JPH0458837A - ワサビ栽培装置 - Google Patents

ワサビ栽培装置

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Publication number
JPH0458837A
JPH0458837A JP2165784A JP16578490A JPH0458837A JP H0458837 A JPH0458837 A JP H0458837A JP 2165784 A JP2165784 A JP 2165784A JP 16578490 A JP16578490 A JP 16578490A JP H0458837 A JPH0458837 A JP H0458837A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
cultivation bed
buffer tank
cultivation
wasabi
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2165784A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichiro Sato
紳一郎 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujita Corp
Original Assignee
Fujita Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujita Corp filed Critical Fujita Corp
Priority to JP2165784A priority Critical patent/JPH0458837A/ja
Publication of JPH0458837A publication Critical patent/JPH0458837A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • Y02P60/216

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  • Hydroponics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、主として趣味の園芸においてワサビを小規模
に栽培するための装置に関するものである。
〔従来の技術〕
ワサビは生食や加工食品に広く利用されているが、最近
は、その花や葉を鑑賞する目的で小規模に栽培されるこ
とも多い。しかしながら、ワサビの成育適地は標高50
0m前後、年平均気温が8〜18℃の、清浄でしかも豊
富な水が流れる渓谷であり、人工的な栽培も、このよう
な好適環境を維持する必要上、はとんどが山間の渓谷沿
いの地で行われている。したがって、平地においては、
単に水を連続的に供給する程度のことでワサビを栽培す
ることはほとんど不可能である。
ワサビの成育にとって好適な環境を人工的に実現して平
地におけるワサビ栽培を可能にするための装置は幾つか
提案されている(特公昭50−29972.特開昭56
−35931.特開昭58−47411.特開昭60−
126019.特開昭61−132123等)。しかし
ながら、大量の自然流水や井戸水を利用できない一般家
庭や市街地において、繊細なワサビを鑑賞に耐えるよう
な良好な状態で成長させることのできる栽培装置は見当
たらない。
〔発明が解決しようとする課題〕
そこで本発明の目的は、大量の水を特徴とする特許なし
にワサビを健全に成育させることのできるワサビ栽培装
置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明によるワサビ栽培装置は、排水用の暗渠および溢
流口を設けた水槽に砂礫を敷き詰めて栽培床とし、栽培
床への給水口を栽培床の上に、且つ該給水口から溢流口
に向かって流れる表流水を栽培床の表面全体にわたり流
すことのできる位置に設け、該栽培床の用水をバッファ
ータンクより栽培床表面に供給し且つ暗渠および溢流口
からの排水をバッファータンクに戻すための循環管路を
設け、バッファータンクを含む上記循環管路に水温およ
び水質の調整手段を付設し、暗渠とバッファータンクと
の間の管路に流量調節弁を設け、栽培床を温度および照
度の調節が可能な温室に収容したことを特徴とするもの
である。
〔作用〕
このワサビ栽培装置では、用水の流れが完全にクローズ
ドシステム化されている。すなわち、用水はバッファー
タンクから栽培床表面に供給され、その一部は栽培床の
表面を水平方向に流れて溢流口からバッファータンクに
戻され、残りは栽培床に浸透して下方に流れ、暗渠に入
ってやはりバッファータンクに戻される。
栽培床表面を流れて溢流するだけの表流水と暗渠に入る
浸透水の量比は、暗渠とバッファータンクとをつなぐ管
路の流量調節弁の開度を調節して浸透水の流量を制限す
ることにより任意の値に選ぶことができる。
この機能を利用して、栽培床1m”当たりの給水量を約
201i/win以上とし、望ましくはその約50%以
上が表流水になって栽培床上をむら無く流れるように、
流量比を選ぶ。これにより、ワサビの根に十分な酸素を
一様に行き渡らせることができる。表流水が無いか不十
分な状態では、栽培床上に部分的な澱みができ、その部
分だけ水の浸透が悪くなってワサビが根腐れを起こし易
い。
栽培床とバッファータンクとの間を循環させる用水は、
任意の箇所で任意の手段により、水温および水質を好適
値に調整する。たとえば、バッファータンク内で水温調
節と空気吹込みによる酸素供給を行い、バッファータン
クを出たところで、濾過器を通して浮遊物を除去する。
さらに紫外線を照射して殺菌すれば、軟腐病、白さび病
、墨入病、輪腐病などの発生を完全に予防することがで
きる。
栽培床を収容する温室の気温は、十分な能力を有する空
調装置を作動させることにより常時約12〜18°Cに
維持する。栽培床を屋内に設置する場合、温室天井部に
は照明器具を取り付け、昼間、ワサビ葉面における照度
が少なくとも4 kl++xになるようにする。一方、
100kl++xを超える強い日射は好ましくないので
、屋外に設置する場合は適当な遮光材を用いて葉面照度
を約20kl+x以下に抑える。
以上の栽培条件管理は、自動制御装置およびタイマーを
適宜使用することにより、はとんど無人化することがで
きる。
このワサビ栽培装置は、鑑賞用のワサビの栽培に使用す
るほか、生食用ワサビを生育状態においたまま短期間保
存するのにも利用することができる。
〔実施例〕
図示した本発明実施例は、容量600tの浅いアクリル
樹脂製水槽lに砂@2を敷き詰めて表面積212の栽培
床3としたものを空調装置4付きアクリル樹脂製温室5
に収容し、これに用水循環・調整用機構6を付属させた
ものである。
水槽lは、一端(図上、左端)を隔壁7で仕切って砂1
!!2を充填してない部分を設け、且つこの部分におい
て底板8に排水口9を設けることにより、隔壁7の頂部
を溢流口10とする溢流水流路11を形成しである。ま
た、砂礫2充填部分の底板8上には多数の小孔12を有
する塩ビ管からなる暗渠13が敷設されていて、ここに
、砂礫層2を通過した用水が小孔12経由で流入するよ
うになっている。
排水口9は流量計14付き管路15によりバッファータ
ンク16に接続され、暗渠13は流量調節弁17付き管
路18によりバッファータンク16に接続されていて、
溢流水も砂礫層浸透水も最後はバッファータンク16に
流入するようになっている。
バッファータンク16は容量が20(Mlで、水温調節
装置19および空気吹き込み装置20が付属している。
バッファータンク16の水は、循環ポンプ21により、
濾過器22、紫外線殺菌装置23および流量計24を経
由して給水口25(溢流口10の反対側にある)に送ら
れ、ここから栽培床3の表面に水平方向に放出されるよ
うになっている。給水口25は、溢流口lOとは反対側
の位置にあるので、表流水は栽培床3上を図上右側から
左側へむらなく流れ、浸透しなかった水が溢流口10か
ら排出される。
栽培床3を収容する温室5は、天井部に照明具26があ
り、空調装置4による温度の調節だけでなく室内照度の
調節が可能である。
このワサビ栽培装置の栽培床3にワサビ苗27を20株
植え付け、下記の標準条件で用水を循環させ、かつ温室
内環境を調節した。ただし、用水は90日間隔で全量を
新鮮な水道水と交換した。
給水量=40象/sin 溢流水量: 20 !/win 浸透水量:201/■i11 供給水温度:12℃ 供給水酸素濃度:約10pp諷 温室内気温=18°C ワサビ集面平均照度:8klux 上記条件で1年間栽培を続けたが、その間の成長は順調
で、枯れたり病気にかかったワサビは無かった。
〔発明の効果〕
本発明は上述のように排水用の暗渠および溢流口を設け
た水槽に砂礫を敷き詰めて栽培床とし、該栽培床ニ必要
な水をバッファータンクより栽培床表面に供給し且つ暗
渠および溢流口からの排水をバッファータンクに戻すだ
めの循環管路を設け、バッファータンクを含む上記循環
管路に水温および水質の調整手段を付設し、暗渠とバッ
ファータンクとの間の管路に流量調節弁を設け、栽培床
を温度および照度の調節が可能な温室に収容し、それに
より用水の流れを完全にりa−ズドシステム化するとと
もにワサビの根にむら無く新鮮な酸素含有水が供給され
るようにし、さらには温度や照度も最適状態に維持する
ことができるようにしたものであるから、これを用いる
ことにより、最小限度の水で、市街地や一般家庭におい
ても容易にワサビを栽培してその独特の葉や花を鑑賞す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例の構成を示す略図である。 1:水槽        2:砂礫 栽培床 温室 溢流口 バッファータンク 水温調節装置 循環ポンプ 紫外線殺菌装置 4 : 6 : 13: 17: 20: 22 : 2s: 空調装置 用水循環・調整用機構 暗渠 流量調節弁 空気吹き込み装置 濾過器 給水口

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 排水用の暗渠および溢流口を設けた水槽に砂礫を敷き詰
    めて栽培床とし、栽培床への給水口を栽培床の上に、且
    つ該給水口から溢流口に向かって流れる表流水を栽培床
    の表面全体にわたり流すことのできる位置に設け、栽培
    床用水をバッファータンクより給水口に供給し且つ暗渠
    および溢流口からの排水をバッファータンクに戻すため
    の循環管路を設け、バッファータンクを含む上記循環管
    路に水温および水質の調整手段を付設し、暗渠とバッフ
    ァータンクとの間の管路に流量調節弁を設け、栽培床を
    温度および照度の調節が可能な温室に収容したことを特
    徴とするワサビ栽培装置。
JP2165784A 1990-06-26 1990-06-26 ワサビ栽培装置 Pending JPH0458837A (ja)

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JP2165784A JPH0458837A (ja) 1990-06-26 1990-06-26 ワサビ栽培装置

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JPH0458837A true JPH0458837A (ja) 1992-02-25

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ID=15818946

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008212104A (ja) * 2007-03-07 2008-09-18 Nippon Chikasui Kaihatsu Corp Ltd ワサビのハウス促成栽培システム
JP2011004683A (ja) * 2009-06-26 2011-01-13 Shibuya Kensetsu:Kk ワサビ栽培プラント
JP2015057992A (ja) * 2013-09-20 2015-03-30 東都興業株式会社 植物栽培用の養液供給系統システム
JP2015065856A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 ユーテック株式会社 家庭用水耕栽培装置

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5633331U (ja) * 1979-08-22 1981-04-01
JPS6485016A (en) * 1987-09-24 1989-03-30 New Bio Giken Kk Aquiculture of japanese horseradish

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