JPH0455501B2 - - Google Patents

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JPH0455501B2
JPH0455501B2 JP59142510A JP14251084A JPH0455501B2 JP H0455501 B2 JPH0455501 B2 JP H0455501B2 JP 59142510 A JP59142510 A JP 59142510A JP 14251084 A JP14251084 A JP 14251084A JP H0455501 B2 JPH0455501 B2 JP H0455501B2
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JP
Japan
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diazide
sulfonic acid
weight
naphthoquinone
parts
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JP59142510A
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JPS6039641A (ja
Inventor
Shutaaruhoofuen Pauru
Matsuku Geruharuto
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Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
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Publication date
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Publication of JPS6039641A publication Critical patent/JPS6039641A/ja
Publication of JPH0455501B2 publication Critical patent/JPH0455501B2/ja
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Fats And Perfumes (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は１，２−キノンジアジド、詳しくは
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スル
ホン酸を基剤とする通常のポジチブ作用をする感
光材料によつてネガチブコピーを製造するための
反転方法に関する。
従来の技術 １，２−ナフトキノンジアジドを基剤とするポ
ジチブ作用を有する複写材料が、特定の順序の処
理段階によつてネガチブ加工されううることは公
知である。米国特許第3264104号にはこの種の反
転方法が記載されているが、この方法の場合に
は、好ましくは熱可塑性ポリマーを含有する感光
層を原図下に露光し、適当な場合には高められた
温度でプロセスでは露光部分を洗出すことなくア
ルカリ性溶液又は水で処理し、原図なしに再び露
光し、次に常法で現像すると、支持体上に原図下
に画像露光された部分が残りかつ他の部分が洗出
される。
この方法は、比較的多数の処理段階が要求され
ており、水性アルカリ中に可溶の露光層から可及
的に僅かしか分離されないように特に注意深く常
に実施されなければならずかつアルカリに微溶で
あつて、該材料の他の用途に対する適用性を限定
するポリマーを加えることが必要であるいう欠点
を有する。
ヨーロツパ特許出願公開第0024916号は、レジ
スト層の同様な反転製造方法を開示しているが、
同方法の場合には１，２−キノンジアジドを基剤
とする材料を、画像露光後に加熱し、次いで原図
なしに再び露光し、アルカリ性水溶液を用いて現
像してネガチブを形成する。該材料の感光層は、
同材料を加熱するとキノンジアジドの光反応生成
物と反応しかつ感光層の硬化を生じさせる特定の
ホトクロミツク（photochromic）化合物を含有
する。該材料にはホトクロミツク物質の存在する
ことが不可欠であるが、同物質の光反応は若干の
用途においては不都合な変色を惹起する。
英国特許第2082339号には、ｏ−キノンジアジ
ド及び少なくとも１種のレゾールから成り、ポジ
チブ及びネガチブ加工の両方に適した平版印刷板
の製造で使用される感光層組成物が記載されてい
る。この場合の反転方法は前記方法と同じ順序の
段階を含む。その作用は、ｏ−キノンジアジドの
光分解生成物が熱作用下にレゾールと共に不溶の
反応生成物を形成するという事実に基いている。
この種の反応はノボラツクを使用する場合には起
らない。このようにして製造された印刷版は、レ
ゾールの自己硬化性により保存寿命が比較的不十
分であるという欠点を有する。
西独国特許出願公開第2855723号及び同第
2529054号には、反転方法のために使用される１，
２−キノンジアジドを含むレジスト層が記載され
ている。該レジスト層は同層を熱硬化させるＮ−
アシル−N′−メチロール−エチレンジアミン又
はヒドロキシエチルイミダゾールの添加を包含す
る。米国特許第4196003号にも第二又は第三アミ
ンを含む同様な材料が記載されている。
しかしこの種の添加物は一般に、複写層の保存
寿命及び複写法に関する特定の性質、例えば光感
度及び露光後の画像コントラストに対して不利な
影響を及ぼす。
発明が解決しようとする問題点 本発明の目的は、１，２−キノンジアジドを基
剤とし、前記欠点がなくかつ露光された層部分の
可能な熱硬化を行うために複写層に添加物を使用
する必要のない、通常ポジチブ作用を有する感光
材料によつてネガチブコピーを製造するための反
転方法を提案することである。
本発明は、水に不溶のかつアルカリ性水溶液に
可溶のバインダー及び感光性化合物としての１，
２−キノンジアジドを含有する感光材料を画像に
より露光し、次に加熱し、冷却後に原図なしに再
び露光し、次にアルカリ性水性現像液によつて現
像することから成るネガチブレリーフコピーの製
造方法を提供する。
問題点を解決するための手段 本発明の前記目的は、該感光材料が感光性化合
物として１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−
４−スルホン酸のエステル又はアミドを含むこと
によつて達成される。
意外にも、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド
−(2)−４−スルホン酸誘導体は、前記反転方法に
おける感光剤として使用する場合には、相応のナ
フトキノン−（１，２）−ジアジド−(2)−５−スル
ホン酸誘導体よりもはるかに適していることが判
明した。
本発明により、複写層中の感光剤として、例え
ばｏ−キノンジアジド−５−スルホン酸エステル
と反対にｏ−キノンジアジド−４−スルホン酸エ
ステルを使用する場合には、添加剤なしでも露光
された層部分が高められた温度で硬化されること
が見出された。ｏ−キノンジアジド−５−スルホ
ン酸エステルの場合には、前記熱硬化は、複写層
に照射された層部分の凝固を起こす特殊の添加剤
を添加する場合のみ達成されうる。
例えば、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−
(2)−４−スルホン酸エステル及びバインダーとし
てのクレゾール−ホルムアルデヒドノボラツクか
ら成りかつ紫外線による照射後140℃に加熱され
た複写層はすでに１分後に硬化されて現像液中で
不溶となつたが、これに反し相応のナフトキノン
−（１，２）−ジアジド−(2)−５−スルホン酸エス
テルがその他は不変の実験条件下で使用される照
射複写層は、140℃で硬化されず、それにより現
像液中で依然として可溶である。ただ照射複写層
を３分間加熱した後のみ、同層のわずかな硬化が
認められるけれども、これによつてもなお現像液
に対する抵抗性は得られない。140℃での加熱時
間を、例えば４分又は５分に延長する場合には、
該複写層の未露光成分がすでに分解を始めつ現像
液中で僅に可溶になるか又は不溶になつて、ポジ
チブコピーとネガチブコピーとの差別を得ること
は不可能になる。
複写層に特定の添加物、例えばレゾーレ、第二
又は第三アミン又は他の化合物を添加することに
よつてのみ、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド
−(2)−５−スルホン酸エステルを用いても反転現
像を行うことができる。
本発明による方法は、複写層中で感光剤として
使用されるナフトキノン−（１，２）−ジアジド−
(2)−４−スルホン酸エステルが前記種類の添加剤
を要求せず、その結果これらの添加剤物によつて
惹起される複写法に関係する特定の欠点は起こり
えないという利点を有する。
本発明による使用にとつて適当な感光剤は、化
学光での照射後にアルカリ性水溶液中で可溶にな
る。
使用することのできるエステルには、その酸又
はハロゲン化物と、フエノール、特に多価フエノ
ール例えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフ
エノン、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフエノ
ン、４−デカノイルーレソルシノール、４−（２
−フエニル−プロピ−２−イル）フエノールとの
公知反応生成物、没食子酸オクチルエステル又は
４，４−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−バレ
リアン酸ブチルエステルが包含される。アミドは
芳香族又は長鎖脂肪族アミンから公知法で誘導さ
れうる。
ｏ−キノンジアジド化合物の量は一般に、複写
層の非揮発性成分の重量に対して３〜50重量％、
好ましくは７〜35重量％の範囲である。
またこの全量は、前記の４−置換ｏ−キノンジ
アジドの他に、比較的少量の慣用の１，２−ナフ
トキノンジアジド−５−スルホン酸誘導体、好ま
しくは１，２−ナフトキノンジアシド−５−スル
ホン酸エステルも包含することができる。一般に
５−スルホン酸誘導体の量は４−スルホン酸誘導
体の量の50％を越えては成らず、好ましくは約20
％を越えてはならない。
さらに感光性組成物は、本発明による組成物の
ために使用される溶剤に可溶であり、また水性ア
ルカリ中でも可溶であるか又は少なくとも膨潤可
能であり、水に水溶の重合樹脂バインダーも含有
する。
また、ナフトキノンジアシドを基剤とする数多
のポジチブ複写材料に関して十分に確証されたノ
ボラツク縮合樹脂も、本発明による方法でバイン
ダーとして使用するのに有利であることが判つ
た。このようなノボラツクはまた、公知法でその
ヒドロキシ基の部分を、例えばクロル酢酸、イソ
シアネート、エポキシド又は無水カルボン酸と反
応ささせることによつて変性することもできる。
アルカリ中で可溶か又は膨潤可能な有利な他のバ
インダーには、フエノールとアルデヒド又はケト
ンとの縮合によつて製造れるポリヒドロキシフエ
ニル樹脂、スチレン及び無水マレイン酸のコポリ
マー、ポリビニルフエノール又はアクリル酸又は
メタクリル酸と、特にアクリル酸又はメタクリル
酸エステルとのコポリマーが含まれる。
アルカリ可溶性樹脂の種類及び量は意図された
目的に依存して変化してもよい。好ましくは全固
体中のアルカリ可溶性樹脂液の割合は90〜30重量
％、特に好ましくは85〜55重量％である。さらに
また、多数の他の樹脂も付加的に使用することが
できる。好ましくはこのような樹脂には、エポキ
シ樹脂及びビニルポリマー、すなわちポリ酢酸ビ
ニル、ポリアクリル酸エステル、ポリビニルアセ
タール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリ
ドン及びそれらの基礎となつているモノマーのコ
ポリマーならびに水素化又は部分水素化ロジン誘
導体が含まれる。
これらの樹脂の最も有利な割合は、技術的要求
及び現像条件に依存しかつ一般には、アルカリ可
溶性樹脂の50重量％未満、好ましくは約２〜35重
量％である。特殊な要求、例えば柔軟性、付着
性、光沢及び着色を満足させるためには、感光性
組成物は付加的にポリグリコール、エチルセルロ
ースのようなセルロース誘導体、界面活性剤、染
料、定着剤及び微細顔料、必要な場合にはまた紫
外線吸収剤を含有することができる。
また露光後の変色に関しては、感光性組成物
に、露光時に好ましくは強酸を形成するか又は分
離し、その結果生じる適当な染料との反応で変色
を生じる放射線過敏性成分の少量を添加すること
もできる。この種の放射線過敏性成分は例えば、
発色性置換基を有する１，２−ナフトキノン−ジ
アジド−４−スルホン酸のクロリド、ハロゲノメ
チル−ａ−トリアジン又はテトラフルオロ硼酸又
はヘキサフルオロ燐酸のような錯酸との塩の形の
ジアゾニウム化合物である。
該組成物は、適当な支持体に塗布するためには
一般に溶剤に溶かす。溶剤の選択は、その場の塗
布法、層厚及び乾燥条件に適合されなければなら
ない。本発明による組成物に適当な溶剤は、メチ
ルエチルケトンのようなケトン、トリクロロエチ
レン及び１，１，１，−トリクロロエタンのよう
な塩素化炭化水素、ｎ−プロパノールのようなア
ルコール、テトラヒドロフランのようなエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテルのよ
うなアルコールエーテル及び酢酸ブチルのようう
なエステルである。また、特殊な目的のためには
アセトニトリル、ジオキサン又はジメチルホルム
アミドのような溶剤も含有することのできる混合
物を使用してもよい。原理的には、層成分と不可
逆的に反応しないすべての溶剤を使用することが
できる。特に好ましい溶剤はグリコールの部分エ
ーテル、特にエチレングリコールモノメチルエー
テルから成る。
約10μｍ未満の層厚の場合に使用される支持体
は、大抵の場合金属である。次のものはオフセツ
ト印刷版用に使用することができる：所望の場合
には陽極酸化されかつ付加的にまた、例えばポリ
ビニル燐酸、珪酸塩、燐酸塩、ヘキサフルオロジ
ルコネート、又は加水分解テトラエチルオルト珪
酸塩を用いて化学的に前処理されていてもよいフ
ライス仕上げの、機械的又は電気化学的に粗面化
したアルミニウムである。
支持体材料の塗布は、公知法で回転塗布、吹付
け、浸漬、ローラー塗によつて、スロツトダイを
用いて、ナイフ塗布又はコーター塗布によつて実
施する。露光のためには、工業で慣用の光源を使
用する。画像形成の他の可能な手段は、電子又は
レーザーを用いる照射である。
現像のために使用されるアルカリ性水溶液は等
級別アルカリ度を有する、つまり該溶液は好まし
くは10〜14の範囲のPHを有しかつまた少量の有機
溶剤又は界面活性剤を含有していてもよい。
感光材料は、画像による照射又は露光後に他の
中間的処理なしに加熱される。加熱は、照射、対
流、加熱面例えばローラーとの接触又は不活性液
体、例えば水を含む加熱浴中への浸漬によつて行
なうことができる。温度は80〜160℃、好ましく
は110〜150℃の範囲にあつてよい。このような温
度は未露光部分の性質の重大な変化なしに組成物
によつて許容される。加熱時間は、選択された加
熱方法に依存して広範囲で変化してもよい。伝熱
媒体を使用する場合には、加熱時間は一般に1/2
〜30分、好ましくは１〜５分の範囲にある。
加熱及び冷却の次に、感光層の全露光を施こ
し、これによつてまだ感光性を有する層部分が光
分解生成物に完全に転化される。第２露光の場合
には、画像露光で使用した光源を再び有利に使用
することができる。
第２露光の次に、慣用現像液で現像し、これに
よつて画像露光で光の照射されなかつた層部分を
洗出す。適当な現像液は好ましくは、アルカリ性
物質、例えばアルカリ金属燐酸塩、珪酸塩、炭酸
塩又は水酸化物の水溶液から成り、同溶液は付加
的に界面活性剤又は比較的少量の有機溶剤も含有
していてよい。また特別な場合には適当な現像液
は有機溶剤又は有機溶剤と水との混合物から成
る。該感光材料は加熱及び冷却直後に又は例えば
数時間の時間後に、硬化された層部分に何らの作
用の起こることなく現像されうる。これは、露光
された層部分が加熱によつて不可逆的に硬化され
ていることを示す。
本発明による方法は、特殊な添加物を使用し、
その存在によつて高められた温度の露光層部分の
凝固を可能にする必要がなくかつ液体を使用する
付加的処理段階も、感光材料の特定な組成物も要
求されないという利点を有する。唯一の付加的処
理段階、すなわち加熱に関しては、大抵の場合存
在する乾燥装置を容易に使用することができる。
原図を用いない第２露光は、感光材料を画像によ
り露光するために使用した光源によつて極めて単
純に行なわれうる。
本発明方法によつて、露光時間を変えることに
よつて解像を調節することができる。
本発明方法は、活版印刷、グラビア印刷及び平
版印刷用印刷版の製造、印刷回路板の減色法及び
加色法作成のためのフオトレジストステンシルの
製造、電気メツキ法によつて製造されるスクリー
ン印刷用ニツケルシリンダーの製造又はミクロ電
子光学におけるリフトオフ（lift−off）法による
マスクの製造において適用することができる。
次の実施例で本発明方法の有利な実施態様を記
載する。パーセンテージ及び量比は、他に指示が
なければ重量単位と解すべきである。
実施例 例 １ 電解的に粗面化しかつ陽極酸化したアルミニウ
ム薄板に、 エチレングリコールモノメチルエーテル50.00
重量部及びテトラヒドロフラン50.00重量部中の、 ４−（２−フエニル−プロピ−２−イル）フエ
ノール1mol及びナフトキノン−（１，２）−ジア
ジド−(2)−４−スルホン酸クロリド1molから得
られたエステル化生成物3.00重量部、 ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−(2)−４−
スルホン酸クロリド0.10重量部、105〜120℃の軟
化範囲（毛管法DIN53，181により測定）を有す
るクレゾール−ホルムアルデヒドノボラツク6.00
重量部及びクリスタルバイオレツト0.07重量部 から成る溶液を塗布した。
陽極酸化アルミニウム支持体に感光性複写層を
塗布する前に、同支持体を、西独国特許第
1621478号に記載されているようにポリビニルホ
スホン酸の水溶液で処理した。
このようにして製造された、重量約2.0ｇ／m2
の感光層を有するプレセンシタイズ材料を、透明
なポジチブ原図下に画像露光し、次にメタ珪酸ナ
トリウム・9H2Oの２％水溶液で現像した。現像
過程で複写層の光の照射された部分が除去されか
つ未露光の画像部分が支持体上に残つて、原図に
よる印刷ステンシルが得られた。印刷ステンシル
に脂肪性インキを着けると印刷準備のできたポジ
チブ印刷版が製造された。
同一のプレセンシタイズ材料の他の試料を加工
してネガチブ印刷版を得た。この目的のために同
試料をネガチブ原図下に露光し、140℃で１分間
加熱し、画像露光で使用した時間と同じ時間の間
原図なしに再び露光した。画像露光の場合と同一
の現像液中で同一の時間の間現像すると、原図の
反転画像が得られた。
例１で示した感光液を、ナフトキノン−（１，
２）−ジアジド−(2)−５−スルホン酸の相応のエ
ステルと代え、前記反転方法を同一試験条件下で
繰返す場合には、ポジチブ作用を有する感光材料
の反転現像は、ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸の存在では不可能であることが判る。露光
層部分は、前記ナフトキノン−（１，２）−ジアジ
ド−(2)−４−スルホン酸エステルの存在する場合
には、140℃でのすでに１分間の加熱後には、現
像液中で不溶になつたが、ナフトキノン−（１，
２）−ジアジド−(2)−５−スルホン酸エステルを
含む露光層部分は140℃での３分間の加熱後にも
現像液中で依然として可溶なので、ポジチブコピ
ーとネガチブコピーとの間の差別が不可能であ
る。加熱時間及び／又は温度を増大させる場合に
は、未露光の層部分が分解を始め、その結果この
場合にも前記の差別は不可能である。
例 ２ 電気化学的に粗面化しかつ陽極酸化し、 ポリビニルホスホン酸0.1重量％の水溶液を用
いて処理したアルミニウム薄板に、 エチレングリコールモノメチルエーテル50.00
重量部及びテトラヒドロフラン50.00重量部中の、 例１で使用したナフトキノンジアジドスルホン
酸エステル4.00重量部、 平均分子量10000を有するポリ−ｐ−ビニルフ
エノール5.00重量部、 ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−(2)−４−
スルホン酸クロリド0.10重量部、及びクリスタル
バイオレツト0.07重量部 から成る溶液を塗布した。
このように製造したプレセンシタイズ材料を透
明ポジチブ原図下に画像露光し、次にメタ珪酸ナ
トリウムの0.5％溶液を用いて現像すると原図に
相応するポジチブ印刷ステンシルが得られた。
同一材料の他の試料を加工してネガチブ印刷版
を得た。この目的のために同試料をネガチブ原図
下に露光し、次に140℃で１分間加熱し、再び原
図なしに画像露光の場合と同じ時間の間露光し
た。画像露光の場合と同一の現像液中で、同一の
時間の間現像すると原図の反転画像が得られた。
例 ３ 例１で記載したように処理したアルミニウム薄
板に、 エチレングリコールモノメチルエーテル50.00
重量部及びテトラヒドロフラン50.00重量部中の、 ４−（２−エチルヘキサノイル）−レソルシノー
ル1mol及びナフトキノン−（１，２）−ジアジド
−(2)−４−スルホン酸クロリド2molから得られ
たエステル化生成物2.00重量部、 例１で記載したクレゾール−ホルムアルデヒド
ノボラツク5.00重量部、 ２−（４−エトキシ−ナフチ−１−イル）−４，
６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン0.10
重量部、 及びクリスタルバイオレツト0.07重量部 から成る溶液を塗布した。
このように製造したプレセンシタイズ材料を透
明ポジチブ原図下に画像露光し、次にメタ珪酸ナ
トリウムの１％溶液を用いて現像して原図に相応
するポジチブ印刷ステンシルが得られた。
同材料の他の試料を加工してネガチブ印刷版を
得た。この目的のために前記試料をネガチブ原図
下に露光し、次に140℃で１分間加熱し、画像露
光で用いた時間と同じ時間の間原図なしに再び露
光した。画像露光の場合と同一の現像液中で、同
一の時間の間現像すると、原図の反転画像が得ら
れた。
例 ４ 電気化学的に粗面化しかつ陽極酸化したアルミ
ニウム薄板に、 エチレングリコールモノメチルエーテル50.00
重量部及びテトラヒドロフラン50.00重量部中の、 例１で使用しナフトキノンジアジド−スルホン
酸エステル3.00重量部、 平均分子量2000を有する２−メチル−レソルシ
ノール及びアセトンから得られた縮合生成物6.00
重量部、 ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−(2)−４−
スルホン酸クロリド0.20重量部、 及びクリスタルバイオレツト0.08重量部 から成る溶液を塗布した。
このように製造したプレセンシタイズ材料を透
明ポジチブ原図下に画像露光し、メタ珪酸ナトリ
ウムの６％溶液で現像すると原図に相応するポジ
チブ印刷ステンシルが得られた。
同一材料の他の試料を加工してネガチブ印刷版
を得た。この目的のために同試料をネガチブ原図
下に露光し、次に140℃で３分間加熱し、画像露
光の場合と同一の時同一の時間の間原図なしに再
び露光した。画像露光の場合と同一の現像液中
で、同一の時間の間現像すると、原図の反転画像
が得られた。
例 ５ 例１で記載したように処理したアルミニウム薄
板に、 エチレングリコールモノメチルエーテル50.00
重量部及びテトラヒドロフラン50.00重量部中の、 ４−ヘキサデカノイル−レソルシノール1mol
及びナフトキノン−（１，２）−ジアジド−(2)−４
−スルホン酸クロリド2molから得られたエステ
ル化生成物1.00重量部、 例１で記載したクレゾール−ホルムアルデヒド
ノボラツク5.00重量部、 ２−（４−エトキシ−ナフチ−１−イル）−４，
６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン
0.10重量部、 及びクリスタルバイオレツト0.07重量部 から成る溶液を塗布した。
このように製造したプレセンシタイズ材料を透
明なポジチブ原図下に画像露光し、次にメタ珪酸
ナトリウムの３％溶液を用いて現像して原図に相
応するポジチブ印刷ステンシルを作製した。
同一材料の他の試料を加工してネガチブ印刷版
を得た。この目的のために、同試料をネガチブ原
図下に露光し、次に140℃で90秒間加熱し、画像
露光の場合と同一の時間の間原図なしに再び露光
した。画像露光の場合と同一の現像液中で、同一
の時間の間現像すると、原図の反転画像が得られ
た。
例 ６ 電気化学的に粗面化しかつ陽極酸化したアルミ
ニウム薄板に、 エチレングリコールモノメチルエーテル50.00
重量部及びテトラヒドロフラン50.00重量部中の、 ２，３，４−トリヒドロキシベンゾフエノン
1mol及びナフトキノン−（１，２）−ジアジド−
(2)−４−スルホン酸クロリド3molから得られた
エステル生成物1.00重量部、 ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−(2)−４−
スルホン酸クロリド0.10重量部、 例１で使用したノボラツク6.00重量部、 及びクリスタルバイオレツト0.07重量部 から成る溶液を塗布した。
陽極酸化アルミニウム支持体は、感光性複写層
を適用する前に、西独国特許第1621478号に記載
されているように、ポリビニルホスホン酸の水溶
液を用いて処理した。
このようにして製造したプレセンシタイズ材料
を、透明なポジチブ原図下に画像露光し、次にメ
タ珪酸ナトリウムの２％溶液を用いて現像して原
図に相応するポジチブ印刷ステンシルを作製し
た。
同一材料の他の試料を加工してネガチブ印刷版
を得た。この目的のために、同試料をネガチブ原
図下に露光し、次に140℃で２分間加熱し、画像
露光の場合と同一の時間の間原図なしに再び露光
した。画像露光の場合と同一の現像液中で、同一
の時間の間現像すると、原図の反転画像が得られ
た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 水に不溶のかつアルカリ性水溶液に可溶のバ
    インダー及び感光性化合物としての１，２−キノ
    ンジアジドから成る感光材料を画像により露光
    し、次に該材料を加熱し、冷却後に該材料を原図
    なしに再び露光し、次にアルカリ性水性現像液に
    よつて再び該材料を現像することによつてネガチ
    ブレリーフコピーを製造するに当り、感光材料が
    感光性化合物として、１，２−ナフトキノン−２
    −ジアジド−４−スルホン酸のエステル又はアミ
    ドを含むことを特徴とするネガチブレリーフコピ
    ーの製造方法。 ２ 画像により露光された感光材料を80〜160℃
    の範囲の温度に加熱する特許請求の範囲第１項記
    載の方法。 ３ 感光材料を30秒〜30分の範囲の時間の間加熱
    する特許請求の範囲第１項又は第２項記載の方
    法。 ４ 使用するバインダーがノボラツクを含む特許
    請求の範囲第１項記載の方法。 ５ 感光材料が感光層がその非揮発性成分に対し
    て１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−ス
    ルホン酸のエステル又はアミド３〜50重量％を含
    む特許請求の範囲第１項記載の方法。
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