される。 一方、R₇がアルキルチオ基を含有している場
合には、アルキルチオ基が置換される位置に置換
可能なハロゲン原子を含有しているR₅置換基を
有する同族体アニリン（37）からアルキルチオ含
有アニリン（39）を製造する。アルキルチオ基に
よるハロゲンの置換を行なうためには、ハライド
（35）の例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの
如き適当な溶媒中溶液を１当量よりわずかに多い
適当なナトリウムまたはカリウムアルキルチオレ
ート（38）で処理する。混合物を20−100℃に１
−８時間保つ。次に溶媒を蒸発させ、そして残渣
を水およびジクロロメタンの間に分配させる。ジ
クロロメタン溶液を硫酸ナトリウム上で乾燥し、
そして過する。蒸発させると、チオ化合物
（39）が残る（反応式8e）。 アニリン（39）を次にジアゾ化し、そしてG.
T.モルガン（Morgan）およびE.A.クールソン
（Coulson）のJ.Chem.Soc. 1929、2551の一般的実
験工程に従いサンドマイヤー反応にかけて、ニト
リル（40）を与える（反応式8f）。 ニトリル（40）の75−80％水性硫酸中懸濁液を
95−100℃に２−５時間加熱する。次に１−２時
間にわたり80−100℃の温度において1.5−2.5当
量の亜硝酸ナトリウムを少部分ずつ加える。加熱
をさらに0.5−１時間続け、次に混合物を冷却し、
そして過剰の氷上に注ぐ。カルボン酸（41）が結
晶化する場合には、それを集め、氷水ですすぎ、
そして乾燥する。それが結晶化しない場合には、
水性混合物をジクロロメタンで抽出する。ジクロ
ロメタン溶液を10％炭酸ナトリウム溶液で抽出す
る。水性抽出物を濃塩酸を用いて酸性化する。カ
ルボン酸（41）が次に結晶化する場合には、それ
を集め、氷水ですすぎ、そして乾燥する。それが
結晶化しない場合には、水溶液をエーテルで抽出
する。エーテル抽出物を硫酸マグネシウム上で乾
燥し、そして過する。溶媒を蒸発させると、カ
ルボン酸（41）が残る（反応式8g）。 上記の方法の使用により、カルボン酸（41）を
スルホンアミド（4c）に転化させることができる
（反応式8h）。 R₇がC₁−C₂アルキルスルフイニルまたはアル
キルスルホニル基で置換されたC₁−C₄アルキル
である式（4c）のスルホンアミド類は、反応式９
（下記参照）中に式（4d、ｎ＝１）のスルフイニ
ルスルホンアミド類および式（4d，ｎ＝２）の
スルホニルスルホンアミド類の製造に関して記さ
れている方法と同様な方法を使用して、R₇がC₁
−C₂アルキルチオ基で置換されているC₁−C₄ア
ルキルである式（4c）の対応するスルホンアミド
類の過酸を用いる酸化により製造できる。 式（4d，ｎ＝１）のスルフイニルスルホンア
ミド類および式（4d，ｎ＝２）のスルホニルス
ルホンアミド類は反応式９に示されている如く式
（4b）の対応するチオスルホンアミド類から製造
できる。 〔式中、 R₁およびR₄は上記で定義されている如くであ
り、そして ｎは１または２である〕。 式（4d，ｎ＝１）のスルフイニルスルホンア
ミド類を製造するためには、１当量の例えば３−
クロロペルオキシ安息香酸の如き過酸の例えばジ
クロロメタンの如き不活性溶媒液を、適当なチオ
スルホンアミド（4b）の例えばジクロロメタン
およびテトラヒドロフランの混合物の如き不活性
溶媒中攪拌溶液に０−５℃において加える。混合
物を次に20−40℃に暖める。薄層クロマトグラフ
イを酸化しようとするスルホンアミド（4b）に
呈するときに、混合物を５％亜硫酸ナトリウム水
溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および
食塩水で洗浄し、次に乾燥した（MgSO₄）。次に
溶媒を蒸発させると、式（4d，ｎ＝１）のスル
フイニルスルホンアミドが残つた。 式（4d，ｎ＝２）のスルホニルスルホンアミ
ド類を製造するには、２当量より多い（R₄がア
ルケニルまたはアルキニルであるときには２当量
だけの）例えば３−クロロペルオキシ安息香酸の
如き過酸の例えば１，２−ジクロロエタンの如き
不活性溶媒中溶液を、１−５モル％の例えば４，
４−チオビス（６−ターシヤリー−ブチル−ｍ−
クレゾール）の如きフリーラジカル開始剤を含有
している例えば１，２−ジクロロエタンの如き不
活性溶媒中の適当なチオスルホンアミド（4b）
の攪拌混合物に加える。混合物を50−80℃に加熱
する。薄層クロマトグラフイがチオスルホンアミ
ド（4b）および中間生成物であるスルフイニル
スルホンアミド（4d，ｎ＝１）が消費されたこ
とを示しているときには、混合物を冷却しそして
テトラヒドロフランで希釈してスルホンアミド可
溶性を保つ。スルフイニルスルホンアミド類
（4d，ｎ＝１）の製造に関してすでに記されてい
るのと同じ処理方法を使用して、式（4d，ｎ＝
２）のスルホニルスルホンアミド類を得る。 スルホニルイソシアネート類(1)は対応するスル
ホンアミド類(4)から下記の２種の一般的方法のう
ちの１種により製造される。 反応式 10 (4) CH₃（CH₂）₃NCO ―――――――――――――→ COCl₂触媒(1) 〔式中、R₁およびR₂は上記で定義されている
如くであり、そして (4)は（4a）、（4b）、（4c）または（4d）である〕 キシレンまたは135℃以上で沸騰する他の溶媒
中でスルホンアミド(4)およびアルキルイソシアネ
ート（例えばｎ−ブチルイソシアネート）を触媒
量の１，４−ジアザ〔2.2.2〕ビシクロオクタン
（DABCO）の存在下もしくは不存在下で混合し、
そして135−140℃に加熱する。５−60分後に、ホ
スゲンを加熱された混合物に、温度が133−135℃
の間に保たれているような速度でゆつくり加熱す
る。ホスゲンの消費がやんだときに、混合物を冷
却しそして過して、不溶性物質を除去する。最
後に、溶媒、アルキルイソシアネートおよび過剰
のホスゲンを蒸発させると、スルホニルイソシア
ネート(1)が残る。 希望により、アルキルイソシアネート−スルホ
ンアミド付加物を製造しそしてホスゲンとの反応
の前に単離できる。この場合には、スルホンアミ
ド(4)、アルキルイソシアーネトおよび無水塩基
（例えばK₂CO₃）を極性の非プロトン性溶媒（例
えばアセトン、ブタノンまたはアセトニトリル）
中で混合し、そして１〜６時間にわたつて加熱還
流する。反応混合物を次に水で希釈し、そして酸
（例えばHCl，H₂SO₄）を用いてPHを約３に調節
する。付加物を過し、乾燥し、そして次に上記
の如くホスゲンと反応させる。この工程変更は、
スルホンアミド(4)が高融点を有しておりそしてホ
スゲン化溶媒中での低い溶解度を有するときに特
に有用である。 スルホニルイソシアネート類(1)は下記の方法に
よつても製造できる。 (b) （42）COCl₂ −−−−−−−−→ ピリジン触媒(1) 〔式中、R₁およびR₂は上記で定義されている
如くであり、そして (4)は（4a）、（4b）、（4c）または（4d）である〕 スルホンアミド(4)を過剰の塩化チオニル中で加
熱還流する。スルホンアミドプロトンがプロトン
磁気共鳴スペクトル中でもはや検出できなくなる
まで、反応を続ける。チオニルアミド（42）への
完全な転化用には典型的には16時間ないし５日間
で十分である（反応式11a）。 塩化チオニルを蒸発させ、そして残渣を少なく
とも１当量の（典型的には２−３当量の）ホスゲ
ンを含有している不活性溶媒（例えばトルエン）
で処理する。触媒量のピリジン（典型的には0.1
当量）を加え、そして混合物を約60−140℃好適
には80−100℃、に加熱する。イソシアネート(1)
への転化は一般に15分間ないし３時間以内に実質
的に完了する（反応式11b）。混合物を次に冷却
し、過し、そして溶媒を蒸発させると、スルホ
ニルイソシアネート(1)が残る。 下記の式(2)の複数環式アミン類は公知である
か、本出願中に開示されているか、または当技術
の専門家に自明の方法により製造できる。 ２−アミノおよび２−メチルアミノピリミジン
類（2.Z＝CH）の合成および反応の詳細に関して
は、Chemistry of Heterocyclic Compounds，
16巻、ウイリー−インターサイエンス、ニユーヨ
ーク（1962）を参照のこと。２−アミノ−および
２−メチルアミノ−ｓ−トリアジン類（2.Z＝Ｎ）
の合成および反応の詳細に関しては、The
Chemistry of Heterocyclic Compounds、13
巻、ウイリー−インターサイエンス、ニユーヨー
ク（1959）、F.C.シエーフア（Schaefer）の米国
特許3154537並びにF.C.シエーフアーおよびK.R.
ハフマンのJ.Org.Chem．28，1812（1963）参照の
こと。 ＸまたはＹがOCF₂Ｈである複素環式アミン類
は米国特許4478635中に記載されている如くして
製造できる。 ある場合には、式(2)の複素環類はＲがＨである
場合の方がＲがCH₃である場合より容易に製造で
きる。多くの複素環類（２、Ｒ＝CH₃）は対応す
る複素環類（２、Ｒ＝Ｈ）から下記の２種の方法
のうち１種以上により製造できる。 〔式中、 Ａは上記で定義されている如くである〕。 この方法では、適当な複素環（２、Ｒ＝Ｈ）の
適当な非プロトン性溶媒（例えばテトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、グライム）中溶液またはスラ
リーを０−30℃において２当量の水素化ナトリウ
ムで処理する。気体発生がやんだ後に、反応混合
物を１当量の炭酸ジメチルで処理しそして20−30
℃において８〜24時間攪拌して、ナトリウム塩
（43）の懸濁液を与える（反応式12a）。 （43）を含有している反応混合物を少なくとも
２当量のアイオドメタンで処理し、次に60−80℃
で８−24時間加熱する。混合物を冷却し、過
し、そして溶媒を蒸発させる。残渣をジクロロメ
タン中で抽出し、水で洗浄し、そして溶媒を蒸発
させると、Ｎ−メチルカルバメート（44、Ｒ＝
CH₃）が残る（反応式12b）。 カルバメート（44、Ｒ＝CH₃）をプロピレン気
体で飽和されている無水のアルコールを含まない
クロロホルム中に溶解させる。１当量よりわずか
に多い（典型的には1.1−1.2当量の）アイオドト
リメチルシランを加え、そして攪拌されている溶
液を50−60℃に２〜４時間加熱する。混合物を冷
却し、そして２当量のメタノールを加える。溶媒
を蒸発させ、残渣をメタノール中で抽出する。混
合物をメタノール中10％ナトリウムメトキシドで
注意深く中和し、次に溶媒を蒸発させる。残渣を
氷水で研和する。沈殿が生成するなら、それを
過し、氷水ですすぎ、そして乾燥して、（2R＝
CH₃）を与える。沈殿が生成しないなら、溶液に
塩化ナトリウムを飽和させ、そして酢酸エチルで
抽出する。溶媒を蒸発させると、複素環（２、Ｒ
＝CH₃）が残る（反応式12c）。 一方、下記の二段階工程を多くの場合に使用で
きる。 〔式中、 Ａは上記で定義されている如くである〕 アミン（２、Ｒ＝Ｈ）の濃塩酸中溶液を亜硝酸
ナトリウム溶液で処理しそしてクロロ化合物
（45）を普通の方法で酸性溶液の過により単離
する（反応式13a）。代表的工程はビー（Bee）お
よびローズ（Rose）のJ.Chem.Soc.C. 1966、2031
にＺ＝CHおよびＸ＝Ｙ＝OCH₃である場合に関
して記されている。 複素環（45）を次に適当な不活性溶媒（例えば
テトラヒドフラン、グライムまたはジグライム）
中で20°〜80℃の間の温度において少なくとも２
当量のメチルアミンで処理する（反応式13b）。
反応混合物を次に冷却し、そして過する。溶媒
を蒸発させると、少量のCH₃NH₃ ⁺Cl^-塩で汚染
された（２、Ｒ＝CH₃）が残る。生成物を氷水と
の研和によりまたはジクロロメタン中への溶解に
より精製し、次に少量の水で洗浄し、乾燥し、そ
して溶媒を蒸発させることができる。他の精製法
は、再結晶化またはシリカゲル上でのカラムクロ
マトグラフイにより実施することができる。 式（4a）および（4b）のスルホンアミド類が
式の化合物類の尿素架橋の形成前に完全に生成
されているような前記の方法の変法として、多く
の式ａの化合物類が反応式14に記載されている
方法により製造できる。 〔式中、 R₁，Ｘ，X₁，ＹおよびＺは前記で定義されて
いる如くであり、 ＷはＯまたはＳであり、そして ＷがＯであるときにはR₈はC₁−C₆アルキル、
C₃−C₆アルケニル、C₃−C₆アルキニル、CH₂
CH₂Ｆ，CH₂CHF₂，CH₂CH₂Cl，CH₂CH₂OCH₃
またはCH₂CH₂SCH₃であり、そして ＷがＳであるときにはR₈はC₁−C₆アルキル、
C₃−C₆アルケニルもしくはC₃−C₆アルキニル、
シクロヘキシル、またはCH₂C₆H₅である〕。 この方法では、適当な式（46）の化合物の例え
はアセトニトリルおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドの混合物の如き極性溶媒中溶液を、２当量
の例えばナトリウムメトキシドの如き強塩基で処
理し、その後１当量より少し多い適当なアルキル
化剤、アルケニル化剤またはアルキニル化剤
（47）で処理する。混合物を20−60℃に２−24時
間保つ。次に混合物を過剰の塩酸中に注ぐ。式
ａの化合物が結晶化する場合には、それを過す
る。そうでなければ水性混合物をジクロロメタン
で抽出し、そして溶媒を蒸発させると、式ａの
化合物が残る。適当な式（24）（Ｗ＝Ｏ）または
（23）（Ｗ＝Ｓ）のスルホンアミド類を反応式３用
に記されている一般的方法に従い適当な式（５、
Ｒ＝Ｈ）の複素環式フエニルカルバメート類とカ
ツプリングさせることにより、式（46）の化合物
類が製造される。 下記の実施例は本発明の合成をさらに説明する
ものである。 実施例 １ ４−エトキシ−２−ヒドロキシ安息香酸メチル 塩化水素を４−エトキシ−２−ヒドロキシ安息
香酸（10.10ｇ、0.554モル）のメタノール（2000
ml）中攪拌溶液に、溶液が飽和するまで泡立たせ
た。溶液を３日間加熱還流し、次に15℃に冷却し
た。これにより生成物が結晶化した。結晶を集
め、メタノールおよびヘキサンですすぎそして乾
燥した。４−エトキシ−２−ヒドロキシ安息香酸
メチルが77−78℃で融解する淡いこはく色の固体
（49.3ｇ）状で得られた。 PMR（CDCl₃，90MHz）：δ11.90（わずかに広げ
られたｓ，1H，OH）；7.76（ｄ，1H，CO₂CH₃に
対してオルトのＨ）；6.35−6.55（ｍ，2H、他のア
リールＨ類）；4.06（ｑ，2H，OCH₂CH₃）；3.89
（ｓ，3H，OCH₃）；1.41（ｔ，3H，OCH₂CH₃）。
IR（Nujol）；3130（広い、Ｗ，OH）：1668（ｓ，Ｃ
＝Ｏ）cm^-1。母液を再処理することによりさらに
生成物が得られた。 実施例 ２ ２−〔（ジメチルアミノ）チオキソメトキシ〕−
４−エトキシ安息香酸メチル トリエチルアミン（76.6ml、0.550モル）を４
−エトキシ−２−ヒドロキシ安息香酸メチル
（49.3ｇ、0.251モル）、４−ジメチルアミノピリ
ジン（3.06ｇ、0.025モル）およびジメチルチオ
カルバモイルクロライド（54.4ｇ、0.440モル）
の乾燥ジクロロメタン（411ml）中攪拌溶液に注
射器により加えた。反応溶液を３日間加熱還流
し、次に室温で一夜放置した。それを塩酸（1N，
３×300ml）で洗浄し、次に乾燥し（MgSO₄）、
そして過した。溶媒を回転蒸発させると、粗製
生成物（95.2ｇ）が褐色の油状で残った。これを
シリカゲルのカラムに適用し、そして２：１およ
びその後１：１のヘキサン−エーテルで液出させ
た。生成物を含有している留分（Rf＝0.43、１：
１のヘキサン−エーテル、紫外線）を回転蒸発さ
せて、部分的に精製された生成物（60.2ｇ）を黄
色固体状で与えた。それより大きいシリカゲル対
試料の比を使用する別のカラムクロマトグラフイ
によりさらに精製した。最後に、二回クロマトグ
ラフにかけられた生成物（48.7ｇ、他の同様な実
験からの7.4ｇを含む）を沸騰メタノール（３
ml／ｇ）から再結晶化させた。氷浴中で冷却した
後に、結晶を集め、氷冷メタノールですすぎ、そ
して乾燥した。２−〔（ジメチルアミノ）チオキソ
メトキシ〕−４−エトキシ安息香酸メチルが77−
79℃で融解する大きい白色プリズム（46.1ｇ）状
で得られた。 PMR（CDCl₃、200MHz）：δ7.96（ｄ，1H，CO₂
CH₃に対してオルトのＨ）；7.81（dd，1H，
OCSNに対してパラのＨ）；6.62（ｄ，1H，
OCSNに対してパラのＨ）；4.08（ｇ，2H，OCH₂
CH₃）；3.81（ｓ，3H，CO₂CH₃）；3.47（ｓ，3H，
NCH₃）；3.40（ｓ，3H，NCH₃）；1.42（ｔ，3H，
OCH₂CH₃）。IR（Nujol）：1715cm^-1（vs，Ｃ＝
Ｏ）。 実施例 ３ ２−〔（ジメチルアミノ）カルボニルチオ〕−４
−エトキシ安息香酸メチル ２−〔（ジメチルアミノ）チオキソメトキシ〕−
４−エトキシ安息香酸メチル（28.3ｇ、0.100モ
ル）を窒素下で220℃に1.5時間加熱した。薄層ク
ロマトグラフイ（６：３：１のCH₃Cl₂−ヘキサ
ン−エーテル、紫外線）は、0.63のRfにおける非
常に弱い点（出発物質）および0.35のRfにおける
非常に強い点（生成物）を示した。この場合、粗
製生成物をさらに同定もしくは精製せずに反応段
階で使用した。 同様であるがそれにより小さい規模の実験から
の粗製生成物をシリカゲルのカラム上で４：１の
エーテル−ヘキサンを溶出前として使用してクロ
マトグラフイにかけた。生成物（Rf＝0.40、同一
溶媒、紫外線）を含有している留分を回転蒸発さ
せると油を与え、それはゆつくり結晶化した。こ
れを少量のジクロロメタン中に溶解させ、１−ク
ロロブタンで希釈し、種結晶をいれ、そして回転
蒸発させた。残渣を集め、ヘキサンですすぎ、そ
して乾燥した。２−〔（ジメチルアミノ）−カルボ
ニルチオ〕−４−エトキシ安息香酸メチルが65−
67℃で融解する白色プリズム状で得られた。 PMR（CDCl₃、200MHz）：δ7.93（ｄ，1H，CO₂
CH₃に対してオルトのＨ）；7.16（ｄ，1H，
SCONに対してオルトのＨ）；6.89（dd，1H，
SCONに対してパラのＨ）；4.08（ｑ，2H，OCH₂
CH₃）；3.84（ｓ，3H，CO₂CH₃）；3.09（広いｓ，
6H，Ｎ（CH₃）₂）；1.42（ｔ，3h，OCH₂CH₃）。IR
（Nujol）：1730（ｓ、エステルＣ＝Ｏ）；1680（ｓ、
カルボニルＣ＝Ｏ）cm^-1。 実施例 ４ ４−エトキシ−２−メルカプト安息香酸メチル メタノール性ナトリウムメトキシド（4.9M、
22.4ml、0.11モル）を２−〔（ジメチルアミノ）カ
ルボニルチオ〕−４−エトキシ安息香酸メチル
（粗製、約28.3ｇ、0.10モル）のメタノール（100
ml）中溶液に窒素下で注射器により加えた。反応
混合物を30分間加熱還流し、次に水浴を用いて冷
却した。回転蒸発させて固体を生成した。これを
ジクロロメタン（100ml）および水（100ml）の間
に分配させた。水層をジクロロメタン（３×40
ml）で洗浄し、濃塩酸でPH＜１に酸性化し、次に
ジクロロメタン（３×40ml）で抽出した。これら
のジクロロメタン抽出物を一緒にし、乾燥し
（Na₂SO₄）、そして過した。回転蒸発させて、
４−エトキシ−２−メルカプト安息香酸メチルを
油（18.4ｇ）状で生成し、それを放置すると42−
44℃で融解する結晶性固体が生成した。 PMR（CDCl₃、200MHz）：δ7.97（ｄ，1H，CO₂
CH₃に対してオルトのＨ）；6.78（ｄ、1H、SHに
対してオルトのＨ）；6.64（dd、1H、SHに対して
パラのＨ）；5.06（ｓ、1H、SH）；4.05（2H、
OCH₂CH₃）；3.88（ｓ、3H、CO₂CH₃）；1.42（ｔ、
3H、OCH₂CH₃）。IR（Nujol）：1686（vs、Ｃ＝
Ｏ）cm^-1。 実施例 ５ ２−（クロロスルホニル）−４−エトキシ安息香
酸メチル 過酸化水素（30％、9.79M、30.7ml、300ミリ
モル）を４−エトキシ−２−メルカプト安息香酸
メチル（18.2ｇ、85.7ミリモル）および蟻酸ナト
リウム（11.7ｇ、172ミリモル）の蟻酸（171.4
ml）中攪拌溶液に滴々添加した。氷浴の使用によ
り、内部温度を過酸化水素添加の前半中は40−50
℃にそして添加の後半中は45−50℃に保つた。添
加の完了および発熱反応の終了後に、混合物を45
−55℃に２時間加熱した。過剰の過酸化水素を硫
酸ナトリウムで分解し、溶液を過し、そして溶
媒を回転蒸発させた。残渣をトルエン中でスラリ
ー化しそして回転蒸発させた。該方法を繰返し
て、スルホン酸ナトリウム塩を湿つた白色の結晶
性固体（21.7ｇ）状で与えた。 さらに精製または同定することなくスルホン酸
ナトリウム塩を攪拌されている塩化チオニル
（150ml、2.1ミリモル）に一部分ずつ加えた。無
水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（1.0ml、13ミ
リモル）をゆつくり加え、そして反応混合物を一
夜加熱還流した。反応混合物を次に回転蒸発させ
た。残渣をエーテル（100ml）および氷水（100
ml）の間に分配させた。水層をエーテル（２×50
ml）で抽出した。一緒にしたエーテル溶液を水
（50ml）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２×50
ml）で洗浄し、乾燥し（MgSO₄）、そして過し
た。溶媒を回転蒸発させると、２−（クロロスル
ホニル）−４−エトキシ安息香酸メチルが淡橙色
の油（22.5ｇ）状で残り、それはひつかきにより
結晶化した。結晶性固体は45−48℃で融解した。 PMR（CDCl₃、200MHz）：δ7.76（ｄ、1H、CO₂
CH₃に対してオルトのＨ）；7.65（ｄ、1H、SO₂Cl
に対してオルトのＨ）；7.21（dd、1H、SO₂Clに
対してパラのＨ）；4.16（ｑ、2H、OCH₂CH₃）；
3.96（ｓ、3H、CO₂CH₃）；1.48（ｔ、3H、OCH₂
CH₃）。IR（Nujol）：1722（vs、Ｃ＝Ｏ）cm^-1。 実施例 ６ ２−（アミノスルホニル）−４−エトキシ安息香
酸メチル 液化アンモニア（4.4ml、180ミリモル）を２−
（クロロスルホニル）−４−エトキシ安息香酸メチ
ル（221ｇ、79.3ミリモル）のジクロロメタン
（221ml）中攪拌溶液に−70℃において加えた。反
応混合物を−10℃に暖め、そしてこの温度に30分
間保つた。混合物を次に水（221ml）中に注いだ。
さらに水およびジクロロメタンをすすぎ用に使用
し、そしてテトラヒドロフラン（約40ml）も加え
た。層を振り、分離し、そして水層をジクロロメ
タン（２×221ml）で抽出した。一緒にしたジク
ロロメタン溶液を水（221ml）で洗浄し、そして
洗浄水をジクロロメタン（約120ml）で逆抽出し
た。一緒にしたジクロロメタン溶液を乾燥し
（Na₂SO₄）、そして過した。溶媒を回転蒸発さ
せると粗製生成物がわずかに灰色がかつた白色の
結晶性固体（18.1ｇ）状で残つた。これを熱いメ
タノール（約200ml）中に溶解させ、そして熱時
過した。溶液を沸騰させて、３ml／ｇのメタノ
ールに相当する量にした。種結晶を加えそして氷
浴を用いて冷却した後に、結晶を集め、氷冷メタ
ノールおよびヘキサンですすぎ、そして乾燥し
た。２−（アミノスルホニル）−４−エトキシ安息
香酸（15.3ｇ）が146−148℃で融解する白色の針
状結晶として得られた。 PMR（CDCl₃、200mHz）：δ7.91（ｄ、1H、CO₂
CH₃に対してオルトのＨ）；7.68（ｄ、1H、SO₂
NH₂に対してオルトのＨ）；7.04（dd、1H、SO₂
NH₂に対してパラのＨ）；5.91（広いｓ、2H、
NH₂）；4.14（ｑ、2H、OCH₂CH₃）；3.95（ｓ、
3H、CO₂CH₃）；1.45（ｔ、3H、OCH₂CH₃）。IR
（Nujol）：3348（ｍ、NH）；3241（ｍ、NH）；
1692（ｓ、Ｃ＝Ｏ）cm^-1。 実施例 ７ ４−エトキシ−２−（イソシアナトスルホニル）
安息香酸メチル ２−（アミノスルホニル）−４−エトキシ安息香
酸メチル（7.56ｇ、29.2ミリモル）、ｎ−ブチル
イソシアネート（３，29ml、29.2ミリモル）およ
び１，４−ジアザ〔2.2.2〕ビシクロオクタン
（0.13ｇ、1.2ミリモル）の混合キシレン中溶液を
10分間加熱還流させた。次にホスゲンを内部温度
が133℃以上になつているような速度で加えた。
ホスゲンの消費がやんだときに、溶液を室温に冷
却し、次に窒素下で過した。回転蒸発させて、
４−エトキシ−２−（イソシアナトスルホニル）
安息香酸メチルを曇つた黄色の油（8.2ｇ）状で
与えた。これはさらに精製または同定することな
く直ちに使用された。 実施例 ８ ２−〔〔（４，６−ジメトキシ−１，３，５−ト
リアジン−２−イル）アミノカルボニル〕アミ
ノスルホニル〕−４−エトキシ安息香酸メチル ４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン
−２−アミン（0.46ｇ、2.9ミリモル）の乾燥ジ
クロロメタン（５ml）中スラリーに、４−エトキ
シ−２−（イソシアナトスルホニル）安息香酸メ
チル（粗製、約1.2ｇ、4.2ミリモル）のジクロロ
メタン（５ml）中溶液を加えた。反応混合物を
1.5時間加熱還流し、その間に固体は溶解した。
室温で一夜攪拌すると、新しい固体が生成した。
溶媒を回転蒸発させると、粗製生成物が白色の固
体（1.5ｇ）状で残つた。これを暖かい１，２−
ジクロロエタン中に溶解させ、そしてシリカゲル
のカラム上で溶出剤として全てが２ml／の酢酸
を含有している15：１、10：１および最後は７：
１ジクロロメタン−エーテルを用いてクロマトグ
ラフイにかけた。適当な留分をトルエンで希釈
し、そして回転蒸発させて固体を与えた。これを
最小量の温ジクロロメタン中に溶解させ、１−ク
ロロブタンで希釈し、そして回転蒸発させて結晶
性固体を与えた。これをヘキサン中でスラリー化
し、集め、１：11−クロロブタン−ヘキサンおよ
びヘキサンですすぎ、そして乾燥した。生成物が
181−183℃で融解する白色の結晶性粉末（0.98
ｇ）状で得られた。 PMR（CDCl₃、200MHz）：δ12.15（わずかに広
げられたｓ、1H、SO₂NHCO）；7.89（ｄ、1H、
SO₂NHに対してオルトのＨ）7.77（ｄ、1H、CO₂
CH₃に対してオルトのＨ）；7.45（わずかに広げら
れたｓ、1H、CONH−Het）；7.11（dd、1H、
SO₂NHに対してパラのＨ）；4.17（ｑ、2H、
OCH₂CH₃）；4.12（ｓ、6H、Het−OCH₃）；3.90
（ｓ、3H、CO₂CH₃）；1.46（ｔ、3H、OCH₂
CH₃）。IR（Nujol）：1730（vs、エステルＣ＝
Ｏ）；1715（ｓ、尿素Ｃ＝Ｏ）cm^-1。 実施例 ９ ４−（メチルチオ）−２−ニトロ安息香酸 ４−アミノ−２−ニトロ安息香酸（20.0ｇ、
110ミリモル）を水性硫酸（32.8mlのH₂Ｏ＋24.0
mlの濃H₂SO₄）に加えた。全てのアニリンが溶
解するまで攪拌混合物を加熱し、次に氷浴中に投
げいれてアニリニウム塩を非常に小さい結晶の懸
濁液状で沈殿させた。水性亜硝酸ナトリウム
（8.8ｇ、18.4mlのH₂Ｏ中の128ミリモル）部分を
次に−５〜０℃に保たれている攪拌されている反
応混合物に１時間にわたつて加えた。 ジアゾ化混合物を次に一部分ずつ、氷浴で冷却
されている水酸化ナトリウム（24.4ｇ610ミリモ
ル）、メタンチオール（33.6ml、605ミリモル）、
硫酸第二銅（17.6ｇ、110ミリモル）および酢酸
ナトリウム（55.2ｇ、673ミリモル）の140mlの水
中混合物の中に注入した。添加は発熱性でありそ
して大量の気体発生を伴なつた。褐黄色の固体の
懸濁液が生成した。混合物を60℃に加熱し、次に
室温になるまで自然に冷却した。 ジクロロメタン（200ml）およびテトラヒドロフ
ラン（20ml）を攪拌しながら加えた。濃塩酸を加
えてPHを１より低くした。混合物をCelite を通
して吸引過し、さらにジクロロメタンをすすぎ
用に使用した。層が分離し、そして水層をジクロ
ロメタン（２×50ml）で抽出した。一緒にしたジ
クロロメタン溶液を乾燥し（Na₂SO₄）、そして
Celite を通して吸引過した。溶媒を回転蒸発
させた。残渣を最小量のアセトン中に溶解させ、
トルエンで希釈し、そして蒸発させた。該方法を
繰返すと、粗製の４−（メチルチオ）−２−ニトロ
安息香酸が165−168℃で融解する橙色の固体
（20.4ｇ）状で残つた。これをさらに精製するこ
とになく次の段階で使用した。 PMR（DMSO−d₆、200MHz）：δ13.6（非常に広
いｓ、1H、CO₂Ｈ）；7.83（ｄ、1H、CO₂Ｈに対
してオルトのＨ）；7.76（ｄ、1H、NO₂に対して
オルトのＨ）；７，58（dd、1H、NO₂に対してパ
ラのＨ）；2.58（ｓ、3H、SCH₃）。IR（Nujol）：
2800（非常に広い、ｍ、OH）；1675（ｓ、Ｃ＝Ｏ）
cm^-1。 実施例 10 ４−（メチルチオ）−２−ニトロ安息香酸メチル 窒素下で５℃に保たれている４−（メチルチオ）
−２−ニトロ安息香酸（24.4ｇ、11ミリモル）の
乾燥ピリジン（265ml）中攪拌溶液にｐ−トルエ
ンスルホンクロライド（43.6ｇ、229ミリモル）
を加えた。１時間後に、氷浴を用いて冷却し続け
ながら乾燥メタノール（6.2ml、153ミリモル）を
加えた。発熱がやんだ後に、別量のメタノール
（4.1ml、101ミリモル）を加え、そして氷浴を除
去した。 反応溶液を室温で１時間攪拌し、次に氷浴
（1060ml）中に注いだ。エーテル（530ml）を攪拌
しながら加えると、層が分離した。水層をエーテ
ル（２×530ml）で抽出した。一緒にしたエーテ
ル溶液を10％水酸化ナトリウム溶液（２×530ml）
で洗浄し、乾燥し（MgSO₄）、そして過した。
溶媒を回転蒸発させた。残渣をトルエン中で抽出
し、それを次に回転蒸発させた。この方法を再度
繰返して濃い褐色油を与えた。 この油をシリカゲルのカラム上で溶出用溶媒と
してヘキサンおよびエーテルの混合物（最初は
２：１、次は３：２）を用いてクラマトグラフイ
にかけた。生成物（Rf＝0.38、紫外線、２：１ヘ
キサン−エーテル）を含有している留分を蒸発さ
せると黄色の固体が残つた。これを最小量の温１
−クロロブタン中に溶解させ、ヘキサンで飽和と
なるまで希釈し、そして種結晶を加えた。結晶化
が完了した後に、混合物を蒸発させた。残渣をヘ
キサン中でスラリー化し、ヘキサンですすぎ、そ
して乾燥した。４−（メチルチオ）−２−ニトロ安
息香酸メチルが57−59℃で融解する淡黄色の針状
結晶（11.6ｇ）として得られた。 PMR（CDCl₃、200MHz）：δ7.71（ｄ、1H、CO₂
CH₃に対してオルトのＨ）；7.55（ｄ、1H、NO₂
に対してオルトのＨ）；7.41（dd、1H、NO₂に対
してパラのＨ）；3.90（ｓ、3H、CO₂CH₃）；2.56
（ｓ、3H、SCH₃）、IR（Nujol）：1709（vs、Ｃ＝
Ｏ）cm^-1。 実施例 11 ２−アミノ−４−（メチルチオ）安息香酸メチ
ル ４−（メチルチオ）−２−ニトロ安息香酸メチル
（11.3ｇ、49.7ミリモル）および炭素上の５％硫
化白金触媒（0.7ｇ）の酢酸メチル（40ml）中混
合物を750psiおよび75℃において、水素吸引がや
むまで水素化した。混合物をCelite を通して
過し、そして液溶媒を回転蒸発させると、２−
アミノ−４−（メチルチオ）安息香酸メチルが57
−59℃で融解する微褐色の結晶性固体（8.7ｇ）
状で残つた。 PMR（CDCl₃、200MHz）：δ7.74（ｄ、1H、CO₂
CH₃に対してオルトのＨ）；6.50（dd、1H、NH₂
に対してパラのＨ）；6.44（dd、1H、NH₂に対し
てオルトのＨ）：5.75（広いｓ、2H、NH₂）；3.85
（ｓ、3H、CO₂CH₃）；2.46（ｓ、3H、SCH₃）。IR
（Nujol）：3422（ｍ、NH）；3312（ｍ、NH）；
1650（ｓ、Ｃ＝Ｏ）cm^-1。 実施例 12 ２−（クロロスルホニル）−４−（メチルチオ）
安息香酸メチル −５〜０℃に保たれている攪拌されている硫酸
水溶液（7.2mlの濃H₂SO₄＋51.6mlのH₂Ｏ）に、
２−アミノ−４−（メチルチオ）安息香酸メチル
（12.8ｇ、64.9ml）の氷酢酸（6.4ml）中溶液部分
および水性亜硝酸ナトリウム（4.9ｇ、7.8mlのH₂
Ｏ中の71ミリモル）部分を交互に加えた。 ジアゾ化混合物を次に、塩化第二銅二水塩
（5.5ｇ、32ミリモル）、濃塩酸（13.0ml）および
液化二酸化硫黄（5.5ml、129ミリモル）の氷酢酸
（51.6ml）およびジクロロメタン（64.6ml）中混
合物の中に０℃において一部分ずつ注いだ。ドラ
イアイス充填デユワーコンデンサーを使用して、
カツプリング混合物を45分間加熱還流した。 反応混合物を次に水（約400ml）中に注ぎ、別
量のジクロロメタン（約60ml）をすすぎ用に使用
した。層を振り、分離させ、そして水層をジクロ
ロメタン（３×50ml）で抽出した。一緒にしたジ
クロロメタン溶液を水（約100ml）で洗浄した。
水（25ml）をジクロロメタン溶液に加え、そして
激しく攪拌しながら炭酸水素ナトリウムを発砲が
やむまで加えた。混合物を水（約40ml）で希釈
し、そして層を分離した。ジクロロメタン層を水
（約２×60ml）で洗浄し、そして乾燥した
（MgSO₄）。溶媒を回転蒸発させて、粗製の２−
（クロロスルホニル）−４−（メチルチオ）安息香
酸メチルを黄色の半固体（10.0ｇ）状で与えた。
これをさらに精製または同定することなく次の反
応段階で直ちに使用した。 実施例 13 ２−（アミノスルホニル）−４−（メチルチオ）
安息香酸メチル 液化アンモニア（1.7ml、68ミリモル）を２−
（クロロスルホニル）−４−（メチルチオ）安息香
酸メチル（10ｇ、36ミリモル）のジクロロメタン
（100ml）中攪拌溶液に−70℃において加えた。反
応混合物を−10℃に暖めそしてこの温度に10分間
保つた。混合物を次に水（100ml）中に注いだ。
さらに水およびジクロロメタンをすすぎ用に使用
した。層を振り、分離し、そして水層をジクロロ
メタン（２×50ml）で抽出した。一緒にしたジク
ロロメタン溶液を水（100ml）で洗浄し、乾燥し
（Na₂SO₄）、そしてCelite を通して過した。
溶媒を回転蒸発させると、粗製生成物が固体
（9.0ｇ）状で残つた。 これをジクロロメタン中に溶解させ、そしてシ
リカゲル（27ｇ）上で懸濁させた。物質をシリカ
ゲルのカラム上でジクロロメタン−ヘキサン−エ
ーテル（６：３：１、次に６：２：２）を溶出剤
として使用してクロマトグラフイにかけた。適当
な留分を回転蒸発させると固体が残つた。これを
ジクロロメタン中に溶解させ、ヘキサンで希釈
し、そして回転蒸発させて結晶性固体を与えた。
これをヘキサン中でスラリー化し、集め、１：11
−クロロブタン−ヘキサンおよびヘキサンですす
ぎ、そして乾燥した。２−（アミノスルホニル）−
４−（メチルチオ）安息香酸メチルが123−125℃
で融解する白色の結晶性粉末（6.7ｇ）状で得ら
れた。 PMR（CDCl₃、200MHz）：δ7.97（ｄ、1H、SO₂
NH₂に対してオルトのＨ）；7.82（ｄ、1H、CO₂
CH₃に対してオルトのＨ）；7.39（dd、1H、SO₂
NH₂に対してパラのＨ）：5.86（ｓ、2H、NH₂）；
3.97（ｓ、3H、CO₂CH₃）；2.56（ｓ、3H、
SCH₃）。IR（Nujol）：3322（ｍ、NH₂）；3245（ｍ、
NH₂）：1700（ｓ、Ｃ＝Ｏ）cm^-1。 実施例 14 ２−（イソシアナトスルホニル）−４−（メチル
チオ）安息香酸メチル ２−（アミノスルホニル）−４−（メチルチオ）
安息香酸メチル（5.23ｇ、20.0ミリモル）、ｎ−
ブチルイソアネート（2.25ml、20.0ミリモル）お
よび１，４−ジアザ〔2.2.2〕ビシクロオクタン
（0.09ｇ、0.8ミリモル）の混合キシレン（50ml）
中溶液を10分間加熱還流した。次にホスゲンを内
部温度が133℃以上のままであるような速度で加
えた。ホスゲンの消費がやんだときに、溶液を室
温に冷却し、次に窒素下で過した。回転蒸発さ
せて、２−（イソシアナトスルホニル）−４−（メ
チルチオ）安息香酸メチルを黄色の油（6.4ｇ）
状で与えた。これはさらに精製または同定される
ことなく直ちに使用された。 実施例 15 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−
イル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕
−４−（メチルチオ）安息香酸メチル ４，６−ジメトキシ−１，３−ピリミジン−２
−アミン（0.36ｇ、2.32ミリモル）の乾燥ジクロ
ロメタン（４ml）中スラリーに、２−（イソシア
ナトスルホニル）−４−（メチルチオ）安息香酸
（粗製、約0.95ｇ、3.3ml）のジクロロメタン（５
ml）中溶液を加えた。反応混合物を2.5時間加熱
還流し、その間に新しい固体が生成した。 室温に一夜放置すると、新しい固体が生成し
た。混合物を１：11−クロロブタン−ヘキサンの
溶液（９ml）で希釈し、そして固体を集め、１−
クロロブタンおよびヘキサンですすぎ、そして乾
燥した。生成物は201−202℃で融解する白色の結
晶性粉末（0.92ｇ）状で得られた。 PMR（CDCl₃、200MHz）：δ12.57（わずかに広
げられたｓ、1H、SO₂NHCO）：8.20（ｄ、1H、
SO₂NHに対してオルトのＨ）；7.66（ｄ、1H、
CO₂CH₃に対してオルトのＨ）；7.43（dd、1H、
SO₂NHに対してパラのＨ）；7.18（わずかに広げ
られたｓ、1H、CONH−Het）；5.79（ｓ、1H、
Het ５−Ｈ）；4.01（ｓ、6H、Het−OCH₃）；
3.87（ｓ、3H、CO₂CH₃）；2.58（ｓ、3H、
SCH₃）。IR（Nujol）：1721（vs、エステルＣ＝
Ｏ）：1698（ｓ、尿素、Ｃ＝Ｏ）cm^-1。 実施例 16 ２−〔〔〔４−（ジフルオロメトキシ）−６−メト
キシピリミジン−２−イル〕アミノカルボニ
ル〕アミノスルホニル〕−４−エトキシ安息香
酸メチル ４−ジフルオロメトキシ−６−メトキシ−ピリ
ミジン−２−アミン（0.56ｇ、2.92ミリモル）の
乾燥ジクロロメタン（５ml）中スラリーに、４−
エトキシ−２−（イソシアナトスルホニル）安息
香酸メチル（粗製、約5.6ml）のジクロロメタン
（５ml）中溶液に加えた。反応混合物を３時間加
熱還流し、その間に固体が溶解した。室温で12時
間攪拌すると、新しい固体が生成した。粗製反応
混合物をシリカゲルのカラム上で溶出剤として全
てが２ml／の酢酸を含有している40：１、20：
１および最後に10：１のジクロロメタン−エーテ
ルを用いて直接クロマトグラフイにかけた。適当
な留分をトルエンで希釈しそして回転蒸発させて
固体を与えた。固体をヘキサン中でスラリー化
し、集め、塩化ブチル、１：１の塩化ブチル−ヘ
キサン、ヘキサンで洗浄し、そして空気乾燥し
た。生成物は195−196℃で融解する白色の結晶性
固体であつた。 PMR（CDCl₃、200MHz）：δ12.02（広いｓ、
1H）；7.91（ｄ、1H）；7.78（ｄ、1H）；7.52（ｔ、
1H）；7.34（広いｓ、1H）；7.09（dd、1H）；5.97
（ｓ、1H）；4.17（ｑ、2H）；4.12（ｓ、3H）；3.87
（ｓ、3H）；1.46（ｔ、3H）。IR（Nujol）：1722
（vs、Ｃ＝Ｏ）cm^-1。 上記の工程および実施例を使用して、表−
中の化合物類を製造することができた。 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 調製物 式の化合物の有用な農業用調製物は通常の方
法で製造しうる。それらは、粉剤、粒剤、錠剤、
懸濁剤、乳剤、水和剤、濃厚乳剤などを含む。こ
れらの多くのものは直接施用できる。噴霧用調製
物は、適当な媒体中で増量でき、数リツトル〜数
百リツトル／haの噴霧容量で用いられる。高強
度組成物は主としてさらに調合するための中間物
として使用される。概述すると調製物は、活性成
分約0.1〜99重量％、及びａ）表面活性剤約0.1〜
20％及びｂ）固体又は液体稀釈剤約１〜99.9％の
少なくとも１種を含有する。更に特に調製物はこ
れらの成分を凡そ下記の割合で含有するであろ
う： 【表】 【表】 ＊ 活性成分＋表面活性剤又は稀
釈剤の少くとも１種＝100重量
％
勿論表より低又は高量の活性成分も、意図する
用途及び化合物の物理性に応じて存在しうる。表
面活性の活性成分に対する高割合は特に望まし
く、調製物中への混入により又はタンクでの混合
により達成される。 代表的な固体希釈剤は、ワトキンス
（Watkins）ら著、“Handbook of Insecticide
Dust Diluents and Carriers”、第２版、ドラン
ドブツクス社（Dorland Books，Caldwell，N.
J.）に記載されているが、他の固体、即ち天然及
び合成固体も使用しうる。水和剤及び濃厚粉剤に
は更に吸着性稀釈剤が好適である。代表的な液体
稀釈剤及び溶媒は、マースデン（Marsden）著
“Solvents guide”、第２版、インターサイエンス
社（Intersience，N.Y.）、1950年に記載されてい
る。0.1％以下の溶解度は濃厚懸濁剤に好適であ
り；濃厚液剤は好ましくは０℃での相分離に対し
て安定である。“McCutcheon′s D.etergents and
Emulsifiers Annual”、アルアレツド出版社
（Allured Publ.Corp.，N.J.）、並びにシスリ
（Sisely）及びウツド（Wood）著、
“Encyclopedia of Surface Active Agents”、
ケミカル出版社（Chemical Publ.Co.Inc.，N.
Y.）、1964年は、表面活性及びその推奨用途を表
示している。すべての調製物は、泡立ち、ケーク
化、腐食、微生物の生長などを減ずるために少量
の添加剤を含有してもよい。 そのような組成物の製造法は十分公知である。
液剤は各成分を単に混合することによつて製造さ
れる。微細な固体組成物は、ハンマーミル又は流
体エネルギーミルを用いて混合し、普通粉砕する
ことによつて製造される。懸濁剤は、湿式ミル処
理によつて製造される〔参照、リトラー
（Littler）の米国特許第3060084号〕。粒剤及び錠
剤は、活性物質を予備成形した粒状担体上に噴霧
することにより又は凝集法により製造しうる。参
照、J.E.ブロウニング（Brownig）著、
“Agglomeration”、Chemical Engineering、12
月４日号、147頁（1967）、及びペリー（Perry）
著、Chemical Engineer′s Handbook、第４版、
８〜59頁、マツクグロウ・ヒル社（McGraw−
Hill，N.Y.）、1963年。 更に調製の技術に関する文献については、例え
ば次のものを参照： H.M.ルークス（Loux）、米国特許第3235361
号、第６欄16行〜第７欄19行及び実施例10〜41。 R.W.ルツケンバウ（Luckenbaugh）、米国特許
第3309192号、第５欄43行〜第７欄62行及び実施
例８，12，15，39，41，52，53，58，132，138，
〜140，162〜164，166，167，169〜182。 H.ジシン（Gysin）及びE.ヌスリ（Knusli）、
米国特許第2891855号第３欄66行〜第５欄17行及
び実施例１〜４。 G.C.クリングマン（Klingman）著、“Weed
Contral as ａ Sciece”、ジヨン・ウイリー・ア
ンド・サンズ社（John Wiley and Sons.Inc.，
N.Y.）、1961年、81〜96頁。 J.D.フライヤ（Fryer）及びS.A.エバンス
（Evans）著、“Weed Control Handbook”、第
５版、ブラツクウエル・サイエンテイフイツク・
パブリケーシヨンズ（Blackwell Scientific
Publications，Oxford）、1968年、101〜103頁。 上述の文献の開示は、参考文献として本明細書
に引用される。 次の実施例において、すべての部は断らない限
り重量によるものとする。 実施例 17 水和剤 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 80％ アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム ２％ リグニンスルホン酸ナトリウム ２％ 合成非晶質シリカ ３％ カオリナイト 13％ 上記成分を混合し、ハンマーミルで粉砕して平
均粒径を50ミクロン以下にした。この物質を再混
合し、米国標準ふるい50号にかけ、包装した。 実施例 18 水和剤 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 50％ アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム ２％ 低粘度メチルセルロース ２％ けいそう土 46％ 上記成分を混合し、ハンマーミルで粗粉砕し、
次に空気ミルで粉砕して本質的に全てが直径10ミ
クロン以下の粒子を製造した。生成物を再混合
し、そして包装した。 実施例 19 粒 剤 実施例17の水和剤 ５％ アタパルガイト粒子（米国標準ふるい20〜40号；
0.84〜0.42mm） 95％ 固体25％を含有する水和性粉剤のスラリーを、
ダブル・コーン混合機中においてアタパルガイト
粒子の表面に噴霧した。この粒子を乾燥して、包
装した。 実施例 20 押し出し錠剤 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 25％ 無水硫酸ナトリウム 10％ 粗リグニンスルホン酸カルシウム ５％ アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム １％ カルシウム／マグネシウムベントナイト 59％ 上記成分を混合し、ハンマーミルで処理し、次
いて約12％の水で湿めらした。この混合物を直径
約３mmの円柱として押し出し、これを切断して長
さ３mmの錠剤とした。これは乾燥した後直接使用
することができ、或いは乾燥した錠剤を粉砕して
米国標準ふるい20号（開口0.84mm）に供すること
ができた。米国標準ふるい40号（開口0.42mm）に
とどまる粒子を使用するために包装し、またふる
い下は循環した。 実施例 21 油性懸濁液 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 25％ ポリオキシエチレンソルビトールヘキサオレエー
ト ５％ 高級脂肪族炭化水素油 70％ 上記成分をサンドミル中で一緒に粉砕し、固体
粒子を約５ミクロン以下に減じた。得られた懸濁
液を、好ましくは油で増量し又は水中に乳化した
後、直接施用した。 実施例 22 水和剤 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 20％ アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム ４％ リグニンスルホン酸ナトリウム ４％ 低粘度メチルセルロース ３％ アタパルガイト 69％ 上記成分を十分混合した。ハンマーミル中で粉
砕して本質的に全てが100ミクロン以下の粒子を
製造し、物質を再混合し、そして米国標準ふるい
50号（開口0.3mm）にかけ、そして包装した。 実施例 23 低強度粒剤 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル １％ Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ９％ アタパルガイト粒子（米国標準ふるい20−40号）
90％ 活性成分を溶媒中に溶解させ、そして溶液をダ
ブルコーン混合機中で粉塵除去粒子に噴霧した。
溶液の噴霧が完了した後も混合機を短時間運転
し、次に粒剤を包装した。 実施例 24 水性懸濁液 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 40％ ポリアクリル酸シツクナー 0.3％ ドデシルフエノールポリエチレングリコールエー
テル 0.5％ りん酸二ナトリウム １％ りん酸一ナトリウム 0.5％ ポリビニルアルコール 1.0％ 水 56.7％ 上記成分を混合しそしてサンドミル中で一緒に
粉砕して本質的に全てが５ミクロン以下の寸法の
粒子を製造した。 実施例 25 溶 液 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル ５％ 水 95％ 塩を攪拌しながら水に直接加えて溶液を製造
し、それを次に使用するために包装した。 実施例 26 低強度粒剤 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 0.1％ アタパルガイト粒子（米国標準ふるい20−40号）
99.9％ 活性成分を溶媒中に溶解させ、そしてダブルコ
ーン混合機中で溶液を粉塵除去粒子に噴霧した。
溶液の噴霧が完了した後に、物質を暖めて溶液を
蒸発させた。物質を自然に冷やしそして包装し
た。 実施例 27 粒 剤 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 80％ 湿潤剤 １％ 粗リグニンスルホン酸塩（５−20％の天然糖含
有） 10％ アタパルガイト粘土 ９％ 上記成分を混合しそして粉砕して100号スクリ
ーンに通した。この物質を次に流動床造粒機に加
え、物質を静かに流動化させるように空気流を調
節し、そして水の微細噴霧を流動化物質上に噴霧
した。希望する寸法範囲の粒子が製造されるまで
流動化および噴霧を続けた。噴霧は停止したが水
含有量が希望する水準、一般に１％以下、に減少
するまで流動化を任意に加熱しながら続けた。物
質を次にとり出し、ふるいにかけて希望する寸法
範囲、一般に14−100号（1410−149ミクロン）と
し、そして使用するために包装した。 実施例 28 高強度濃厚剤 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 99％ シリカアエロゲル 0.5％ 合成非晶質シリカ 0.5％ 上記成分を混合し、そしてハンマーミル中で粉
砕して本質的に全てが米国標準ふるい50号（開口
0.3mm）を通る物質を製造した。この濃厚剤は必
要ならさらに調合することもできる。 実施例 29 水和剤 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 90％ ナトリウムスルホこはく酸ジオクチル 0.1％ 合成微細シリカ 9.9％ 上記成分を混合しそしてハンマーミル中で粉砕
して本質的に全てが100ミクロン以下の粒子を製
造した。物質を米国標準ふるい50号スクリーンに
かけ、次に包装した。 実施例 30 水和剤 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 40％ リグニンスルホン酸ナトリウム 20％ モントモリロナイト粘土 40％ 上記成分を充分混合し、ハンマーミルで粗粉砕
し、次に空気ミルで粉砕して本質的に全てが10ミ
クロン以下の寸法の粒子を製造した。物質を再混
合し、次に包装した。 実施例 31 油性懸濁液 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 35％ ポリアルコールカルボン酸エステル類と油溶性石
油スルホン酸塩の混合物 ６％ キシレン 59％ 上記成分を一緒にしてそしてサンドミル中で一
緒に粉砕して本質的に全てが５ミクロン以下の粒
子を製造した。生成物を直接使用することも、油
でのばすことも、または水中に乳化されることも
できた。 実施例 32 粉 剤 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 10％ アタパルガイト 10％ ピロフイライト 80％ 活性成分をアタパルガイトと混合し、次にハン
マーミル中に通して、実質的に全てが200ミクロ
ン以下の粒子を製造した。粉剤濃厚物を粉末状ピ
ロフイライトと均質となるまで混合した。 実施例 33 濃厚乳剤 ２−〔〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）アミノカルボニル〕アミノスルホニル〕−４
−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル 20％ クロロベンゼン 74％ ソルビタンモノステアレートおよびそれのポリオ
キシエチレン縮合物 ６％ 上記成分を一緒にしそして攪拌して溶液を製造
し、それは適用するために水中に乳化させること
ができた。 実施例 34 水和剤 ４−メトキシ−２−〔〔（４−メトキシ−６−メチ
ル−１，３，５−トリアジン−２−イル）アミノ
カルボニル〕アミノスルホニル安息香酸メチルエ
ステル 80％ アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム ２％ リグニンスルホン酸ナトリウム ２％ 合成非晶質シリカ ３％ カオリナイト 13％ 上記成分を混合し、全ての固体が本質的に50ミ
クロン以下となるまでハンマーミルで粉砕し、再
混合し、そして包装した。 実施例 35 水和剤 ２−〔〔〔４−（ジフルオロメトキシ）−６−メトキ
シピリミジン−２−イル〕アミノカルボニル〕ア
ミノスルホニル〕−４−エトキシ安息香酸メチル
エステル 50％ アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム ２％ 低粘度メチルセルロース ２％ けいそう土 46％ 上記成分を混合し、ハンマーミルで粗粉砕し、
次に空気ミルで粉砕して本質的に全てが10ミクロ
ン以下の直径の粒子を製造した。生成物を再混合
し、そして包装した。 実施例 36 粒 剤 実施例９の水和剤 ５％ アタパルガイト粒子（米国標準ふるい20−40号；
0.84−0.42mm） 95％ 25％の固体分を含有している水和剤のスラリー
をダブルコーン混合機中で攪拌しながらアタパル
ガイト粒子の表面上に噴霧した。粒子を乾燥し、
そして包装した。 用 途 試験結果は本発明の化合物類は非常に活性のあ
る発芽前もしくは発芽後除草剤または植物生長調
節剤であることを示している。それらは、すべて
の植物の完全な駆除を期待する区域、例えば燃料
貯蔵タンクの周辺、弾薬庫周辺、工業貯蔵庫区
域、駐車場、野外劇場、広告板周辺、高速道路及
び鉄道域における雑草の発芽前及び／又は発芽後
の駆除に対し広範囲の有用性を示す。他に、本化
合物のあるものは作物例えばコムギ、オオムギ及
びワタの雑草を選択的に駆除するのにも有用であ
る。また、本化合物は植物生長を改良するために
も使用できる。 本発明の化合物の使用割合は、選択的又は総体
的除草剤としての使用、共存する作物種、駆除す
べき雑草種、天候及び気候、選択される処方物、
施用法、存在する葉の量などを含む多くの因子に
より決定される。一般的に言つて、本化合物は約
0.05〜10Kg／haの量で使用されるべきである。こ
の場合、軽い土壌及び／又は低有機物質含量の土
壌に対して使用するとき、雑草を選択的に駆除す
るとき、或いは短期間の持続性だけが必要なとき
に上記範囲の低量が使用される。 本発明の化合物は他の市販の除草剤、例えばト
リアジン、トリアゾール、ウラシル、尿素、アミ
ド、ジフエニルエーテル、カーバメート及びビピ
リジリウム型の除草剤と組合わせても使用でき
る。 本化合物の除草性は多くの温室での試験におい
て示される。試験法及び結果は以下の通りであ
る。 試験 Ａ メヒシバ（Digitaria sp.）、イヌビエ
（Echinochloa crusgalli）、カラスムギ
（Avenafatua）、エビスグサ（Cassia tora）、チ
ートグラス（Bromus socalimus）、シツクルポ
ツド（Cassia obtusifolia）、アサガオ（Ipomoea
sp.）、オナモミ（Xanthium sp.）、ベルベツトリ
ーフ（Abutilon theophrasti）、モロコシ、トウ
モロコシ、ダイズ、サトウダイコン、ワタ、イ
ネ、コムギの種およびハマスゲの塊茎を成長媒中
に植え、植物に対して無害の溶媒中に溶かした化
学物質を用いて発芽前の処理を行なつた。同時
に、これらの作物および雑草種を土壌／葉施用で
処理した。処理時に、植物は２〜18cmの高さの範
囲であつた。処理した植物および対照植物を温床
中で16日間保ち、そして全ての種を対照例と比較
し、処理に対する応答を視覚的に評価した。表１
にまとめられている評価法は、０即ち降下なしか
ら10即ち最大降下までの尺度を基準とした。随伴
する文字記号は下記の意味を有する。 Ｂ＝やけど Ｃ＝黄化／頽壊 Ｄ＝落葉 Ｅ＝発芽阻止 Ｇ＝生長遅延 Ｈ＝形成の影響 Ｕ＝異常な色素形成、および 6Y＝膿瘍のできたつぼみまたは花 −＝試験なし 【表】 【表】 【表】 チートグラス − − −
− − − −
− −
【表】 【表】 チートグラス − − −
−

試験 Ｂ 発芽後 ２個の丸底なべ（直径25cm×深さ12.5cm）にウ
ツドストーン砂ローム土を充填した。１個のなべ
にブラツクグラス（Alopecurus myosuroides）、
サトウダイコン、ハマスゲ（Cyperus rotundus）
の塊茎、メヒシバ（Digitaria sanguinalis）、シ
ツクルポツド（Cassia obtusifolia）、テイーウイ
ード（Sida spinosa）、チヨウセンアサガオ
（Datura stramonium）、ベルベツトリーフ
（Abutilon theophrasti）、およびオオエノコログ
サ（Setaria faberii）を植えた。他のなべにコム
ギ、ワタ、イネ、トウモロコシ、ダイズ、カラス
ムギ（Avena fatua）、オナモミ（Xanthium
pensylvanicum）、アサガオ（Ipomoea
hederacae）、ジヨンソングラス（Sorghum
halepense）およびイヌビエ（Echinochloa
crusgalli）を植えた。植植を約14日間生長させ、
次に非植物毒性溶媒中に溶解させた化学物質を発
芽後噴霧した。 発芽前 ２個の丸底なべ（直径25cm×深さ12.5cm）にウ
ツドストーン砂ローム土を充填した。１個のなべ
にブラツクグラス、サトウダイコン、ハマスゲ、
メヒシバ、シツクポツド、テイーウイード、チヨ
ウセンアサガオ、ベルベツトリーフおよびオオエ
ノコログサを植えた。他のなべにコムギ、ワタ、
イネ、トウモロコシ、ダイズ、カラスムギ、オナ
モミ、アサガオ、ジヨンソングラスおよびイネビ
エを植えた。２個のなべに非植物毒性溶媒中に溶
解させた化学物質を発芽前噴霧した。 処理された植物および対照用を温室中に28日間
保ち、次に全ての処理された植物を対照用と比較
し、そして植物の応答を視覚的に評価した。 応答の評価法は０〜10の尺度を基準とし、ここ
で０＝効果なし、10＝完全防除である。応答の型
を試験１に関して記されている如き文字記号によ
り示した。ダツシユ（−）は無試験を意味する。 応答評価を表２に示す。 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 試験 Ｃ ２個の直径が10インチのポリエチレンライナー
で裏打ちされたプラスチツク製なべに調合された
フアルシントン沈泥ローム土を充填した。１個の
なべにコムギ（Triticum aestivum）、オオムギ
（Hordeum vulgare）、カラスムギ（Avena
fatua）、スズメノチヤヒキ（Bromussecalinus）、
ブラツクグラス（Alopecurus myosuroides）、
一年生ブルーグラス（Poa annua）、グリーンフ
オツクステイル（Setariaviridis）、レープシード
（Brassica napus）およびイタリアンライグラス
（Lolium multiflorum）の種を植えた。他のなべ
にロシアンチツスル（Salsola kali）、スピード
ウエル（Veronica persica）、コチア（Kochia
scoparia）、シエフアーズパース（Capsellabursa
−pastoris）、Matricaria inodora、ベツドスト
ロー（Gallium aparine）、ブラツクナイトシエ
ード（Solanum nigrum）およびワイルドバツク
ウイート（Polygonum convolvulus）の種を植
えた。上記の２個のなべを発芽前に処理した。同
時に上記の植物が生育中の２個のなべを発芽後に
処理した。処理時の植物に高さは植物の種類によ
るが１−15cmの範囲であつた。 化合物を非植物毒性溶媒中で希釈し、そしてな
べの上部に噴霧した。未処理の対照用および溶媒
のみのものも比較用に含まれていた。全ての処理
物は温室中で20日間保たれ、その後処理物を対照
用と比較しそして効果を視覚的に評価した。記録
されたデータを表３に示す。 【表】 【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 式 ［式中、 ＲはＨまたはCH₃であり、 R₁はC₁〜C₃アルキルであり、 R₂はRaまたはRbであり、 RaはC₁〜C₆アルコキシ、C₁−C₈アルキルチ
   オ、C₁−C₈アルキルスルフイニル、C₂−C₈アル
   キルスルホニル、C₃−C₆アルケニルオキシ、C₃
   −C₆アルキニルオキシ、C₃−C₆アルケニルチオ、
   C₃−C₆アルケニルスルフイニル、C₃−C₆アルケ
   ニルスルホニル、C₃−C₆アルキニルチオ、C₃−
   C₆アルキニルスルフイニル、C₃−C₆アルキニル
   スルホニル、OCH₂CH₂OCH₃，OCH₂CH₂
   SCH₃，OCH₂CH₂Ｓ（Ｏ）CH₃、OCH₂CH₂SO₂
   CH₃；１〜３個のＦ，C1もしくはBr原子で置換
   されたC₂−C₆アルキル；CH₂Ｆ，CHF₂；C₁−C₂
   アルコキシ、C₁−C₂アルキルチオ、C₁−C₂アル
   キルスルフイニルもしくはC₁−C₂アルキルスル
   ホニルで置換されたC₁−C₄アルキル；OCF₂Ｈ，
   OCH₂CH₂Ｆ，OCH₂CHF₂，OCH₂CF₃，OCH₂
   CH₂C1，Ｓ−シクロヘキシルまたはＳ−C₆H₅で
   あり、RbはC₁−C₃アルキル、シクロプロピル、
   C₁−C₃アルコキシ、C₁−C₃アルキルチオ、C₁−
   C₃アルキルスルフイニル、C₁−C₃アルキルスル
   ホニル、アリルオキシ、アリルチオ、アリルスル
   フイニル、アリルスルホニル、プロパルギルオキ
   シ、プロパルギルチオ、プロパルギルスルフイニ
   ル、プロパルギルスルホニル、OCF₂Ｈ，OCH₂
   CH₂Ｆ、OCH₂CHF₂，OCH₂CF₃，OCH₂CH₂
   C1；または１〜３個のＦもしくはC1原子で置換
   されたC₁−C₃アルキル；またはOCH₃もしくは
   SCH₃で置換されたC₁−C₂アルキルであり、 ＸはCH₃，OCH₃，OC₂H₅，C1，Brまたは
   OCF₂Ｈであり、 ＹはC₁−C₂アルキル、C₁−C₂アルコキシ、
   OCF₂Ｈ、OCH₂CH₂Ｆ，OCH₂CHF₂，OCH₂
   CF₃，NHCH₃またはＮ（CH₃）₂であり、 ＺはCHまたはＮであり、 但し、 １ ＸがC1またはBrであるときには、ＺはCHで
   ありそしてＹはC₁−C₂アルコキシ、NHCH₃ま
   たはＮ（CH₃）₂であり、 ２ RaがSCH₃であるときには、ＲはＨであり、
   R₁はCH₃であり、ＸはOCH₃であり、Ｙは
   OCH₃であり、そしてＺはCHであり、 ３ RaがOCH₃であるときには、ＲはＨであり、
   R₁はCH₃であり、ＸはOCH₃であり、ＹはCH₃
   であり、そしてＺはＮであり、 ４ Ｘおよび／またはＹがOCF₂Ｈであるとき、
   R₂はRbであり、 4A ＸおよびＹのいずれもがOCF₂Ｈでないと
   き、R₂はRaであり、 ５ ＸまたはＹがOCF₂Ｈであるときには、Ｚは
   CHであり、そして ６ ＸまたはＹがOCF₂Ｈであるときには、他方
   はCH₃，OCH₃またはOCF₂Ｈである］ の化合物、およびそれらの農業的に適する塩類。 ２ R₂がRaであり、そしてRaがCH₃Ｏ，OCH₃
   Ｓ，C₃−C₆アルケニルオキシ、C₃−C₆アルキニ
   ルオキシ、C₃−C₆アルケニルチオ、C₃−C₆アル
   ケニルスルフイニル、C₃−C₆アルケニルスルホ
   ニル、C₃−C₆アルキニルスルフイニル、C₃−C₆
   アルキニルスルホニル；１〜３個のＦ，C1もし
   くはBr原子で置換されたC₂−C₆アルキル；CH₂
   Ｆ，CHF₂；C₁−C₂アルコキシ、C₁−C₂アルキル
   チオ、C₁−C₂アルキルスルフイニルもしくはC₁
   −C₂アルキルスルホニルで置換されたC₁〜C₄ア
   ルキル；OCH₂CH₂OCH₃，OCH₂CH₂SCH₃，
   OCH₂CH₂Ｓ（Ｏ）CH₃，OCH₂CH₂SO₂CH₃，
   OCF₂Ｈ，OCH₂CH₂Ｆ，OCH₂CHF₂，OCH₂CF₃
   またはOCH₂CH₂C1である特許請求の範囲第１項
   記載の化合物。 ３ ＲがＨである特許請求の範囲第２項記載の化
   合物。 ４ RaがCH₃Ｏ，CH₃Ｓ，C₃−C₄アルキニルオ
   キシ、C₃−C₄アルケニルチオ、C₃−C₄アルケニ
   ルスルフイニル、C₃−C₄アルケニルスルホニ
   ル；１〜３個のＦもしくはC1原子で置換された
   C₂−C₃アルキル；CH₂Ｆ，CHF₂；C₁−C₂アルコ
   キシ、C₁−C₂アルキルチオ、C₁−C₂アルキルス
   ルフイニルもしくはC₁−C₂アルキルスルホニル
   で置換されたC₁−C₂アルキル；OCHF₂，OCH₂
   CH₂Ｆ，OCH₂CF₃またはOCH₂CH₂C1である特
   許請求の範囲第３項記載の化合物。 ５ R₁がCH₃またはCH₂CH₃であり、ＸがCH₃，
   OCH₃またはC1であり、そしてＹがCH₃，
   OCH₃，C₂H₅またはOC₂H₅である 特許請求の範囲第４項記載の化合物。 ６ Raがアリルオキシ、アリルチオ、プロパル
   ギルオキシ、プロパルギルチオ、CH₄Ｆ、
   OCHF₂，OCH₂CH₂ＦまたはCH₃Ｓである特許請
   求の範囲第５項記載の化合物。 ７ R₂がRaであり、そしてRaがC₂−C₆アルコキ
   シ、C₂−C₈アルキルチオ、C₂−C₈アルキルスル
   ホニル、C₁−C₈アルキルスルフイニル、Ｓ−シ
   クロヘキシルまたはSC₆H₅である特許請求の範囲
   第１項記載の化合物。 ８ ＲがＨである特許請求の範囲第７項記載の化
   合物。 ９ RaがC₂−C₄アルコキシ、C₂−C₄アルキルチ
   オ、C₂−C₄アルキルスルスルまたはC₁−C₄アル
   キルスルフイニルである特許請求の範囲第８項記
   載の化合物。 １０ R₁がCH₃またはC₂H₅であり、 ＸがCH₃，OCH₃またはC1であり、そしてＹが
   CH₃，OCH₃，C₂H₅またはOC₂H₅である 特許請求の範囲第９項記載の化合物。 １１ RaがC₂−C₃アルコキシ、C₂−C₃アルキル
   チオまたはC₁−C₃アルキルスルフイニルである
   特許請求の範囲第１０項記載の化合物。 １２ R₂がRbであり、そしてRbがC₁−C₂アルキ
   ル、シクロプロピル、C₁−C₂アルコキシ、C₁−
   C₃チオアルキル、C₁−C₃アルキルスルフイニル、
   C₁−C₃アルキルスルホニル、CF₃，プロパルギル
   オキシ、プロパルギルチオ、プロパルギルスルフ
   イニル、プロパルギルスルホニル，OCF₂Ｈ，
   OCH₂CH₂Ｆ，OCH₂CHF₂，OCH₂CF₃，OCH₂
   CH₂C1；またはOCH₃もしくはSCH₃で置換され
   たC₂アルキルである特許請求の範囲第１項記載
   の化合物。 １３ ＲがＨであり、 R₁がC₁−C₂アルキルであり、 RbがC₁−C₂アルキル、C₁−C₂アルコキシ、C₁
   −C₂アルキルチオ、CF₃またはOCF₂Ｈであり、
   そして ＹがCH₃またはOCH₃である、 特許請求の範囲第１２項記載の化合物。 １４ RbがCH₃，OCH₃，OCH₂CH₃またはCF₃
   である特許請求の範囲第１３項記載の化合物。 １５ R₂がRbであり、そしてRbがプロピル、プ
   ロピルオキシ、アリルオキシ、アリルチオ、アリ
   ルスルフイニル、アリルスルホニル、CH₃
   OCH₂，CH₃SCH₂，CH₂Ｆ，CHF₂；１〜３個の
   Ｆ原子で置換されたC₂−C₃アルキル；または１
   〜３個のC1原子で置換されたC₁−C₃アルキルで
   ある特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １６ ＲがＨであり、 R₁がC₁−C₂アルキルであり、 RbがCH₂ＦまたはCH₂CH₂Ｆであり、そして ＹがCH₃またはOCH₃である、 特許請求の範囲第１５項記載の化合物。 １７ ２−［［（４，６−ジメトキシピリミジン−
   ２−イル）アミノカルボニル］アミノスルホニ
   ル］−４−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル
   である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １８ ４−メトキシ−２−［［（４−メトキシ−６
   −メチル−１，３，５−トリアジン−２−イル）
   アミノカルボニル］アミノスルホニル］安息香酸
   メチルエステルである特許請求の範囲第１項記載
   の化合物。 １９ ２−［［［４−（ジフルオロメトキシ）−６−
   メトキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニ
   ル］アミノスルホニル］−４−エトキシ安息香酸
   メチルエステルである特許請求の範囲第１項記載
   の化合物。 ２０ 式 ［式中、 ＲはＨまたはCH₃であり、 R₁はC₁〜C₃アルキルであり、 R₂はRaまたはRbであり、 RaはC₁〜C₆アルコキシ、C₁−C₈アルキルチ
   オ、C₃−C₆アルケニルオキシ、C₃−C₆アルキニ
   ルオキシ、C₃−C₆アルケニルチオ、C₃−C₆アル
   ケニルスルフイニル、C₃−C₆アルケニルスルホ
   ニル、C₃−C₆アルキニルチオ、C₃−C₆アルキニ
   ルスルフイニル、₃−C₆アルキニルスルホニル、
   OCH₂CH₂OCH₃，OCH₂CH₂SCH₃，OCH₂CH₂
   Ｓ（Ｏ）CH₃，OCH₂CH₂SO₂CH₃；１〜３個の
   Ｆ，C1もしくはBr原子で置換されたC₂−C₆アル
   キル；CH₂Ｆ，CHF₂；C₁−C₂アルコキシ、C₁−
   C₂アルキルチオ、C₁−C₂アルキルスルフイニル
   もしくはC₁−C₂アルキルスルホニルで置換され
   たC₁−C₄アルキル；OCH₂CH₂Ｆ，OCH₂CHF₂，
   OCH₂CH₂C1，Ｓ−シクロヘキシルまたはＳ−C₆
   H₅であり、RbはC₁−C₃アルキル、シクロプロピ
   ル、C₁−C₃アルコキシ、C₁−C₃アルキルチオ、
   C₁−C₃アルキルスルフイニル、C₁−C₃アルキル
   スルホニル、アリルオキシ、アリルチオ、アリル
   スルフイニル、アリルスルホニル、プロパルギル
   オキシ、プロパルギルチオ、プロパルギルスルフ
   イニル、プロパルギルスルホニル、OCF₂Ｈ，
   OCH₂CH₂Ｆ，OCH₂CHF₂，OCH₂OF₃，OCH₂
   CH₂C1；または１〜３個のＦもしくはC1原子で
   置換されたC₁−C₃アルキル；またはOCH₃もしく
   はSCH₃で置換されたC₁−C₂アルキルであり、 ＸはCH₃，OCH₃，OC₂H₅，C1，Brまたは
   OCF₂Ｈであり、 ＹはC₁−C₂アルキル、C₁−C₂アルコキシ、
   OCF₂Ｈ，OCH₂CH₂Ｆ，OCH₂CHF₂、OCH₂
   CF₃，NHCH₃またはＮ（CH₃）₂であり、 ＺはCHまたはＮであり、 但し、 １ ＸがC1またはBrであるときには、ＺはCHで
   ありそしてＹはC₁−C₂アルコキシ、NHCH₃ま
   たはＮ（CH₃）₂であり、 ２ RaがSCH₃であるときには、ＲはＨであり、
   R₁はCH₃であり、ＸはOCH₃であり、Ｙは
   OCH₃であり、そしてＺはCHであり、 ３ RaがOCH₃であるときには、ＲはＨであり、
   R₁はCH₃であり、ＸはOCH₃であり、ＹはCH₃
   であり、そしてＺはＮであり、 ４ Ｘおよび／またはＹがOCF₂Ｈであるとき、
   R₂はRbであり、 4A ＸおよびＹのいずれもがOCF₂Ｈでないと
   き、R₂はRaであり、 ５ ＸまたはＹがOCF₂Ｈであるときには、Ｚは
   CHであり、そして ６ ＸまたはＹがOCF₂Ｈであるときには、他方
   はCH₃，OCH₃またはOCF₂Ｈである］ の化合物またはその農業的に適する塩を有効成分
   として含有することを特徴とする望ましくない植
   物の生長を調節するための農業用に適した薬剤。 ２１ 表面活性剤または固体もしくは液体の希釈
   剤の少なくとも１種をさらに含有する特許請求の
   範囲第２０項記載の薬剤。 ２２ R₂がRaであり、そしてRaがCH₃Ｏ，CH₃
   Ｓ、C₃−C₆アルキニルオキシ、C₃−C₆アルキニ
   ルオキシ、C₃−C₆アルケニルチオ、C₃−C₆アル
   ケニルスルフイニル、C₃−C₆アルケニルスルホ
   ニル、C₃−C₆アルキニルスルフイニル、C₃−C₆
   アルキニルスルホニル；１〜３個のF.C1もしく
   はBr原子で置換されたC₂−C₆アルキル；CH₂Ｆ，
   CHF₂；C₁−C₂アルコキシ、C₁−C₂アルキルチ
   オ、C₁−C₂アルキルスルフイニルもしくはC₁−
   C₂アルキルスルホニルで置換されたC₁−C₄アル
   キル；OCH₂CH₂OCH₃，OCH₂CH₂SCH₃，
   OCH₂CH₂Ｓ（Ｏ）CH₃，OCH₂CH₂SO₂CH₃，
   OCH₂CH₂Ｆ，OCH₂CHF₂またはOCH₂CH₂C1で
   ある特許請求の範囲第２０項記載の化合物の有効
   量及び表面活性剤または固体もしくは液体の希釈
   剤の少なくとも１種を含有する特許請求の範囲第
   ２０項記載の薬剤。 ２３ ＲがＨである特許請求の範囲第２１項記載
   の化合物の有効量及び表面活性剤または固体もし
   くは液体の希釈剤の少なくとも１種を含有する特
   許請求の範囲第２１項記載の薬剤。 ２４ RaがCH₃Ｏ，CH₃Ｓ，C₃−C₄アルケニル
   オキシ、C₃−C₄アルケニルチオ、C₃−C₄アルケ
   ニルスルフイニル、C₃−C₄アルケニルスルホニ
   ル；１〜３個のＦもしくはC1原子で置換された
   C₂−C₃アルキル；CH₂Ｆ，CHF₂；C₁−C₂アルコ
   キシ、C₁−C₂アルキルチオ、C₁−C₂アルキルス
   ルフイニルもしくはC₁−C₂アルキルスルホニル
   で置換されたC₁−C₂アルキル；OCH₂CH₂Ｆまた
   はOCH₂CH₂C1である特許請求の範囲第２３項記
   載の化合物の有効量及び表面活性剤または固体も
   しくは液体の希釈剤の少なくとも１種を含有する
   特許請求の範囲第２３項記載の薬剤。 ２５ R₁がCH₃またはCH₂CH₃であり、Ｘが
   CH₃，OCH₃またはC1であり、そしてＹがCH₃，
   OCH₃，C₂H₅またはOC₂H₅である 特許請求の範囲第２４項記載の化合物の有効量
   及び表面活性剤または固体もしくは液体の希釈剤
   の少なくとも１種を含有する特許請求の範囲第２
   ４項記載の薬剤。 ２６ Raがアリルオキシ、アリルチオ、プロパ
   ルギルオキシ、プロパルギルチオ、CH₂Ｆ，
   OCH₂CH₂ＦまたはCH₃Ｓである特許請求の範囲
   第２５項記載の化合物の有効量及び表面活性剤ま
   たは固体もしくは液体の希釈剤の少なくとも１種
   を含有する特許請求の範囲第２５項記載の薬剤。 ２７ R₂がRaであり、そしてRaがC₂−C₆アルコ
   キシ、C₂−C₈アルキルチオ、Ｓ−シクロヘキシ
   ルまたはSC₆H₅である特許請求の範囲第２０項記
   載の化合物の有効量及び表面活性剤または固体も
   しくは液体の希釈剤の少なくとも１種を含有する
   特許請求の範囲第２０項記載の薬剤。 ２８ ＲがＨである特許請求の範囲第２７項記載
   の化合物の有効量及び表面活性剤または固体もし
   くは液体の希釈剤の少なくとも１種を含有する特
   許請求の範囲第２７項記載の薬剤。 ２９ RaがC₂−C₄アルコキシまたはC₂−C₄アル
   キルチオである特許請求の範囲第２７項記載の化
   合物の有効量及び表面活性剤または固体もしくは
   液体の希釈剤の少なくとも１種を含有する特許請
   求の範囲第２７項記載の薬剤。 ３０ R₁がCH₃またはC₂H₅であり、ＸがCH₃、
   OCH₃またはＣ１であり、そしてＹがCH₃，C₂H₅
   またはOC₂H₅である 特許請求の範囲第２９項記載の化合物の有効量
   及び表面活性剤または固体もしくは液体の希釈剤
   の少なくとも１種を含有する特許請求の範囲第２
   ９項記載の薬剤。 ３１ RaがC₂−C₃アルコキシまたはC₂−C₃アル
   キルチオである特許請求の範囲第３０項記載の化
   合物の有効量及び表面活性剤または固体もしくは
   液体の希釈剤の少なくとも１種を含有する特許請
   求の範囲第３０項記載の薬剤。 ３２ R₂がRbであり、そしてRbがC₁−C₂アルキ
   ル、シクロプロピル、C₁−C₂アルコキシ、C₁−
   C₃チオアルキル、C₁−C₃アルキルスルフイニル、
   C₁−C₃アルキルスルホニル、CF₃、プロパルギル
   オキシ、プロパルギルチオ、プロパルギルスルフ
   イニル、プロパルギルスルホニル、OCF₂Ｈ，
   OCH₂CH₂Ｆ，OCH₂CHF₂，OCH₂CH₂C1；また
   はOCH₃もしくはSCH₃で置換されたC₂アルキル
   である特許請求の範囲第２０項記載の化合物の有
   効量及び表面活性剤または固体もしくは液体の希
   釈剤の少なくとも１種を含有する特許請求の範囲
   第２０項記載の薬剤。 ３３ ＲがＨであり、 R₁がC₁−C₂アルキルであり、 RbがC₁−C₂アルキル，C₁−C₂アルコキシ、C₁
   −C₂アルキルチオ、CF₃またはOCF₂Ｈであり、
   そして ＹがCH₃またはOCH₃である、 特許請求の範囲第３２項記載の化合物の有効量
   及び表面活性剤または固体もしくは液体の希釈剤
   の少なくとも１種を含有する特許請求の範囲第３
   ２項記載の薬剤。 ３４ RbがCH₃，OCH₃，OCH₂CH₃またはCF₃
   である特許請求の範囲第３３項記載の化合物の有
   効量及び表面活性剤または固体もしくは液体の希
   釈剤の少なくとも１種を含有する特許請求の範囲
   第３３項記載の薬剤。 ３５ R₂がRbであり、そしてRbがプロピル、プ
   ロピルオキシ、アリルオキシ、アリルチオ、アリ
   ルスルフイニル、アリルスルホニル、CH₃
   OCH₂，CH₃SCH₂，CH₂Ｆ，CHF₂；１〜３個の
   Ｆ原子で置換されたC₂−C₃アルキル；または１
   〜３個のC1原子で置換されたC₁−C₃アルキルで
   ある特許請求の範囲第２０項記載の化合物の有効
   量及び表面活性剤または固体もしくは液体の希釈
   剤の少なくとも１種を含有する特許請求の範囲第
   ２０項記載の薬剤。 ３６ ＲがＨであり、 R₁がC₁−C₂アルキルであり、 RbがCH₂ＦまたはCH₂CH₂Ｆであり、そして ＹがCH₃またはOCH₃である、 特許請求の範囲第３５項記載の化合物の有効量
   及び表面活性剤または固体もしくは液体の希釈剤
   の少なくとも１種を含有する特許請求の範囲第３
   ５項記載の薬剤。 ３７ ２−［［（４，６−ジメトキシピリミジン−
   ２−イル）アミノカルボニル］アミノスルホニ
   ル］−４−（メチルチオ）安息香酸メチルエステル
   の有効量及び表面活性剤または固体もしくは液体
   の希釈剤の少なくとも１種を含有する特許請求の
   範囲第２０項記載の薬剤。 ３８ ４−メトキシ−２−［［（４−メトキシ−６
   −メチル−１，３，５−トリアジン−２−イル）
   アミノカルボニル］アミノスルホニル］安息香酸
   メチルエステルの有効量及び表面活性剤または固
   体もしくは液体の希釈剤の少なくとも１種を含有
   する特許請求の範囲第２０項記載の薬剤。 ３９ ２−［［［４−（ジフルオロメトキシ）−６−
   メトキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニ
   ル］アミノスルホニル］−４−エトキシ安息香酸
   メチルエステルの有効量及び表面活性剤または固
   体もしくは液体の希釈剤の少なくとも１種を含有
   する特許請求の範囲第２０項記載の薬剤。