JPH0456363B2 - - Google Patents
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- JPH0456363B2 JPH0456363B2 JP16103583A JP16103583A JPH0456363B2 JP H0456363 B2 JPH0456363 B2 JP H0456363B2 JP 16103583 A JP16103583 A JP 16103583A JP 16103583 A JP16103583 A JP 16103583A JP H0456363 B2 JPH0456363 B2 JP H0456363B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magneto
- optical disk
- magnetic core
- magnetic field
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
Landscapes
- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は光磁気デイスク装置に係り、さらに詳
しくは光磁気デイスクに記録、再生、消去時に必
要なバイアス磁界を印加する装置の機構に関す
る。
しくは光磁気デイスクに記録、再生、消去時に必
要なバイアス磁界を印加する装置の機構に関す
る。
(b) 技術の背景
電子計算機の高速化と大容量化に伴い、その主
要部である記憶装置も益々高密度で大容量化する
ことを要求されている。現在は記録再生が容易な
磁気デイスク等の磁気記憶装置が主流を占めてい
るが、光学的に情報の記録再生を行う光デイスク
は原理的に現在の磁気デイスクよりも一桁高い記
録密度を得ることが出来、特に画像情報の記録再
生に使用され始めている。さらに使用者が情報を
消去して反復記録再生出来る光磁気デイスクはそ
の記録媒体の性質上、頻繁に書換えを必要とする
大容量記憶媒体として磁気デイスクより格段に高
い記録密度を有し、磁気デイスクなみのアクセス
時間と磁気テープなみの低ビツトコストをもたら
し得る可能性のある記録媒体として注目されてい
る。
要部である記憶装置も益々高密度で大容量化する
ことを要求されている。現在は記録再生が容易な
磁気デイスク等の磁気記憶装置が主流を占めてい
るが、光学的に情報の記録再生を行う光デイスク
は原理的に現在の磁気デイスクよりも一桁高い記
録密度を得ることが出来、特に画像情報の記録再
生に使用され始めている。さらに使用者が情報を
消去して反復記録再生出来る光磁気デイスクはそ
の記録媒体の性質上、頻繁に書換えを必要とする
大容量記憶媒体として磁気デイスクより格段に高
い記録密度を有し、磁気デイスクなみのアクセス
時間と磁気テープなみの低ビツトコストをもたら
し得る可能性のある記録媒体として注目されてい
る。
(c) 従来技術と問題点
現在開発されている光磁気記録法は光熱磁気記
録法ともいわれるように、レーザ光線を熱源とす
る所謂ヒートモード記録法である。第1図に示す
ような光磁気記録媒体の保磁力Hcと温度Tとの
特性線図に示すように、光磁気記録の書込みは光
磁気デイスク媒体のキユリイ温度Tc付近におけ
る保磁力Hcの急激な低下を利用して行う。
録法ともいわれるように、レーザ光線を熱源とす
る所謂ヒートモード記録法である。第1図に示す
ような光磁気記録媒体の保磁力Hcと温度Tとの
特性線図に示すように、光磁気記録の書込みは光
磁気デイスク媒体のキユリイ温度Tc付近におけ
る保磁力Hcの急激な低下を利用して行う。
即ち、第2図aのように基板1上の光磁気媒体
層2が上向き矢印方向に磁化されていて、下向き
矢印方向のバイアス磁界Hの中に置かれている時
に、第2図bのようにレーザ光線3をレンズ4で
集光してスポツト像5で当該磁気媒体層2を照射
すると、該被照射面の温度が上昇し、当該部分の
保磁力Hcが記録磁界(バイアス磁界と反磁界と
の和)以下に下がつた時、バイアス磁界により磁
化が反転して第2図cに示すように円筒状の磁区
が記録される。
層2が上向き矢印方向に磁化されていて、下向き
矢印方向のバイアス磁界Hの中に置かれている時
に、第2図bのようにレーザ光線3をレンズ4で
集光してスポツト像5で当該磁気媒体層2を照射
すると、該被照射面の温度が上昇し、当該部分の
保磁力Hcが記録磁界(バイアス磁界と反磁界と
の和)以下に下がつた時、バイアス磁界により磁
化が反転して第2図cに示すように円筒状の磁区
が記録される。
情報の消去にはバイアス磁界Hの方向を逆転し
て当該光磁気記録媒体の記録箇所をレーザ光線で
照射すればよいことは自明である。
て当該光磁気記録媒体の記録箇所をレーザ光線で
照射すればよいことは自明である。
情報記録の再生には、レーザ光線を光磁気媒体
層2を透過させる場合はフアラデイ効果、反射さ
せる場合はカー効果の光磁気的効果を利用して、
磁化による投射レーザ光線3の偏光面の回転を偏
光子で検出して情報を読み取る方法によつてい
る。この回転角は0.4゜程度の微妙なものであるの
で、信号雑音比の向上に努力が払われている。
層2を透過させる場合はフアラデイ効果、反射さ
せる場合はカー効果の光磁気的効果を利用して、
磁化による投射レーザ光線3の偏光面の回転を偏
光子で検出して情報を読み取る方法によつてい
る。この回転角は0.4゜程度の微妙なものであるの
で、信号雑音比の向上に努力が払われている。
第3図は光学的情報記録再生装置としての光磁
気デイスク装置の構成を示す構成図である。
気デイスク装置の構成を示す構成図である。
図に於いて、半導体レーザ6より発射されたレ
ーザ光線3はコリメーテイングレンズ7、真円補
正プリズム8を通り円断面を有する平行なレーザ
光ビーム9となり、偏光子10で直線偏光され、
第1のビームスプリツタ11、反射鏡12を経
て、対物レンズ13に入射し光磁気デイスク14
上に投射されて微小なスポツト像5を形成する。
この時前述のように磁気印加装置(図示せず)に
より印加されたバイアス磁界Hにより情報が記録
される。
ーザ光線3はコリメーテイングレンズ7、真円補
正プリズム8を通り円断面を有する平行なレーザ
光ビーム9となり、偏光子10で直線偏光され、
第1のビームスプリツタ11、反射鏡12を経
て、対物レンズ13に入射し光磁気デイスク14
上に投射されて微小なスポツト像5を形成する。
この時前述のように磁気印加装置(図示せず)に
より印加されたバイアス磁界Hにより情報が記録
される。
再生時には前述と同一の光路を経て入射したレ
ーザ光ビーム9の内、光磁気デイスク14の基板
側から反射された光を前記ビームスプリツタ11
で入射光と分離し、分離された反射光15は第2
のビームスプリツタ16で情報再生用とサーボ信
号用とに分離される。即ち、第2のビームスプリ
ツタ16を透過したレーザ光ビーム15aはマス
クを兼ねた反射鏡17で分割され、その一方が集
光レンズ18に入射した後2分割検出器20に投
射され、この2分割検出器20によつてフオーカ
スエラー信号が得られる。
ーザ光ビーム9の内、光磁気デイスク14の基板
側から反射された光を前記ビームスプリツタ11
で入射光と分離し、分離された反射光15は第2
のビームスプリツタ16で情報再生用とサーボ信
号用とに分離される。即ち、第2のビームスプリ
ツタ16を透過したレーザ光ビーム15aはマス
クを兼ねた反射鏡17で分割され、その一方が集
光レンズ18に入射した後2分割検出器20に投
射され、この2分割検出器20によつてフオーカ
スエラー信号が得られる。
他方、反射鏡17で反射されて集光レンズ19
に入射したレーザ光ビームは同じく2分割検出器
21に投射されて、それによつてトラツキング信
号が差分として得られる。
に入射したレーザ光ビームは同じく2分割検出器
21に投射されて、それによつてトラツキング信
号が差分として得られる。
又第2のビームスプリツタ16で反射された信
号再生用レーザ光ビーム15bは光偏光面の変化
を検出するための検光子22を通過後、集光レン
ズ23で集光され光検出器24に入射して光信号
から電気信号に光電変換される。
号再生用レーザ光ビーム15bは光偏光面の変化
を検出するための検光子22を通過後、集光レン
ズ23で集光され光検出器24に入射して光信号
から電気信号に光電変換される。
ここで、情報は光磁気デイスク14の光磁気媒
体層2の反転磁化部による偏光面の回転として読
み出される訳である。
体層2の反転磁化部による偏光面の回転として読
み出される訳である。
以上の構成において、情報の記録、再生および
消去に必須な前述のバイアス磁界の印加装置につ
いて考察しよう。
消去に必須な前述のバイアス磁界の印加装置につ
いて考察しよう。
バイアス磁界の印加装置としては永久磁石と電
磁石を用いる方法があるが、両者とも以下に述べ
るような欠点がある。
磁石を用いる方法があるが、両者とも以下に述べ
るような欠点がある。
永久磁石を使用すると印加磁界の方向を切り換
えるために、磁石そのものを反転させるか、2個
の磁石を備えて交互に機械的に入れ換える方法が
あるが、いずれも切り換え時間が長く、かつ装置
内に余分の空間を必要とする等の難点がある。殊
に切り換え時間の長いことは電子計算機用フアイ
ルに使用する場合には致命的な欠点となる。
えるために、磁石そのものを反転させるか、2個
の磁石を備えて交互に機械的に入れ換える方法が
あるが、いずれも切り換え時間が長く、かつ装置
内に余分の空間を必要とする等の難点がある。殊
に切り換え時間の長いことは電子計算機用フアイ
ルに使用する場合には致命的な欠点となる。
電磁石を使用する場合には、記録動作中あるい
は消去動作中に所定のバイアス磁界を維持するた
めに連続して励磁コイルに大電流を流して置かね
ばならないので、電磁石の温度上昇が著しくなり
磁界切り換え時の反転した磁界の立ち上がり、立
ち下がりが遅くなるので、特別の冷却手段が必要
となる。
は消去動作中に所定のバイアス磁界を維持するた
めに連続して励磁コイルに大電流を流して置かね
ばならないので、電磁石の温度上昇が著しくなり
磁界切り換え時の反転した磁界の立ち上がり、立
ち下がりが遅くなるので、特別の冷却手段が必要
となる。
以上に述べたような欠点を解消するために、バ
イアス磁界印加装置の磁芯に半硬質磁性材料を採
用することが特開昭58−106401号において提案さ
れている。
イアス磁界印加装置の磁芯に半硬質磁性材料を採
用することが特開昭58−106401号において提案さ
れている。
周知のように磁性材料は磁気特性によつて軟磁
性材料と硬磁性材料とに大別される。半硬質磁性
材料は軟・硬磁性の中間の特性値、保磁力Hcが
10〜100Oe程度度のものを磁化コイルによつて磁
化の逆転や磁束の変化をあたえるような使用法を
した時特に呼称される用語であつて、磁界を取り
去つた後の残留磁束を利用する点では硬磁性材料
と同一である。
性材料と硬磁性材料とに大別される。半硬質磁性
材料は軟・硬磁性の中間の特性値、保磁力Hcが
10〜100Oe程度度のものを磁化コイルによつて磁
化の逆転や磁束の変化をあたえるような使用法を
した時特に呼称される用語であつて、磁界を取り
去つた後の残留磁束を利用する点では硬磁性材料
と同一である。
半硬質磁性材料を電磁石の磁芯材料として用い
ると次ぎの利点がある。即ち (1) 保磁力Hcが100Oe程度であるので、電気的
に容易に磁化方向を逆転出来る。
ると次ぎの利点がある。即ち (1) 保磁力Hcが100Oe程度であるので、電気的
に容易に磁化方向を逆転出来る。
(2) 磁気異方性が強く、角形性も非常に優れてい
るので、一旦磁化すると、保磁力Hc以上の外
部磁界を印加しない限り磁化方向は反転しな
い。従つて情報の記録と消去の切り換え時のみ
パルス状の磁化反転電流を流せばよい。
るので、一旦磁化すると、保磁力Hc以上の外
部磁界を印加しない限り磁化方向は反転しな
い。従つて情報の記録と消去の切り換え時のみ
パルス状の磁化反転電流を流せばよい。
(3) 半硬質磁性材料の残留磁束密度は通常
10000G以上もあり、Fe−Co系合金を用いれば
15000〜20000Gにも達するので永久磁石材料の
アルニコ系磁性材料やR−Cos系磁性材料、あ
るいは純鉄を磁芯とする電磁石でえられる磁界
と略同じ強さの磁界を発生することが出来る。
10000G以上もあり、Fe−Co系合金を用いれば
15000〜20000Gにも達するので永久磁石材料の
アルニコ系磁性材料やR−Cos系磁性材料、あ
るいは純鉄を磁芯とする電磁石でえられる磁界
と略同じ強さの磁界を発生することが出来る。
等々である。
以上の特徴を有する半硬質磁性材料を光磁気デ
イスク装置のバイアス磁界を印加する磁界装置の
磁芯に使用すると、光磁気デイスクへの記録、消
去に応じてパルス状の励磁コイル電流を印加して
磁界の極性反転を行うことで少ない電力で高速で
バイアス磁界の反転操作が可能になり、励磁コイ
ルの冷却装置が不要であるし、高速の情報記録、
再生が出来るので、大容量、高速の記憶媒体とし
ての光磁気デイスクの性能を十分に発揮出来ると
いう利点がある。
イスク装置のバイアス磁界を印加する磁界装置の
磁芯に使用すると、光磁気デイスクへの記録、消
去に応じてパルス状の励磁コイル電流を印加して
磁界の極性反転を行うことで少ない電力で高速で
バイアス磁界の反転操作が可能になり、励磁コイ
ルの冷却装置が不要であるし、高速の情報記録、
再生が出来るので、大容量、高速の記憶媒体とし
ての光磁気デイスクの性能を十分に発揮出来ると
いう利点がある。
しかしながら、実際に半硬質磁性材料で前記の
磁芯を形成するとなると、光磁気デイスク装置の
機構上の関係で、当該磁芯の形状が相当複雑な形
となり、半硬質磁性材料のブロツクから機械加工
により形成するには多大の工数と技能を要し、工
程上のネツクを形成していた。この難点を克服し
た構造の磁芯の出現が待望されていた。
磁芯を形成するとなると、光磁気デイスク装置の
機構上の関係で、当該磁芯の形状が相当複雑な形
となり、半硬質磁性材料のブロツクから機械加工
により形成するには多大の工数と技能を要し、工
程上のネツクを形成していた。この難点を克服し
た構造の磁芯の出現が待望されていた。
(d) 発明の目的
本発明は前述の点に鑑みなされたもので、光磁
気デイスク装置のバイアス磁界印加装置用とし
て、加工形成の容易な構造の半硬質磁性材料を使
用した磁芯を提供しようとするものである。
気デイスク装置のバイアス磁界印加装置用とし
て、加工形成の容易な構造の半硬質磁性材料を使
用した磁芯を提供しようとするものである。
(e) 発明の構成
上記の発明の目的は、所定の形状のN極とS極
とを有する磁芯と前記磁芯の周囲を巻回した励磁
コイルと前記磁芯の磁極の極性を反転し得る励磁
電流電源を備えてなる構成において、前記磁芯が
半硬質材料より形成された複数の線条を長手方向
に束ねて構成されたことを特徴とする光磁気デイ
スクのバイアス磁界印加装置を採用することによ
り容易に達成される。
とを有する磁芯と前記磁芯の周囲を巻回した励磁
コイルと前記磁芯の磁極の極性を反転し得る励磁
電流電源を備えてなる構成において、前記磁芯が
半硬質材料より形成された複数の線条を長手方向
に束ねて構成されたことを特徴とする光磁気デイ
スクのバイアス磁界印加装置を採用することによ
り容易に達成される。
(f) 発明の実施例
まず本発明の実施例を説明するに先立つて、前
述の特願昭58−106401号に示されたバイアス磁界
印加装置の磁芯について第4図の斜視図に基づい
て説明する。
述の特願昭58−106401号に示されたバイアス磁界
印加装置の磁芯について第4図の斜視図に基づい
て説明する。
光磁気デイスク14の半径方向のデータ領域の
全長(図示のように長さD)にわたり、細長い磁
極面Mを有する磁芯30を図のように、光磁気デ
イスク14に対し磁極面Mを約1mmの間隙をおい
て配設固定する。磁芯30の材料の半硬質磁性材
料は強い磁気異方性をもつが、その異方性の方向
は光磁気デイスク14に垂直な方向に配列する。
全長(図示のように長さD)にわたり、細長い磁
極面Mを有する磁芯30を図のように、光磁気デ
イスク14に対し磁極面Mを約1mmの間隙をおい
て配設固定する。磁芯30の材料の半硬質磁性材
料は強い磁気異方性をもつが、その異方性の方向
は光磁気デイスク14に垂直な方向に配列する。
磁芯30の磁極面Mは前述のように細長い形で
やや薄肉であるが、反対側の図においてBで示す
部分は比較的厚肉で幅の狭い形にしてある。この
B部分に励磁コイル31が巻回されていて、端子
Tで図示していないパルス励磁電源に接続されて
いる。該パルス励磁電源は光磁気デイスク装置の
書込み/読み出し/消去制御回路に連動して制御
される。
やや薄肉であるが、反対側の図においてBで示す
部分は比較的厚肉で幅の狭い形にしてある。この
B部分に励磁コイル31が巻回されていて、端子
Tで図示していないパルス励磁電源に接続されて
いる。該パルス励磁電源は光磁気デイスク装置の
書込み/読み出し/消去制御回路に連動して制御
される。
一方、従来の通りの光学系によりレーザ光ビー
ム9は図示のように光磁気デイスク14のバイア
ス磁界用の磁芯30の磁極面Mと対向した面の反
対側から光磁気デイスク14に投射し、レーザ光
ビームのスポツト像5(第3図参照)を結び、当
該点の光磁気媒体層2(第2図参照)を加熱する
ことで記録、再生、消去を行う。
ム9は図示のように光磁気デイスク14のバイア
ス磁界用の磁芯30の磁極面Mと対向した面の反
対側から光磁気デイスク14に投射し、レーザ光
ビームのスポツト像5(第3図参照)を結び、当
該点の光磁気媒体層2(第2図参照)を加熱する
ことで記録、再生、消去を行う。
なお第4図に示す32はヨークであるが、必ず
しも磁極面Mの反対側に近い位置に配置しなくて
もよい。
しも磁極面Mの反対側に近い位置に配置しなくて
もよい。
第5図は既に述べた磁芯30の極性反転のタイ
ムチヤートであつて横軸は時間軸である。第5図
aは消去動作のタイムチヤートでEは消去動作を
示し、第5図bは記録(書込み)のタイムチヤー
トでRは記録動作を示す。この時光磁気デイスク
装置のバイアス磁界は反転するを要し、第5図c
に示すタイムチヤートのようにP+PとP−のパ
ルス状励磁電流を励磁コイルに流す。この励磁電
流の電力は極めて小さいので特に冷却を必要とす
るような熱は発生せず、従つてパルス励磁電流の
立ち上がり、立ち下がりは急峻で高速情報処理に
最適である。また余計な冷却装置を要しない点も
利点である。
ムチヤートであつて横軸は時間軸である。第5図
aは消去動作のタイムチヤートでEは消去動作を
示し、第5図bは記録(書込み)のタイムチヤー
トでRは記録動作を示す。この時光磁気デイスク
装置のバイアス磁界は反転するを要し、第5図c
に示すタイムチヤートのようにP+PとP−のパ
ルス状励磁電流を励磁コイルに流す。この励磁電
流の電力は極めて小さいので特に冷却を必要とす
るような熱は発生せず、従つてパルス励磁電流の
立ち上がり、立ち下がりは急峻で高速情報処理に
最適である。また余計な冷却装置を要しない点も
利点である。
さて、第4図に示したように、磁芯30は相当
複雑な形をしているので、通常の半硬質磁性材料
は例えばMn−Feのように機械加工は容易ではな
い。本発明においてはこの対案として、断面が、
円、方形、長方形、あるいは六角形等の半硬質磁
性材料の線材を長手方向に多数束にして束ねた構
造の磁芯33を提供する。第6図はその一実施例
の外観を示す斜視図である。
複雑な形をしているので、通常の半硬質磁性材料
は例えばMn−Feのように機械加工は容易ではな
い。本発明においてはこの対案として、断面が、
円、方形、長方形、あるいは六角形等の半硬質磁
性材料の線材を長手方向に多数束にして束ねた構
造の磁芯33を提供する。第6図はその一実施例
の外観を示す斜視図である。
光磁気デイスク14に対向する磁極面Mを含む
磁芯33は図から明らかなように、半硬質磁性材
料の線材34を束ねたもので、磁極面Mおよびヨ
ーク35に接続する部分の機械的寸法は正確であ
ることを要するが両部分の中間部分に要求される
寸法精度は緩和出来るので、全体の加工組み立て
は容易であつて、半硬質磁性材料のブロツクから
切削加工で形成する場合よりも、必要とする工数
は遥かに少ない。一般に両端の形状を与えられれ
ば当該磁芯33の形状に拘束されることなく、容
易に該磁芯33を形成出来ることは自明である。
従つて、光磁気デイスク装置内の諸構成物の配列
に応じて適切な形にすることが容易であるので、
当該機器の小型化にも有効である。
磁芯33は図から明らかなように、半硬質磁性材
料の線材34を束ねたもので、磁極面Mおよびヨ
ーク35に接続する部分の機械的寸法は正確であ
ることを要するが両部分の中間部分に要求される
寸法精度は緩和出来るので、全体の加工組み立て
は容易であつて、半硬質磁性材料のブロツクから
切削加工で形成する場合よりも、必要とする工数
は遥かに少ない。一般に両端の形状を与えられれ
ば当該磁芯33の形状に拘束されることなく、容
易に該磁芯33を形成出来ることは自明である。
従つて、光磁気デイスク装置内の諸構成物の配列
に応じて適切な形にすることが容易であるので、
当該機器の小型化にも有効である。
第6図では半硬質磁性材料の線材34で形成し
た磁芯33と軟鉄等の導磁性材料で形成したヨー
ク35とを組み合わせて、電磁石の磁路を形成し
た例を示したが、勿論磁芯33を延長してヨーク
35の部分も一体化して半硬質磁性材料線材34
で形成することも出来る。
た磁芯33と軟鉄等の導磁性材料で形成したヨー
ク35とを組み合わせて、電磁石の磁路を形成し
た例を示したが、勿論磁芯33を延長してヨーク
35の部分も一体化して半硬質磁性材料線材34
で形成することも出来る。
なお磁極面に高い磁束密度を要求される場合に
は、断面が方形あるいは長方形の半硬質磁性材料
34を採用する方が断面円形の線材よりも望まし
い。
は、断面が方形あるいは長方形の半硬質磁性材料
34を採用する方が断面円形の線材よりも望まし
い。
第7図a,bは光磁気デイスク14と、これに
対向する磁極面Mとの距離dを自動調整出来るよ
うに、磁芯36に幅広で薄い可撓性をもたせた部
分36aを備えた実施例の側面図および平面図で
あつて、本発明の構造で初めて可能になつたもの
である。
対向する磁極面Mとの距離dを自動調整出来るよ
うに、磁芯36に幅広で薄い可撓性をもたせた部
分36aを備えた実施例の側面図および平面図で
あつて、本発明の構造で初めて可能になつたもの
である。
なお磁極面の長手方向は光磁気デイスク媒体の
半径方向と一致させることが望ましい。
半径方向と一致させることが望ましい。
さらに、本発明による磁芯に適したFe−CO−
V系、Fe−Co−Cu系、Fe−Cu系およびFe−Mn
系等の半硬質磁性材料は該材料の熱処理工程より
も寧ろ、熱間および冷間線引き加工により、強い
一軸性の磁気異方性を示す性質があるので、磁芯
の軸方向に多数の半硬質磁性材料線材を並べた本
発明に基づいた磁芯の構造は、バイアス磁束発生
装置としの高性能を発揮するという長所もある。
V系、Fe−Co−Cu系、Fe−Cu系およびFe−Mn
系等の半硬質磁性材料は該材料の熱処理工程より
も寧ろ、熱間および冷間線引き加工により、強い
一軸性の磁気異方性を示す性質があるので、磁芯
の軸方向に多数の半硬質磁性材料線材を並べた本
発明に基づいた磁芯の構造は、バイアス磁束発生
装置としの高性能を発揮するという長所もある。
(g) 発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明に基づ
いた構造を採用した光磁気デイスク装置のバイア
ス磁束印加装置の磁芯は、複雑な形でもその加工
形成が極めて容易であり、原価低減上からも、当
該機器の小型化の上からも、極めて寄与するとこ
ろが多いだけでなく、磁極面に垂直な方向の磁気
異方性が高く、光磁気デイスク装置の記録/再
生/消去機能を一段と向上するという効果があ
る。
いた構造を採用した光磁気デイスク装置のバイア
ス磁束印加装置の磁芯は、複雑な形でもその加工
形成が極めて容易であり、原価低減上からも、当
該機器の小型化の上からも、極めて寄与するとこ
ろが多いだけでなく、磁極面に垂直な方向の磁気
異方性が高く、光磁気デイスク装置の記録/再
生/消去機能を一段と向上するという効果があ
る。
第1図は光磁気媒体の保磁力Hcの温度特性を
示す線図、第2図は光磁気デイスクの情報記録の
原理を示す説明図、第3図は従来の光磁気デイス
ク装置の光学系の構成図、第4図は従来のバイア
ス磁界の印加装置の一例を示す斜視図、第5図は
光磁気デイスクの記録、消去動作とこれに連動す
るバイアス磁界印加装置の励磁コイル電流の相互
の関係を示すタイムチヤート、第6図は本発明の
一実施例によるバイアス磁界印加装置を示す斜視
図、第7図のaおよびbは可撓性部分を有する本
発明の変形例に基づく磁芯を示す側面図および平
面図である。 図において、1は光磁気デイスクの基板、2は
光磁気媒体層、3はレーザ光線、4はレンズ、5
は光スポツト像、6は半導体レーザ、7はコリメ
ーテイングレンズ、8は真円補正プリズム、9,
15,15bはレーザ光ビーム、10は偏光子、
11,16はビームスプリツタ、12は反射鏡、
13は対物レンズ、14は光磁気デイスク、17
はマスクを兼ねた反射鏡、18,19,23は集
光レンズ、20,21は2分割検出器、22は検
光子、24は光検出器、30,33,36は磁
芯、31は励磁コイル、32,35はヨーク、3
4は半硬質磁性材料の線材をそれぞれ示す。
示す線図、第2図は光磁気デイスクの情報記録の
原理を示す説明図、第3図は従来の光磁気デイス
ク装置の光学系の構成図、第4図は従来のバイア
ス磁界の印加装置の一例を示す斜視図、第5図は
光磁気デイスクの記録、消去動作とこれに連動す
るバイアス磁界印加装置の励磁コイル電流の相互
の関係を示すタイムチヤート、第6図は本発明の
一実施例によるバイアス磁界印加装置を示す斜視
図、第7図のaおよびbは可撓性部分を有する本
発明の変形例に基づく磁芯を示す側面図および平
面図である。 図において、1は光磁気デイスクの基板、2は
光磁気媒体層、3はレーザ光線、4はレンズ、5
は光スポツト像、6は半導体レーザ、7はコリメ
ーテイングレンズ、8は真円補正プリズム、9,
15,15bはレーザ光ビーム、10は偏光子、
11,16はビームスプリツタ、12は反射鏡、
13は対物レンズ、14は光磁気デイスク、17
はマスクを兼ねた反射鏡、18,19,23は集
光レンズ、20,21は2分割検出器、22は検
光子、24は光検出器、30,33,36は磁
芯、31は励磁コイル、32,35はヨーク、3
4は半硬質磁性材料の線材をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 1 所定の形状のN極とS極とを有する磁芯と前
記磁芯の周囲を巻回した励磁コイルと前記磁芯の
磁極の極性を反転し得る励磁電流電源を備えてな
る光磁気デイスクのバイアス磁界印加構成におい
て、前記磁芯が半硬質材料より形成された複数の
線条を長手方向に束ねて構成されたことを特徴と
する光磁気デイスクのバイアス磁界印加装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16103583A JPS6050702A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 光磁気ディスクのバイアス磁界印加装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16103583A JPS6050702A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 光磁気ディスクのバイアス磁界印加装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6050702A JPS6050702A (ja) | 1985-03-20 |
| JPH0456363B2 true JPH0456363B2 (ja) | 1992-09-08 |
Family
ID=15727354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16103583A Granted JPS6050702A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 光磁気ディスクのバイアス磁界印加装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6050702A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0413773Y2 (ja) * | 1985-11-19 | 1992-03-30 | ||
| JP2637415B2 (ja) * | 1987-03-03 | 1997-08-06 | オリンパス光学工業株式会社 | 光磁気記録再生装置 |
-
1983
- 1983-08-31 JP JP16103583A patent/JPS6050702A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6050702A (ja) | 1985-03-20 |
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