JPH0459680A - グレーズド基板の製造方法 - Google Patents
グレーズド基板の製造方法Info
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- JPH0459680A JPH0459680A JP17289690A JP17289690A JPH0459680A JP H0459680 A JPH0459680 A JP H0459680A JP 17289690 A JP17289690 A JP 17289690A JP 17289690 A JP17289690 A JP 17289690A JP H0459680 A JPH0459680 A JP H0459680A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- glass paste
- base plate
- glaze
- glass
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はサーマルヘッド等に用いるグレーズド基板に関
し、特にセラミック基板表面に部分的にグレーズ層を形
成したグレーズド基板の製造方法に関する。
し、特にセラミック基板表面に部分的にグレーズ層を形
成したグレーズド基板の製造方法に関する。
(従来の技術)
従来、セラミック表面の一部にグレーズ層を形成した部
分グレーズド基板は、主にスクリーン印刷でグレーズ層
を形成し、焼付けて作成していた。
分グレーズド基板は、主にスクリーン印刷でグレーズ層
を形成し、焼付けて作成していた。
しかし、スクリーン印刷はメツシュを使用するため、グ
レーズラインの直線性が悪く、これが原因で部分グレー
ズ頂上部の凹凸が生じるという欠点があった。この欠点
を除くため目開きの小さいメツシュを使用すると所定の
グレーズ厚みを出すために何度も印刷乾燥を繰り返す必
要があった。例えば、60メツシユで60μmの乾燥膜
厚が得られていたグレーズペーストを用いて400メツ
シユのスクリーンを使用すると、60μmの乾燥厚みを
得るのに4回印刷、乾燥を繰シ返す必要があった。
レーズラインの直線性が悪く、これが原因で部分グレー
ズ頂上部の凹凸が生じるという欠点があった。この欠点
を除くため目開きの小さいメツシュを使用すると所定の
グレーズ厚みを出すために何度も印刷乾燥を繰り返す必
要があった。例えば、60メツシユで60μmの乾燥膜
厚が得られていたグレーズペーストを用いて400メツ
シユのスクリーンを使用すると、60μmの乾燥厚みを
得るのに4回印刷、乾燥を繰シ返す必要があった。
これらスクリーン印刷法の欠点を取シ除くために特開昭
63−71365号公報では基材上に転写用のグレース
パターン1!r:あらかじめ形成しておき、このパター
ンをセラミック基板上に加圧転写する方法が開示されて
いる。
63−71365号公報では基材上に転写用のグレース
パターン1!r:あらかじめ形成しておき、このパター
ンをセラミック基板上に加圧転写する方法が開示されて
いる。
(発明が解決しようとする課題)
しかし、特開昭63−71365号公報に開示されてい
る方法では、ファインラインの形成と厚いグレーズ層を
一度に形成するという点は改善されるものの、グレーズ
ラインの位置精度が低下するという欠点があった。すな
わち、−度基材に形成したパターンをセラミック基板に
加圧、転写するため位置ずれが避けられなかった。
る方法では、ファインラインの形成と厚いグレーズ層を
一度に形成するという点は改善されるものの、グレーズ
ラインの位置精度が低下するという欠点があった。すな
わち、−度基材に形成したパターンをセラミック基板に
加圧、転写するため位置ずれが避けられなかった。
本発明ハ9部分グレーズのファインライン性にすぐれ、
厚いグレーズ層を一度に形成でき、さらに部分グレーズ
の位置精度が高いグレーズド基板の製造法を提供するも
のである。
厚いグレーズ層を一度に形成でき、さらに部分グレーズ
の位置精度が高いグレーズド基板の製造法を提供するも
のである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、jI光された部分が現像液に可溶となる感光
性樹脂組成物及び無機ガラス粉末を含むガラスペースト
をセラミック基板に塗布後、所望のグレースパターン部
だけをマスキングして光を照射し9次いで現像後焼成す
ることを特徴とするグレーズド基板の製造方法に関する
。
性樹脂組成物及び無機ガラス粉末を含むガラスペースト
をセラミック基板に塗布後、所望のグレースパターン部
だけをマスキングして光を照射し9次いで現像後焼成す
ることを特徴とするグレーズド基板の製造方法に関する
。
本発明において用いる感光性樹脂組成物は。
船釣にポジ型感光性樹脂組成物として公知のものが使用
できる。
できる。
そのようなポジ型感光性樹脂組成物には9例えば、テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、ビスフェノール型エポキ
シ樹脂、ポリビニルフェノール等のOH基を有する化合
物と1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホ
ニルクロリドと全反応させて得られるナフトキノンジア
ジド感光基を有する化合物、O−ニトロベンジルアクリ
レート/メタクリル酸メチル/アクリル酸共重合体等の
側鎖に0−ニトロベンジル感光基を有する高分子化合物
、ポリアルデヒド樹脂、ポリカーボネート樹脂等の強酸
によシ分解する樹脂と光によシ強酸を発生するオニウム
塩化合物との組み合わせ、側鎖にビニル基を有するアク
リルポリマとチオール基を有するモノカルボン酸との組
み合わせ等を主成分とし、必要に応じて増感剤、可そ剤
、バインダ樹脂、熱安定剤等を含んだものが知られてい
る。
ラヒドロキシベンゾフェノン、ビスフェノール型エポキ
シ樹脂、ポリビニルフェノール等のOH基を有する化合
物と1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホ
ニルクロリドと全反応させて得られるナフトキノンジア
ジド感光基を有する化合物、O−ニトロベンジルアクリ
レート/メタクリル酸メチル/アクリル酸共重合体等の
側鎖に0−ニトロベンジル感光基を有する高分子化合物
、ポリアルデヒド樹脂、ポリカーボネート樹脂等の強酸
によシ分解する樹脂と光によシ強酸を発生するオニウム
塩化合物との組み合わせ、側鎖にビニル基を有するアク
リルポリマとチオール基を有するモノカルボン酸との組
み合わせ等を主成分とし、必要に応じて増感剤、可そ剤
、バインダ樹脂、熱安定剤等を含んだものが知られてい
る。
これらの樹脂組成物は通常溶剤に溶解して使用される。
溶剤は感光性樹脂組成物と相客性の良いものであれば特
に制限はない。無機ガラス粉末は。
に制限はない。無機ガラス粉末は。
良好な部分グレースパターンを得るために粉末の平均粒
径が5μm以下のものが好ましい。
径が5μm以下のものが好ましい。
このガラス粉末に感光性樹脂組成物及び該樹脂組成物の
溶剤を加えてガラスペーストを作成するが、感光性樹脂
組成物をあまり多く添加すると焼付けてグレースパター
ンを得る時忙ガラスの濃度が低いためガラスのはしけが
起こってし塘う。また、感光性樹脂が少な過ぎるとペー
スト化が困難になる。このため、感光性樹脂組成物の添
加量はガラス粉末の容積1 cm3に対して好ましくは
0.3 cm3からZ1cm’であり、さらに好ましく
は0.4dから1、5 am’である。また、後述する
それぞれの塗布法に適した粘度、チクントロピー性など
をガラスペーストに付与するために溶剤が加えられる。
溶剤を加えてガラスペーストを作成するが、感光性樹脂
組成物をあまり多く添加すると焼付けてグレースパター
ンを得る時忙ガラスの濃度が低いためガラスのはしけが
起こってし塘う。また、感光性樹脂が少な過ぎるとペー
スト化が困難になる。このため、感光性樹脂組成物の添
加量はガラス粉末の容積1 cm3に対して好ましくは
0.3 cm3からZ1cm’であり、さらに好ましく
は0.4dから1、5 am’である。また、後述する
それぞれの塗布法に適した粘度、チクントロピー性など
をガラスペーストに付与するために溶剤が加えられる。
またセラミック基板はアルミナ基板やhlN基板、ベリ
リヤ基板等が用いられる。また、セラミック基板の表面
粗さが小さい方が良好なグレーズ層くターンが得られ、
好ましくld1μmRa以下である。
リヤ基板等が用いられる。また、セラミック基板の表面
粗さが小さい方が良好なグレーズ層くターンが得られ、
好ましくld1μmRa以下である。
セラミック基板にガラスペーストラ均一に塗布する方法
は、スクリーン印刷法、ディッピング法。
は、スクリーン印刷法、ディッピング法。
ロールコータ法、スピンコータ法、転写法等が用いられ
るが、スクリーン印刷法が厚く印刷できて好ましい。
るが、スクリーン印刷法が厚く印刷できて好ましい。
光の照射は所望のグレーパターン部以外の部分が真光さ
れるようにグレースパターン部だけを光が透過しないフ
ィルム等で被覆(マスキング)して行われる。マスキン
グの方法は特忙制限はない。
れるようにグレースパターン部だけを光が透過しないフ
ィルム等で被覆(マスキング)して行われる。マスキン
グの方法は特忙制限はない。
光は感光が充分にできる波長及び量を選定する。
光照射後必要に応じてボストベークを行うのが好ましい
。次いでマスクを撤去し、充分に現像、水洗を行い、露
光されない部分のガラスペーストを除去する。現像液は
感光性樹脂組成物用の酸、アルカリ、有機溶剤等が用い
られ、スプレー等により付着しているガラス粉末をも除
去する。最後に焼成して基板にグレースパターンを焼付
けるが、グレースパターンに欠点が生じないようにする
必要があり、蓋付の入れものに設置して焼付けるのが好
ましい。
。次いでマスクを撤去し、充分に現像、水洗を行い、露
光されない部分のガラスペーストを除去する。現像液は
感光性樹脂組成物用の酸、アルカリ、有機溶剤等が用い
られ、スプレー等により付着しているガラス粉末をも除
去する。最後に焼成して基板にグレースパターンを焼付
けるが、グレースパターンに欠点が生じないようにする
必要があり、蓋付の入れものに設置して焼付けるのが好
ましい。
本発明の例を図面を用いて説明する。第1図に示したセ
ラミック基板l上に感光性樹脂組成物とガラス粉末及び
溶剤からなるガラスペースト2を塗布し、その後乾燥し
てから第2図に示すように所望のグレースパターン部分
以外を露光できるように作製したフォトマスク3を重ね
光4を照射する。
ラミック基板l上に感光性樹脂組成物とガラス粉末及び
溶剤からなるガラスペースト2を塗布し、その後乾燥し
てから第2図に示すように所望のグレースパターン部分
以外を露光できるように作製したフォトマスク3を重ね
光4を照射する。
次に露光部分を洗い落とし、第3図に示すように露光さ
れないガラスペースト6を有する基板形状を得る。これ
を電気炉等で焼成してブレース層8を有するグレーズド
基板7を得る。
れないガラスペースト6を有する基板形状を得る。これ
を電気炉等で焼成してブレース層8を有するグレーズド
基板7を得る。
(実施例)
以下本発明の詳細な説明する。
実施例
感光性樹脂組成物の溶液として、以下のものを調整した
。
。
(1) 0−ニトロベンジルアクリレート/メタクリル
酸メチル/アクリル酸(60/30/10重量比)共重
合体(分子量約3万)100重量部、ベンジルジメチル
ケタール10重量部及び溶剤としてのプロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート60重量部。
酸メチル/アクリル酸(60/30/10重量比)共重
合体(分子量約3万)100重量部、ベンジルジメチル
ケタール10重量部及び溶剤としてのプロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート60重量部。
■ メタクリル酸メチル/アリルメタクリレート165
735重量比)共重合体(分子量約5万)100重量部
、メルカプトコノ・り酸30重量部。
735重量比)共重合体(分子量約5万)100重量部
、メルカプトコノ・り酸30重量部。
ベンゾフェノン10重量部、44′−ビス(ジエチルア
ミノ)ベンゾフェノン0.3重量部及びプロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート60重量部。
ミノ)ベンゾフェノン0.3重量部及びプロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート60重量部。
■ レゾルシノールモノメタクリレート/2−エチルへ
キシルメタクリレート(70/30重量比)共重合体1
00重量部、ベンジルジメチルケタール10重量部及び
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート6
0重量部。
キシルメタクリレート(70/30重量比)共重合体1
00重量部、ベンジルジメチルケタール10重量部及び
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート6
0重量部。
■、■又は■の感光性樹脂組成物の溶液及び硼珪酸アル
ミニウム系ガラス粉末(組成は510240 mol
%、 Altos 10 mol %、 BzOs 1
5mol!%、 CaO15mol、 MgO5mol
%及びPbO15mo1%で平均粒径が第1表に示さ
れる)1r:第1表の割合で混合した。この混合物を捕
潰機でテレピン油(和光紬薬製試薬1級)を添加しなが
ら混練し、粘度が500Pa−8になるように調整し、
ガラスペースト1〜10番を得た。このガラスペースト
を60メツシユのスクリーンを用いて100=角でII
!Im厚で第1表に示す表面粗さを有するアルミナ基板
上に均一に塗布した。塗布後80℃20分間乾燥器内で
乾燥させた。乾燥物に幅400μm及び長さ100mm
のパターン部分以外を露光できるフィルムマスクをかぶ
せて高圧水銀灯で露光した。露光量ll″t325nm
の光に対して2000m J / am2とした。露光
後の試料を1%水酸化ナトリウム水溶液のシャワーをあ
てて現像した。現倫後、水洗し、水切シしたサンプルを
セラミック製の耐火物容器に並べ、不透明石英製の板で
蓋をした。これを電気炉中、毎時150℃の昇温速度で
1100℃まで昇温し、30分保持後炉冷した。
ミニウム系ガラス粉末(組成は510240 mol
%、 Altos 10 mol %、 BzOs 1
5mol!%、 CaO15mol、 MgO5mol
%及びPbO15mo1%で平均粒径が第1表に示さ
れる)1r:第1表の割合で混合した。この混合物を捕
潰機でテレピン油(和光紬薬製試薬1級)を添加しなが
ら混練し、粘度が500Pa−8になるように調整し、
ガラスペースト1〜10番を得た。このガラスペースト
を60メツシユのスクリーンを用いて100=角でII
!Im厚で第1表に示す表面粗さを有するアルミナ基板
上に均一に塗布した。塗布後80℃20分間乾燥器内で
乾燥させた。乾燥物に幅400μm及び長さ100mm
のパターン部分以外を露光できるフィルムマスクをかぶ
せて高圧水銀灯で露光した。露光量ll″t325nm
の光に対して2000m J / am2とした。露光
後の試料を1%水酸化ナトリウム水溶液のシャワーをあ
てて現像した。現倫後、水洗し、水切シしたサンプルを
セラミック製の耐火物容器に並べ、不透明石英製の板で
蓋をした。これを電気炉中、毎時150℃の昇温速度で
1100℃まで昇温し、30分保持後炉冷した。
冷却したサンプルのグレーズライン部分の幅、高さを評
価した結果、第2表に示すように試料番号が1.2,3
,8.9及びlOのものは良好な結果が得られた。しか
し、樹脂の量が多い4番にガラスがはじけ、逆に少ない
5番はペーストがゲル化し、ガラス粉末粒径の大きい6
番及び基板表面粗さの粗い4番は焼成後のグレーズライ
ンに不具合が生じた。
価した結果、第2表に示すように試料番号が1.2,3
,8.9及びlOのものは良好な結果が得られた。しか
し、樹脂の量が多い4番にガラスがはじけ、逆に少ない
5番はペーストがゲル化し、ガラス粉末粒径の大きい6
番及び基板表面粗さの粗い4番は焼成後のグレーズライ
ンに不具合が生じた。
第1表
第2表
比較例
硼珪酸アルミニウム系ガラス粉末(平均粒径5μm 5
iCh 40 mo/%、 A/*0310mo/%、
B2031’5moI!%、 CaO15mot!%
、 MgO5rno1%及びPbO15mo/%)10
0重量部とエチルセルロース(関東化学1100cp)
5重量部及びテレピン油を描潰機で混合した。テレピン
油はガラスペーストの粘度が500Pa−sになるよう
に適宜加え友。このペーストを長さ100m、幅400
μmのパターンが抜いである100メツシユ、200メ
ツシュ又t−j400メツシユでエマルジョン厚み20
μmのスクリーンを用いて100鵡角×lIm厚で表面
粗さ0.4μmRaのアルミナ基板上に印刷した。印刷
物を乾燥機甲100℃20分間乾燥した後、セラミック
製耐火物容器に韮べて不透明石英の板で蓋をして電気炉
中、毎時150℃の昇温速度で1100℃まで昇温し、
30分保持後炉冷した。冷卸したサンプルのグレーズラ
イン部分の幅、高さを評価した結果、100メツシユの
スクリーンを用いたときに幅が600μm±90μm及
び高さが40μm±6μmであ、Q、200メツシユの
スクリーンを用いたときは2幅500μm±40μm及
び高さが28μm±3μm、4QQメツシュのスクリー
ンを用いたときは440μm±25μm及び高さが15
μm±2μmであった。
iCh 40 mo/%、 A/*0310mo/%、
B2031’5moI!%、 CaO15mot!%
、 MgO5rno1%及びPbO15mo/%)10
0重量部とエチルセルロース(関東化学1100cp)
5重量部及びテレピン油を描潰機で混合した。テレピン
油はガラスペーストの粘度が500Pa−sになるよう
に適宜加え友。このペーストを長さ100m、幅400
μmのパターンが抜いである100メツシユ、200メ
ツシュ又t−j400メツシユでエマルジョン厚み20
μmのスクリーンを用いて100鵡角×lIm厚で表面
粗さ0.4μmRaのアルミナ基板上に印刷した。印刷
物を乾燥機甲100℃20分間乾燥した後、セラミック
製耐火物容器に韮べて不透明石英の板で蓋をして電気炉
中、毎時150℃の昇温速度で1100℃まで昇温し、
30分保持後炉冷した。冷卸したサンプルのグレーズラ
イン部分の幅、高さを評価した結果、100メツシユの
スクリーンを用いたときに幅が600μm±90μm及
び高さが40μm±6μmであ、Q、200メツシユの
スクリーンを用いたときは2幅500μm±40μm及
び高さが28μm±3μm、4QQメツシュのスクリー
ンを用いたときは440μm±25μm及び高さが15
μm±2μmであった。
実施例で評価が良かった試料番号1,2,3゜8.9及
び10に比べて比較例ではグレーズラインの幅精度及び
高さ精度がいずれも劣っていた。
び10に比べて比較例ではグレーズラインの幅精度及び
高さ精度がいずれも劣っていた。
また、比較例中9幅精度の最も良かった400メツシユ
スクリーン使用の場合では、グレーズ高さが15μmと
低く、1.Vに高さの高いグレーズラインを形成するこ
とはできなかった。
スクリーン使用の場合では、グレーズ高さが15μmと
低く、1.Vに高さの高いグレーズラインを形成するこ
とはできなかった。
(発明の効果)
本発明によれば部分グレーズのファインライン性にすぐ
れ、厚いグレーズ層を一度に形成でき。
れ、厚いグレーズ層を一度に形成でき。
さらに部分グレーズの位置精度が高いグレーズド基板が
容易に得られる。
容易に得られる。
第1図は本発明のガラスペーストを塗布したセラミック
基板の斜視図、第2図#′iフォトマスクを用いてガラ
スペーストの不要部分に光を照射する説明図、第3図は
露光部分を除去したセラミック基板の斜視図及び第4図
はグレーズド基板の斜視図〆−ある。 符号の説明 1・・・セラミック基板 2・・・ガラスペースト
3・・・フォトマスク 4・・・光5・・・乾燥
後のガラスペースト 6・・・露光されないガラスペースト 7・・・グレーズド基板 8・・・グレーズ層代理
人 弁理士 若 林 邦手配 第1図 第3図 第2図 第4図
基板の斜視図、第2図#′iフォトマスクを用いてガラ
スペーストの不要部分に光を照射する説明図、第3図は
露光部分を除去したセラミック基板の斜視図及び第4図
はグレーズド基板の斜視図〆−ある。 符号の説明 1・・・セラミック基板 2・・・ガラスペースト
3・・・フォトマスク 4・・・光5・・・乾燥
後のガラスペースト 6・・・露光されないガラスペースト 7・・・グレーズド基板 8・・・グレーズ層代理
人 弁理士 若 林 邦手配 第1図 第3図 第2図 第4図
Claims (1)
- 1、露光された部分が現像液に可溶となる感光性樹脂組
成物及び無機ガラス粉末を含むガラスペーストをセラミ
ック基板に塗布後、所望のグレースパターン部だけをマ
スキングして光を照射し、次いで現像後焼成することを
特徴とするグレーズド基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17289690A JPH0459680A (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | グレーズド基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17289690A JPH0459680A (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | グレーズド基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0459680A true JPH0459680A (ja) | 1992-02-26 |
Family
ID=15950347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17289690A Pending JPH0459680A (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | グレーズド基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0459680A (ja) |
-
1990
- 1990-06-29 JP JP17289690A patent/JPH0459680A/ja active Pending
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