JPH0457208A - 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 利用産業分野 この発明は、電算機用、テープ用、映像記録用などの垂
直磁気記録再生薄膜ヘッドを成膜形成するための溝構造
磁性基板の改良に係り、リターンパス用磁性部材を耐摩
耗性にすぐれた非磁性材基板上に積層することにより、
耐摩耗性の向上を図った積層構成からなる溝構造磁性基
板であり、例えば、非磁性材を充填し加工組立後に磁気
記録媒体との対向位置となる非磁性材を充填した主溝部
底面の形状を、主磁極膜と平行に配置されたリターンパ
ス用磁性部材幅が主磁極膜幅にほぼ等しく、かつ前記磁
性部材平行部以外のリターンパス用磁性材を前記主磁極
膜と非平行とすることにより、薄膜ヘッドのクロストー
ク特性及びオフトラック特性の改善向上を図な薄膜ヘッ
ド、あるいは前記主溝部と、該主溝部と直交しかつ非磁
性材を充填した細溝部を配設して出力特性の改善向上を
図った薄膜ヘッドを、容易にかつ効率よく製造できる溝
構造磁性基板に関する。

背景技術 一般に、垂直磁気記録再生薄膜ヘッド（以下、薄膜磁気
ヘッドという月よ、磁気回路が微小であること、高透磁
率、高飽和磁束密度の磁性薄膜を用いるという点で、磁
気記録の高密度化に適しており、半導体テクノロジーに
基づく製造プロセスで製造されるため、高精度の磁気ヘ
ッドを低コストで製造可能であり、今後、垂直磁気ヘッ
ドの主流となるものと考えられる。

垂直磁気記録再生用薄膜ヘッドは、例えば、第１０図に
薄膜ヘッドのトランスジューサ一部の媒体対向面及び縦
断側面説明図を示す如く、ソフトフェライト等の磁性部
材（１０）と、これにギャップ層となる非磁性材（３）
と薄膜導体コイル（４）と絶縁層（５）を介して配設す
るパーマロイ、センダスト、あるいはＣｏ系アモルファ
ス等からなり、該主磁極膜の記録時の磁気飽和を防ぐた
めの厚膜磁性膜（８）と主磁極膜（７）とヘッド保護膜
（９）からなる。

従来技術の問題点 前述した露出する積層端面で記録媒体と対向する構成の
垂直薄膜ヘッドにおいて、第１０図（ａ）に示す如く、
記録媒体（３０）に対するリターンパス用磁性部材（１
０）の溝部（２）に充填される非磁性材（３）との境界
面（１２）が主磁極膜（７）と平行になっているため、
主磁極膜（７）下部以外の前記境界面（１２）における
隣接トラックの再生が原因し、薄膜ヘッドにおいて、ク
ロストーク特性及びオフトラック特性が十分でなく、高
トラツク密度化に対して問題があった。

またさらに、従来の薄膜磁気ヘッドにおいて、記録媒体
に対向する面に主磁極膜以外にリターンパス用磁性部材
のエツジ形状部分が露出し、前記露出部形状効果（コン
タ−効果）によって、そのエツジ部に媒体からの漏洩磁
束が集中することにより、再生波形に発生するノイズピ
ーク、すなわち、主ピーク以外に副ピーク（コンタ−効
果によるピーク）が発生し、波形歪み及び記録密度特性
の劣化を招来する問題があった。

発明者は、薄膜磁気ヘッドのコンタ−効果を減少させる
ことを目的に、発生磁束を効率よくリターンさせること
ができるリターンパス用磁性部材について種々検討した
結果、磁気記録媒体との対向面に露呂するリターンパス
用溝磁性部材部底面の形状を、主磁極膜と平行に配置さ
れたリターンパス用磁性部材幅が主磁極膜幅にほぼ等し
く、かつ前記磁性部材平行部以外のリターンパス用磁性
材を前記主磁極膜と非平行、すなわち、前記磁性部材平
行部以外の磁性材厚みを前記磁性部材平行部より暫次減
少または増大させる傾斜面とすることにより磁気抵抗の
増加及び磁性部材の傾斜面によるアジマスロスの増大を
計り、薄膜ヘッドのクコストーク特性及びオフトラック
特性は向上、改善されることを知見し、前記構成の薄膜
ヘッドを提案（特願昭６３−２８６５２４号）した。

また、薄膜磁気ヘッドの再生出力を一段と向上させるこ
とを目的に、発生磁束を効率よくリターンさせることが
できるリターンパス用磁性部材について種々検討した結
果、直交溝部の交点直上部に成膜積層した構成とするこ
とにより、発生磁束を主磁極膜の対向方向にリターンさ
せるだけでなく、トラック輻方向にも磁束をリターンさ
せることができ、再生出力を向上、改善されることを知
見し、上記リターンパス用磁性部材に直交溝部を有する
構成の薄膜ヘッドを提案（特願平２−５０２９２号）し
た。

しかし、前記提案の薄膜ヘッドは、リターンパス用磁性
部材がＮｉ−Ｚｎ系、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライトのソフト
フェライトであるため、硬度が低く、磁気記録媒体との
摺動の際、耐摩耗性の点で問題があった。

そこで、この発明は、かかる現状に鑑み、従来の薄膜磁
気ヘッドのクロストーク特性及びオフトラック特性を向
上させ、かつ磁気記録媒体との耐摩耗性の向上を図り、
容易にかつ効率よく製造するための溝構造磁性基板の提
供を目的としている。

発明の概要 この発明は、薄膜磁気ヘッドの耐摩耗性を向上させるこ
とを目的に、耐摩耗性にすぐれかつ発生磁束を効率よく
リターンさせることができるリターンパス用磁性部材に
ついて種々検討した結果、薄膜ヘッド用の磁性基板を、
耐摩耗性にすぐれた非磁性材基板の上にガラス等を介し
て磁性部材を積層した構成となし、基板上層のリターン
パス用磁性部材に主溝部を配置して、主溝部上部に成膜
積層することにより、露出する積層断面の大半が耐摩耗
性にすぐれた非磁性材となり、耐摩耗性が著しく向上、
改善されることを知見した。

そこでさらに、クロストーク特性及びオフトラック特性
の改善を目的にするための磁性部材を特定形状にした薄
膜ヘッドを、容易にかつ効率よく製造するための基板に
ついて種々検討した結果、非磁性材基板の上に積層した
磁性基板の主面に、非磁性材を充填する複数の主溝部を
一定間隔で設け、かつこの溝部に直行するＶまたはＵ型
溝あるいは特定寸法を有する溝を一定間隔で設けた溝構
造磁性基板を用いることにより、製造性が著しく向上す
ることを知見し、この発明を完成した。

すなわち、この発明は、 リターンパス用磁性部材の一主面に、磁気記録媒体に対
向する摺動面に平行な主溝部を有し該溝に非磁性材を充
填し、該溝部上部に、少なくとも薄膜導体コイル、層間
絶縁膜、主磁極膜、ヘッド保護膜が成膜積層され、かつ
リターンパス部にて磁性部材と主磁極膜と接続し、露出
する前記積層端面における主磁極膜近傍にリターンパス
用磁性部材を露出させ、磁気記録媒体と対向させた構成
からなる薄膜ヘッドを成膜形成するための磁性基板にお
いて、 前記リターンパス用磁性部材を耐摩耗性非磁性材基板上
に積層した積層構成からなり、磁性基板の上主面に非磁
性材を充填する複数溝部を一定間隔で設けたことを特徴
とする垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板で
ある。

また、この発明は、前記構成において、薄膜ヘッド組立
後に媒体対向面における主磁極膜と平行に配置されたリ
ターンパス用磁性部材幅が主磁極膜幅にほぼ等しく、前
記磁性部材平行部以外のリターンパス用磁性部材が、前
記主磁極膜と非平行となるように、前記平底溝部に直交
する溝部を一定間隔で設けたことを特徴とする垂直磁気
記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板である。

さらに、この発明は、前屈構成において、薄膜ヘッド組
立後に、媒体対向面におけるリターンパス用磁性部材の
前記溝部内面が階段状に形成され、媒体対向面における
主磁極膜と平行に配置されたリターンパス用磁性部材幅
が主磁極膜幅にほぼ等しく、前記磁性部材平行部以外の
リターンパス用磁性材が、前記主磁極膜と非平行となる
ように、前記階段状溝部に直交する溝部を一定間隔で設
けたことを特徴とする請求項２記載の垂直磁気記録再生
薄膜ヘッド用溝構造磁性基板である。

さらに、この発明は、前記構成において、リターンパス
用磁性部材表面に、薄膜ヘッド組立後に磁気記録媒体に
対向する摺動面に平行で非磁性材を充填した主溝部と、
該主溝部と直交しかつ非磁性材を充填した主磁極膜幅よ
り　０．５μｍ〜５０Ｐｌ大きな幅と、深さ鋤ｍ〜３０
戸を有する細溝部を配設したことを特徴とする垂直磁気
記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板である。

発明の構成 溝構造磁性基板 この発明は、第１図に示す如く、ＺｒＯ２系、Ａｌ２Ｏ
３系セラミックスなどの耐摩耗性にすぐれた非磁性材基
板（１１）の上に、ガラス層（１３ンなどを介して積層
したＮｉ−Ｚｎ系、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト等の磁性材
基板（１２）の主面に、一定間隔で複数の平底状の主溝
部（２）を一定間隔で設け、溝部にガラス、５ｉ０２、
Ａｌ２Ｏ３、チタン酸バリウム等の非磁性材（３）を充
填した構成からなる溝構造磁性基板（１）を用いること
を特徴としている。

この第１図に示す溝構造磁性基板（１）を用いて所要の
成膜、積層形成し、所要形状に切断加工して薄膜ヘッド
を作製することにより、第２図ａ、ｂに示す如く、露出
する積層断面の大半が耐摩耗性にすぐれた非磁性材とな
り、耐摩耗性が著しく向上、改善される。

さらに、この発明は、第３図ａ、ｂ、ｃに示す如く、Ｚ
ｒＯ２系、Ａｌ２Ｏ３系セラミックスなどの耐摩耗性に
すぐれた非磁性材基板（１１）の上に、ガラス層（１３
）などを介して積層したＮｉ−Ｚｎ系、Ｍｎ−Ｚｎ系フ
ェライト等の磁性材基板（１２）の主面に、ガラス、５
ｉ０２、Ａｌ２Ｏ３、チタン酸バリウム等の非磁性材（
３）を充填する複数の平底あるいは階段状の主溝部（２
）、及びこれに直交する■型または略Ｕ型あるいは主溝
部（２）に対して特定寸法を有する溝部（２０）を一定
間隔で設けた溝構造磁性基板（１）を特徴とし、これを
用いることにより所要形状の薄膜ヘッドを容易に効率よ
く製造することができる。

詳述すると、例えば、第３図ａに示す溝構造磁性基板（
１）を用いて所要の成膜、積層形成し、所要形状に切断
加工して薄膜ヘッドを作製することにより、磁気記録媒
体との対向位置、すなわち、溝構造磁性基板（１）にお
ける溝部（２）と溝部（２０）が交差した部分の形状を
、第４図ａ、ｂに示す如く、リターンパス用磁性部材平
行部（１３）輻が主磁極膜（７）輻にほぼ等しく、かつ
前記磁性部材平行部（１３）以外の磁性基板（１０２）
を、主磁極膜（７）と非平行となるように配置でき、磁
気抵抗の増加及び磁性部材の傾斜面によるアジマスロス
の増大を計ることができ、薄膜ヘッドのクロストーク特
性及びオフトラック特性を改善、向上させた薄膜ヘッド
を効率よく製造することができる。

第３図すに示す溝構造磁性基板（１）は、前述の溝部（
２０）を有し、かつ主溝部（２）を階段状内面（２ａ）
に形成してあり、前記基板より上述の製造方法で作成さ
れた第５図ａ、ｂに示す薄膜磁気ヘッドは、第４図ａ、
ｂに示す薄膜磁気ヘッドと同様にクコストーク特性及び
オフトラック特性を改善効果を有し、さらに、記録媒体
（３０）からの漏洩磁束が磁性部材（１０２）の媒体対
向面に露出している露出面と主溝部（２）に充填した非
磁性材（３）との少なくとも１ケ所以上の交互角部及び
非磁性材（３）との接触面に分散するため、従来の薄膜
磁気ヘッドの欠点であったコンタ−効果による副ピーク
を弱化することができる。

製造方法 この発明による薄膜磁気ヘッドを製造する工程を、第３
図Ｃ１第７図ａ−ｆに基いて説明する。

■第３図Ｃに示すごとく、ＺｒＯ２系、Ａ１２ｏ３系セ
ラミツクスなどの耐摩耗性にすぐれた非磁性材基板（１
１）の上にガラス層（１３）を介して積層した、Ｎｉ−
Ｚｎ系またはＭｎ−Ｚｎ系フェライトの磁性材基板（１
２）の主面に、所定間隔で複数の主溝部（２）及び主溝
部（２）に直交する複数の溝部（２０）を所要パターン
にて配設し、各溝部（２Ｘ２０）に、ガラス、５ｉ０２
、Ａｌ２Ｏ３、チタン酸バリウム等の非磁性材（３）を
溶着法、スパッタリング法にて充填し、その後、溝構造
磁性基板（１）の前記溝部（２）（２０）を設けた磁性
材基板（１２）の主面に、メカノケミカル研摩を施す。

■溝構造磁性基板（１）の磁性材基板（１２）の前記研
摩面に、Ａｕ、　Ｃｕ、　Ｏｒ、　ＡＩ等からなる薄膜
導体コイル（４）をスパッタリング法、真空蒸着法にて
形成する。（第７図ａ） なお、前記磁性部材がＭｎ−Ｚｎ系フェライトの場合、
薄膜導体コイル形成前に絶縁層を設ける。

■この薄膜導体コイル（４）層と後に被着する厚膜主磁
極膜（７）との電気的絶縁のために、５ｉ０２、Ａｌ２
Ｏ３等の無機酸化膜あるいはポリイミド等の有機膜から
なる層間絶縁被膜（５）を形成する。（第７図ｂ） ■前記薄膜導体コイル（４）による層間絶縁被膜（５）
の凹凸面を除去するため、ダイヤモンド研摩等の精密研
摩あるいはエッチバック法を施して、５００Å以下に平
坦化する。

■後工程にて被着する厚膜主磁極膜（７）との磁性材基
板（１２）を接続するためのリターンパス部（６）を、
前記層間絶縁被膜（５）に、イオンエツチング、ケミカ
ルエツチング等の方法にて形成する。（第７図Ｃ） ■層間絶縁被膜（５）面及びリターンパス部（６）の磁
性材基板（１２）面上に、パーマロイ、センダスト等の
Ｆｅ系合金あるいはアモルファス等からなる厚膜主磁極
膜（７）をスパッタリング法、蒸着法、めっき法等にて
被着形成し、パターン化する。（第７図ｄ） ■その後、前記厚膜主磁極膜（７）上に主磁極膜（８）
をスパッタリング法、蒸着法、めっき法等にて被着形成
し、パターン化する。（第７図ｅ） ■ヘッド保護膜（９）を積層被着する。（第７図０■そ
の後、主溝部（２）の所要位置及び溝部（２ｏ）の所要
位置で溝構造磁性基板（１）を切断して、所要寸法、形
状に成形することにより、第４図に示す如く、磁気記録
媒体（３ｏ）に対向する磁性材基板（ｉｏ２）の摺動面
形状を特定形状とした薄膜磁気ヘッドが得られる。

！遇廼Ｘ立ヱヱ 換言すると、主磁極とリターンパス用磁性部材間の漏れ
磁束を防止するための主溝部（２）と、該主溝部（２）
に直交してトラック幅より僅かに大きい（０，５μｍ〜
５０μｍ）幅を有するギャップ層に相当する細溝部（２
０）を有する溝構造積層基板（１）を用い、一連の薄膜
ヘッド製造プロセスにより垂直薄膜ヘッド化することに
より、記録媒体の摺動面となる非磁性材基板上に積層さ
れたリターンパス用磁性基板形状が、第６図ａに示す如
く、主磁極膜（８）に対して特定寸法、形状を有する細
溝部（２０）を形成する。

このようにして得られた垂直薄膜磁気ヘッドにおいて、
主磁極膜より発生した磁束は主磁極膜の対向方向のみな
らず、トラック幅方向にもリターンし、記録再生特性を
向上させることができる。

また、溝構造積層基板（１）の磁性薄膜（１２）に形成
した複数の主溝部（２）は、薄膜ヘッド組立時に厚膜主
磁極膜（７）の先端部からリターンパス部（６）の先端
部までの長さに等しい幅を有し、深さは２μｍ−３０μ
ｍの寸法を有し、また、前記主溝部（２）に直交する細
溝部（２０）は、主磁極膜幅より０．５μｍ〜３００μ
ｍ、好ましくはｌμｍ〜２０μｍより大きな幅を有し、
また、深さは、３μｍ〜３０μｍが好ましく、さらに１
釦工〜２０μｍの深さを有することが好ましい。

悲 この発明に用いる溝構造積層基板（１）において、非磁
性材基板（１１）はＺｒＯ２系、Ａｌ２Ｏ３系セラミッ
クスなどの耐摩耗性にすぐれた非磁性材であれば、いず
れの非磁性材でもよい。

実施例 以下、この発明の詳細な説明する。

表面を精密仕上げしたＺｒＯ２系セラミックス基板の上
に、表面を精密仕上げしたＮｉ−Ｚｎ系フェライト基板
をｌ〇−厚みのはう珪酸系ガラスを介して積層して積層
基板を作製した。

前記積層基板のＮｉ−Ｚｎ系フェライト基板上に、輻０
．２０ｍｍＸ深さ０．０３０ｍｍＸ長さ５軸血の溝を複
数本、機械加工で形成する。

また、前記溝部に直交する幅０．０６Ｘ深さ０．０３０
　Ｘ長さ５０ｍｍの溝を複数本、機械加工で形成する。

このようにして得られた溝部に、１戸以上の気泡が１ヶ
／ｍｍ３以下の状態でＡｌ２Ｏ３を充填した後、前記主
面にメカノケミカル研摩を施し、前記研摩面上に、薄膜
導体コイル用Ｃｕ膜をスパッタリングにて形成し、所定
形状のパターン化する。

その後、電気的絶縁のための層間絶縁被膜として、ポリ
イミド系樹脂も用いて被膜した後、工・フチバック法を
用いて、表面を平坦化した。

その後、Ｃｏ系アモルファスからなる厚膜主磁極膜をス
パッタリング法にて被着形成パターン化し、さらに、Ｃ
ｏ系アモルファスからなる薄膜主磁極膜をスパッタリン
グ法にて被着形成パターン化し、さらにＡｌ２Ｏ３から
なるヘッド保護膜を積層被着した。

その後、記録媒体に対向する摺動面のリターンバス用磁
性部材の形状が主磁極膜に対して、特定形状寸法の溝部
を形成するように所要寸法、形状に切断加工し、垂直薄
膜ヘッドを作製した。

また、比較のため、幅０．３×深さ０．０２５ｍｍの従
来のギャップ層を形成する溝にガラスを充填したＮｉ−
Ｚｎ系フェライト基板より上記と同じ方法で垂直薄膜ヘ
ッドを作製した。

このようにして、得られた垂直薄膜ヘッドの特性逆びに
摺動耐摩耗性を評価した。

これら、溝形状の異なる２種のヘッドからの再生出力特
性の試験結果を第８図に示す。なお、再生出力特性測定
は自己記録再生により行い、その測定条件は下記の通り
である。

また、摺動耐摩耗性の評価として、下記条件のシューシ
ャインテストを行い、その結果を第９図に示す。

第８図より明らかな如く、本発明ヘッドは再生出力特性
において、非常に良好な特性を示している。

さらに、第９図に明らかな如く、耐摩耗性にすぐれた非
磁性材基板の上に磁性材基板をガラスなどを介して積層
した溝構造積層基板を使用することにより、耐摩耗性が
大幅に向上することが分かる。

媒体 ＣｏＣｒ　／　ＮｉＦｅ　　２層膜、垂直保磁力Ｈｅ　
＝　５０００ｅ、保護膜ｌカーボンヘッド 本発明、従来ともにトラック輻ＴＷ＝５０ＰＸ相対速度 ７．５ｍ／ｓｅｅ 回転数 １８００ｒμｍ メカノケミカル研摩条件 加工機　　　　　；１５インチＭＣＰ盤ポリッシャー；
不織布 パウダー　　　；粒度０．０２μｍ以下、ＭｇＯ回転数
　　　　；　２Ｏｒμｍ 加圧力　　　　；　０．５ｋｇ／ｍｍ２ダイヤモンド研
摩条件 加工機　　　　；１５インチ片面ラップ盤ポリッシャー
；Ｓｎ盤 ダイヤモンド；粒度０．５〜１ドｍ 回転数　　　　；　３０ｒμｍ 加圧力　　　　；　０．５ｋｇ／ｍｍ２再生出力波形測
定条件 ディスク回転数；　１８００ｒμｍ 媒体　　　　；　Ｃｏ−Ｃｒ　／　Ｎｉ−Ｆｅ記録周波
数　　；　０．５〜２０ＭＨｚ記録電流　　　；　２０
ｍＡｐ−ｐ 相対速度　　　；　ｖ　＝　７．５ｍ／ｓｅｅシューシ
ャインテスト テストテープ材料；ＣｒＯ２テープ テープスピード　；　３．２ｍ／ｓｅｅテープ張力　　
　　；　２５０ｇｒ

【図面の簡単な説明】

第１図、第３図ａ、ｂ、ｃはこの発明による溝構造磁性
基板の斜視説明図ある。 第２図ａ、ｂ、第４図ａ、ｂ、第５図ａ、ｂはこの発明
による薄膜磁気ヘッドの正面説明図、縦断説明図である
。第６図ａ、ｂ、ｃはこの発明による薄膜磁気ヘッドの
正面説明図、縦断説明図、上面説明図である。 第７図ａ−ｆはこの発明による薄膜磁気ヘッドの製造工
程を示す説明図である。 第８図は薄膜磁気ヘッドの再生出力の関係を示すグラフ
である。 第９図は薄膜磁気ヘッドのシューシャイン走行回数と摩
耗量との関係を示すグラフである。 第１０図ａ、ｂは従来の磁性部材を用いた薄膜磁気ヘッ
ドの正面説明図、縦断説明図である。 １・・・溝構造積層基板、１□・・・非磁性材基板、１
２・・・磁性材基板、１３・・・ガラス層、２・・・主
溝部、２０・・・溝部、３・・・非磁性材、４・・・薄
膜導体コイル、５・・・層間絶縁被膜、６・・・リター
ンパス部、７・・・厚膜主磁極膜、８・・・主磁極膜、
９・・・ヘッド保護膜、１０・・・基板部材、１０１・
・・非磁性材基板、１０□９１．磁性材基板、１０３・
・・ガラス層、１１・・・露出面、３０・・・記録媒体
。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ リターンパス用磁性部材の一主面に、磁気記録媒体に対
   向する摺動面に平行な主溝部を有し該溝に非磁性材を充
   填し、該溝部上部に、少なくとも薄膜導体コイル、層間
   絶縁膜、主磁極膜、ヘッド保護膜が成膜積層され、かつ
   リターンパス部にて磁性部材と主磁極膜と接続し、露出
   する前記積層端面における主磁極膜近傍にリターンパス
   用磁性部材を露出させ、磁気記録媒体と対向させた構成
   からなる薄膜ヘッドを成膜形成するための磁性基板にお
   いて、 前記リターンパス用磁性部材を耐摩耗性非磁性材基板上
   に積層した積層構成からなり、磁性基板の上主面に非磁
   性材を充填する複数溝部を一定間隔で設けたことを特徴
   とする垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板。 ２ 薄膜ヘッド組立後に媒体対向面における主磁極膜と平行
   に配置されたリターンパス用磁性部材幅が主磁極膜幅に
   ほぼ等しく、前記磁性部材平行部以外のリターンパス用
   磁性材が、前記主磁極膜と非平行となるように、前記平
   底溝部に直交する溝部を一定間隔で設けたことを特徴と
   する請求項１記載の垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構
   造磁性基板。 ３ 薄膜ヘッド組立後に、媒体対向面におけるリターンパス
   用磁性部材の前記溝部内面が階段状に形成され、媒体対
   向面における主磁極膜と平行に配置されたリターンパス
   用磁性部材幅が主磁極膜幅にほぼ等しく、前記磁性部材
   平行部以外のリターンパス用磁性材が、前記主磁極膜と
   非平行となるように、前記階段状溝部に直交する溝部を
   一定間隔で設けたことを特徴とする請求項２記載の垂直
   磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板。 ４ リターンパス用磁性部材表面に、薄膜ヘッド組立後に磁
   気記録媒体に対向する摺動面に平行で非磁性材を充填し
   た主溝部と、該主溝部と直交しかつ非磁性材を充填した
   主磁極膜幅より０．５μｍ〜５０μｍ大きな幅と、深さ
   ３μｍ〜３０μｍを有する細溝部を配設したことを特徴
   とする請求項１記載の垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝
   構造磁性基板。