JPH0456915B2 - - Google Patents
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- JPH0456915B2 JPH0456915B2 JP59235375A JP23537584A JPH0456915B2 JP H0456915 B2 JPH0456915 B2 JP H0456915B2 JP 59235375 A JP59235375 A JP 59235375A JP 23537584 A JP23537584 A JP 23537584A JP H0456915 B2 JPH0456915 B2 JP H0456915B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- control member
- shutter control
- sector
- plate
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
- F16K3/02—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
- F16K3/04—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with pivoted closure members
- F16K3/10—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with pivoted closure members with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T74/00—Machine element or mechanism
- Y10T74/18—Mechanical movements
- Y10T74/18856—Oscillating to oscillating
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Sliding Valves (AREA)
- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
- Preventing Unauthorised Actuation Of Valves (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ポートを自動的に開閉するシヤツタ
機構、特に、シヤツタのシール・不シール運動と
回動運動とが互いに協働するようになつているシ
ヤツタ機構に関する。
機構、特に、シヤツタのシール・不シール運動と
回動運動とが互いに協働するようになつているシ
ヤツタ機構に関する。
従来の技術
ポートを通過するガス又は水蒸気を制御するこ
とは様様な分野において必要である。このような
必要性が生じる１つの例として分析装置が挙げら
れる。多くの分析装置において該装置の光学系を
収容する室（光学系室）は、赤外線透過のための
最適な環境を保つため並びに凝結、汚染又はその
他の性能を低下させる要因から光学系を守るため
に不活性ガスによつてしばしば洗浄される。この
ような洗浄中に試料室はガス又は水蒸気の漏れに
よつて汚染されることがある。しかしながら分析
装置特に精密な分析装置の試料室は可能な限り清
潔に保たれねばならない。
とは様様な分野において必要である。このような
必要性が生じる１つの例として分析装置が挙げら
れる。多くの分析装置において該装置の光学系を
収容する室（光学系室）は、赤外線透過のための
最適な環境を保つため並びに凝結、汚染又はその
他の性能を低下させる要因から光学系を守るため
に不活性ガスによつてしばしば洗浄される。この
ような洗浄中に試料室はガス又は水蒸気の漏れに
よつて汚染されることがある。しかしながら分析
装置特に精密な分析装置の試料室は可能な限り清
潔に保たれねばならない。
そこで、特に分析装置の分野においては、光学
系が解放されている間又は洗浄が行われている間
に試料室に通じるポートをシールすることが周知
である。このシール作用は種種様様な機構によつ
て、例えばテープ又はスポンジ状材料を用いてポ
ートをシールすることによつて達成され得るよう
になつている。
系が解放されている間又は洗浄が行われている間
に試料室に通じるポートをシールすることが周知
である。このシール作用は種種様様な機構によつ
て、例えばテープ又はスポンジ状材料を用いてポ
ートをシールすることによつて達成され得るよう
になつている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながらこのようなシール形式では十分な
シール効果を得ることもまた試料室自体の汚染を
回避することもできない。上に述べたような問題
に対して極めて敏感な分析装置としてはフーリエ
変換赤外線分光光度計（FT／IR
spectrophotometer）が挙げられる。このような
装置では試料室は、試料を透過する又は透過した
光線が通る２つのポートを除いて装置のその他の
部分から隔離されている。このような分光光度計
は高感度なので試料室を清潔に保つことは重要で
ある。しかしながら試料室の両側における光線通
過開口をシールするようになつている従来の技術
には、例えばその耐用寿命が短いこと、シール効
果が十分ではないことなどの欠点が存在する。
シール効果を得ることもまた試料室自体の汚染を
回避することもできない。上に述べたような問題
に対して極めて敏感な分析装置としてはフーリエ
変換赤外線分光光度計（FT／IR
spectrophotometer）が挙げられる。このような
装置では試料室は、試料を透過する又は透過した
光線が通る２つのポートを除いて装置のその他の
部分から隔離されている。このような分光光度計
は高感度なので試料室を清潔に保つことは重要で
ある。しかしながら試料室の両側における光線通
過開口をシールするようになつている従来の技術
には、例えばその耐用寿命が短いこと、シール効
果が十分ではないことなどの欠点が存在する。
ゆえに本発明の課題は、確実かつ再現可能にポ
ートを開放及び密に閉鎖することができるシヤツ
タ機構を提供することである。
ートを開放及び密に閉鎖することができるシヤツ
タ機構を提供することである。
問題点を解決するための手段
この課題を解決するために本発明の構成では、
シヤツタ機構が、シヤツタ制御部材と、該シヤツ
タ制御部材を第１位置と第２位置との間で移動さ
せるための操作装置と、シヤツタ保持プレート
と、シヤツタ制御部材が第１位置と第２位置との
間の移動距離において第１位置を占めている間
に、同シヤツタ制御部材とシヤツタ保持プレート
とを互いに相対的にロツクするためのロツク装置
と、シヤツタ制御部材が第１位置と第２位置との
間の移動距離において第２位置を占めている間に
同シヤツタ制御部材からシヤツタ保持プレートを
解放するためのレリーズ装置と、シヤツタ制御部
材の移動平面とは異なつた平面において移動する
シヤツタプレートと、シヤツタ制御部材が第２位
置を占めていて、ポートを閉鎖すべくシヤツタプ
レートが壁に向かつて旋回せしめられている間
に、シヤツタプレートとシヤツタ制御部材とを互
いに相対的にロツクするための装置とを有してい
る。
シヤツタ機構が、シヤツタ制御部材と、該シヤツ
タ制御部材を第１位置と第２位置との間で移動さ
せるための操作装置と、シヤツタ保持プレート
と、シヤツタ制御部材が第１位置と第２位置との
間の移動距離において第１位置を占めている間
に、同シヤツタ制御部材とシヤツタ保持プレート
とを互いに相対的にロツクするためのロツク装置
と、シヤツタ制御部材が第１位置と第２位置との
間の移動距離において第２位置を占めている間に
同シヤツタ制御部材からシヤツタ保持プレートを
解放するためのレリーズ装置と、シヤツタ制御部
材の移動平面とは異なつた平面において移動する
シヤツタプレートと、シヤツタ制御部材が第２位
置を占めていて、ポートを閉鎖すべくシヤツタプ
レートが壁に向かつて旋回せしめられている間
に、シヤツタプレートとシヤツタ制御部材とを互
いに相対的にロツクするための装置とを有してい
る。
実施例
図面において全体を符号１０で示されているシ
ヤツタ機構には、弾性的なシール材料から成る円
板１４を備えたシヤツタプレート１２が設けられ
ており、この円板１４はシヤツタプレート１２の
一方の面１６に固定されている、シヤツタプレー
ト１２はその第２の面２０を介してシヤツタアー
ム１８に固定されている。シヤツタ機構１０はま
た、シヤツタアーム１８が旋回可能に枢着支承さ
れているシヤツタ保持プレート２２を有してい
る。さらにシヤツタ制御部材２４が設けられてお
り、このシヤツタ制御部材２４は、壁３０を貫通
しているポート２８が完全に解放される第１位置
２６と、ポート２８がシヤツタプレート１２によ
つてシールされる第２位置３２との間を移動可能
である。シヤツタ機構１０には、第１位置２６と
第２位置３２との間の移動距離においてシヤツタ
制御部材２４が第１位置２６を占めている間だけ
同シヤツタ制御部材２４とシヤツタ保持プレート
２２とを互いにロツクするロツク装置３４が設け
られている。シヤツタ機構１０にはさらに、第１
位置と第２位置との間の移動距離においてシヤツ
タ制御部材２４が第２位置３２を占めている間に
同シヤツタ制御部材２４からシヤツタ保持プレー
ト２２を解放するレリーズ装置３６が設けられて
いる。シヤツタ機構１０にはさらにまた、第１位
置と第２位置との間の全移動距離においてシヤツ
タ制御部材２４が第２位置にある間だけシヤツタ
アーム１８を旋回させる旋回装置３８が設けられ
ている。
ヤツタ機構には、弾性的なシール材料から成る円
板１４を備えたシヤツタプレート１２が設けられ
ており、この円板１４はシヤツタプレート１２の
一方の面１６に固定されている、シヤツタプレー
ト１２はその第２の面２０を介してシヤツタアー
ム１８に固定されている。シヤツタ機構１０はま
た、シヤツタアーム１８が旋回可能に枢着支承さ
れているシヤツタ保持プレート２２を有してい
る。さらにシヤツタ制御部材２４が設けられてお
り、このシヤツタ制御部材２４は、壁３０を貫通
しているポート２８が完全に解放される第１位置
２６と、ポート２８がシヤツタプレート１２によ
つてシールされる第２位置３２との間を移動可能
である。シヤツタ機構１０には、第１位置２６と
第２位置３２との間の移動距離においてシヤツタ
制御部材２４が第１位置２６を占めている間だけ
同シヤツタ制御部材２４とシヤツタ保持プレート
２２とを互いにロツクするロツク装置３４が設け
られている。シヤツタ機構１０にはさらに、第１
位置と第２位置との間の移動距離においてシヤツ
タ制御部材２４が第２位置３２を占めている間に
同シヤツタ制御部材２４からシヤツタ保持プレー
ト２２を解放するレリーズ装置３６が設けられて
いる。シヤツタ機構１０にはさらにまた、第１位
置と第２位置との間の全移動距離においてシヤツ
タ制御部材２４が第２位置にある間だけシヤツタ
アーム１８を旋回させる旋回装置３８が設けられ
ている。
有利な１実施例ではシヤツタ機構１０はフーリ
エ変換赤外線（FT／IR）分光光度計の光学系室
内において試料室の壁３０に隣接して配置されて
いる。第１図にはそのうちの１つだけが示されて
いて壁３０を貫通しているポート２８は約40mmの
直径を有し、入射光束の試料室へ進入及び該室か
らの進出を許すように配置されている。
エ変換赤外線（FT／IR）分光光度計の光学系室
内において試料室の壁３０に隣接して配置されて
いる。第１図にはそのうちの１つだけが示されて
いて壁３０を貫通しているポート２８は約40mmの
直径を有し、入射光束の試料室へ進入及び該室か
らの進出を許すように配置されている。
シヤツタプレート１２は１実施例では約50mmの
外径と、その第１の面１６に固定されたプラスチ
ツクフオーム製の円板１４とを有している。この
円板１４は約３mmの厚さを約50mmの外径を有して
いる。シヤツタプレート１２は例えば球・ソケツ
ト継手を介してシヤツタアーム１８の一方の端部
４０と結合されており、これによつて閉鎖位置で
はシヤツタプレート１２によつて壁３０には均一
な圧力が加えられる。
外径と、その第１の面１６に固定されたプラスチ
ツクフオーム製の円板１４とを有している。この
円板１４は約３mmの厚さを約50mmの外径を有して
いる。シヤツタプレート１２は例えば球・ソケツ
ト継手を介してシヤツタアーム１８の一方の端部
４０と結合されており、これによつて閉鎖位置で
はシヤツタプレート１２によつて壁３０には均一
な圧力が加えられる。
シヤツタアーム１８はシヤツタ保持プレート２
２に枢着支承されている。シヤツタ保持プレート
２２は通常セクタの形に形成されていて、有利に
は方形の舌状片４２を有しており、この舌状片４
２は枢着点とは反対方向にセクタ円弧４４から延
びている。シヤツタアーム１８は１対のピンの間
に該ピンを中心にして旋回可能に取り付けられて
おり、両ピン４６自体は舌状片４２から突出して
いる１対の支承台４８に固定されている。シヤツ
タアーム１８の他方の端部５０は有利な実施例で
は、コーンセグメントの形をしたころ軸受５２を
保持している。ころ軸受５２はシヤツタアーム１
８の他方の端部５０に設けられた開口５４内で回
転し、端部５０の面から僅かに突出している。後
でさらに詳しく述べるようにころ軸受５２は、シ
ヤツタアーム１８の一方の端部４０を壁３０に向
かつて旋回させるためにシヤツタ制御部材２４か
ら突出している傾斜面５６と協働する。
２に枢着支承されている。シヤツタ保持プレート
２２は通常セクタの形に形成されていて、有利に
は方形の舌状片４２を有しており、この舌状片４
２は枢着点とは反対方向にセクタ円弧４４から延
びている。シヤツタアーム１８は１対のピンの間
に該ピンを中心にして旋回可能に取り付けられて
おり、両ピン４６自体は舌状片４２から突出して
いる１対の支承台４８に固定されている。シヤツ
タアーム１８の他方の端部５０は有利な実施例で
は、コーンセグメントの形をしたころ軸受５２を
保持している。ころ軸受５２はシヤツタアーム１
８の他方の端部５０に設けられた開口５４内で回
転し、端部５０の面から僅かに突出している。後
でさらに詳しく述べるようにころ軸受５２は、シ
ヤツタアーム１８の一方の端部４０を壁３０に向
かつて旋回させるためにシヤツタ制御部材２４か
ら突出している傾斜面５６と協働する。
第５Ａ図、第５Ｂ図及び第５Ｃ図からわかるよ
うにシヤツタアーム保持プレート２２は試料室の
壁３０に回動可能に取り付けられている。有利な
実施例ではシヤツタ保持プレート２２は、70゜の
中心角と約60mmの半径とで規定されたセクタであ
る。シヤツタ保持プレート２２は、中心角を２等
分する半径上においてセクタ円弧４４から約57mm
離れた所に位置する枢着点５８を中心にして回動
する。セクタ円弧４４は約45゜の第１の部分６０
と約25°の第２の部分６２とから成つている。第
１の部分６０は60mmの半径によつて、第２の部分
６２は約50mmの半径によつて規定されている。有
利には第１の部分６０と第２の部分６２とは約
45゜の角度位置において円弧面の近くで互いに接
しており、これによつて第１の切欠き６４が形成
されている。シヤツタ保持プレート２２の第１の
部分６０はその円弧に沿つて突出していりリム６
６を有し、このリム６６はそのなかに間隙６８を
有している。有利な実施例では突出しているリム
６６はリム延長部７０を有し、このリム延長部７
０はセクタの制限半径に沿つてセクタ円弧４４か
ら下方に延びている。有利にはリム延長部７０は
制限半径に沿つて約10mmだけ延びている。後でさ
らに詳しく述べるようにリム延長部７０は、シヤ
ツタ保持プレート２２とシヤツタ制御部材２４と
を互いにロツクするロツク装置３４の一部として
働く。
うにシヤツタアーム保持プレート２２は試料室の
壁３０に回動可能に取り付けられている。有利な
実施例ではシヤツタ保持プレート２２は、70゜の
中心角と約60mmの半径とで規定されたセクタであ
る。シヤツタ保持プレート２２は、中心角を２等
分する半径上においてセクタ円弧４４から約57mm
離れた所に位置する枢着点５８を中心にして回動
する。セクタ円弧４４は約45゜の第１の部分６０
と約25°の第２の部分６２とから成つている。第
１の部分６０は60mmの半径によつて、第２の部分
６２は約50mmの半径によつて規定されている。有
利には第１の部分６０と第２の部分６２とは約
45゜の角度位置において円弧面の近くで互いに接
しており、これによつて第１の切欠き６４が形成
されている。シヤツタ保持プレート２２の第１の
部分６０はその円弧に沿つて突出していりリム６
６を有し、このリム６６はそのなかに間隙６８を
有している。有利な実施例では突出しているリム
６６はリム延長部７０を有し、このリム延長部７
０はセクタの制限半径に沿つてセクタ円弧４４か
ら下方に延びている。有利にはリム延長部７０は
制限半径に沿つて約10mmだけ延びている。後でさ
らに詳しく述べるようにリム延長部７０は、シヤ
ツタ保持プレート２２とシヤツタ制御部材２４と
を互いにロツクするロツク装置３４の一部として
働く。
第４Ａ図、第４Ｂ図及び第４Ｃ図に示されたシ
ヤツタ制御部材２４は試料室の壁３０に回動可能
に取付けられていて、この壁３０からシヤツタ保
持プレート２２によつて隔てられている。有利に
はシヤツタ制御部材２４もまた、約30゜の中心角
と約55mmの半径とによつて規定されたセクタであ
る。シヤツタ制御部材２４は、中心角を２等分す
る半径上においてセクタ円弧７４から約45mm離れ
た所に位置する枢着点７２を中心にして回動す
る。有利な実施例ではシヤツタ制御部材２４とシ
ヤツタ保持プレート２２とは共通の軸を中心にし
て回動する。シヤツタ制御部材２４は壁３０に近
接した第１の面７６と、この第１の面に対してほ
ぼ平行でかつ該面から離れている反対側の面７８
とを有している。シヤツタ制御部材２４の厚さは
有利には約10mmである。第１の面７６には切欠き
８０が設けられており、この切欠き８０は約３mm
の深さで第１の面７６内を延び、シヤツタ制御部
材２４の一方の縁部８２から約14゜だけ円弧状に
延びている。セクタのセグメント８１を形成する
この切欠き８０はセクタ円弧７４から約2.5mm離
れて均一に延び、これによつてレリーズ軌道８４
が形成されている。シヤツタ制御部材２４にはさ
らにシヤツタアーム１８に作用する傾斜面５６が
設けられており、この傾斜面５６はシヤツタ制御
部材２４の第２の面７８から突出している。傾斜
面５６は約15゜だけ円弧状に延びていて、一方の
端部８６から他方の端部８８に向かつて０から約
４mmにその高さを増大している。有利には傾斜面
５６の一方の端部８６は切欠き８０のセクタ端部
の半径と隣接している。
ヤツタ制御部材２４は試料室の壁３０に回動可能
に取付けられていて、この壁３０からシヤツタ保
持プレート２２によつて隔てられている。有利に
はシヤツタ制御部材２４もまた、約30゜の中心角
と約55mmの半径とによつて規定されたセクタであ
る。シヤツタ制御部材２４は、中心角を２等分す
る半径上においてセクタ円弧７４から約45mm離れ
た所に位置する枢着点７２を中心にして回動す
る。有利な実施例ではシヤツタ制御部材２４とシ
ヤツタ保持プレート２２とは共通の軸を中心にし
て回動する。シヤツタ制御部材２４は壁３０に近
接した第１の面７６と、この第１の面に対してほ
ぼ平行でかつ該面から離れている反対側の面７８
とを有している。シヤツタ制御部材２４の厚さは
有利には約10mmである。第１の面７６には切欠き
８０が設けられており、この切欠き８０は約３mm
の深さで第１の面７６内を延び、シヤツタ制御部
材２４の一方の縁部８２から約14゜だけ円弧状に
延びている。セクタのセグメント８１を形成する
この切欠き８０はセクタ円弧７４から約2.5mm離
れて均一に延び、これによつてレリーズ軌道８４
が形成されている。シヤツタ制御部材２４にはさ
らにシヤツタアーム１８に作用する傾斜面５６が
設けられており、この傾斜面５６はシヤツタ制御
部材２４の第２の面７８から突出している。傾斜
面５６は約15゜だけ円弧状に延びていて、一方の
端部８６から他方の端部８８に向かつて０から約
４mmにその高さを増大している。有利には傾斜面
５６の一方の端部８６は切欠き８０のセクタ端部
の半径と隣接している。
後でさらに詳しく述べるがシヤツタ機構１０に
はまた保持プレート９０が設けられていて、壁３
０に固定されている。この保持プレート９０は、
シヤツタ保持プレート２２の舌状片４２が保持プ
レート９０の外周縁９２の上を延びるように固定
されている。さらにこの場合シヤツタ保持プレー
ト２２の回転を可能にする十分な隙間が与えられ
ている。保持プレート９０は、シヤツタ保持プレ
ート２２の突出しているリム６６からほぼ均一な
間隔をおいている円弧軌道９４を有している。こ
の円弧軌道９４には、ロツク部材を受容する切欠
き９６が設けられており、この切欠き９６は約
15゜の円弧長さと約２mmの深さを有している。円
弧軌道９４にはさらに切欠き９６に隣接した一方
の端部に、下方に突出したストツパ９８が設けら
れている。１実施例では保持プレート９０はシヤ
ツタ制御部材２４の上に張り出しているリツプ１
００を有している。このリツプ１００は図面では
わかりやすくするために第２図にのみ断面して示
されている。
はまた保持プレート９０が設けられていて、壁３
０に固定されている。この保持プレート９０は、
シヤツタ保持プレート２２の舌状片４２が保持プ
レート９０の外周縁９２の上を延びるように固定
されている。さらにこの場合シヤツタ保持プレー
ト２２の回転を可能にする十分な隙間が与えられ
ている。保持プレート９０は、シヤツタ保持プレ
ート２２の突出しているリム６６からほぼ均一な
間隔をおいている円弧軌道９４を有している。こ
の円弧軌道９４には、ロツク部材を受容する切欠
き９６が設けられており、この切欠き９６は約
15゜の円弧長さと約２mmの深さを有している。円
弧軌道９４にはさらに切欠き９６に隣接した一方
の端部に、下方に突出したストツパ９８が設けら
れている。１実施例では保持プレート９０はシヤ
ツタ制御部材２４の上に張り出しているリツプ１
００を有している。このリツプ１００は図面では
わかりやすくするために第２図にのみ断面して示
されている。
シヤツタ機構１０のすべての構成部分は汎用の
製造技術を用いて製作することができる。これら
の部材は、有利にはアセタールから成るころ軸受
５２の他は、ポリフエニレンスルフアイドを添加
された40％の炭素繊維から製作されると有利であ
る。
製造技術を用いて製作することができる。これら
の部材は、有利にはアセタールから成るころ軸受
５２の他は、ポリフエニレンスルフアイドを添加
された40％の炭素繊維から製作されると有利であ
る。
運転中は、約6.5mmの直径と約３mmの厚さをも
つ円板１０２がロツク装置３４を効果的に構成す
る。つまり円板１０２は、シヤツタ制御部材２４
がその全移動距離において第１位置２６を通過し
て回動する間中、シヤツタ制御部材２４に設けら
れた切欠き８０に位置しかつ、シヤツタ保持プレ
ート２２のリム６６に設けられた間隙６８に突入
している。シヤツタ制御部材２４には、該シヤツ
タ制御部材をその枢着点７２を中心にして回動さ
せる可動の操作アーム１０４が取付けられてい
る。有利な実施例では、この操作アーム１０４は
ニユーマチツクピストンによつて制御されるが、
しかしながら例えば往復動モータ又はこれに類し
たもののようなその他の作動機械を用いることも
できる。
つ円板１０２がロツク装置３４を効果的に構成す
る。つまり円板１０２は、シヤツタ制御部材２４
がその全移動距離において第１位置２６を通過し
て回動する間中、シヤツタ制御部材２４に設けら
れた切欠き８０に位置しかつ、シヤツタ保持プレ
ート２２のリム６６に設けられた間隙６８に突入
している。シヤツタ制御部材２４には、該シヤツ
タ制御部材をその枢着点７２を中心にして回動さ
せる可動の操作アーム１０４が取付けられてい
る。有利な実施例では、この操作アーム１０４は
ニユーマチツクピストンによつて制御されるが、
しかしながら例えば往復動モータ又はこれに類し
たもののようなその他の作動機械を用いることも
できる。
第１図からわかるようにシヤツタ機構１０がポ
ート２８を完全に開放している位置を占めている
場合、円板１０２はシヤツタ制御部材２４の切欠
き８０とシヤツタ保持プレート２２の間隙６８と
の間にとどまつている。従つてシヤツタ制御部材
２４が操作アーム１０４によつて回動せしめられ
ると、シヤツタ保持プレート２２もまたシヤツタ
制御部材２４と共に連行される。このシヤツタ制
御部材２４とシヤツタ保持プレート２２とは、保
持プレート９０に設けられた切欠き９０が両者２
４，２２の上に達して、同保持プレート９０の下
方に突出したストツパ９８がシヤツタ保持プレー
ト２２のさらに続く回動を阻止するまで互いにロ
ツクされたままである。ストツパ９８がシヤツタ
保持プレート２２に当接したちようどその時に円
板１０２は、保持プレート９０内を延びている切
欠き９６と合致し、シヤツタ制御部材２４の引き
続き行われる回動によつて同切欠き９６に押し込
まれる。この結果、シヤツタ制御部材２４がさら
に続けて回動できるのに対して、シヤツタ保持プ
レート２２はその位置にとどまる。シヤツタ制御
部材２４だけが単独でさらに運動し続けるのと同
時に、シヤツタアーム１８のころ軸受５２はシヤ
ツタ制御部材２４の第２の面７８から突出してい
る傾斜面５６と接触して、シヤツタ制御部材２４
の回動につれてポート２８に向かつてシヤツタプ
レート１２を旋回させる。この結果シヤツタ制御
部材２４が第２位置３２つまりポート２８が完全
に閉じられた位置を占めると、ころ軸受５２は傾
斜面５６のほぼ最高位に位置し、これによつてポ
ート２８の周囲の壁３０に向かつてシヤツタプレ
ート１２は最大の力で押し付けられる。
ート２８を完全に開放している位置を占めている
場合、円板１０２はシヤツタ制御部材２４の切欠
き８０とシヤツタ保持プレート２２の間隙６８と
の間にとどまつている。従つてシヤツタ制御部材
２４が操作アーム１０４によつて回動せしめられ
ると、シヤツタ保持プレート２２もまたシヤツタ
制御部材２４と共に連行される。このシヤツタ制
御部材２４とシヤツタ保持プレート２２とは、保
持プレート９０に設けられた切欠き９０が両者２
４，２２の上に達して、同保持プレート９０の下
方に突出したストツパ９８がシヤツタ保持プレー
ト２２のさらに続く回動を阻止するまで互いにロ
ツクされたままである。ストツパ９８がシヤツタ
保持プレート２２に当接したちようどその時に円
板１０２は、保持プレート９０内を延びている切
欠き９６と合致し、シヤツタ制御部材２４の引き
続き行われる回動によつて同切欠き９６に押し込
まれる。この結果、シヤツタ制御部材２４がさら
に続けて回動できるのに対して、シヤツタ保持プ
レート２２はその位置にとどまる。シヤツタ制御
部材２４だけが単独でさらに運動し続けるのと同
時に、シヤツタアーム１８のころ軸受５２はシヤ
ツタ制御部材２４の第２の面７８から突出してい
る傾斜面５６と接触して、シヤツタ制御部材２４
の回動につれてポート２８に向かつてシヤツタプ
レート１２を旋回させる。この結果シヤツタ制御
部材２４が第２位置３２つまりポート２８が完全
に閉じられた位置を占めると、ころ軸受５２は傾
斜面５６のほぼ最高位に位置し、これによつてポ
ート２８の周囲の壁３０に向かつてシヤツタプレ
ート１２は最大の力で押し付けられる。
第２図からわかるようにシヤツタ制御部材２４
が第２位置３２を占めている間、円板１０２はシ
ヤツタ制御部材２４のセクタ円弧７４によつて保
持プレート９０の切欠き９６内に保持される。
が第２位置３２を占めている間、円板１０２はシ
ヤツタ制御部材２４のセクタ円弧７４によつて保
持プレート９０の切欠き９６内に保持される。
ポート２８を開放したい場合には、シヤツタ制
御部材２４が時計回り方向に回動せしめられ、こ
れによつて傾斜面５６はころ軸受５２の下から離
れて、ポート２８からのシヤツタプレート１２の
離反が可能になる。この段階でつまりころ軸受５
２が傾斜面５６から離れるやいなや、円板１０２
はシヤツタ保持プレート２２に設けられたリム６
６の間隙６８を貫いてシヤツタ制御部材２４の切
欠き８０のなかに運動する。同時にシヤツタ制御
部材２４は、シヤツタ保持プレート２２の半径に
沿つて下方に突出しているリム延長部７０と接触
し、これによつてシヤツタ保持プレート２２はシ
ヤツタ制御部材２４と共に回動せしめられる。
御部材２４が時計回り方向に回動せしめられ、こ
れによつて傾斜面５６はころ軸受５２の下から離
れて、ポート２８からのシヤツタプレート１２の
離反が可能になる。この段階でつまりころ軸受５
２が傾斜面５６から離れるやいなや、円板１０２
はシヤツタ保持プレート２２に設けられたリム６
６の間隙６８を貫いてシヤツタ制御部材２４の切
欠き８０のなかに運動する。同時にシヤツタ制御
部材２４は、シヤツタ保持プレート２２の半径に
沿つて下方に突出しているリム延長部７０と接触
し、これによつてシヤツタ保持プレート２２はシ
ヤツタ制御部材２４と共に回動せしめられる。
発明の効果
以上述べたことから明らかなように、シヤツタ
プレートはシヤツタ保持プレートの回動によつて
ポートと完全に合致する位置までもたらされ、次
いでシヤツタ制御部材が単独でさらに回動するこ
とによつて、シヤツタアームを旋回させる旋回装
置を介してポート周囲の壁に向かつてまつすぐ押
し付けられるので、本発明のシヤツタ機構を用い
るとポートを完全なシール状態で確実に閉鎖する
ことができ、しかもシヤツタプレートの耐用寿命
は従来のものに比べて著しく延びる。
プレートはシヤツタ保持プレートの回動によつて
ポートと完全に合致する位置までもたらされ、次
いでシヤツタ制御部材が単独でさらに回動するこ
とによつて、シヤツタアームを旋回させる旋回装
置を介してポート周囲の壁に向かつてまつすぐ押
し付けられるので、本発明のシヤツタ機構を用い
るとポートを完全なシール状態で確実に閉鎖する
ことができ、しかもシヤツタプレートの耐用寿命
は従来のものに比べて著しく延びる。
第１図は本発明によるシヤツタ機構をポートが
完全に開放された位置で示す平面図、第２図は第
１図に示されたシヤツタ機構をポートがシールさ
れている位置で示す平面図、第３図は第２図の３
−３線に沿つた断面図、第４Ａ図、第４Ｂ図及び
第４Ｃ図はそれぞれ第１図に示されたシヤツタ機
構のシヤツタ制御部材の正面図、側面図及び上面
図、第５Ａ図、第５Ｂ図及び第５Ｃ図はそれぞれ
第１図に示されたシヤツタ保持プレートの正面
図、上面図及び側面図、第６図は第１図に示され
たシヤツタアームの１部を示す図である。 １０…シヤツタ機構、１２…シヤツタプレー
ト、１４…円板、１６…面、１８…シヤツタアー
ム、２０…面、２２…シヤツタ保持アーム、２４
…シヤツタ制御部材、２６…第１位置、２８…ポ
ート、３０…壁、３２…第２位置、３４…ロツク
装置、３６…レリーズ装置、３８…旋回装置、４
０…端部、４２…舌状片、４４…セクタ円弧、４
６…ピン、４８…支承台、５０…端部、５２…こ
ろ軸受、５４…開口、５６…傾斜面、５８…枢着
点、６０…第１の部分、６２…第２の部分、６４
…切欠き、６６…リム、６８…間隙、７０…リム
延長部、７２…枢着点、７４…セクタ円弧、７
６，７８…面、８０…切欠き、８１…セグメン
ト、８２…縁部、８４…レリーズ軌道、８６，８
８…端部、９０…保持プレート、９２…外周縁、
９４…円弧軌道、９６…切欠き、９８…ストツ
パ、１００…リツプ、１０２…円板、１０４…操
作アーム。
完全に開放された位置で示す平面図、第２図は第
１図に示されたシヤツタ機構をポートがシールさ
れている位置で示す平面図、第３図は第２図の３
−３線に沿つた断面図、第４Ａ図、第４Ｂ図及び
第４Ｃ図はそれぞれ第１図に示されたシヤツタ機
構のシヤツタ制御部材の正面図、側面図及び上面
図、第５Ａ図、第５Ｂ図及び第５Ｃ図はそれぞれ
第１図に示されたシヤツタ保持プレートの正面
図、上面図及び側面図、第６図は第１図に示され
たシヤツタアームの１部を示す図である。 １０…シヤツタ機構、１２…シヤツタプレー
ト、１４…円板、１６…面、１８…シヤツタアー
ム、２０…面、２２…シヤツタ保持アーム、２４
…シヤツタ制御部材、２６…第１位置、２８…ポ
ート、３０…壁、３２…第２位置、３４…ロツク
装置、３６…レリーズ装置、３８…旋回装置、４
０…端部、４２…舌状片、４４…セクタ円弧、４
６…ピン、４８…支承台、５０…端部、５２…こ
ろ軸受、５４…開口、５６…傾斜面、５８…枢着
点、６０…第１の部分、６２…第２の部分、６４
…切欠き、６６…リム、６８…間隙、７０…リム
延長部、７２…枢着点、７４…セクタ円弧、７
６，７８…面、８０…切欠き、８１…セグメン
ト、８２…縁部、８４…レリーズ軌道、８６，８
８…端部、９０…保持プレート、９２…外周縁、
９４…円弧軌道、９６…切欠き、９８…ストツ
パ、１００…リツプ、１０２…円板、１０４…操
作アーム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ シヤツタ制御部材２４と、 該シヤツタ制御部材を第１位置２６と第２位置
３２との間で移動させるための操作装置１０４
と、 シヤツタ保持プレート２２と、 シヤツタ制御部材２４が第１位置２６と第２位
置３２との間の移動距離において第１位置を占め
ている間に、同シヤツタ制御部材２４とシヤツタ
保持プレート２２とを互いに相対的にロツクする
ためのロツク装置３４と、 シヤツタ制御部材２４が第１位置２６と第２位
置３２との間の移動距離において第２位置を占め
ている間に同シヤツタ制御部材２４からシヤツタ
保持プレート２２を解放するためのレリーズ装置
３６と、 シヤツタ制御部材２４の移動平面とは異なつた
平面において移動するシヤツタプレート１２と、 シヤツタ制御部材２４が第２位置３２を占めて
いて、ポート２８を閉鎖すべくシヤツタプレート
１２が壁３０に向かつて旋回せしめられている間
に、シヤツタプレート１２とシヤツタ制御部材２
４とを互いに相対的にロツクするための装置とを
有していることを特徴とするシヤツタ機構。 ２ シヤツタ制御部材２４がセクタであり、該セ
クタが同セクタを規定する半径よりも小さな半径
を有するセグメントを有している、特許請求の範
囲第１項記載のシヤツタ機構。 ３ シヤツタ制御部材２４がセクタであり、該セ
クタが、同セクタの円弧７４から均一な間隔をお
いた切欠き８０を有している、特許請求の範囲第
１項記載のシヤツタ機構。 ４ シヤツタ保持プレート２２がセクタであり、
該セクタが一方の面に突出しているリム６６を有
し、該リムに同リム６６を貫いている間隙６８が
設けられている、特許請求の範囲第１項記載のシ
ヤツタ機構。 ５ シヤツタ制御部材２４がセクタであり、該セ
クタが同セクタを規定する半径よりも小さな半径
を有するセグメントを有している、特許請求の範
囲第４項記載のシヤツタ機構。 ６ ロツク装置３４が、シヤツタ制御部材２４の
前記セグメントに位置しかつ前記間隙６８内に延
びている円板１０２と、間隙６８からの円板１０
２の進出を阻止する手段とを有している、特許請
求の範囲第５項記載のシヤツタ機構。 ７ 間隙６８内に円板１０２を保持するための前
記手段が保持プレート９０を有し、該保持プレー
トに円弧軌道９４が設けられていて、該円弧軌道
がシヤツタ保持プレート２２の前記セクタ円弧の
上に位置している、特許請求の範囲第６項記載の
シヤツタ機構。 ８ レリーズ装置３６が、前記円板１０２を完全
に受容するような寸法を備えた切欠き９６を前記
円弧軌道９４に有し、さらに前記切欠き９６内に
円板１０２を保持するための手段を有している、
特許請求の範囲第７項記載のシヤツタ機構。 ９ 前記切欠き９６内に前記円板１０２を保持す
るための手段として、前記シヤツタ制御部材２４
の前記セクタの大部分の円弧が働く、特許請求の
範囲第８項記載のシヤツタ機構。 １０ シヤツタプレート１２がシーソ運動可能な
シヤツタアーム１８を介してシヤツタ保持プレー
ト２２に枢着支承されている、特許請求の範囲第
１項記載のシヤツタ機構。 １１ シヤツタプレート１２から離れている方の
シヤツタアーム端部１８が、シヤツタ制御部材２
４が前記移動距離において第２位置３２を占めて
いる間だけ、シヤツタ制御部材２４の一方の面か
ら突出している傾斜面５６と接触している、特許
請求の範囲第１０項記載のシヤツタ機構。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US549952 | 1983-11-09 | ||
| US06/549,952 US4603835A (en) | 1983-11-09 | 1983-11-09 | Shutter mechanism |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60121378A JPS60121378A (ja) | 1985-06-28 |
| JPH0456915B2 true JPH0456915B2 (ja) | 1992-09-09 |
Family
ID=24195080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59235375A Granted JPS60121378A (ja) | 1983-11-09 | 1984-11-09 | シヤツタ機構 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4603835A (ja) |
| EP (1) | EP0144539B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60121378A (ja) |
| DE (1) | DE3479331D1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63312582A (ja) * | 1987-06-12 | 1988-12-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 圧電弁 |
| JPS63312583A (ja) * | 1987-06-12 | 1988-12-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 圧電弁 |
| US5172643A (en) * | 1990-07-16 | 1992-12-22 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Apparatus for handling strips of paper |
| US5931178A (en) * | 1996-03-19 | 1999-08-03 | Design Systems, Inc. | High-speed water jet blocker |
| US5944300A (en) * | 1998-06-05 | 1999-08-31 | Macmillan Bloedel Packaging | Bag and box valve system |
| US6752373B1 (en) * | 2001-12-18 | 2004-06-22 | Fmc Technologies, Inc. | High-speed fluid jet blocker |
| EP2416187B1 (en) * | 2010-08-04 | 2013-05-08 | HORIBA, Ltd. | Air-driven shutter device and optical analyzer |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US521832A (en) * | 1894-06-26 | Steam-radiator | ||
| DE180936C (ja) * | 1906-05-02 | |||
| CH331645A (fr) * | 1955-01-07 | 1958-07-31 | Foltzer Marcel | Dispositif de fermeture à tiroirs de conduites de fluide sous pression |
| US3237916A (en) * | 1963-10-02 | 1966-03-01 | Grove Valve & Regulator Co | Disc valve |
| FR1413258A (fr) * | 1964-09-30 | 1965-10-08 | Grove Valve & Regulator Compan | Vanne à disque |
| US3343562A (en) * | 1965-01-15 | 1967-09-26 | Grove Valve & Regulator Co | Pivoted valve construction |
| US3521665A (en) * | 1968-05-09 | 1970-07-28 | Alden Poulsen | Gate valve |
| US4062515A (en) * | 1976-05-13 | 1977-12-13 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Compact gate valve |
-
1983
- 1983-11-09 US US06/549,952 patent/US4603835A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-08-21 EP EP84109954A patent/EP0144539B1/en not_active Expired
- 1984-08-21 DE DE8484109954T patent/DE3479331D1/de not_active Expired
- 1984-11-09 JP JP59235375A patent/JPS60121378A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60121378A (ja) | 1985-06-28 |
| EP0144539B1 (en) | 1989-08-09 |
| US4603835A (en) | 1986-08-05 |
| DE3479331D1 (en) | 1989-09-14 |
| EP0144539A3 (en) | 1986-01-02 |
| EP0144539A2 (en) | 1985-06-19 |
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