JPH0458653B2 - - Google Patents

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JPH0458653B2
JPH0458653B2 JP11865284A JP11865284A JPH0458653B2 JP H0458653 B2 JPH0458653 B2 JP H0458653B2 JP 11865284 A JP11865284 A JP 11865284A JP 11865284 A JP11865284 A JP 11865284A JP H0458653 B2 JPH0458653 B2 JP H0458653B2
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Japan
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film
ferromagnetic metal
metal thin
thin film
magnetic recording
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JPS60263332A (en
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Kenichi Baba
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Sony Corp
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  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、所謂蒸着テープの如き強磁性金属薄
膜型の磁気記録媒体の製法に関するものであり、
さらに詳細には耐久性や走行性を改善するために
設けられる保護膜の形成方法の改良に関するもの
である。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing a ferromagnetic metal thin film type magnetic recording medium such as a so-called vapor-deposited tape.
More specifically, the present invention relates to an improvement in the method of forming a protective film provided to improve durability and runnability.

〔背景技術とその問題点〕[Background technology and its problems]

磁気記録の分野においては、記録信号の高密度
記録化や短波長化が進められているが、これに対
応して抗磁力Hcや残留磁束密度Brの大きな磁気
記録媒体が要望されている。
In the field of magnetic recording, higher recording density and shorter wavelength recording signals are being recorded, and in response to this trend, magnetic recording media with large coercive force Hc and large residual magnetic flux density Br are required.

そこで従来、ポリエステルフイルム等の非磁性
支持体上にCo−Ni合金等の強磁性金属材料を真
空蒸着法やスパツタ法等の手段を用いて強磁性金
属薄膜を直接被着形成し、これを磁性層となした
強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体が提案され注目
を集めている。この強磁性金属薄膜型の磁気記録
媒体は、抗磁力Hcや残留磁束密度Brが大きいば
かりでなく、磁性層の厚みを極めて薄くできるた
め記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さいこ
と、磁性層に塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体や
ポリウレタン樹脂等の樹脂結合剤を混入する必要
がないため強磁性金属材料の充填密度を高めるこ
とができること等、磁気特性の点で数々の利点を
有している。
Conventionally, a thin film of ferromagnetic metal such as a Co-Ni alloy is deposited directly onto a non-magnetic support such as a polyester film using a method such as a vacuum deposition method or a sputtering method. A ferromagnetic metal thin film type magnetic recording medium has been proposed and is attracting attention. This ferromagnetic metal thin film type magnetic recording medium not only has high coercive force Hc and residual magnetic flux density Br, but also has extremely low thickness loss during recording demagnetization and reproduction because the thickness of the magnetic layer can be made extremely thin. It has many advantages in terms of magnetic properties, such as the ability to increase the packing density of ferromagnetic metal materials because there is no need to mix resin binders such as vinyl chloride-vinyl acetate copolymer or polyurethane resin into the layer. ing.

しかしながら、上述の強磁性金属薄膜型の磁気
記録媒体は、耐久性や走行性等に欠点が多く、そ
の改善が大きな課題となつている。
However, the above-mentioned ferromagnetic metal thin film type magnetic recording medium has many drawbacks in terms of durability, runnability, etc., and improvement thereof has become a major issue.

そこで例えば、上記磁気記録媒体の磁性層、す
なわち強磁性金属薄膜表面に潤滑剤等を塗布して
保護膜を形成することによつて上記耐久性や走行
性等を改善することが試みられているが、この場
合には、最初のうちは摩擦係数が低減して走行性
が良くなるが、上記潤滑剤の強磁性金属薄膜に対
する付着力が弱いので、次第にこの潤滑剤が磁気
ヘツド等で削り取られてしまい急激に効果が減じ
てしまうというように、耐久性の点や均一性、膜
厚等の点で問題が多い。
For example, attempts have been made to improve the durability and runnability of the magnetic recording medium by coating the surface of the magnetic layer, that is, the ferromagnetic metal thin film, with a lubricant or the like to form a protective film. However, in this case, the coefficient of friction is initially reduced and running properties are improved, but since the adhesion of the lubricant to the ferromagnetic metal thin film is weak, this lubricant is gradually scraped away by a magnetic head, etc. There are many problems in terms of durability, uniformity, film thickness, etc., such that the effectiveness decreases rapidly due to overheating.

一法、上記保護膜をプラズマ重合により形成す
ることが試みられており、例えば特開昭58−
88828号明細書に記載されるように、フツ化カー
ボン系のモノマー蒸気をプラズマ重合させること
により、極めて薄い重合膜が得られ、上述の磁気
記録媒体の走行性の改善に有効であることが報告
されている。
One method has been attempted to form the above-mentioned protective film by plasma polymerization.
As described in No. 88828, it has been reported that an extremely thin polymer film can be obtained by plasma polymerizing carbon fluoride monomer vapor, which is effective in improving the runnability of the above-mentioned magnetic recording medium. has been done.

しかしながら、上記プラズマ重合によつて得ら
れる重合膜にあつては、架橋度の不足による耐久
性の不足が問題となつており、実用化を図るため
にはこの耐久性をより一層向上することが要望さ
れている。
However, the polymer film obtained by the above plasma polymerization has a problem of insufficient durability due to insufficient crosslinking degree, and it is necessary to further improve this durability in order to put it into practical use. It is requested.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

そこで本発明は、前述したような当該技術分野
の要望にこたえて提案されたものであつて、耐久
性に優れた重合膜を作製することが可能なプラズ
マ重合法を提供し、これにより実用レベルの耐久
性を有する強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体を製
造することが可能な磁気記録媒体の製法を提供す
ることを目的とするものである。
Therefore, the present invention has been proposed in response to the above-mentioned needs in the technical field, and provides a plasma polymerization method capable of producing a polymer film with excellent durability, thereby achieving a practical level. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a magnetic recording medium that can manufacture a ferromagnetic metal thin film type magnetic recording medium having durability of .

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

すなわち、本発明に係る磁気記録媒体の製法
は、非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を設けてな
る磁気記録媒体の前記強磁性金属薄膜表面にプラ
ズマ重合により保護膜を形成するにあたり、モノ
マーガスとして不飽和結合を有するフルオロカー
ボンを用いるとともにキヤリヤーガスとして酸素
を用い、モノマーガス:キヤリヤーガスを体積比
で75:25〜85:15に選定してプラズマ重合を行な
うことを特徴とするものであつて、プラズマ重合
を行なう際のモノマーガスとキヤリヤーガスの種
類及び混合比を選定することにより得られる重合
膜の架橋度を増して耐久性を大幅に向上し、これ
を保護膜とすることにより強磁性金属薄膜型の磁
気記録媒体の耐久性、走行性の向上を図ろうとす
るものである。
That is, in the method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention, in forming a protective film by plasma polymerization on the surface of a ferromagnetic metal thin film of a magnetic recording medium in which a ferromagnetic metal thin film is provided on a nonmagnetic support, a monomer gas is The method is characterized in that plasma polymerization is carried out by using fluorocarbon having an unsaturated bond as a carrier gas, using oxygen as a carrier gas, and selecting a monomer gas:carrier gas volume ratio of 75:25 to 85:15. By selecting the type and mixing ratio of monomer gas and carrier gas during polymerization, we can increase the degree of crosslinking of the resulting polymer film and greatly improve its durability. By using this as a protective film, we can create a ferromagnetic metal thin film type. The objective is to improve the durability and running performance of magnetic recording media.

本発明が適用される磁気記録媒体は、非磁性支
持体上に強磁性金属材料を直接被着し、強磁性金
属薄膜を磁性層として形成してなる所謂強磁性金
属薄膜型磁気記録媒体である。
The magnetic recording medium to which the present invention is applied is a so-called ferromagnetic metal thin film type magnetic recording medium in which a ferromagnetic metal material is directly deposited on a nonmagnetic support and a ferromagnetic metal thin film is formed as a magnetic layer. .

上記非磁性支持体の素材としては、ポリエチレ
ンテレフタレート等のポリエステル類、ポリエチ
レン、ポリプロピレン等のポリオレフイン類、セ
ルローストリアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート等のセル
ロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリ
イミド、ポリアミドイミド等のプラスチツク等が
挙げられる。また、上記非磁性支持体の形態とし
ては、フイルム、テープ、シート、デイスク、カ
ード、ドラム等のいずれでも良い。
Materials for the non-magnetic support include polyesters such as polyethylene terephthalate, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, cellulose derivatives such as cellulose triacetate, cellulose diacetate, and cellulose acetate butyrate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, etc. Examples include plastics such as vinyl resin, polycarbonate, polyimide, and polyamideimide. The nonmagnetic support may be in any form such as a film, tape, sheet, disk, card, or drum.

上記強磁性金属材料としては、鉄Fe、コバル
トCo、ニツケルNi等の金属あるいはCo−Ni合
金、Fe−Co合金、Fe−Ni合金、Co−Ni−Fe−
B合金等の合金が挙げられる。
The above-mentioned ferromagnetic metal materials include metals such as iron Fe, cobalt Co, and nickel Ni, Co-Ni alloy, Fe-Co alloy, Fe-Ni alloy, Co-Ni-Fe-
Examples include alloys such as B alloy.

上記強磁性金属材料の被着手段としては、真空蒸
着法、イオンプレーテイング法、スパツタ法等が
挙げられる。上記真空蒸着法は、10-4〜10-8
Torrの真空下で上記強磁性金属材料を抵抗加熱、
高周波加熱、電子ビーム加熱等により蒸発させ上
記非磁性支持体上に蒸発金属(強磁性金属材料)
を沈着するというものであり、斜方蒸着法及び垂
直蒸着法に大別される。上記斜方蒸着法は、高い
抗磁力を得るため非磁性支持体に対して上記強磁
性金属材料を斜めに蒸着するものであつて、より
高い抗磁力を得るために酸素雰囲気中で上記蒸着
を行なうものも含まれる。上記垂直蒸着法は、蒸
着効率や生産性を向上し、かつ高い抗磁力を得る
ために非磁性支持体上にあらかじめBi,Tl,Sb,
Ga,Ge等の下地金属層を形成しておき、この下
地金属層上に上記強磁性金属材料を垂直に蒸着す
るというものである。上記イオンプレーテイング
法も真空蒸着法の一種であり、10-4〜10-3Torr
の不活性ガス雰囲気中でDCグロー放電、RFグロ
ー放電を起こし、放電中で上記強磁性金属を蒸発
させるというものである。上記スパツタ法は、
10-3〜10-1Torrのアルゴンガスを主成分とする
雰囲気中でグロー放電を起こし、生じたアルゴン
イオンでターゲツト表面の原子をたたき出すとい
うもので、グロー放電の方法により直流2極、3
極スパツタ法や、高周波スパツタ法、またマグネ
トロン放電を利用したマグネトロンスパツタ法等
がある。
Examples of the means for depositing the ferromagnetic metal material include a vacuum deposition method, an ion plating method, and a sputtering method. The above vacuum evaporation method is 10 -4 to 10 -8
Resistance heating of the above ferromagnetic metal material under Torr vacuum,
Evaporate metal (ferromagnetic metal material) onto the above non-magnetic support by evaporating it by high frequency heating, electron beam heating, etc.
It is roughly divided into oblique evaporation method and vertical evaporation method. The above-mentioned oblique deposition method is a method in which the ferromagnetic metal material is obliquely deposited on a non-magnetic support in order to obtain a high coercive force. It also includes things that are done. In the above-mentioned vertical deposition method, Bi, Tl, Sb,
A base metal layer such as Ga or Ge is formed in advance, and the ferromagnetic metal material is vertically deposited on the base metal layer. The above-mentioned ion plating method is also a type of vacuum evaporation method, and the
DC glow discharge and RF glow discharge are caused in an inert gas atmosphere, and the ferromagnetic metal is evaporated during the discharge. The above spatuta method is
A glow discharge is caused in an atmosphere mainly composed of argon gas at 10 -3 to 10 -1 Torr, and the generated argon ions are used to knock out atoms on the target surface.
There are the polar sputter method, the high frequency sputter method, and the magnetron sputter method using magnetron discharge.

そして、本発明においては、上述の磁気記録媒
体の強磁性金属薄膜表面にプラズマ重合により保
護膜を形成する。
In the present invention, a protective film is formed on the surface of the ferromagnetic metal thin film of the above-mentioned magnetic recording medium by plasma polymerization.

上記プラズマ重合は、通常有機モノマーガス単
独、またはそのモノマーガスと他のガス(キヤリ
ヤーガス)との混合ガス中でグロー放電を行な
い、その励起モノマーから誘導される重合膜を放
電域に接した基体上に生成させるというものであ
つて、これにより例えば 1 基体である強磁性金属薄膜に対して高接着性
であること 2 高密度であること 3 耐熱性であること 4 均一な膜として生成されること 等の諸特性を具備した重合膜が保護膜として形成
されるのである。
The above plasma polymerization usually involves performing glow discharge in an organic monomer gas alone or in a mixture of the monomer gas and another gas (carrier gas), and depositing a polymer film derived from the excited monomer on a substrate in contact with the discharge region. For example, 1. It must have high adhesion to the ferromagnetic metal thin film that is the substrate. 2. It must have high density. 3. It must be heat resistant. 4. It must be produced as a uniform film. A polymeric film having various properties such as these is formed as a protective film.

本発明においては、モノマーガスとキヤリヤー
ガスの混合ガス中のでグロー放電によつて重合膜
を形成するが、ここで、使用するモノマーガスと
キヤリヤーガスの種類及び混合比が重要である。
In the present invention, a polymer film is formed by glow discharge in a mixed gas of monomer gas and carrier gas, and the type and mixing ratio of the monomer gas and carrier gas used are important here.

先ず、上記モノマーガスとしては、フルオロカ
ーボン(ふつ化炭素)が使用される、なかでも CnF2o(2≦n≦4) なる一般式で表わされる不飽和結合を有するフル
オロカーボンが使用される。この不飽和結合を有
するフルオロカーボンの炭素数は4以下であるこ
とが好ましく、上記炭素数が4を越えると架橋度
が不足して充分な耐久性を有する重合膜が得られ
なくなる虞れがある。また、同様に上記フルオロ
カーボンは不飽和結合を有していることが必要
で、この不飽和結合を有していないと得られる重
合膜の架橋度が不足するばかりか、膜の生成が遅
く極端な場合には重合膜が得られない虞れもあ
る。特に好ましいモノマーガスとしては、テトラ
フルオロエチレ(CF2=CF2)あるいはヘキサフ
ルオロピレン(CF2=CF−CF3)が挙げられる。
First, as the monomer gas, a fluorocarbon (carbon fluoride) is used, especially a fluorocarbon having an unsaturated bond represented by the general formula CnF 2o (2≦n≦4). The number of carbon atoms in the fluorocarbon having unsaturated bonds is preferably 4 or less; if the number of carbon atoms exceeds 4, the degree of crosslinking may be insufficient and a polymer film with sufficient durability may not be obtained. Similarly, the above-mentioned fluorocarbon must have an unsaturated bond, and if it does not have this unsaturated bond, not only will the degree of crosslinking of the resulting polymer film be insufficient, but the formation of the film will be extremely slow. In some cases, there is a possibility that a polymer film may not be obtained. Particularly preferred monomer gases include tetrafluoroethylene ( CF2 = CF2 ) and hexafluoropyrene ( CF2 =CF- CF3 ).

一方、上記キヤリヤーガスとしては酸素を使用
する。この酸素は、プラズマ重合を行なう際にモ
ノマーの不飽和結合が開裂してラジカルに移行す
るのを促進するとともに、不必要なラジカルを消
失させる作用を有するものと推定され、得られる
重合膜の膜質を向上するうえで有用なものであ
る。
On the other hand, oxygen is used as the carrier gas. This oxygen is presumed to have the effect of promoting the cleavage of unsaturated bonds in monomers and transfer to radicals during plasma polymerization, and also has the effect of eliminating unnecessary radicals, resulting in the quality of the resulting polymer film. It is useful for improving the

そして、上記モノマーガスとキヤリヤーガスと
は、所定の比率で混合して使用する必要があり、
本発明者の実験によれば、モノマーガス:キヤリ
ヤーガスを体積比で75:25〜85:15の範囲内で設
定することにより、極めて耐久性に優れた重合膜
が生成することが分かつた。すなわち、上記キヤ
リヤーガスの割合が15体積%未満である場合、あ
るいは25体積%を越える場合には、充分な耐久性
を有する重合膜が得られず、したがつて強磁性金
属薄膜型の磁気記録媒体の耐久性を実用レベルま
で引き上げることは難かしい。
The monomer gas and carrier gas must be mixed at a predetermined ratio before use.
According to experiments conducted by the present inventors, it has been found that by setting the monomer gas:carrier gas volume ratio within the range of 75:25 to 85:15, a polymer film with extremely excellent durability can be produced. That is, if the proportion of the carrier gas is less than 15% by volume or exceeds 25% by volume, a polymeric film with sufficient durability cannot be obtained, and therefore a ferromagnetic metal thin film type magnetic recording medium cannot be obtained. It is difficult to raise the durability of to a practical level.

上述のモノマーガス及びキヤリヤーガスを使用
してプラズマ重合を行なうわけであるが、次に本
発明においてプラズマ重合を行なうために使用さ
れる反応装置の一例について説明する。
Plasma polymerization is carried out using the above-mentioned monomer gas and carrier gas. Next, an example of a reaction apparatus used for carrying out plasma polymerization in the present invention will be described.

第1図は本発明において実際に使用される反応
装置の構成を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a reaction apparatus actually used in the present invention.

この反応装置は、電極の汚染が無いこと及び放
電の安定性が良いことから無電極方式が採用され
かつ誘導結合方式となつており、プラズマの発振
周波数は13.56MHzである。そして、上記反応装
置は、プラズマ重合反応のための反応室1を具備
してなり、この反応室1の周囲には整合回路網2
を介して周波数発振器3に接続される高周波コイ
ル4が巻回されている。また、上記反応室1に
は、モノマーガス及びキヤリヤーガスを導入する
ための導入管5が接続され、あらかじめ例えばマ
スフローコントローラによりそれぞれ流量を調整
したモノマーガスとキヤリヤーガスとを上述の混
合比となるように混合して上記反応室1内に導入
するようになつている。さらに上記反応室1の両
側には、表面に強磁性金属薄膜を被着形成した非
磁性金属薄膜を被着形成した非磁性支持体6をロ
ール7から繰出すための供給室8と、上記非磁性
支持体6を反応室1内に通じた後にロール9に巻
取るための巻取り室10とがそれぞれ連結されて
おり、非磁性支持体6をガイドローラ11を介し
て連続駆動しながらプラズマ重合反応による重合
膜を付着させるように構成されている。なお、上
記供給室8及び巻取り室10は、それぞれ真空ポ
ンプに接続され、反応室1を含めて全体が高真空
に保持されるようになされている。
This reactor uses an electrodeless system because there is no contamination of the electrodes and good discharge stability, and an inductively coupled system, and the plasma oscillation frequency is 13.56MHz. The reaction apparatus is equipped with a reaction chamber 1 for plasma polymerization reaction, and a matching circuit network 2 is provided around the reaction chamber 1.
A high frequency coil 4 connected to a frequency oscillator 3 via a high frequency coil 4 is wound thereon. In addition, an introduction pipe 5 for introducing monomer gas and carrier gas is connected to the reaction chamber 1, and the monomer gas and carrier gas, whose flow rates have been adjusted in advance by, for example, a mass flow controller, are mixed so as to have the above-mentioned mixing ratio. and then introduced into the reaction chamber 1. Further, on both sides of the reaction chamber 1, there are supply chambers 8 for feeding out from a roll 7 a non-magnetic support 6 on which a non-magnetic metal thin film is deposited and a ferromagnetic metal thin film is deposited on the surface; After passing the magnetic support 6 into the reaction chamber 1, the winding chamber 10 is connected to a winding chamber 10 for winding the magnetic support 6 onto a roll 9. Plasma polymerization is carried out while the non-magnetic support 6 is continuously driven via a guide roller 11. Configured to deposit a reactive polymeric film. The supply chamber 8 and the winding chamber 10 are each connected to a vacuum pump, so that the entire chamber including the reaction chamber 1 is maintained at a high vacuum.

このように構成される反応装置を用い、まず反
応室1内の残存空気を十分に除去して10-2Torr
程度にまで減圧し、しかる後に所定の混合比を有
するモノマーガスとキヤリヤーガスの混合ガスを
所定の流量で反応室1内に導入しながら発振器3
を作動させ、RFパワーをコイル4にかけて放電
させる。なお、上記プラズマ重合反応は放電を良
好に起こさせるために、一般に10-3〜3Torrの真
空状態で行なわれるのが望ましく、通常10-2
Torr程度が採用される。
Using the reactor configured as described above, first remove the residual air in the reaction chamber 1 to a temperature of 10 -2 Torr.
After that, while introducing a mixed gas of monomer gas and carrier gas having a predetermined mixing ratio into the reaction chamber 1 at a predetermined flow rate, the oscillator 3
, and apply RF power to the coil 4 to discharge it. The above plasma polymerization reaction is generally desirably carried out in a vacuum state of 10 -3 to 3 Torr in order to cause good discharge;
Torr level is adopted.

この結果、上記非磁性支持体6上に被着形成さ
れる強磁性金属薄膜表面にプラズマ重合膜が保護
膜として成長するのである。すなわち、得られる
磁気記録媒体は、第2図に示すように、非磁性支
持体6上に強磁性金属薄膜12を積層形成し、さ
らにこの強磁性金属薄膜12表面に上記プラズマ
重合により得られる重合膜を保護膜13として積
層形成して構成される。
As a result, a plasma polymerized film is grown on the surface of the ferromagnetic metal thin film deposited on the non-magnetic support 6 as a protective film. That is, as shown in FIG. 2, the obtained magnetic recording medium has a ferromagnetic metal thin film 12 laminated on a non-magnetic support 6, and a polymerized metal film obtained by the above plasma polymerization on the surface of this ferromagnetic metal thin film 12. The protective film 13 is formed by stacking the films as a protective film 13.

上記プラズマ重合反応により得られる保護膜1
3の膜厚としては、50〜500Åの範囲内であるこ
とが好ましく、さらには50〜150Åの範囲がより
好ましい。上記膜厚が50Å未満であると滑性付与
効果及び耐久性が不足し、また500Åを越えると
例えばテープにして磁気ヘツド表面を摺動する際
のスペーシングロス(厚み損失)が大きくなつて
しまう。
Protective film 1 obtained by the above plasma polymerization reaction
The film thickness of No. 3 is preferably in the range of 50 to 500 Å, and more preferably in the range of 50 to 150 Å. If the film thickness is less than 50 Å, the lubricity imparting effect and durability will be insufficient, and if it exceeds 500 Å, for example, spacing loss (thickness loss) will increase when the tape is made to slide on the surface of a magnetic head. .

上述のように、本発明においては、モノマーガ
スとして不飽和結合を有するフルオロカーボンを
用いキヤリヤーガスとして酸素を用いるととも
に、上記モノマーガスとキヤリヤーガスの比率を
所定の割合に設定しているので、高度に架橋し耐
久性の高い重合膜をプラズマ重合反応により形成
することができ、この重合膜を保護膜13として
強磁性金属薄膜12上に被着形成することにより
耐久性に優れた磁気記録媒体を製造することが可
能となるのである。
As mentioned above, in the present invention, a fluorocarbon having an unsaturated bond is used as a monomer gas, oxygen is used as a carrier gas, and the ratio of the monomer gas to the carrier gas is set at a predetermined ratio, so that a high degree of crosslinking is achieved. A highly durable polymeric film can be formed by plasma polymerization reaction, and a magnetic recording medium with excellent durability can be manufactured by depositing this polymeric film as a protective film 13 on a ferromagnetic metal thin film 12. becomes possible.

次に、本発明の具体的な実施例について説明す
るが、本発明がこれら実施例に限定されるもので
ないことは言うまでもない。
Next, specific examples of the present invention will be described, but it goes without saying that the present invention is not limited to these examples.

〔実施例〕〔Example〕

実施例 1 ポリエチレンテレフタレートフイルム上に斜方
蒸着法により膜厚1000ÅのCo−Ni合金膜(Co含
有量80重量%、Ni含有量20重量%)を蒸着形成
した。
Example 1 A Co-Ni alloy film (Co content: 80% by weight, Ni content: 20% by weight) having a thickness of 1000 Å was formed by vapor deposition on a polyethylene terephthalate film by oblique vapor deposition.

次いで、モノマーガスとしてテトラフルオロエ
チレン(C2F4)を用い、キヤリヤーガスとして
酸素(O2)を用い、これらモノマーガスとキヤ
リヤーガスの比率C2F4:O2が体積比で75:25と
なるように設定し、全流量100ml/min、圧力6.0
×10-2Torr、高周波出力(周波数13.56MHz)
400Wの条件でプラズマ重合反応を行ない、上記
Co−Ni合金膜上に膜厚280Åのプラズマ重合膜を
形成してサンプルテープを作製した。
Next, tetrafluoroethylene (C 2 F 4 ) is used as a monomer gas and oxygen (O 2 ) is used as a carrier gas, and the ratio of these monomer gases to the carrier gas is C 2 F 4 :O 2 of 75:25 by volume. Set as follows, total flow rate 100ml/min, pressure 6.0
×10 -2 Torr, high frequency output (frequency 13.56MHz)
The plasma polymerization reaction was carried out under the conditions of 400W, and the above
A sample tape was prepared by forming a plasma polymerized film with a thickness of 280 Å on a Co-Ni alloy film.

得られたサンプルテープのスチル特性を測定し
たところ、スチル時間が90分であつて、後述のプ
ラズマ重合膜を設けないもの(比較例1)と比べ
て耐久性が大幅に向上したことが分かる。なお、
上記スチル特性は、サンプルテープに4.2MHzの
映像信号を記録し、この再生出力が50%に減衰す
るまでのスチル時間を示すものであつて、磁気テ
ープの耐久性の目やすとなるものである。
When the still characteristics of the obtained sample tape were measured, it was found that the still time was 90 minutes and the durability was significantly improved compared to that without the plasma polymerized film (Comparative Example 1) described below. In addition,
The above still characteristics indicate the still time until the playback output attenuates to 50% after recording a 4.2MHz video signal on a sample tape, and serves as an indicator of the durability of the magnetic tape. .

比較例 1 ポリエチレンテレフタレートフイルム上に斜方
蒸着法により膜厚1000ÅのCo−Ni合金膜(Co含
有量80重量%、Ni含有量20重量%)を蒸着形成
し、そのままサンプルテープとしてスチル特性を
測定したところ、スチル時間は30分であつた。
Comparative Example 1 A Co-Ni alloy film (Co content: 80% by weight, Ni content: 20% by weight) with a film thickness of 1000 Å was deposited on a polyethylene terephthalate film by oblique evaporation, and the still characteristics were measured as a sample tape. As a result, the still time was 30 minutes.

実施例 2 ポリエチレンテレフタレートフイルム上に斜方
蒸着法により膜厚1000ÅのCo−Ni合金膜(Co含
有量80重量%、Ni含有量20重量%)を蒸着形成
した。
Example 2 A Co-Ni alloy film (Co content: 80% by weight, Ni content: 20% by weight) having a thickness of 1000 Å was formed by vapor deposition on a polyethylene terephthalate film by oblique vapor deposition.

次いで、モノマーガスとしてヘキサフルオロプ
ロピレン(C3F6)を用い、キヤリヤーガスとし
て酸素(O2)を用い、これらモノマーガスとキ
ヤリヤーガスの比率C3F6:O2が体積比で80:20
となるように設定し、全流量100ml/min、圧力
5.0×10-2Torr、高周波出力(周波数13.56MHz)
500Wの条件でプラズマ重合反応を行ない、上記
Co−Ni合金膜上に膜厚300Åのプラズマ重合膜を
形成してサンプルテープを作製した。
Next, hexafluoropropylene (C 3 F 6 ) was used as the monomer gas, oxygen (O 2 ) was used as the carrier gas, and the ratio of these monomer gases to the carrier gas, C 3 F 6 :O 2 , was 80:20 by volume.
Set the total flow rate to 100ml/min, pressure
5.0×10 -2 Torr, high frequency output (frequency 13.56MHz)
The plasma polymerization reaction was performed under the conditions of 500W, and the above
A sample tape was prepared by forming a plasma polymerized film with a thickness of 300 Å on a Co-Ni alloy film.

得られたサンプルテープのスチル特性を測定し
たところ、スチル時間が100分であつて、各比較
例に比べて耐久性が大幅に向上していることが分
かつた。
When the still characteristics of the sample tape obtained were measured, it was found that the still time was 100 minutes, and the durability was significantly improved compared to each comparative example.

比較例 2 先の実施例1において、C3F6:O2が体積比で
95:5となるように設定し、他は実施例1と同様
の方法により、Co−Ni合金膜上に膜厚280Åのプ
ラズマ重合膜を形成してサンプルテープを作製し
た。
Comparative Example 2 In the previous Example 1, the volume ratio of C 3 F 6 :O 2 was
A sample tape was prepared by forming a plasma polymerized film with a thickness of 280 Å on a Co-Ni alloy film in the same manner as in Example 1 except that the ratio was set to 95:5.

得られたサンプルテープのスチル特性を測定し
たところ、スチル時間は5分であつた。
When the still characteristics of the obtained sample tape were measured, the still time was 5 minutes.

比較例 3 先の実施例1において、C3F6:O2が体積比で
90:10となるように設定し、他は実施例1と同様
の方法によりCo−Ni合金膜上に膜厚300Åのプラ
ズマ重合膜を形成してサンプルテープを作製し
た。
Comparative Example 3 In the previous Example 1, the volume ratio of C 3 F 6 :O 2 was
A sample tape was prepared by forming a plasma polymerized film with a thickness of 300 Å on a Co-Ni alloy film in the same manner as in Example 1 except that the ratio was set to 90:10.

得られたサンプルテープのスチル特性を測定し
たところ、スチル時間は5分であつた。
When the still characteristics of the obtained sample tape were measured, the still time was 5 minutes.

比較例 4 先の実施例1において、C3F6:O2が体積比で
70:30となるように設定し、他は実施例1と同様
の方法によりCo−Ni合金膜上に膜厚250Åのプラ
ズマ重合膜を形成してサンプルテープを作製し
た。
Comparative Example 4 In Example 1 above, the volume ratio of C 3 F 6 :O 2 was
A sample tape was prepared by forming a plasma polymerized film with a thickness of 250 Å on a Co-Ni alloy film in the same manner as in Example 1 except for setting the ratio to be 70:30.

得られたサンプルテープのスチル特性を測定し
たところ、スチル時間は25分であつた。
When the still characteristics of the obtained sample tape were measured, the still time was 25 minutes.

比較例 5 先の実施例1において、C3F6:O2が体積比で
60:40となるように設定し、他は実施例1と同様
の方法によりCo−Ni合金膜上に膜厚200Åのプラ
ズマ重合膜を形成してサンプルテープを作製し
た。
Comparative Example 5 In the previous Example 1, the volume ratio of C 3 F 6 :O 2 was
A sample tape was prepared by forming a plasma polymerized film with a thickness of 200 Å on a Co-Ni alloy film in the same manner as in Example 1 except for setting the ratio to be 60:40.

得られたサンプルテープのスチル特性を測定し
たところ、スチル時間は30分であつた。
When the still characteristics of the obtained sample tape were measured, the still time was 30 minutes.

比較例 6 先の実施例1において、C3F6:O2が体積比で
50:50となるように設定し、他は実施例1と同様
の方法によりCo−Ni合金膜上に膜厚220Åのプラ
ズマ重合膜を形成してサンプルテープを作製し
た。
Comparative Example 6 In Example 1 above, the volume ratio of C 3 F 6 :O 2 was
A sample tape was prepared by forming a plasma polymerized film with a thickness of 220 Å on a Co-Ni alloy film in the same manner as in Example 1 except for setting the ratio to be 50:50.

得られたサンプルテープのスチル特性を測定した
ところ、スチル時間は25分であつた。
When the still characteristics of the obtained sample tape were measured, the still time was 25 minutes.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べたように、本発明によれば、高度に架
橋し耐久性に優れたプラズマ重合膜を作製するこ
とが可能となり、したがつて耐久性に優れた磁気
記録媒体を製造することが可能である。
As described above, according to the present invention, it is possible to produce a plasma polymerized film that is highly crosslinked and has excellent durability, and therefore it is possible to produce a magnetic recording medium with excellent durability. be.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明において使用されるプラズマ反
応装置の一例を示す概略図であり、第2図は本発
明により得られる磁気記録媒体の構成を示す要部
拡大断面図である。 6……非磁性支持体、12……強磁性金属薄
膜、13……保護膜。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a plasma reaction apparatus used in the present invention, and FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part showing the structure of a magnetic recording medium obtained by the present invention. 6...Nonmagnetic support, 12...Ferromagnetic metal thin film, 13...Protective film.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を設けてな
る磁気記録媒体の前記強磁性金属薄膜表面にプラ
ズマ重合により保護膜を形成するにあたり、モノ
マーガスとして不飽和結合を有するフルオロカー
ボンを用いるとともにキヤリヤーガスとして酸素
を用い、モノマーガス:キヤリヤーガスを体積比
で75:25〜85:15に選定してプラズマ重合を行な
うことを特徴とする磁気記録媒体の製法。
1. When forming a protective film by plasma polymerization on the surface of the ferromagnetic metal thin film of a magnetic recording medium comprising a ferromagnetic metal thin film provided on a non-magnetic support, a fluorocarbon having an unsaturated bond is used as a monomer gas, and a carrier gas is used. A method for producing a magnetic recording medium, characterized in that plasma polymerization is carried out using oxygen and selecting a monomer gas:carrier gas at a volume ratio of 75:25 to 85:15.
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